TW202040219A - 用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜 - Google Patents

用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜 Download PDF

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Abstract

本發明旨在提供一種用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜。於包括指紋認證裝置(30)的有機發光二極體顯示器(10)中，保護膜(16)將覆蓋部件(15)的表面覆蓋起來。保護膜(16)具有面內相位差值在25nm以下的基材層。因此，能夠抑制誤認證，生產效率良好。

Description

用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜
本發明係關係一種用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜。
近年來，於智慧型手機、平板電腦等各種資訊設備中，越來越多的機種係透過於有機發光二極體(OLED, Organic Light Emitting Diode)顯示器上執行指紋認證來進行上鎖與解鎖(例如參照專利文獻1)。
在利用指紋並透過光學方式執行身份認證的光學式指紋認證裝置中，用LED作光源對認證對象照射光，用影像感測器讀取來自指紋面的反射光。
包括此類光學式指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器中，蓋玻片經由防止外部光線映入的圓偏光片積層在有機發光二極體面板上。
當使用者將有機發光二極體顯示器(或者是安裝有機發光二極體顯示器的資訊設備，以下統稱為設備)摔落，或者，使用者用力強烈地按壓蓋玻片時，蓋玻片有可能破損，掉落的碎片有可能導致設備、有機發光二極體顯示器破損。
為了防止上述蓋玻片破損、破損時碎片四處掉落，而使用PET薄膜等保護膜覆蓋蓋玻片的表面。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2018-88248號公報。
[發明所欲解決之課題]
然而，因為傳統的作為指紋認證裝置的保護膜使用的PET薄膜會經過單軸拉伸，所以其面內相位差值(Re)高，會因雙折射而產生相位差。因此，在利用指紋對光之反射量的不同這一特性的光學式指紋認證裝置中，影像感測器所接收的光的量會因為保護膜與圓偏光片的位置關係而發生變化，結果發生誤認證。
為了防止此類誤認證的發生，在對成為保護膜的母材進行沖裁加工並使加工出的尺寸與所使用的設備一樣大時，需要確定角度而使薄膜配向軸與圓偏光片的光軸一致。結果約30%至40%的母材會浪費掉。薄膜配向軸與圓偏光片的光軸會因沖裁加工的公差與薄膜配向軸的公差等而發生偏移，便會生產出具有上述偏移之不良品，結果成品率會下降。
因此，本發明之目的為：提供一種用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜，能夠抑制誤認證，生產效率良好。 [用以解決課題之手段]
為了達成上述目的，本發明之用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜，在包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器中將覆蓋部件的表面覆蓋起來，該保護膜具有面內相位差值在25nm以下的基材層。
根據本發明之用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜，由於其基材層的面內相位差值非常小：在25nm以下，因此不易發生由於雙折射引起的相位差。因此，即使將其作為指紋認證裝置的保護膜使用，影像感測器所接收的光量也不易發生變化，結果能夠抑制誤認證的發生。再者，由於面內相位差值低，因此起因於基材層的配向的影響小。因此，當對成為基材層的母材進行沖裁加工並使加工後的尺寸與所使用的設備一樣大時，無需確定角度而使薄膜配向軸與圓偏光片的光軸一致，故不易出現母材浪費的問題。也不易產生起因於薄膜配向軸的公差的不良品，結果能夠抑制成品率下降。
本發明之用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜可以如此：指紋認證裝置包括：對認證對象照射光的光源、接收來自認證對象的反射光的影像感測器；有機發光二極體顯示器包括：有機發光二極體面板、設置於有機發光二極體面板的上側的圓偏光片；覆蓋部件為設置於圓偏光片的上側；指紋認證裝置為設置於有機發光二極體面板的下側。
如此能夠更為容易地形成包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器。需要說明的是，在使用本發明之保護膜且包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器中，將其可視側稱為上側，將可視側的相反側稱為下側。
本發明之用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜可以如此：於基材層的覆蓋部件側的面設置有黏合層。 如此便很容易將保護膜安裝於覆蓋部件上。
本發明之用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜可以如此：於基材層的與覆蓋部件的相反側的面上設置有硬塗層。 如此保護膜的強度會提高。
本發明之用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜可以如此：基材層以聚碳酸酯類樹脂、丙烯酸類樹脂、環烯烴類樹脂或聚酯類樹脂為主要成份。需要說明的是，上述「主要成份」為質量基準中最多的成分(例如50質量%以上)。 如此，透過例如T模法等已知方法能夠製造面內相位差值低的保護膜。
需要說明的是，在將硬塗層或黏合層等積層於基材層來形成保護膜的情況下，在積層製程中熱或張力(拉力)會施加於基材層，基材層的面內相位差值因此而會發生變化。但無庸置疑，本發明中所敘述的「基材層的面內相位差值」意指經過上述積層製程形成保護膜後的「基材層的面內相位差值」。
由於硬塗層與黏合層為非晶質而不具有配向性，因此面內相位差值基本上不會因硬塗層或黏合層而發生變化。換言之，將硬塗層或黏合層等積層於基材層來形成保護膜的情況下的「保護膜整體的面內相位差值」實質上與「基材層的面內相位差值」相等。
積層複數基材層來形成保護膜的情況下，無庸置疑，本發明所敘述的「基材層的面內相位差值」意指「形成保護膜的所有基材層的面內相位差值之和」。舉例而言，按從上到下的順序依次積層硬塗層、第一基材層、黏合層、第二基材層來形成保護膜的情況下，「基材層的面內相位差值」為「第一基材層的面內相位差值」與「第二基材層的面內相位差值」之和。 [發明功效]
根據本發明，能夠提供一種用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜，能夠抑制誤認證，生產效率良好。
以下參照圖式說明本發明的實施方式中用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜。需要說明的是，本發明的範圍不限定於以下實施方式，可在本發明的技術思想的範疇內任意地改變本發明的範圍。
圖1為使用實施方式中的保護膜且包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器之一例的結構簡圖。圖2為表示圖1所示的指紋認證裝置的指紋認證原理的圖。圖3為表示圖1所示的有機發光二極體顯示器中的有機發光二極體面板及圓偏光片的示意圖。
如圖1所示，有機發光二極體顯示器10包括：構成顯示畫面的有機發光二極體面板11、設置於有機發光二極體面板11下側的指紋認證裝置30、積層於有機發光二極體面板11上的圓偏光片14、積層於圓偏光片14上的覆蓋部件15、以及將覆蓋部件15表面覆蓋起來的保護膜16。指紋認證裝置30具有光源12與影像感測器13。光源12對認證對象照射光。影像感測器13從認證對象接收反射光。圓偏光片14防止外部光線映入有機發光二極體顯示器10中。需要說明的是，在有機發光二極體顯示器10中，將可視側稱為上側，將可視側的相反側稱為下側。
如圖1與圖2所示，人的手指20一觸碰保護膜16表面(認證面10a)，來自指紋認證裝置30中的光源12的照射光17就會在手指20所接觸的認證面10a發生反射，由指紋認證裝置30中的影像感測器13接收反射光18。此時，於手指20的指紋凹部發生全反射，反射光18的量與照射光17的量大致相等。然而，於手指20的指紋凸部會發生漫反射，反射光18的量較照射光17的光量少。這樣由影像感測器13接收的反射光18中會產生與手指20的指紋形狀相對應的陰影19。指紋認證裝置30用未圖示的處理電路記錄該陰影19，將其與預先登錄的指紋資訊進行比較，由此而進行指紋認證。
圖1所示的有機發光二極體顯示器10能夠安裝於例如智慧型手機、平板電腦等各種資訊設備中，該資訊設備藉由於顯示畫面上進行指紋認證來執行例如上鎖或解鎖。
本實施方式中，有機發光二極體面板11的構造並無特別限定，例如，可以如圖3所示，有機發光二極體面板11包括設置於認證面10a的反面(背面)側的陰極11A和與陰極11A相對而設的陽極11B。陰極11A為具有鏡面的金屬層所構成，陽極11B為例如由ITO(銦錫氧化物)層所構成。陰極11A與陽極11B之間配置有對應於各種顏色的發光層及／或電洞、電子的傳輸層等，但省略圖示。玻璃基板等透明部件可以位於陽極11B與圓偏光片14之間。於光源12與影像感測器13之設置位置，即指紋認證裝置30的設置位置，可以不形成陰極11A。
例如，如圖3所示，圓偏光片14可以包括設置於有機發光二極體面板11側的1/4波長板14A與積層於1/4波長板14A上的直線偏光片14B。透明部件可以存在於1/4波長板14A與直線偏光片14B之間。
於有機發光二極體面板11中，作為背面電極即陰極11A設置有具有鏡面的金屬層。因此，在將有機發光二極體顯示器10用在外部光線下使用機會較多的行動載具等中的情況下，為防止外部光線映入有機發光二極體顯示器10中而設有圓偏光片14。如圖3所示，透過圓偏光片14能夠減少外部光線21的影響。結果，有機發光二極體顯示器10的可視性提高。
具體而言，外部光線21通過直線偏光片14B以後變為線偏振光22，線偏振光22通過1/4波長板14A以後變為圓偏振光23，圓偏振光23通過陽極11B並在陰極11A發生反射。此時，反射光成為偏振方向與圓偏振光23相反的圓偏振光24。如果圓偏振光24通過陽極11B後再通過1/4波長板14A，該圓偏振光24就會成為偏振方向與線偏振光22相差90°的線偏振光25，因此該線偏振光25不會通過直線偏光片14B。
需要說明的是，作為光源12例如可以使用LED等；作為影像感測器13可以使用CCD式影像感測器或CMOS式影像感測器等。覆蓋部件15只要由具有光透過性的材料形成即可，無特別限制。例如覆蓋部件可以由玻璃、塑膠等材料形成。
本實施方式中，作為保護膜16的基材層使用面內相位差值(in-plane retardation)25nm以下的薄膜。面內相位差值(Re)為透過Re=(Ny-Nx)×d求得的值。在此，Nx為薄膜的快軸(與平面方向平行的軸)的折射率，Ny為薄膜的慢軸(與平面方向平行並且與快軸垂直的軸)的折射率，d為薄膜的厚度。
保護膜16的基材層可以用例如以聚碳酸酯類樹脂、丙烯酸類樹脂、環烯烴類樹脂或聚酯類樹脂為主要成份之材料形成。如此，透過例如T模法等已知方法能夠製造面內相位差值在25nm以下的薄膜。
保護膜16的基材層還可以含有紫外線吸收劑、穩定劑、抗菌劑以及抗霉劑等作為主要成份以外的其它成份。
保護膜16可以於上述基材層的表面(基材層的靠覆蓋部件15側的面)具有黏合層。如此便很容易將保護膜16安裝於覆蓋部件15上。黏合層可以用丙烯酸類樹脂、氨基甲酸乙酯類樹脂等已知的黏合性樹脂形成。
保護膜16可以具有覆蓋上述基材層的表面(基材層的與覆蓋部件15相反側的面)的硬塗層。如此保護膜16的強度會提高。硬塗層較佳為具有透明性、防止刮傷性、耐化學性、耐熱性、抗衝擊性、防汚性以及防指紋附著性等性能，硬塗層例如可以用熱固性樹脂或活性能量線固化樹脂等形成。
需要說明的是，在保護膜16上形成黏合層或硬塗層的情況下，為了不讓保護膜16整體的面內相位差值增大，需要特別注意黏合層、硬塗層的厚度、材質、製造方法等。
根據以上說明的實施方式，由於保護膜16的基材層的面內相位差值非常小：在25nm以下，因此不易產生由雙折射所引起的相位差。因此，即使作為有機發光二極體顯示器10的保護膜16使用，影像感測器13所接收的光量也不易發生變化，進而能夠抑制誤認證的發生。
根據本實施方式，由於面內相位差值低，因此保護膜16的基材層的配向所造成的影響小。因此，當對成為基材層的母材進行沖裁加工並使加工出的尺寸與所使用的設備一樣大時，無需確定角度而使薄膜配向軸與圓偏光片的光軸一致，故不易出現母材浪費的問題。也不易產生由於薄膜配向軸的公差所造成的不良品，故能夠抑制成品率下降。
此外，根據本實施方式，由於有機發光二極體顯示器10包括上述保護膜16，因而指紋認證裝置30的指紋認證精度會提高。將使用此保護膜16並包括指紋認證裝置30的有機發光二極體顯示器10安裝在例如智慧型手機或平板電腦等各種資訊設備上，由此便能夠在該資訊設備中以高精度進行指紋認證。
圖4為表示本實施方式的保護膜16的效果的圖。如圖4所示，從光源12照射來的照射光17作為隨機光通過1/4波長板14A，然後通過直線偏光片14B以後，成為線偏振光，之後通過覆蓋部件15，在手指20所接觸的保護膜16的表面發生反射。反射光18作為線偏振光通過覆蓋部件15與直線偏光片14B後，通過1/4波長板14A變為圓偏振光並被影像感測器13接收。
如圖2所示，理想情況為，進行指紋認證時，反射光18的量僅根據手指20指紋的凹凸發生變化。然而，實際上，由於保護膜16的存在，反射光18的量會受保護膜16的偏振狀態亦即相位差的影響。於此，相位差(δ)由δ＝2π・Re／λ(Re為面內相位差值，λ為光的波長)表示。
因此，如本實施方式的保護膜16那樣，面內相位差值越小，相位差也越小，反射光18的量實質上僅根據指紋的凹凸發生變化。其結果，透過利用影像感測器13測量反射光18，即能夠獲得準確的指紋形狀，故指紋認證精度提高。
另一方面，在作為保護膜16使用傳統的面內相位差值較大的保護膜的情況下，如圖4所示，在保護膜16發生反射而形成的反射光18’會因保護膜16的相位差而產生角度與照射光17不同的線偏振光。因此，當反射光18’通過直線偏光片14B時，反射光18’的量會減少。亦即，反射光18’的量會因保護膜16的相位差而發生變化，故無法獲得準確的指紋形狀，而會發生誤認證。
在使用傳統的面內相位差值較大的保護膜的情況下，如果進行指紋登錄時上述反射光的量減少，該反射光中與指紋形狀對應的陰影的明暗會模糊不清，爾後無法進行準確的指紋認證。 (實施例與比較例)
以下參照圖式說明實施例與比較例。
測量各實施例與各比較例的保護膜(基材層部分)的面內相位差值(Re)時，使用了大塚電子股份有限公司的RE-200。於本Re測量中，測量點為38.5mm2 ，測量波長為550nm，光源為LED。於本Re測量中，配置光子晶體元件(偏光元件)時確保能夠改變該光子晶體元件的角度，因此在不讓測量樣品旋轉的情況下，即能夠測量面內相位差值。
圖5為本Re測量中使用的測量裝置的結構簡圖。如圖5所示，測量裝置50包括投光頭51、供放置測量樣品60的樣品座52、以及夾著樣品座52與投光頭51相對的受光頭53。投光頭51中，沿著光路設有投光光纖54、鏡筒55、干涉濾光器(波長550nm)56、偏光片57以及波長板58。投光光纖54引入來自光源(LED)的光。偏光片57與波長板58分別具有手動裝卸機構。受光頭53由CCD照相機構成。
本Re測量中，用如圖5所示的測量裝置50從投光頭51對切割出的尺寸為38.5mm×38.5mm的測量樣品60照射了波長550nm的光，透過受光頭53感測了偏振光強度圖像，測量了測量樣品60的相位差與主軸方位，求出了面內相位差值。 (比較例1)
比較例1中，以OPPO公司製、具有指紋認證裝置的R17(智慧型手機)為對象，將該產品的原裝保護膜(SRF〔註冊商標〕製)剝除後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表1。需要說明的是，在已將保護膜剝除後的狀態下實施了指紋登錄。 (比較例2)
比較例2中，以OPPO公司製的R17為對象，直接使用該產品原裝的保護膜(Re=約10000nm)實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表1。需要說明的是，在已將保護膜剝除後的狀態下實施了指紋登錄。 (比較例3)
比較例3中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜從原來的朝向轉動了45°並重新黏貼後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表1。需要說明的是，在已將保護膜剝除後的狀態下實施了指紋登錄。 (實施例1)
實施例1中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由聚碳酸酯(Sumika Polycarbonate股份有限公司製CALIBRE〔註冊商標〕301-15)形成且厚度100μm、Re＝1.9nm的保護膜(基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表1。需要說明的是，在已將保護膜剝除後的狀態下實施了指紋登錄。
用於本實施例的保護膜(基材層部分)的製造方法如下所述。首先，用設定於280℃的擠壓機，以220kg／小時的擠出量擠出聚碳酸酯樹脂的粒狀物，用接觸輥(touch roll)以及一對薄膜流延輥(cast roll)對上述粒狀物擠壓後，讓薄膜於多個運送輥上慢慢冷卻。接著，用取膜輥(pick up roll)將慢慢冷卻後的薄膜取出以獲得聚碳酸酯樹脂薄膜。透過減小施加給Tg(玻璃轉移溫度)為±20℃的薄膜的張力來降低薄膜的面內相位差值。例如透過將該張力控制於100N／m以下，便能夠將薄膜的面內相位差值抑制於約30nm以下。 (比較例4)
比較例4中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換成由市售的PET薄膜(厚度150μm，Re＝4033nm)所形成的保護膜後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表1。需要說明的是，在已將保護膜剝除後的狀態下實施了指紋登錄。 (比較例5)
比較例5中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由聚碳酸酯(Sumika Polycarbonate股份有限公司製CALIBRE〔註冊商標〕301-15)形成且厚度100μm、Re＝100nm的保護膜(基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表1。需要說明的是，在已將保護膜剝除後的狀態下實施了指紋登錄。 (比較例6)
比較例6中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由聚酯(三菱瓦斯化學股份有限公司製ALTESTER〔註冊商標〕S3000)形成且厚度300μm、Re＝75nm的保護膜(基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表1。需要說明的是，在已將保護膜剝除後的狀態下實施了指紋登錄。 (對實施例1、比較例1至比較例6的評價)
Figure 02_image001
【表1】
如表1所示，實施例1所測試的保護膜與已將剝除保護膜剝除後的比較例1相同，皆未發生誤認證(解鎖失敗)。另一方面，根據比較例2與比較例3，產品的原裝保護膜的認證精度對角度具有依賴性。根據其他的比較例4至比較例6，指紋認證精度由於保護膜的面內相位差值亦即相位差較大而下降了。 (實施例2)
實施例2中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由聚碳酸酯(Sumika Polycarbonate股份有限公司製CALIBRE〔註冊商標〕301-15)形成且厚度100μm、Re＝1.9nm的保護膜(基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表2。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。使用於本實施例的保護膜的製造方法與實施例1相同。 (實施例3)
實施例3中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由聚碳酸酯(Sumika Polycarbonate股份有限公司製CALIBRE〔註冊商標〕301-15)形成且厚度100μm、Re＝6.9nm的保護膜(基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表2。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。使用於本實施例的保護膜的製造方法與實施例1基本上相同。 (實施例4)
實施例4中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由聚碳酸酯(Sumika Polycarbonate股份有限公司製CALIBRE〔註冊商標〕301-15)形成且厚度100μm、Re＝10nm的保護膜(基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表2。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。使用於本實施例的保護膜的製造方法與實施例1基本上相同。 (實施例5)
實施例5中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由聚碳酸酯(Sumika Polycarbonate股份有限公司製CALIBRE〔註冊商標〕301-15)形成且厚度100μm、Re＝15nm的保護膜(基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表2。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。使用於本實施例的保護膜的製造方法與實施例1基本上相同。 (實施例6)
實施例6中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由聚碳酸酯(Sumika Polycarbonate股份有限公司製CALIBRE〔註冊商標〕301-15)形成且厚度100μm、Re＝17.5nm的保護膜(基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表2。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。使用於本實施例的保護膜的製造方法與實施例1基本上相同。 (實施例7)
實施例7中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由聚碳酸酯(Sumika Polycarbonate股份有限公司製CALIBRE〔註冊商標〕301-15)形成且厚度200μm、Re＝27.4nm的保護膜(基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表2。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。使用於本實施例的保護膜的製造方法與實施例1基本上相同。 (比較例7)
比較例7中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由聚碳酸酯(Sumika Polycarbonate股份有限公司製CALIBRE〔註冊商標〕301-15)形成且厚度200μm、Re＝35nm的保護膜(基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表2。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。 (比較例8)
比較例8中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由聚碳酸酯(Sumika Polycarbonate股份有限公司製CALIBRE〔註冊商標〕301-15)形成且厚度300μm、Re＝52.5nm的保護膜(基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表2。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。 (比較例9)
比較例9中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由聚酯(三菱瓦斯化學股份有限公司製ALTESTER〔註冊商標〕S4500)形成且厚度275μm、Re＝66nm的保護膜(基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表2。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。 (比較例10)
比較例10中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由聚酯(三菱瓦斯化學股份有限公司製ALTESTER〔註冊商標〕S3000)形成且厚度300μm、Re＝75nm的保護膜(基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表2。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。 (比較例11)
比較例11中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由聚碳酸酯(Sumika Polycarbonate股份有限公司製CALIBRE〔註冊商標〕301-15)形成且厚度100μm、Re＝100nm的保護膜(基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表2。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。 (實施例8)
實施例8中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由丙烯酸樹脂(鐘化股份有限公司製KZ-112)形成且厚度100μm、Re＝1.2nm的保護膜(基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表2。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。
將剪切速率122(1/s)下的熔融黏度為2000Pa·s以下且將薄膜流延輥的溫度設定在樹脂的Tg±30℃以內，於此條件下製造了使用於本實施例的保護膜(基材層部分)，抑制了薄膜的面內相位差值。 (實施例9)
實施例9中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由環烯烴類樹脂(JSR股份有限公司製R5000)形成且厚度100μm、Re＝7.4nm的保護膜(基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表2。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。使用於本實施例的保護膜的製造方法與實施例8基本上相同。 (實施例10)
實施例10中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由聚酯類樹脂(伊士曼化學股份有限公司製Tritan〔註冊商標〕TX2001)形成且厚度100μm、Re＝12.2nm的保護膜(基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。指紋認證結果揭示於表2。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。使用於本實施例的保護膜的製造方法與實施例8基本上相同。 (對實施例2至實施例10、比較例7至比較例11的評價)
Figure 02_image003
【表2】
如表2所示，透過使實施例2至實施例10中的保護膜(基材層部分)的面內相位差值Re小於30nm，指紋認證的成功率達到了100％。另一方面，根據比較例7至比較例11，當保護膜(基材層部分)的面內相位差值Re超過30nm以後，指紋認證的成功率隨著面內相位差值Re的增加而下降。
圖6示出根據表2所示的結果所獲得的保護膜(基材層部分)的面內相位差值與指紋認證成功率之間的關係。
如圖6所示，面內相位差值Re小於30nm的實施例2至實施例10(圖中所示的1至6、12至14)的保護膜(基材層部分)，不論面內相位差值Re的大小如何，指紋認證成功率皆為100％。另一方面，保護膜的面內相位差值Re大於30nm的比較例7至比較例11中(圖中所示的7至11)的保護膜(基材層部分)，按照y＝－0.4841x＋113.8這一關係式(其中，x為面內相位差值，y為指紋認證成功率)，指紋認證的成功率隨著面內相位差值Re增大而下降。按照該關係式，當y=100時，可求得x為28.5nm。
由以上結果可得知，為了抑制在進行指紋認證時發生誤認證，較佳為讓保護膜(基材層部分)的面內相位差值小於30nm。考慮到設置黏合層或硬塗層的情況，更佳為讓面內相位差值小於25nm。 (實施例11)
實施例11中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由聚碳酸酯(Sumika Polycarbonate股份有限公司製CALIBRE〔註冊商標〕301-15)形成且厚度50μm、Re＝7.3nm的保護膜(僅基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。將指紋認證結果與保護膜的霧度值一同揭示於表3。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。使用於本實施例的保護膜的製造方法與實施例1基本上相同。 (實施例12)
實施例12中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由聚碳酸酯(Sumika Polycarbonate股份有限公司製CALIBRE〔註冊商標〕301-15)形成且厚度40μm、Re＝6.4nm的保護膜(僅基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。將指紋認證結果與保護膜的霧度值一同揭示於表3。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。使用於本實施例的保護膜的製造方法與實施例1基本上相同。 (實施例13)
實施例13中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由聚碳酸酯(Sumika Polycarbonate股份有限公司製CALIBRE〔註冊商標〕301-15)形成且厚度30μm、Re＝5.4nm的保護膜(僅基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。將指紋認證結果與保護膜的霧度值一同揭示於表3。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。使用於本實施例的保護膜的製造方法與實施例1基本上相同。 (實施例14)
實施例14中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為由丙烯酸樹脂(鐘化股份有限公司製KZ-112)形成且厚度40μm、Re＝0.6nm的保護膜(僅基材層部分)後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。將指紋認證結果與保護膜的霧度值一同揭示於表3。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。使用於本實施例的保護膜的製造方法與實施例8基本上相同。 (實施例15)
實施例15中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為將透明硬塗膜(日本化工塗料股份有限公司製TOMAX FA-3303 Clear)設在由聚碳酸酯(Sumika Polycarbonate股份有限公司製CALIBRE〔註冊商標〕301-15)形成且厚度為100μm的基材層的表面上以後而得到的Re＝5.2nm的保護膜後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。將指紋認證結果與保護膜的霧度值一同揭示於表3。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。使用於本實施例的保護膜的基材層之製造方法與實施例1基本上相同。 (實施例16)
實施例16中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為將硬塗膜(日本化工塗料股份有限公司製TOMAX FA-3303M與TOMAX FA-3303 Clear混合所得之防眩劑)設在由聚碳酸酯(Sumika Polycarbonate股份有限公司製CALIBRE〔註冊商標〕301-15)形成且厚度為50μm的基材層的表面上以後而得到的Re＝7.8nm的保護膜後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。將指紋認證結果與保護膜的霧度值一同揭示於表3。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。使用於本實施例的保護膜的基材層之製造方法與實施例1基本上相同。 (實施例17)
實施例17中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為將硬塗膜(日本化工塗料股份有限公司製TOMAX FA-3303M與TOMAX FA-3303 Clear混合所得之防眩劑)設在由聚碳酸酯(Sumika Polycarbonate股份有限公司製CALIBRE〔註冊商標〕301-15)形成且厚度為50μm的基材層的表面上以後而得到的Re＝7.2nm的保護膜後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。將指紋認證結果與保護膜的霧度值一同揭示於表3。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。使用於本實施例的保護膜的基材層之製造方法與實施例1基本上相同。 (實施例18)
實施例18中，以由OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為將硬塗膜(日本化工塗料股份有限公司製TOMAX FA-3303M與TOMAX FA-3303 Clear混合所得之防眩劑)設在由聚碳酸酯(Sumika Polycarbonate股份有限公司製CALIBRE〔註冊商標〕301-15)形成且厚度為50μm的基材層的表面上以後而得到的Re＝7.4nm的保護膜後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。將指紋認證結果與保護膜的霧度值一同揭示於表3。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。使用於本實施例的保護膜的基材層之製造方法與實施例1基本上相同。 (實施例19)
實施例19中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為將硬塗膜(日本化工塗料股份有限公司製TOMAX FA-3303M與TOMAX FA-3303 Clear混合所得之防眩劑)設在由丙烯酸樹脂(鐘化股份有限公司製KZ-112)形成且厚度為40μm的基材層的表面上以後而得到的Re＝0.6nm的保護膜後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。將指紋認證結果與保護膜的霧度值一同揭示於表3。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。使用於本實施例的保護膜的製造方法與實施例8基本上相同。 (實施例20)
實施例20中，以OPPO公司製的R17為對象，將該產品的原裝保護膜替換為將低反射劑(日揮觸媒化成股份有限公司製ELCOM P-5062)塗布在由丙烯酸樹脂(鐘化股份有限公司製KZ-112)形成且厚度為40μm的基材層的表面上以後而得到的Re＝0.6nm的保護膜後，實施了為進行解鎖的20次指紋認證。將指紋認證結果與保護膜的霧度值一同揭示於表3。需要說明的是，在已對保護膜做了替換後的狀態下實施了指紋登錄。使用於本實施例的保護膜的製造方法與實施例8基本上相同。此外，於本實施例中，透過將低反射劑塗布於保護膜表面，對波長550nm的光的反射率成為1.0％。 (對實施例11至實施例20的評價)
Figure 02_image005
【表3】
如表3所示，在讓實施例11至實施例14的保護膜厚度較實施例2至實施例7、8薄的情況下，也是只要面內相位差值Re在25nm以下，指紋認證的成功率就維持於100％不變。根據實施例15至實施例20，將硬塗膜或低反射層設置於基材層的情況下，也是只要面內相位差值Re在25nm以下，指紋認證的成功率即為100％。
根據實施例16至實施例19，將透明硬塗膜以外的硬塗膜設在基材層上的情況下，也是霧度值在20％以下，於實際使用上並無問題。實施例16至實施例19以外的實施例1至實施例10、11至實施例15、20的保護膜的霧度值均在1％以下。 (其他實施方式)
以上說明了本發明的實施方式(包括實施例，以下相同)，但本發明不限於前述實施方式，可在本發明範疇內進行各種變更。亦即，前述實施方式僅為從本質上說明發明之例示，本發明、其應用物或其用途不受其限制。
例如，實施方式中，保護膜16的基材層使用了以聚碳酸酯類樹脂、丙烯酸類樹脂、環烯烴類樹脂或聚酯類樹脂為主要成份的材料。但其不限於此，用其他材料形成面內相位差值在25nm以下的薄膜基材層的情況下，也能夠獲得與實施方式相同的效果。此外，即使薄膜基材層已被延伸了，只要構造得到了最佳化，便能夠將面內相位差值抑制在25nm以下。例如，因為旭化成股份有限公司的新型光學用透明樹脂「AZP(註冊商標)」於分子級的雙折射率為零，所以即使對其做了延伸，也能夠在相位差值在25nm以下的情況下形成膜。
再者，無庸置疑，保護膜16的應用對象即有機發光二極體顯示器也並不限於上述實施方式的有機發光二極體顯示器10。
無庸置疑，安裝在有機發光二極體顯示器上的指紋認證裝置也不限定於上述實施方式的指紋認證裝置30。實施方式中，將指紋認證裝置30配置於有機發光二極體面板11的下側，但可以取代該做法，例如既可以將指紋認證裝置30配置於有機發光二極體面板11的旁邊，又可以切除有機發光二極體面板11的端部並將指紋認證裝置30配置在那裡。
10:有機發光二極體顯示器 11:有機發光二極體面板 11A:陰極 11B:陽極 12:光源 13:影像感測器 14:圓偏光片 14A:1/4波長板 14B:直線偏光片 15:覆蓋部件 16:保護膜 17:照射光 18:反射光 20:手指 21:外部光線 22:線偏振光 23:圓偏振光 24:圓偏振光 25:線偏振光 30:指紋認證裝置
[圖1]為使用實施方式中的保護膜且包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器之一例的結構簡圖。 [圖2]為表示圖1所示的指紋認證裝置的指紋認證原理的圖。 [圖3]為表示圖1所示的有機發光二極體顯示器中的有機發光二極體面板及圓偏光片的示意圖。 [圖4]為表示本實施方式中的保護膜的效果的圖。 [圖5]為用於測量面內相位差值的裝置的結構簡圖。 [圖6]為表示實施例中的保護膜的面內相位差值與指紋認證成功率之間的關係的圖。
10:有機發光二極體顯示器
10a:認證面
11:有機發光二極體面板
12:光源
13:影像感測器
14:圓偏光片
15:覆蓋部件
16:保護膜
17:照射光
18:反射光
20:手指
30:指紋認證裝置

Claims (5)

  1. 一種用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜，在包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器中，由該保護膜將覆蓋部件的表面覆蓋起來； 該保護膜具有面內相位差值在25nm以下的基材層。
  2. 如請求項1所記載之用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜，其中前述指紋認證裝置包括：對認證對象照射光的光源、接收來自前述認證對象的反射光的影像感測器； 前述有機發光二極體顯示器包括：有機發光二極體面板、設置於前述有機發光二極體面板的上側的圓偏光片； 前述覆蓋部件為設置於前述圓偏光片的上側； 前述指紋認證裝置為設置於前述有機發光二極體面板的下側。
  3. 如請求項1或2所記載之用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜，其中於前述基材層的前述覆蓋部件側的面上設置有黏合層。
  4. 如請求項1或2所記載之用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜，其中於前述基材層的與前述覆蓋部件的相反側的面上設置有硬塗層。
  5. 如請求項1或2所記載之用於包括指紋認證裝置的有機發光二極體顯示器的保護膜，其中前述基材層以聚碳酸酯類樹脂、丙烯酸類樹脂、環烯烴類樹脂或聚酯類樹脂為主要成份。
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