TW201710786A

TW201710786A - 著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件、影像顯示裝置及聚合物

Info

Publication number: TW201710786A
Application number: TW105125363A
Authority: TW
Inventors: Yuta Takasaki; Takuma Amemiya; Yasuhiro Ishiwata; Atsuyasu Nozaki; Hiroaki Idei; Atsushi Nakayama; Akinori Fujita
Original assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2015-08-13
Filing date: 2016-08-10
Publication date: 2017-03-16
Also published as: TWI746456B; WO2017026473A1

Abstract

本發明提供一種耐熱性及耐溶劑性優異的著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件、影像顯示裝置及聚合物。本發明的著色組成物包括聚合物TP與聚合性化合物，所述聚合物TP僅包含具有三芳基甲烷結構的重複單元A、及具有酸基的重複單元B，聚合物TP含有聚合物TP的所有重複單元的12質量%～60質量%的重複單元B。

Description

著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件、影像顯示裝置及聚合物

本發明是有關於一種著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件、影像顯示裝置及聚合物。

著色組成物用於彩色濾光片等的製造。近年來，彩色濾光片於液晶顯示元件用途中存在如下的傾向：不僅用於監視器，而且用途擴大至電視機。伴隨該用途擴大的傾向，對於彩色濾光片而言，於色度、對比度等方面要求高度的顏色特性。作為彩色濾光片用的著色組成物，已知有包含三芳基甲烷的著色組成物等。於專利文獻1～專利文獻3中揭示有一種包含具有三芳基甲烷結構的化合物的著色組成物。 [現有技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]美國專利申請公開第2013/0141810號說明書 [專利文獻2]國際公開第2013/176383號公報 [專利文獻3]國際公開第2015/046285號公報

[發明所欲解決之課題] 用於彩色濾光片等的著色組成物需要可形成耐熱性及耐溶劑性優異的膜者。近年來，需要彩色濾光片的耐熱性及耐溶劑性的進一步提昇。

因此，本發明的目的在於提供一種可製造耐熱性及耐溶劑性優異的彩色濾光片等硬化膜的著色組成物。另外，在於提供一種硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件、影像顯示裝置及聚合物。 [解決課題之手段]

本發明者基於所述狀況而進行了努力研究，結果發現，藉由使用如下的聚合物TP，可達成所述目的，從而完成了本發明，所述聚合物TP僅包含後述的具有三芳基甲烷結構的重複單元A、及具有酸基的重複單元B，且含有所有重複單元的12質量%～60質量%的重複單元B。本發明提供以下者。＜1＞一種著色組成物，其包括：聚合物TP與聚合性化合物，所述聚合物TP僅包含具有選自通式（TP1）及通式（TP2）中的至少一種三芳基甲烷結構的重複單元A、及具有酸基的重複單元B，聚合物TP含有聚合物TP的所有重複單元的12質量%～60質量%的重複單元B； [化1]通式（TP1）及通式（TP2）中，Rtp₁ ～Rtp₄ 分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基；Rtp₅ 、Rtp₆ 、Rtp₈ 、Rtp₉ 及Rtp₁₁ 分別獨立地表示取代基；Rtp₇ 表示氫原子、烷基、芳基或NRtp₇₁ Rtp₇₂ ；Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基；Rtp₁₀ 表示氫原子、烷基或芳基；a、b、c及d分別獨立地表示0～4的整數；當a為2以上時，Rtp₅ 彼此可連結而形成環；當b為2以上時，Rtp₆ 彼此可連結而形成環；當c為2以上時，Rtp₈ 彼此可連結而形成環；當d為2以上時，Rtp₉ 彼此可連結而形成環；X表示陰離子，或者不存在X且Rtp₁ ～Rtp₁₁ 、Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 的至少一個包含陰離子；Rtp₁ ～Rtp₁₁ 、Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 的任一者具有與重複單元A的鍵結部位。＜2＞如＜1＞所述的著色組成物，其中聚合物TP的重量平均分子量為5,000以上、500,000以下。＜3＞如＜2＞所述的著色組成物，其進而包括具有三芳基甲烷結構的重量平均分子量未滿5000的化合物A，相對於聚合物TP與化合物A的合計100質量份，化合物A的含量為20質量份以下。＜4＞如＜1＞至＜3＞中任一項所述的著色組成物，其中重複單元B所具有的酸基為羧基。＜5＞如＜1＞至＜4＞中任一項所述的著色組成物，其中X自具有作為氟陰離子、氯陰離子、溴陰離子、碘陰離子、氰化物離子、過氯酸根陰離子、硼酸鹽陰離子、PF₆ ^- 及SbF₆ ^- 的陰離子，以及選自-SO₃ ^- 、-COO^- 、-PO₄ ^- 、由下述通式（A1）所表示的結構及由下述通式（A2）所表示的結構中的至少一種結構的化合物中選擇；通式（A1） [化2]通式（A1）中，R¹ 及R² 分別獨立地表示-SO₂ -或-CO-；通式（A2） [化3]通式（A2）中，R³ 表示-SO₂ -或-CO-；R⁴ 及R⁵ 分別獨立地表示-SO₂ -、-CO-或-CN。＜6＞如＜1＞至＜5＞中任一項所述的著色組成物，其中X為含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子、三(磺醯基)甲基化物陰離子或磺酸根陰離子的化合物。＜7＞如＜1＞至＜4＞中任一項所述的著色組成物，其中通式（TP1）及通式（TP2）中，Rtp₁ ～Rtp₁₁ 、Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 的至少一個經通式（P）取代；通式（P） [化4]通式（P）中，L表示單鍵或二價的連結基；X¹ 為選自-SO₃ ^- 、-COO^- 、-PO₄ ^- 、含有由下述通式（A1）所表示的結構的基及含有由下述通式（A2）所表示的結構的基中的至少一種；通式（A1） [化5]通式（A1）中，R¹ 及R² 分別獨立地表示-SO₂ -或-CO-；通式（A2） [化6]通式（A2）中，R³ 表示-SO₂ -或-CO-；R⁴ 及R⁵ 分別獨立地表示-SO₂ -、-CO-或-CN。＜8＞如＜1＞至＜7＞中任一項所述的著色組成物，其中重複單元A所具有的三芳基甲烷結構由下述通式（TP3）表示； [化7]通式（TP3）中，Rtp₂₁ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；Rtp₂₂ 分別獨立地表示碳數6～10的芳基；Rtp₇₁ 表示烷基或芳基；X表示陰離子，或者不存在X且Rtp₂₁ 、Rtp₂₂ 及Rtp₇₁ 的至少一個包含陰離子；Rtp₂₁ 、Rtp₂₂ 及Rtp₇₁ 的任一者具有與重複單元A的鍵結部位。＜9＞如＜1＞至＜8＞中任一項所述的著色組成物，其中重複單元A由下述通式（TP3-1）表示； [化8]通式（TP3-1）中，Rtp₂₁ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；Rtp₂₂ 分別獨立地表示碳數6～10的芳基；Rtp_71a 表示伸烷基或伸芳基；L₁ 表示單鍵或二價的連結基；Rtp₃₁ 表示氫原子或甲基；X表示陰離子，或者不存在X且Rtp₂₁ 及Rtp₂₂ 的至少一個包含陰離子。＜10＞如＜1＞至＜9＞中任一項所述的著色組成物，其中重複單元A由下述通式（TP3-2）表示； [化9]通式（TP3-2）中，Rtp₂₁ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；Rtp₂₄ 分別獨立地表示碳數1～4的烷基；Rtp₂₅ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～3的烷基；Rtp_71a 表示伸烷基或伸芳基；Rtp₃₁ 表示氫原子或甲基；L₁ 表示單鍵或二價的連結基；X表示陰離子，或者不存在X且Rtp₂₁ 、Rtp₂₄ 及Rtp₂₅ 的至少一個包含陰離子。＜11＞如＜1＞至＜10＞中任一項所述的著色組成物，其中重複單元A由下述通式（TP3-3）表示； [化10]通式（TP3-3）中，Rtp₂₁ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基。Rtp₂₄ 分別獨立地表示碳數1～4的烷基。Rtp₂₅ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～3的烷基；Rtp₃₁ 表示氫原子或甲基；X表示陰離子。＜12＞如＜1＞至＜11＞中任一項所述的著色組成物，其中重複單元B由下述通式（B-1）表示； [化11]通式（B-1）中，R^B 表示氫原子或甲基。＜13＞如＜1＞至＜12＞中任一項所述的著色組成物，其進而包括選自呫噸化合物、二吡咯亞甲基系金屬錯化合物、二噁嗪化合物及酞菁化合物中的至少一種。＜14＞如＜1＞至＜13＞中任一項所述的著色組成物，其中聚合物TP為由下述通式（TP-7）所表示的聚合物； [化12]通式（TP-7）中，R¹ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；R⁴ 表示氫原子或甲基；R^1a 表示伸烷基或伸芳基；L¹¹ 表示單鍵、或碳數1～30的二價的連結基；X表示含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子、三(磺醯基)甲基化物陰離子或磺酸根陰離子的化合物；a及b為重複單元的質量比，且a表示40～88，b表示12～60，a+b表示100。＜15＞如＜1＞至＜14＞中任一項所述的著色組成物，其中聚合物TP為由下述通式（TP-8）所表示的聚合物； [化13]通式（TP-8）中，R¹ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；R⁴ 表示氫原子或甲基；X表示含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子、三(磺醯基)甲基化物陰離子或磺酸根陰離子的化合物；a及b為重複單元的質量比，且a表示40～88，b表示12～60，a+b表示100。＜16＞如＜1＞至＜15＞中任一項所述的著色組成物，其中聚合物TP含有雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺陰離子。＜17＞如＜1＞至＜16＞中任一項所述的著色組成物，其進而包括雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鹽。＜18＞如＜1＞至＜17＞中任一項所述的著色組成物，其進而包括交聯劑。＜19＞如＜1＞至＜18＞中任一項所述的著色組成物，其用於形成彩色濾光片的著色層。＜20＞一種硬化膜，其是使如＜1＞至＜19＞中任一項所述的著色組成物硬化而成。＜21＞一種彩色濾光片，其包括如＜20＞所述的硬化膜。＜22＞一種彩色濾光片的製造方法，其包括：使用如＜1＞至＜19＞中任一項所述的著色組成物而於基材上形成著色組成物層的步驟；以及藉由光微影法或乾式蝕刻法，於組成物層上形成圖案的步驟。＜23＞一種固體攝影元件，其包括如＜21＞所述的彩色濾光片。＜24＞一種影像顯示裝置，其包括如＜21＞所述的彩色濾光片。＜25＞一種聚合物，其由下述通式（TP-7）表示； [化14]通式（TP-7）中，R¹ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；R⁴ 表示氫原子或甲基；R^1a 表示伸烷基或伸芳基；L¹¹ 表示單鍵、或碳數1～30的二價的連結基；X表示含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子、三(磺醯基)甲基化物陰離子或磺酸根陰離子的化合物；a及b為重複單元的質量比，且a表示40～88，b表示12～60，a+b表示100。＜26＞如＜25＞所述的聚合物，其中由通式（TP-7）所表示的聚合物為由下述通式（TP-8）所表示的聚合物； [化15]通式（TP-8）中，R¹ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；R⁴ 表示氫原子或甲基；X表示含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子、三(磺醯基)甲基化物陰離子或磺酸根陰離子的化合物；a及b為重複單元的質量比，且a表示40～88，b表示12～60，a+b表示100。 [發明的效果]

根據本發明，可提供一種可製造耐熱性及耐溶劑性優異的彩色濾光片等硬化膜的著色組成物。另外，可提供一種硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件、影像顯示裝置及聚合物。

以下，對本發明的內容進行詳細說明。再者，於本說明書中，所謂「～」，是指包含其前後所記載的數值作為下限值及上限值的範圍。於本說明書中，所謂總固體成分，是指自著色組成物的總組成中去除溶劑後的成分的總質量。於本說明書中的基（原子團）的表述中，未記載經取代及未經取代的表述包含不具有取代基的基（原子團），並且亦包含具有取代基的基（原子團）。例如，所謂「烷基」，不僅包含不具有取代基的烷基（未經取代的烷基），亦包含具有取代基的烷基（經取代的烷基）。於本說明書中，所謂「曝光」，只要無特別說明，則不僅包含使用光進行的曝光，亦包含使用電子束、離子束等粒子束進行的描繪。另外，作為曝光中所使用的光，通常可列舉水銀燈的明線光譜、以準分子雷射為代表的遠紫外線、極紫外線（極紫外（Extreme Ultraviolet，EUV）光）、X射線、電子束等光化射線或放射線。於本說明書中，「(甲基)丙烯酸酯」表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯兩者、或任一者，「(甲基)丙烯酸」表示丙烯酸及甲基丙烯酸兩者、或任一者，「(甲基)丙烯醯基」表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基兩者、或任一者。於本說明書中，化學式中的Me表示甲基，Et表示乙基，Pr表示丙基，Bu表示丁基，Ph表示苯基。於本說明書中，「步驟」這一用語不僅是指獨立的步驟，即便在無法與其他步驟明確地加以區分的情況下，只要達成該步驟的預期的作用，則亦包含於本用語中。

＜著色組成物＞本發明的著色組成物包括聚合物TP與聚合性化合物，所述聚合物TP僅包含後述的具有三芳基甲烷結構的重複單元A、及具有酸基的重複單元B，聚合物TP含有聚合物TP的所有重複單元的12質量%～60質量%的重複單元B。藉由設為此種構成，可提供可製造耐熱性及耐溶劑性優異的硬化膜的著色組成物。另外，亦可形成電壓保持率良好的膜。進而，亦可使圖案形成性變得良好。作為獲得此種效果的機制，可認為：就如下的原因而言，於形成膜時，聚合物TP難以自膜中溶出，耐溶劑性及耐熱性提昇，所述原因為由聚合物TP僅包含重複單元A及重複單元B且重複單元B的含量為所述範圍的著色組成物所獲得的硬化膜對溶劑的溶解性的降低、以及與聚合性化合物或鹼可溶性黏合劑等的相容性提昇等。以下，對本發明的著色組成物的各成分進行詳細說明。

＜＜聚合物TP＞＞＜＜＜重複單元A＞＞＞聚合物TP包含具有三芳基甲烷結構的重複單元A。重複單元A較佳為由通式（A）所表示的結構。於聚合物TP的所有重複單元中，較佳為含有40質量%～88質量%的重複單元A。下限更佳為45質量%以上，進而更佳為50質量%以上，特佳為55質量%以上。上限例如可設為85質量%以下，亦可設為80質量%以下。若重複單元A的含量為所述範圍，則容易由所獲得的著色組成物形成耐溶劑性及耐熱性優異的硬化膜。進而，硬化膜的色價變得更良好。 [化16]通式（A）中，X¹ 表示重複單元的主鏈。L¹ 表示單鍵或二價的連結基。DyeI表示由後述的通式（TP1）或通式（TP2）所表示的三芳基甲烷結構。

通式（A）中，X¹ 表示重複單元的主鏈，通常表示藉由聚合反應所形成的連結基，例如較佳為源自具有(甲基)丙烯酸基、苯乙烯基、乙烯基、醚基的化合物的主鏈。另外，具有環狀的伸烷基的主鏈的形態亦較佳。作為X¹ ，只要是自公知的可進行聚合的單體所形成的連結基，則並無特別限制，但較佳為由下述（XX-1）～（XX-24）所表示的連結基，更佳為由（XX-1）及（XX-2）所表示的(甲基)丙烯酸系連結基、由（XX-10）～（XX-17）所表示的苯乙烯系連結基、以及由（XX-18）、（XX-19）及（XX-24）所表示的乙烯基系連結基，進而更佳為由（XX-1）及（XX-2）所表示的(甲基)丙烯酸系連結基、由（XX-10）～（XX-17）所表示的苯乙烯系連結基、及由（XX-24）所表示的乙烯基系連結基，特佳為由（XX-1）及（XX-2）所表示的(甲基)丙烯酸系連結基及由（XX-11）所表示的苯乙烯系連結基。（XX-1）～（XX-24）中，*表示以由*所表示的部位與L¹ 進行連結。Me表示甲基。另外，（XX-18）及（XX-19）中的R表示氫原子、碳數1～5的烷基或苯基。

[化17]

L¹ 表示單鍵或二價的連結基。當L¹ 表示二價的連結基時，L¹ 較佳為伸烷基、伸芳基、雜環基、-CH=CH-、-O-、-S-、-CO-、-NR-、-CONR-、-COO-、-OCO-、-SO₂ -、及將該些的兩個以上組合而成的連結基。此處，R分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基、或雜環基。伸烷基的碳數較佳為1～30。上限更佳為25以下，進而更佳為20以下。下限更佳為2以上，進而更佳為3以上。伸烷基可為直鏈狀、分支狀及環狀的任一種。伸芳基的碳數較佳為6～20，更佳為6～12。 L¹ 較佳為伸烷基、伸芳基、-NH-、-CO-、-O-、-COO-、-OCO-及將該些的兩個以上組合而成的連結基，更佳為伸烷基、伸芳基以及將該些與選自-O-、-COO-及-OCO-中的一種以上組合而成的二價的基，進而更佳為伸烷基，或伸烷基彼此經由選自-O-、-COO-及-OCO-中的一種以上連結而成的連結基。於L¹ 中，構成將X¹ 與DyeI連接的鏈的原子的數量較佳為1以上，更佳為2以上，進而更佳為3以上。上限例如較佳為20以下。根據該形態，於合成聚合物TP時，可有效地抑制未反應或反應並不充分的低分子的三芳基甲烷化合物。例如，當為由以下的結構式所表示的L¹ 時，構成將X¹ 與DyeI連接的鏈的原子的數量為10個。再者，以下的結構式中，與數字一併記載的原子為構成將X¹ 與DyeI連接的鏈的原子。

[化18]

再者，當L¹ 表示單鍵時，X¹ 與通式（TP1）及通式（TP2）中的Rtp₁ ～Rtp₁₁ 、Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 的任一者進行鍵結，較佳為與Rtp₇₁ 或Rtp₇₂ 進行鍵結。當L¹ 表示二價的連結基時，L¹ 與通式（TP1）及通式（TP2）中的Rtp₁ ～Rtp₁₁ 、Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 的任一者進行鍵結，較佳為與Rtp₇₁ 或Rtp₇₂ 進行鍵結。

＜＜＜＜三芳基甲烷結構＞＞＞＞其次，對重複單元A所具有的三芳基甲烷結構進行說明。重複單元A具有選自通式（TP1）及通式（TP2）中的至少一種三芳基甲烷結構。 [化19]通式（TP1）及通式（TP2）中，Rtp₁ ～Rtp₄ 分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基；Rtp₅ 、Rtp₆ 、Rtp₈ 、Rtp₉ 及Rtp₁₁ 分別獨立地表示取代基；Rtp₇ 表示氫原子、烷基、芳基或NRtp₇₁ Rtp₇₂ ；Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基；Rtp₁₀ 表示氫原子、烷基或芳基；a、b、c及d分別獨立地表示0～4的整數；當a為2以上時，Rtp₅ 彼此可連結而形成環；當b為2以上時，Rtp₆ 彼此可連結而形成環；當c為2以上時，Rtp₈ 彼此可連結而形成環；當d為2以上時，Rtp₉ 彼此可連結而形成環；X表示陰離子，或者不存在X且Rtp₁ ～Rtp₁₁ 、Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 的至少一個包含陰離子；Rtp₁ ～Rtp₁₁ 、Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 的任一者具有與重複單元A的鍵結部位。

通式（TP1）中，Rtp₁ ～Rtp₄ 分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基。較佳為Rtp₁ 及Rtp₂ 的任一者為烷基，另一者為芳基。較佳為Rtp₃ 及Rtp₄ 的任一者為烷基，另一者為芳基。

烷基的碳數較佳為1～10，更佳為1～6，進而更佳為1～4，特佳為1～3。烷基可為直鏈狀、分支狀及環狀的任一種，但較佳為直鏈狀或分支狀。烷基可具有取代基，但較佳為未經取代。作為烷基可具有的取代基，可列舉後述的取代基群組A一項中所列舉的取代基。芳基的碳數較佳為6～18，更佳為6～12，進而更佳為6。芳基可未經取代，亦可具有取代基。芳基較佳為具有取代基。作為芳基可具有的取代基，可列舉後述的取代基群組A一項中所列舉的取代基。

通式（TP1）中，Rtp₇ 表示氫原子、烷基、芳基或NRtp₇₁ Rtp₇₂ ，較佳為氫原子或NRtp₇₁ Rtp₇₂ ，更佳為NRtp₇₁ Rtp₇₂ 。 Rtp₇ 所表示的烷基的碳數較佳為1～10，更佳為1～6，進而更佳為1～4，特佳為1～3。烷基可為直鏈狀、分支狀及環狀的任一種，但較佳為直鏈狀。烷基可未經取代，亦可具有取代基。作為烷基可具有的取代基，可列舉後述的取代基群組A一項中所列舉的取代基。Rtp₇ 所表示的芳基的碳數較佳為6～18，更佳為6～12，進而更佳為6。 Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基，較佳為氫原子或烷基。 Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 所表示的烷基的碳數較佳為1～10，更佳為1～8，進而更佳為1～6。烷基可為直鏈狀、分支狀及環狀的任一種，較佳為環狀。烷基可未經取代，亦可具有取代基。作為烷基可具有的取代基，可列舉後述的取代基群組A一項中所列舉的取代基。 Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 所表示的芳基的碳數較佳為6～18，更佳為6～12，進而更佳為6。芳基可未經取代，亦可具有取代基。芳基可具有的取代基可列舉後述的取代基群組A一項中所列舉的取代基。

通式（TP1）中，Rtp₅ 、Rtp₆ 及Rtp₈ 分別獨立地表示取代基。作為取代基，可列舉後述的取代基群組A一項中所列舉的取代基。尤其，較佳為碳數1～5的直鏈狀或分支狀的烷基、碳數1～5的烯基、碳數6～15的芳基、羧基或磺基，更佳為碳數1～5的直鏈狀或分支狀的烷基、碳數1～5的烯基、苯基或羧基。尤其，Rtp₅ 及Rtp₆ 較佳為分別獨立地為碳數1～5的烷基。另外，當c為2以上時，多個Rtp₈ 較佳為兩個烯基相互鍵結而形成環。環較佳為苯環。

通式（TP1）中，a、b及c分別獨立地表示0～4的整數，尤其，a及b較佳為表示0或1，更佳為表示0。c較佳為表示0～2。

通式（TP2）中，Rtp₁ ～Rtp₄ 分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基，其含義與通式（TP1）中的Rtp₁ ～Rtp₄ 相同，較佳的範圍亦相同。

通式（TP2）中，Rtp₅ 及Rtp₆ 分別獨立地表示取代基，其含義與通式（TP1）中的Rtp₅ 及Rtp₆ 相同，較佳的範圍亦相同。

通式（TP2）中，Rtp₉ 及Rtp₁₁ 分別獨立地表示取代基，可使用後述的取代基群組A一項中所列舉的取代基。 Rtp₉ 較佳為芳基，更佳為碳數6～12的芳基，進而更佳為苯基。 Rtp₁₁ 較佳為烷基，更佳為碳數1～5的烷基，進而更佳為碳數1～3的烷基。烷基較佳為直鏈狀或分支狀，更佳為直鏈狀。

通式（TP2）中，Rtp₁₀ 表示氫原子、烷基或芳基。尤其，Rtp₁₀ 更佳為碳數6～12的芳基，進而更佳為苯基。

通式（TP2）中，a、b及d分別獨立地表示0～4的整數，尤其，a及b較佳為表示0或1，更佳為0。d較佳為表示0～2，更佳為0。

於通式（TP1）及通式（TP2）中，Rtp₁ ～Rtp₁₁ 、Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 的任一者具有與重複單元A的鍵結部位，尤其，較佳為Rtp₇₁ 或Rtp₇₂ 具有與重複單元A的鍵結部位。

於通式（TP1）及通式（TP2）中，Rtp₁ ～Rtp₁₁ 、Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 的至少一個亦可包含陰離子。作為陰離子，較佳為-SO₃ ^- 、-COO^- 、-PO₄ ^- 、雙(磺醯基)醯亞胺陰離子、三(磺醯基)甲基化物陰離子及四芳基硼酸鹽陰離子，更佳為雙(磺醯基)醯亞胺陰離子、三(磺醯基)甲基化物陰離子及四芳基硼酸鹽陰離子，進而更佳為雙(磺醯基)醯亞胺陰離子及三(磺醯基)甲基化物陰離子。作為包含陰離子的形態，具體而言，可列舉Rtp₁ ～Rtp₁₁ 、Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 的至少一個經通式（P）取代的結構。通式（P） [化20]通式（P）中，L表示單鍵或二價的連結基，X¹ 表示陰離子。

通式（P）中，L表示單鍵或二價的連結基。作為二價的連結基，較佳為表示-NR¹⁰ -、-O-、-SO₂ -、可含有氟原子的伸烷基、可含有氟原子的伸芳基、或包含該些的組合的基。尤其，較佳為表示包含-NR¹⁰ -與-SO₂ -及可含有氟原子的伸烷基的組合的基、或包含-O-與可含有氟原子的伸芳基的組合的基。於-NR¹⁰ -中，R¹⁰ 表示氫原子或碳數1～5的烷基，較佳為氫原子。可含有氟原子的伸烷基的碳數較佳為1～10，更佳為1～6，進而更佳為1～3。含有氟原子的伸烷基較佳為全氟伸烷基。作為含有氟原子的伸烷基的具體例，可列舉：二氟亞甲基、四氟伸乙基、六氟伸丙基等。可含有氟原子的伸芳基的碳數較佳為6～20，更佳為6～14，進而更佳為6～10。作為含有氟原子的伸芳基的具體例，可列舉：四氟伸苯基、六氟-1-伸萘基、六氟-2-伸萘基等。

通式（P）中，X¹ 表示陰離子，較佳為自選自-SO₃ ^- 、-COO^- 、-PO₄ ^- 、含有由下述通式（A1）所表示的結構的基及含有由下述通式（A2）所表示的結構的基中的至少一種中選擇。通式（A1） [化21]通式（A1）中，R¹ 及R² 分別獨立地表示-SO₂ -或-CO-。通式（A2） [化22]通式（A2）中，R³ 表示-SO₂ -或-CO-。R⁴ 及R⁵ 分別獨立地表示-SO₂ -、-CO-或-CN。

含有由通式（A1）所表示的結構的基較佳為於通式（A1）中，在R¹ 及R² 的一者的末端具有氟取代烷基，更佳為R¹ 及R² 的一者直接與氟取代烷基進行鍵結。氟取代烷基的碳數較佳為1～10，更佳為1～6，進而更佳為1～3，尤佳為1或2，特佳為1。該些烷基較佳為全氟烷基。作為氟取代烷基的具體例，可列舉三氟甲基。含有由通式（A2）所表示的結構的基較佳為於通式（A2）中，在R³ ～R⁵ 的至少任一者的末端具有氟取代烷基，更佳為R³ ～R⁵ 的至少任一者直接與氟取代烷基進行鍵結。進而更佳為於R³ ～R⁵ 的至少兩個的末端具有氟取代烷基，尤佳為R³ ～R⁵ 的至少兩個直接與氟取代烷基進行鍵結。氟取代烷基的含義與含有由通式（A1）所表示的結構的基中所說明者相同，較佳的範圍亦相同。此外，作為X¹ 的具體例，可列舉後述的抗衡陰離子A。於此情況下，構成抗衡陰離子A的任一個氫原子或鹵素原子與通式（P）中的L進行鍵結。

通式（TP1）及通式（TP2）中，經通式（P）取代的部分可僅存在一個部位，亦可存在兩個部位以上。當存在兩個部位以上的經通式（P）取代的部分時，較佳為於聚合物TP中，除三芳基甲烷結構中所含有的陽離子以外，存在與陰離子的數量相對應的數量的陽離子。

於通式（TP1）及通式（TP2）中，X表示陰離子。通式（TP1）及通式（TP2）中，可存在X，亦可不存在X。於通式（TP1）及通式（TP2）中，存在X的情況是指X（陰離子）存在於三芳基甲烷結構的分子外。所謂陰離子存在於三芳基甲烷結構的分子外，是指三芳基甲烷結構與陰離子不經由共價鍵進行鍵結，而作為其他化合物存在的情況。以下，將三芳基甲烷結構的分子外的陰離子亦稱為抗衡陰離子。

作為抗衡陰離子，可列舉：氟陰離子、氯陰離子、溴陰離子、碘陰離子、氰化物離子、過氯酸根陰離子、硼酸鹽陰離子（BF₄ ^- 等）、PF₆ ^- 及SbF₆ ^- 等。作為硼酸鹽陰離子，可列舉由B(R¹⁰ )₄ ^- 所表示的基，R¹⁰ 可例示：氟原子、氰基、氟化烷基、烷氧基、芳氧基等。

抗衡陰離子可為具有陰離子部的化合物。即，可含有陰離子部作為化合物的結構的一部分。當含有陰離子部作為化合物的結構的一部分時，可包含於具有重複單元的聚合體（聚合物）的一部分中，亦可包含於分子量為2000以下的所謂的低分子化合物中。當為低分子化合物時，可例示一併包含陰離子部、與烷基、芳基及交聯性基的至少一種的形態。於本發明中，較佳為抗衡陰離子為含有交聯性基的化合物的形態、及抗衡陰離子為含有具有陰離子部的重複單元的聚合物的形態。

當抗衡陰離子為具有陰離子部的化合物時，陰離子部較佳為選自-SO₃ ^- 、-COO^- 、-PO₃ ^- 、由下述通式（A1）所表示的結構及由下述通式（A2）所表示的結構中的至少一種。

通式（A1） [化23]（通式（A1）中，R¹ 及R² 分別獨立地表示-SO₂ -或-CO-）通式（A1）中，較佳為R¹ 及R² 的至少一個表示-SO₂ -，更佳為R¹ 及R² 兩者表示-SO₂ -。

另外，所述通式（A1）較佳為由下述通式（A1-1）表示。通式（A1-1） [化24]（通式（A1-1）中，R¹ 及R² 分別獨立地表示-SO₂ -或-CO-。X¹ 及X² 分別獨立地表示伸烷基或伸芳基）通式（A1-1）中，R¹ 及R² 的含義與通式（A1）中的R¹ 及R² 相同，較佳的範圍亦相同。當X¹ 表示伸烷基時，伸烷基的碳數較佳為1～8，更佳為1～6。當X¹ 表示伸芳基時，伸芳基的碳數較佳為6～18，更佳為6～12，進而更佳為6。當X¹ 具有取代基時，作為取代基，較佳為氟原子。 X² 表示伸烷基或伸芳基，較佳為伸烷基。伸烷基的碳數較佳為1～8，更佳為1～6，進而更佳為1～3，特佳為1。當X² 具有取代基時，作為取代基，較佳為氟原子。

通式（A2） [化25]（通式（A2）中，R³ 表示-SO₂ -或-CO-。R⁴ 及R⁵ 分別獨立地表示-SO₂ -、-CO-或-CN）通式（A2）中，較佳為R³ ～R⁵ 的至少一個表示-SO₂ -，更佳為R³ ～R⁵ 的至少兩個表示-SO₂ -。

當抗衡陰離子為具有陰離子部的化合物時，作為陰離子部的具體例，亦可列舉為R-SO₃ ^- 、R-COO^- 或R-PO₄ ^- ，且R為鹵素原子、可經鹵素原子取代的烷基、可經鹵素原子取代的芳基的情況。另外，作為含有由所述通式（A1）所表示的結構的化合物的具體例，可例示R¹ 與鹵素原子、可經鹵素原子取代的烷基、及可經鹵素原子取代的芳基進行鍵結的化合物。另外，作為含有由所述通式（A2）所表示的結構的化合物的具體例，可列舉R⁴ 及R⁵ 分別為鹵素原子、可經鹵素原子取代的烷基、及可經鹵素原子取代的芳基的情況。

當抗衡陰離子為具有陰離子部的化合物時，抗衡陰離子較佳為含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子的化合物、含有三(磺醯基)甲基化物陰離子的化合物、或含有磺酸根陰離子的化合物。含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子的化合物可為單體，亦可為聚合物。含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子的化合物較佳為由下述通式（AN1）表示。通式（AN1） [化26]通式（AN1）中，R¹ 及R² 分別獨立地表示烷基或芳基。R¹ 與R² 可鍵結而形成環。 R¹ 表示烷基或芳基。烷基可為直鏈狀、分支狀或環狀的任一種。烷基的碳數較佳為1～6，更佳為1～3。烷基可具有取代基，作為取代基，較佳為氟原子。經氟原子取代的烷基的碳數較佳為1～6，更佳為1～3。尤其，較佳為全氟烷基，更佳為全氟甲基。芳基的碳數較佳為6～18，更佳為6～12。芳基較佳為經氟原子取代的芳基。 R² 的含義與R¹ 相同，較佳的範圍亦相同。作為含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子的化合物的具體例，較佳為雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺陰離子。藉由設為此種構成，可進一步提昇由著色組成物所獲得的硬化膜的耐熱性。

含有三(磺醯基)甲基化物陰離子的化合物較佳為由下述通式（AN2）所表示的化合物。通式（AN2） [化27]通式（AN2）中，R³ ～R⁵ 分別獨立地表示烷基或芳基。 R³ 表示烷基或芳基。烷基可為直鏈狀、分支狀或環狀的任一種。烷基的碳數較佳為1～6，更佳為1～3。烷基可具有取代基，作為取代基，較佳為氟原子。經氟原子取代的烷基的碳數較佳為1～6，更佳為1～3。尤其，較佳為全氟烷基，更佳為全氟甲基。芳基的碳數較佳為6～18，更佳為6～12。芳基較佳為經氟原子取代的芳基。 R⁴ 的含義與R³ 相同，較佳的範圍亦相同。 R⁵ 的含義與R³ 相同，較佳的範圍亦相同。作為含有三(磺醯基)甲基化物陰離子的化合物的具體例，較佳為三(三氟甲磺醯基)甲基化物陰離子。

含有磺酸根陰離子的化合物較佳為由下述通式（AN3）表示。通式（AN3） R-SO₃ ^- 通式（AN3）中，R表示烷基或芳基。當R表示烷基時，較佳為經氟原子取代的烷基。烷基的碳數較佳為1～6，更佳為1～3。尤其，較佳為全氟烷基，更佳為全氟甲基。當R表示芳基時，較佳為經氟原子取代的芳基。芳基的碳數較佳為6～18，更佳為6～12。作為含有磺酸根陰離子的化合物的具體例，較佳為三氟甲磺酸根陰離子。

作為其他抗衡陰離子的具體例，可列舉以下的具體例，但本發明並不限定於該些具體例。於本說明書中，將以下的其他抗衡陰離子的具體例稱為「抗衡陰離子A」。 [化28]

[化29]

其次，對抗衡陰離子為含有交聯性基的化合物的情況進行說明。作為交聯性基，可列舉：可藉由自由基、酸、熱來進行交聯的公知的聚合性基。具體而言，可列舉：(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、乙烯基、環狀醚基及由-C-O-R所表示的基（其中，R表示氫原子或碳數1～20的烷基），較佳為(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、乙烯基及環狀醚基，更佳為(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基及乙烯基類，進而更佳為(甲基)丙烯醯基或苯乙烯基。含有交聯性基的化合物中的交聯性基的數量較佳為1～3，更佳為1。

另外，交聯性基與抗衡陰離子之間可直接進行鍵結，亦可經由連結基而進行鍵結，但較佳為經由連結基而進行鍵結。作為抗衡陰離子為含有交聯性基的化合物時的具體例，可較佳地列舉由下述通式（B）所表示者。

通式（B）（通式（B）中，P表示交聯性基；L表示單鍵或二價的連結基；anion表示所述抗衡陰離子）通式（B）中，P表示交聯性基，可列舉所述交聯性基。通式（B）中，當L表示二價的連結基時，作為L，較佳為碳數1～30的伸烷基、碳數6～30的伸芳基、雜環連結基、-CH=CH-、-O-、-S-、-C(=O)-、-CO-、-NR-、-CONR-、-OC-、-SO₂ -、及將該些的兩個以上組合而成的連結基。此處，R分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基或雜環基。尤其，L所表示的連結基較佳為將碳數1～10的伸烷基、碳數6～12的伸芳基、-NH-、-CO-、-O-及-SO₂ -的兩個以上組合而成的連結基。

當抗衡陰離子為含有交聯性基的化合物時，抗衡陰離子亦可具有交聯性基以外的其他官能基。作為交聯性基以外的官能基，可列舉酸基等。作為酸基，可例示：羧基、磺基、磷酸基。當抗衡陰離子具有酸基作為交聯性基以外的官能基時，抗衡陰離子中的酸基的數量較佳為1～3，更佳為1。

作為抗衡陰離子為含有交聯性基的化合物時的具體例，可列舉國際公開第2015/046285號公報的段落號0083中所記載的結構，其內容可被編入至本說明書中。

含有交聯性基的化合物的分子量較佳為200～2,000，更佳為200～500。

其次，對抗衡陰離子為含有具有陰離子部的重複單元的聚合物（以下，亦稱為陰離子多聚體）的情況進行說明。陰離子多聚體可於重複單元的側鏈上具有陰離子部，亦可於重複單元的主鏈上具有陰離子部，亦可於主鏈及側鏈兩者上具有陰離子部。陰離子多聚體較佳為由下述通式（C）及/或下述通式（D）表示。

通式（C） [化31]（通式（C）中，X¹ 表示重複單元的主鏈；L¹ 表示單鍵或二價的連結基；anion表示陰離子部）

通式（C）中，X¹ 表示重複單元的主鏈，通常表示藉由聚合反應所形成的連結基，例如較佳為(甲基)丙烯酸系、苯乙烯系、乙烯基系等。再者，兩個*之間的結構成為重複單元。

L¹ 表示單鍵或二價的連結基。當L¹ 表示二價的連結基時，作為L¹ ，較佳為碳數1～30的伸烷基、碳數6～30的伸芳基、雜環連結基、-CH=CH-、-O-、-S-、-COO-、-CO-、-NR-、-CONR-、-OCO-、-SO₂ -、及將該些的兩個以上組合而成的連結基。此處，R分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基、或雜環基。 L¹ 更佳為單鍵，或將碳數1～10的伸烷基、碳數6～12的伸芳基、-NH-、-CO₂ -、-O-及-SO₂ -的兩個以上組合而成的二價的連結基。

陰離子多聚體（C）中，較佳為由下述通式（AN4）所表示者。通式（AN4） [化32]通式（AN4）中，X¹ 表示重複單元的主鏈。L¹ 表示單鍵或二價的連結基。R¹ 表示烷基或芳基。 X¹ 及L¹ 的含義與所述通式（C）中的X¹ 及L¹ 相同，較佳的範圍亦相同。 R¹ 表示烷基或芳基。烷基可為直鏈狀、分支狀或環狀的任一種。烷基的碳數較佳為1～6，更佳為1～3。烷基可具有取代基，作為取代基，較佳為氟原子。經氟原子取代的烷基的碳數較佳為1～6，更佳為1～3。尤其，較佳為全氟烷基，更佳為全氟甲基。芳基的碳數較佳為6～18，更佳為6～12。芳基較佳為經氟原子取代的芳基。

通式（D） [化33]（通式（D）中，L² 及L³ 分別獨立地表示單鍵或二價的連結基；anion表示陰離子部）

通式（D）中，L² 及L³ 分別獨立地表示單鍵或二價的連結基。當L² 及L³ 表示二價的連結基時，作為L² 及L³ ，較佳為碳數1～30的伸烷基、碳數6～30的伸芳基、雜環連結基、-CH=CH-、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-NR-、-CONR-、-OCO-、-SO₂ -及將該些的兩個以上組合而成的連結基。此處，R分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基、或雜環基。 L² 更佳為碳數6～12的伸芳基（特別是伸苯基）。碳數6～12的伸芳基較佳為氫原子的至少一個經氟原子取代。 L³ 更佳為包含碳數6～12的伸芳基（特別是伸苯基）與-O-的組合的基。另外，碳數6～12的伸芳基較佳為氫原子的至少一個經氟原子取代。

陰離子多聚體亦可含有具有聚合性基的重複單元。當含有具有聚合性基的重複單元時，相對於所有重複單元100莫耳，其量例如較佳為10莫耳～50莫耳，更佳為10莫耳～30莫耳。另外，陰離子多聚體亦可含有具有酸基的重複單元。當含有具有酸基的重複單元時，相對於所有重複單元100莫耳，其量例如較佳為10莫耳～50莫耳，更佳為10莫耳～30莫耳。

陰離子多聚體的重量平均分子量較佳為1,000～30,000，更佳為3,000～20,000。

當形成陰離子多聚體時，亦可添加鏈轉移劑。作為鏈轉移劑，較佳為烷基硫醇，更佳為碳數4以上的烷基硫醇，及經羧基、醚基或酯基取代的烷基硫醇。作為陰離子多聚體中所含有的鹵素離子含量，較佳為10 ppm～3000 ppm，更佳為10 ppm～2000 ppm，進而更佳為10 ppm～1000 ppm。作為陰離子多聚體的具體例，可列舉日本專利特開2015-030742號公報的段落號0034～段落號0035中所記載的結構、及國際公開第2015/046285號公報的段落號0095～段落號0096中所記載的結構，其內容可被編入至本說明書中。

由通式（TP1）所表示的三芳基甲烷結構、及由通式（TP2）所表示的三芳基甲烷結構中，陽離子如以下般非定域化地存在，下述結構的含義相同，而設為均包含於本發明中者。 [化34]

三芳基甲烷結構較佳為由下述通式（TP3）表示。 [化35]通式（TP3）中，Rtp₂₁ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；Rtp₂₂ 分別獨立地表示碳數6～10的芳基；Rtp₇₁ 表示烷基或芳基；X表示陰離子，或者不存在X且Rtp₂₁ 、Rtp₂₂ 及Rtp₇₁ 的至少一個包含陰離子；Rtp₂₁ 、Rtp₂₂ 及Rtp₇₁ 的任一者具有與重複單元A的鍵結部位。

通式（TP3）中，Rtp₂₁ 較佳為碳數1～6的烷基。烷基可為直鏈狀、分支狀及環狀的任一種，但較佳為直鏈狀。烷基的碳數較佳為1～4，更佳為1～3。作為烷基可具有的取代基，可列舉後述的取代基群組A一項中所列舉的取代基。藉由設為此種構成，可進一步提昇由著色組成物所獲得的硬化膜的耐光性。通式（TP3）中，Rtp₂₂ 表示碳數6～10的芳基。Rtp₂₂ 較佳為至少於鄰位上具有取代基的芳基。芳基可具有的取代基可列舉後述的取代基群組A一項中所列舉的取代基，較佳為碳數1～3的烷基。藉由設為此種構成，可進一步提昇由著色組成物所獲得的硬化膜的耐熱性。 Rtp₇₁ 表示烷基或芳基，較佳為烷基。烷基可為直鏈狀、分支狀及環狀的任一種，較佳為環狀。烷基的碳數較佳為1～8，更佳為1～6。芳基的碳數較佳為6～12，更佳為6～10。 Rtp₂₁ 、Rtp₂₂ 及Rtp₇₁ 的任一者具有與重複單元A的鍵結部位，較佳為Rtp₇₁ 具有與重複單元的鍵結部位。

三芳基甲烷結構（TP3）較佳為由下述通式（TP3A）表示。 [化36]通式（TP3A）中，Rtp₂₁ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；Rtp₂₂ 分別獨立地表示碳數6～10的芳基；X表示陰離子，或者不存在X且Rtp₂₁ 及Rtp₂₂ 的至少一個包含陰離子；*表示與重複單元A的鍵結部位。關於Rtp₂₁ 及Rtp₂₂ 的詳細情況，其含義與通式（TP3）的Rtp₂₁ 及Rtp₂₂ 相同，較佳的範圍亦相同。

取代基群組A：作為取代基，可列舉：鹵素原子、烷基、烯基、炔基、芳基、雜環基、氰基、羥基、烷氧基、芳氧基、矽烷氧基、雜環氧基、醯氧基、胺甲醯氧基、胺基（包含烷基胺基、苯胺基）、醯基胺基、胺基羰基胺基、烷氧基羰基胺基、芳氧基羰基胺基、胺磺醯基胺基、烷基磺醯基胺基或芳基磺醯基胺基、巰基、烷基硫基（alkylthio group）、芳硫基、雜環硫基、胺磺醯基、烷基亞磺醯基或芳基亞磺醯基、烷基磺醯基或芳基磺醯基、醯基、芳氧基羰基、烷氧基羰基、胺甲醯基、芳基偶氮基或雜環偶氮基、醯亞胺基、膦基、氧膦基、氧膦基氧基、氧膦基胺基、矽烷基等。關於取代基群組A的詳細情況，可參照日本專利特開2015-034966號公報的段落號0174～段落號0185的記載，其內容可被編入至本說明書中。

＜＜＜＜重複單元A的較佳的形態＞＞＞＞重複單元A較佳為由下述通式（TP3-1）表示。 [化37]通式（TP3-1）中，Rtp₂₁ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；Rtp₂₂ 分別獨立地表示碳數6～10的芳基，Rtp_71a 表示伸烷基或伸芳基；L₁ 表示單鍵或二價的連結基；Rtp₃₁ 表示氫原子或甲基；X表示陰離子，或者不存在X且Rtp₂₁ 及Rtp₂₂ 的至少一個包含陰離子。

Rtp₂₁ 及Rtp₂₂ 的含義與所述通式（TP3）中的Rtp₂₁ 及Rtp₂₂ 相同，較佳的範圍亦相同。 Rtp_71a 表示伸烷基或伸芳基，較佳為伸烷基。伸烷基可為直鏈狀、分支狀及環狀的任一種，較佳為環狀。伸烷基的碳數較佳為1～8，更佳為1～6。伸芳基的碳數較佳為6～12，更佳為6～10。伸烷基及伸芳基可具有取代基，亦可未經取代。較佳為未經取代。作為取代基，可列舉所述取代基群組A中所說明的取代基。 L₁ 表示單鍵或二價的連結基。L₁ 的含義與所述通式（A）中的L¹ 相同，較佳的範圍亦相同。於通式（TP3-1）中，「-Rtp_71a -L₁ -」部分中的構成將重複單元A的主鏈與三芳基甲烷結構的Rtp_71a 所鍵結的氮原子連接的鏈的原子的數量較佳為1以上，更佳為2以上，進而更佳為3以上。上限例如較佳為20以下。根據該形態，於合成聚合物TP時，可抑制未反應、或反應並不充分的低分子的三芳基甲烷化合物。其結果，可提昇由著色組成物所獲得的硬化膜的耐熱性及耐溶劑性。

重複單元A較佳為由下述通式（TP3-2）表示。 [化38]

通式（TP3-2）中，Rtp₂₁ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；Rtp₂₄ 分別獨立地表示碳數1～4的烷基；Rtp₂₅ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～3的烷基；Rtp_71a 表示伸烷基或伸芳基；Rtp₃₁ 表示氫原子或甲基；L₁ 表示單鍵或二價的連結基；X表示陰離子，或者不存在X且Rtp₂₁ 、Rtp₂₄ 及Rtp₂₅ 的至少一個包含陰離子。

Rtp₂₁ 的含義與所述通式（TP3）中的Rtp₂₁ 相同，較佳的範圍亦相同。Rtp₂₁ 較佳為分別獨立為碳數1～3的烷基。烷基較佳為直鏈狀。 Rtp₂₄ 分別獨立地表示碳數1～4的烷基，較佳為碳數1或2的烷基。 Rtp₂₅ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～3的烷基，當表示碳數1～3的烷基時，烷基的碳數較佳為1或2。 Rtp_71a 的含義與所述通式（TP3-1）中的Rtp_71a 相同，較佳的範圍亦相同。 L₁ 的含義與所述通式（TP3-1）中的L₁ 相同，較佳的範圍亦相同。

重複單元A較佳為由下述通式（TP3-3）表示。 [化39]通式（TP3-3）中，Rtp₂₁ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；Rtp₂₄ 分別獨立地表示碳數1～4的烷基；Rtp₂₅ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～3的烷基；Rtp₃₁ 表示氫原子或甲基；X表示陰離子。通式（TP3-3）的Rtp₂₁ 、Rtp₂₄ 、Rtp₂₅ 、Rtp₃₁ 的含義與所述通式（TP3-2）中的Rtp₂₁ 、Rtp₂₄ 、Rtp₂₅ 、Rtp₃₁ 相同，較佳的範圍亦相同。

作為重複單元A的具體例，可列舉以下的結構，但本發明並不限定於該些結構。另外，於重複單元A的具體例中亦包含源自後述的具有三芳基甲烷結構的單體的重複單元。於以下中，X為陰離子。

[化40][化41] [化42]

＜＜＜重複單元B＞＞＞聚合物TP含有具有酸基的重複單元B。於聚合物TP的所有重複單元中，較佳為含有12質量%～60質量%的重複單元B。上限更佳為55質量%以下，進而更佳為50質量%以下，尤佳為45質量%以下。下限例如亦可設為15質量%以上，亦可設為20質量%以上。若重複單元B的含量為所述範圍，則由著色組成物所獲得的硬化膜的耐熱性及耐溶劑性特別優異。而且，若重複單元B的含量為12質量%以上，則由著色組成物所獲得的硬化膜的耐熱性及耐溶劑性特別優異。進而，電壓保持率亦良好。另外，若重複單元B的含量為60質量%以下，則由著色組成物所獲得的圖案形成性良好，且容易形成微細圖案。

作為酸基的種類，可列舉：羧基、羥基、磷酸基、磺基等。其中，就由著色組成物容易形成耐溶劑性優異的硬化膜的原因而言，較佳為羧基。

重複單元B較佳為由通式（B）所表示的結構。 [化43]通式（B）中，X¹⁰⁰ 表示重複單元的主鏈。L¹⁰⁰ 表示單鍵或二價的連結基。B¹⁰⁰ 表示酸基。作為X¹⁰⁰ 所表示的重複單元的主鏈，可列舉重複單元A的通式（A）的X¹ 中所說明的結構，較佳的範圍亦相同。 L¹⁰⁰ 表示單鍵或二價的連結基。作為二價的連結基，較佳為伸烷基、伸芳基、雜環基、-CH=CH-、-O-、-S-、-CO-、-NR-、-CONR-、-COO-、-OCO-、-SO₂ -及將該些的兩個以上組合而成的連結基。此處，R分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基、或雜環基。關於二價的連結基的詳細情況，可列舉重複單元A的通式（A）的L¹ 中所說明的二價的連結基。L¹⁰⁰ 較佳為單鍵。 B¹⁰⁰ 表示酸基。作為酸基，可列舉羧基、羥基、磷酸基、磺基等，較佳為羧基。

重複單元B較佳為由通式（B-1）表示。 [化44]通式（B-1）中，R^B 表示氫原子或甲基。

作為重複單元B的具體例，可列舉以下的具體例。但是，本發明並不限定於該些具體例。 [化45]

本發明的聚合物TP為實質上不含除具有三芳基甲烷結構的重複單元A及具有酸基的重複單元B以外的其他重複單元的聚合物。再者，於本發明中，所謂聚合物TP實質上不含其他重複單元，是指聚合物TP所含的除重複單元A及重複單元B以外的重複單元僅為聚合物TP的原料單體中所含的雜質、或源自合成時的副反應而產生的重複單元。例如，其他重複單元的含量較佳為聚合物TP的所有重複單元的1質量%以下，更佳為0.1質量%以下，進而更佳為0.01質量%以下，尤佳為不含。

於本發明中，聚合物TP的重量平均分子量較佳為5,000以上、500,000以下。下限更佳為7,000以上，進而更佳為10,000以上，最佳為20,000以上。上限更佳為200,000以下，進而更佳為100,000以下，尤佳為70,000以下，最佳為40,000以下。即，聚合物TP的重量平均分子量特佳為10,000～70,000，最佳為20,000～40,000。藉由將聚合物TP的重量平均分子量調整成所述範圍，由著色組成物所獲得的硬化膜的耐熱性及耐溶劑性良好。進而，亦可使電壓特性變得良好。聚合物TP的數量平均分子量較佳為2,000～500,000。下限更佳為5,000以上，進而更佳為7,000以上，尤佳為9,000以上，最佳為10,000以上。上限更佳為100,000以下，進而更佳為50,000以下，特佳為40,000以下。聚合物TP的分散度（重量平均分子量/數量平均分子量）較佳為1.0～5.0。上限更佳為4.0以下，進而更佳為3.5以下，特佳為2.0以下。再者，於本發明中，聚合物TP的重量平均分子量及數量平均分子量為藉由凝膠滲透層析儀（Gel Permeation Chromatograph，GPC）測定所得的聚甲基丙烯酸換算值，具體而言，利用HLC-8220GPC（東曹（Tosoh）（股份）製造），將使TSKgel SuperAW4000、TSKgel SuperAW3000、及TSKgel SuperAW2500（東曹（股份）製造，7.8 mm（內徑）×30 cm）3根串聯連接而成者作為管柱，並將測定條件設為使用5 mmol/L含有三氟乙酸鈉的三氟乙醇溶液作為展開溶媒、流速為0.35 mL/min、樣品注入量為20 μL、測定溫度為40℃，並使用紫外線檢測器進行測定所得的值。

聚合物TP較佳為由通式（TP-7）所表示的聚合物，更佳為由通式（TP-8）所表示的聚合物。 [化46]通式（TP-7）中，R¹ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；R⁴ 表示氫原子或甲基；R^1a 表示伸烷基或伸芳基；L¹¹ 表示單鍵、或碳數1～30的二價的連結基；X表示含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子、三(磺醯基)甲基化物陰離子或磺酸根陰離子的化合物；a及b為重複單元的質量比，且a表示40～88，b表示12～60，a+b表示100。通式（TP-8）中，R¹ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；R⁴ 表示氫原子或甲基；X表示含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子、三(磺醯基)甲基化物陰離子或磺酸根陰離子的化合物；a及b為重複單元的質量比，且a表示40～88，b表示12～60，a+b表示100。

R¹ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基，較佳為碳數1～6的烷基。烷基的碳數更佳為1～3。烷基較佳為直鏈狀。 R⁴ 表示氫原子或甲基，較佳為甲基。 R^1a 表示伸烷基或伸芳基，較佳為伸烷基。伸烷基可為直鏈狀、分支狀及環狀的任一種，較佳為環狀。伸烷基的碳數較佳為1～8，更佳為1～6。伸芳基的碳數較佳為6～12，更佳為6～10。伸烷基及伸芳基可具有取代基，亦可未經取代。較佳為未經取代。作為取代基，可列舉所述取代基群組A中所說明的取代基。 L¹¹ 表示單鍵、或碳數1～30的二價的連結基。二價的連結基可列舉：碳數1～30的伸烷基、碳數6～12的伸芳基、及將該些與選自-CO-、-OCO-、-O-、-NH-及-SO₂ -中的一種組合而成的基。二價的連結基較佳為伸烷基、或伸烷基彼此經由選自-O-、-COO-及-OCO-中的一種以上連結而成的連結基。於通式（TP-7）中，「-L¹¹ -R^1a -」部分中的構成將重複單元A的主鏈與三芳基甲烷結構的R^1a 所鍵結的氮原子連接的鏈的原子的數量較佳為1以上，更佳為2以上，進而更佳為3以上。上限例如較佳為20以下。

X表示含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子、三(磺醯基)甲基化物陰離子或磺酸根陰離子的化合物，較佳為含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子的化合物。含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子的化合物可為單量體，亦可為多聚體。含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子的化合物較佳為由所述通式（AN1）所表示的化合物。含有三(磺醯基)甲基化物陰離子的化合物較佳為由所述通式（AN2）所表示的化合物。含有磺酸根陰離子的化合物較佳為由所述通式（AN3）所表示的化合物。

a及b為重複單元的質量比，且a表示40～88，b表示12～60，a+b表示100。a的下限較佳為45以上，更佳為50以上，進而更佳為55以上。a的上限例如可設為85以下，亦可設為80以下。b的上限較佳為55以下，更佳為50以下，進而更佳為45以下。b的下限例如可設為15以上，亦可設為20以上。

以下表示本發明中聚合物TP的具體例，但並不限定於該些具體例。

[化47][化48] [化49][化50]

＜聚合物TP的製造方法＞本發明的聚合物TP可使如下的原料單體進行聚合來製造，所述原料單體至少包含具有由選自通式（TP1a）、及通式（TP2a）中的至少一種所表示的三芳基甲烷結構的三芳基甲烷單體、及具有酸基的單體。 [化51]通式（TP1a）及通式（TP2a）中，Rtp₁ ～Rtp₄ 分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基；Rtp₅ 、Rtp₆ 、Rtp₈ 、Rtp₉ 及Rtp₁₁ 分別獨立地表示取代基；Rtp₇ 表示氫原子、烷基、芳基或NRtp₇₁ Rtp₇₂ ；Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基；Rtp₁₀ 表示氫原子、烷基或芳基；a、b、c及d分別獨立地表示0～4的整數；當a為2以上時，Rtp₅ 彼此可連結而形成環；當b為2以上時，Rtp₆ 彼此可連結而形成環；當c為2以上時，Rtp₈ 彼此可連結而形成環；當d為2以上時，Rtp₉ 彼此可連結而形成環；X表示陰離子，或者不存在X且Rtp₁ ～Rtp₁₁ 、Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 的至少一個包含陰離子。

關於Rtp₁ ～Rtp₁₁ 、Rtp₇₁ 、Rtp₇₂ 及X，可列舉通式（TP1）、及通式（TP2）的Rtp₁ ～Rtp₁₁ 、Rtp₇₁ 、Rtp₇₂ 及X中所說明的結構，較佳的範圍亦相同。以下表示三芳基甲烷單體的陽離子結構的具體例。 [化52][化53]

關於聚合條件，例如當使用2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)作為起始劑時，較佳為於40℃～90℃的聚合溫度下進行聚合，更佳為於50℃～70℃的聚合溫度下進行聚合。另外，當使用2,2'-偶氮雙(2-丙酸甲酯)作為起始劑時，較佳為於70℃～95℃的聚合溫度下進行聚合，更佳為於75℃～90℃的聚合溫度下進行聚合。聚合較佳為於合計含有30質量%～60質量%的所述原料單體的溶液中進行。溶液中的原料單體的含量更佳為35質量%～55質量%，進而更佳為40質量%～55質量%。若原料單體的含量為所述範圍，則可使三芳基甲烷單體的聚合容易進行。其結果，可減少聚合物TP中的後述的化合物A的含量。作為原料單體的反應溶液的製備中所使用的溶劑，可列舉後述的著色組成物可含有的溶劑。

於聚合時亦可添加鏈轉移劑。作為鏈轉移劑，較佳為烷基硫醇，較佳為碳數4以上的烷基硫醇或經羧基、醚基、酯基取代的烷基硫醇。尤其，就臭氣的觀點而言，較佳為十二基硫醇、及二季戊四醇六-3-巰基丙酸酯，就促進顯影性的觀點而言，較佳為硫代蘋果酸、及巰基丙酸。於結束聚合後，亦可進行精製處理。藉此，可減少後述的化合物A的含量。

本發明的著色組成物中，相對於本發明的著色組成物的總固體成分，聚合物TP的含量較佳為10質量%～60質量%，更佳為10質量%～40質量%。

＜＜聚合物TP以外的具有三芳基甲烷結構的化合物A＞＞本發明的著色組成物亦可含有聚合物TP以外的具有三芳基甲烷結構的化合物A。化合物A的重量平均分子量較佳為未滿5000。相對於聚合物TP與化合物A的合計100質量份，所述化合物A的含量較佳為20質量份以下，更佳為10質量份以下，進而更佳為5質量份以下，特佳為1質量份以下。下限亦可設為0.1質量份以上。另外，亦可實質上不含化合物A。再者，所謂實質上不含化合物A，例如，相對於聚合物TP與化合物A的合計100質量份，化合物A的含量較佳為0.1質量份以下，更佳為0.01質量份以下，進而更佳為不含。藉由將化合物A的含量設為20質量份以下，可有效地抑制聚合物TP自由著色組成物所獲得的硬化膜中溶出，其結果，可提昇硬化膜的耐溶劑性或耐熱性。化合物A為具有三芳基甲烷結構的化合物，且是指聚合物TP的合成中所使用的具有三芳基甲烷結構的原料單體等的未反應物、或含有不具有聚合性基的原料單體的雜質等。再者，化合物A的重量平均分子量為藉由凝膠滲透層析儀（GPC）測定所得的聚甲基丙烯酸換算值。具體而言，為於所述聚合物TP中所說明的條件下所測定的值。化合物A的含量可利用GPC測定並使用紫外光進行檢測來測定。

＜＜其他著色化合物＞＞本發明的著色組成物亦可含有一種或兩種以上的除所述聚合物TP及所述化合物A以外的其他著色化合物。作為其他著色化合物，可列舉染料化合物及顏料化合物，該些亦可以分散物的形式進行調配。當調配顏料化合物作為分散物時，可根據日本專利特開平9-197118號公報及日本專利特開2000-239544號公報的記載來製備。

作為染料化合物，例如可列舉：偶氮系（例如溶劑黃162）、蒽醌系（例如日本專利特開2001-10881號公報中記載的蒽醌化合物）、酞菁系（例如美國專利2008/0076044A1號公報中記載的酞菁化合物）、次甲基染料、呫噸染料（例如日本專利特開2010-32999號公報）、二吡咯亞甲基系金屬錯化合物（例如日本專利特開2012-237985號公報）等。

作為顏料化合物，可列舉：苝、紫環酮、喹吖啶酮、喹吖啶酮醌、蒽醌、蒽締蒽酮、苯并咪唑酮、雙偶氮縮合、雙偶氮、偶氮、陰丹士林、酞菁、二噁嗪、胺基蒽醌、二酮吡咯并吡咯、靛藍、硫靛藍、異吲哚啉、異吲哚啉酮、皮蒽酮、及異紫蒽酮等。更詳細而言，例如可列舉：顏料紅190、顏料紅224、及顏料紫29等苝化合物顏料，顏料橙43、及顏料紅194等紫環酮化合物顏料，顏料紫19、顏料紫42、顏料紅122、顏料紅192、顏料紅202、顏料紅207、及顏料紅209等喹吖啶酮化合物顏料，顏料紅206、顏料橙48、及顏料橙49等喹吖啶酮醌化合物顏料，顏料黃147等蒽醌化合物顏料，顏料紅168等蒽締蒽酮化合物顏料，顏料棕25、顏料紫32、顏料橙36、顏料黃120、顏料黃180、顏料黃181、顏料橙62、及顏料紅185等苯并咪唑酮化合物顏料，顏料黃93、顏料黃94、顏料黃95、顏料黃128、顏料黃166、顏料橙34、顏料橙13、顏料橙31、顏料紅144、顏料紅166、顏料紅220、顏料紅221、顏料紅242、顏料紅248、顏料紅262、及顏料棕23等雙偶氮縮合化合物顏料，顏料黃13、顏料黃83、及顏料黃188等雙偶氮化合物顏料，顏料紅187、顏料紅170、顏料黃74、顏料黃150、顏料紅48、顏料紅53、顏料橙64、及顏料紅247等偶氮化合物顏料，顏料藍60等陰丹士林化合物顏料，顏料綠7、顏料綠36、顏料綠37、顏料綠58、顏料藍16、顏料藍75、及顏料藍15等酞菁化合物顏料，顏料紫23、及顏料紫37等二噁嗪化合物顏料，顏料紅177等胺基蒽醌化合物顏料，顏料紅254、顏料紅255、顏料紅264、顏料紅272、顏料橙71、及顏料橙73等二酮吡咯并吡咯化合物顏料，顏料紅88等硫靛藍化合物顏料，顏料黃139、及顏料橙66等異吲哚啉化合物顏料，顏料黃109、及顏料橙61等異吲哚啉酮化合物顏料，顏料橙40、及顏料紅216等皮蒽酮化合物顏料，以及顏料紫31等異紫蒽酮化合物顏料。於本發明中，較佳為綠色～青色的色材，較佳為顏料綠7、顏料綠36、顏料綠37、顏料綠58、顏料藍16、顏料藍75、及顏料藍15等酞菁化合物顏料，顏料紫23、及顏料紫37等二噁嗪化合物顏料，顏料紅177等胺基蒽醌化合物顏料，顏料紅254、顏料紅255、顏料紅264、顏料紅272、顏料橙71、及顏料橙73等二酮吡咯并吡咯化合物顏料，顏料紅88等硫靛藍化合物顏料，顏料黃139、及顏料橙66等異吲哚啉化合物顏料，顏料黃109、及顏料橙61等異吲哚啉酮化合物顏料，顏料橙40、及顏料紅216等皮蒽酮化合物顏料，以及顏料紫31等異紫蒽酮化合物顏料。尤其，作為其他著色化合物，較佳為含有選自呫噸化合物、二吡咯亞甲基系金屬錯化合物、噁嗪化合物及酞菁化合物中的至少一種，更佳為含有選自呫噸化合物及二吡咯亞甲基系金屬錯化合物中的至少一種。

（呫噸化合物）呫噸化合物是於分子內具有呫噸骨架的化合物。作為呫噸化合物，例如可列舉：染料索引（Colour Index，C.I.）酸性紅51（以下，省略C.I.酸性紅的記載，僅記載編號；其他亦相同）、52、87、92、94、289、388，C.I.酸性紫9、30、102，C.I.鹼性紅1（若丹明6G）、2、3、4、8，C.I.鹼性紅10（若丹明B）、11，C.I.鹼性紫10、11、25，C.I.溶劑紅218，C.I.媒介紅27，C.I.活性紅36（孟加拉玫瑰紅B），磺基若丹明G，日本專利特開2010-32999號公報中記載的呫噸化合物及日本專利第4492760號公報中記載的呫噸化合物等。

作為呫噸化合物，較佳為含有由式（1a）所表示的化合物（以下，有時稱為「化合物（1a）」）。化合物（1a）亦可為其互變異構體。當使用化合物（1a）時，呫噸化合物中的化合物（1a）的含量較佳為50質量%以上，更佳為70質量%以上，進而更佳為90質量%以上。尤其，作為呫噸化合物，較佳為僅使用化合物（1a）。

式（1a） [化54]式（1a）中，R¹ ～R⁴ 分別獨立地表示氫原子、可具有取代基的碳數1～20的一價的飽和烴基、或可具有取代基的碳數6～10的一價的芳香族烴基，所述飽和烴基中所含有的-CH₂ -可經-O-、-CO-或-NR¹¹ -取代； R¹ 及R² 可相互鍵結而形成含有氮原子的環，R³ 及R⁴ 可相互鍵結而形成含有氮原子的環； R⁵ 表示-OH、-SO₃ ^- 、-SO₃ H、-SO₃ ^- Z⁺ 、-CO₂ H、-CO₂ ^- Z⁺ 、-CO₂ R⁸ 、-SO₃ R⁸ 或-SO₂ NR⁹ R¹⁰ ； R⁶ 及R⁷ 分別獨立地表示碳數1～6的烷基； m1表示0～5的整數。當m1為2以上時，多個R⁵ 可相同，亦可不同； m2及m3分別獨立地表示0～3的整數。當m2及m3分別獨立地為2或3時，多個R⁶ 及R⁷ 分別獨立地可相同，亦可不同； a表示0或1；當a表示0時，R¹ ～R⁷ 的任一個基具有陰離子； X^- 表示陰離子； Z⁺ 表示N⁺ (R¹¹ )₄ 、Na⁺ 或K⁺ ，4個R¹¹ 可相同，亦可不同； R⁸ 表示碳數1～20的一價的飽和烴基，所述飽和烴基中所含有的氫原子可經鹵素原子取代； R⁹ 及R¹⁰ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～20的一價的飽和烴基，所述飽和脂肪族烴基中所含有的-CH₂ -可經-O-、-CO-、-NH-或-NR⁸ -取代，R⁹ 及R¹⁰ 可相互鍵結而形成含有氮原子的3員環～10員環的雜環； R¹¹ 表示氫原子、碳數1～20的一價的飽和烴基或碳數7～10的芳烷基。

關於式（1a）的詳細情況，可參照國際公開第2015/046285號公報的段落號0133～段落號0152的記載，其內容可被編入至本說明書中。作為化合物（1a）的具體例，可列舉：國際公開第2015/046285號公報的段落號0149～段落號0152中記載的由式（1-1）～式（1-43）所表示的化合物，其內容可被編入至本說明書中。

呫噸化合物可使用市售的呫噸染料（例如，中外化成（股份）製造的「Chugai Aminol Fast Pink R-H/C」、田岡化學工業（股份）製造的「若丹明（Rhodamin）6G」）。另外，亦可將市售的呫噸染料作為起始原料，並參考日本專利特開2010-32999號公報來合成，其內容可被編入至本說明書中。

（二吡咯亞甲基系金屬錯化合物）作為二吡咯亞甲基系金屬錯化合物，可列舉由式（I）所表示的化合物配位於金屬原子或金屬化合物上而成的化合物。

式（I） [化55]

式（I）中，R¹ ～R⁶ 分別獨立地表示氫原子或取代基，R⁷ 表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳基或雜環基。

作為取代基，可列舉所述取代基群組A。當取代基為可進一步取代的基時，亦可經所述取代基的任一者進一步取代。再者，當具有兩個以上的取代基時，該些取代基可相同，亦可不同。

式（I）中，R¹ 與R² 、R² 與R³ 、R⁴ 與R⁵ 、及R⁵ 與R⁶ 可分別獨立地相互鍵結而形成5員、6員或7員的環。作為所形成的環，可列舉飽和環、或不飽和環。作為該5員、6員或7員的飽和環，或者不飽和環，例如可列舉：吡咯環、呋喃環、噻吩環、吡唑環、咪唑環、***環、噁唑環、噻唑環、吡咯啶環、哌啶環、環戊烯環、環己烯環、苯環、吡啶環、吡嗪環、噠嗪環，較佳為可列舉苯環、吡啶環。再者，當所形成的5員、6員及7員的環為可進一步取代的基時，可經所述取代基群組A的任一者取代，當經兩個以上的取代基取代時，該些取代基可相同，亦可不同。

關於式（I）的詳細情況，可參照國際公開第2015/046285號公報的段落號0159～段落號0170的記載，其內容可被編入至本說明書中。

由式（I）所表示的化合物配位於金屬原子或金屬化合物上而成的二吡咯亞甲基系金屬錯化合物的較佳的形態可參照日本專利特開2012-237985號公報的段落號0153～段落號0176中記載的由式（I-1）、式（I-2）或式（I-3）所表示的錯化合物，其內容可被編入至本說明書中。作為二吡咯亞甲基系金屬錯化合物的具體例，可參照日本專利特開2012-237985號公報的段落號0179～段落號0186的記載，其內容可被編入至本說明書中。

當本發明的著色組成物含有其他著色化合物時，相對於本發明的著色組成物的總固體成分，其他著色化合物的含量較佳為0.5質量%～70質量%。另外，較佳為以吸收強度比（450 nm的吸收/650 nm的吸收）成為0.95～1.05的範圍的方式，添加至著色組成物中。

＜＜聚合性化合物＞＞本發明的著色組成物含有聚合性化合物。作為聚合性化合物，例如可列舉具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵的加成聚合性化合物。再者，本發明中的聚合性化合物為與所述聚合物TP不同的成分。

具體而言，自具有至少一個、較佳為兩個以上的末端乙烯性不飽和鍵的化合物中選擇。此種化合物群組是於該產業領域中廣為人知者，於本發明中可無特別限定地使用該些化合物。該些化合物例如可為單體，預聚物即二聚體、三聚體，及寡聚物，或該些的混合物以及該些的（共）聚合體等化學形態的任一種。較佳為單體。

聚合性化合物的分子量較佳為100～3,000。上限更佳為2,000以下，進而更佳為1,500以下。下限更佳為150以上，進而更佳為250以上。聚合性化合物較佳為三官能～十五官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，更佳為三官能～六官能的(甲基)丙烯酸酯化合物。

作為單體及其（共）聚合體的例子，可列舉不飽和羧酸（例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、異巴豆酸、順丁烯二酸等）及其酯類、醯胺類、以及該些的（共）聚合體，較佳為不飽和羧酸與脂肪族多元醇化合物的酯、及不飽和羧酸與脂肪族多元胺化合物的醯胺類、以及該些的（共）聚合體。另外，亦可適宜地使用具有羥基、胺基、巰基等親核性取代基的不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能異氰酸酯類或環氧類的加成反應物，或者與單官能或多官能的羧酸的脫水縮合反應物等。另外，具有異氰酸酯基或環氧基等親電子性取代基的不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能的醇類、胺類或硫醇類的加成反應物，及具有鹵素原子或甲苯磺醯基氧基等脫離性取代基的不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能的醇類、胺類或硫醇類的取代反應物亦適宜。另外，作為其他例，亦可使用替換成不飽和膦酸、苯乙烯、乙烯基醚等的化合物群組來代替所述不飽和羧酸。

作為該些化合物的具體例，可參照日本專利特開2014-208808號公報的段落號0156～段落號0159，其內容可被編入至本說明書中。

另外，作為聚合性化合物，二季戊四醇三丙烯酸酯（市售品為卡亞拉得（KAYARAD）D-330；日本化藥股份有限公司製造），二季戊四醇四丙烯酸酯（市售品為卡亞拉得（KAYARAD）D-320；日本化藥股份有限公司製造），二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯（市售品為卡亞拉得（KAYARAD）D-310；日本化藥股份有限公司製造），二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯（市售品為卡亞拉得（KAYARAD）DPHA；日本化藥股份有限公司製造），及該些的(甲基)丙烯醯基經由乙二醇殘基、丙二醇殘基而進行鍵結的結構亦較佳。亦可使用該些的寡聚物型。

該些聚合性化合物的結構、單獨使用還是併用、添加量等使用方法的詳細情況可結合著色組成物的最終的性能設計而任意地設定。例如，就感度的觀點而言，較佳為每一分子的不飽和基含量多的結構，於多數情況下，較佳為二官能以上。另外，就提高硬化膜的強度的觀點而言，較佳為三官能以上者，進而，藉由併用官能基數不同·聚合性基不同的聚合性化合物（例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯系化合物、乙烯基醚系化合物），而調節感度與強度兩者的方法亦有效。另外，對於與著色組成物中所含有的其他成分（例如光聚合起始劑、著色劑（顏料）、黏合劑聚合物等）的相容性、分散性而言，聚合性化合物的選擇·使用法亦是重要的因素，例如，有時可藉由使用低純度化合物或併用兩種以上來提昇相容性。另外，就提昇與基材等的硬質表面的密接性的觀點而言，亦可選擇特定的結構。

就更有效地獲得本發明的效果的觀點而言，著色組成物的總固體成分中的聚合性化合物的含量較佳為10質量%～80質量%，更佳為15質量%～75質量%，特佳為20質量%～60質量%。本發明的組成物可僅含有一種聚合性化合物，亦可含有兩種以上。當含有兩種以上時，較佳為其合計量成為所述範圍。

＜＜光聚合起始劑＞＞本發明的著色組成物較佳為含有光聚合起始劑。光聚合起始劑只要是可使聚合性化合物進行聚合者，則並無特別限制，較佳為以特性、起始效率、吸收波長、獲得性、成本等的觀點進行選擇者。

作為光聚合起始劑，例如可列舉：鹵甲基噁二唑化合物及鹵甲基-均三嗪化合物等活性鹵素化合物、3-芳基取代香豆素化合物、咯吩二聚體、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物及其衍生物、環戊二烯-苯-鐵錯合物及其鹽、肟化合物等。關於光聚合起始劑的具體例，可列舉日本專利特開2004-295116號公報的段落號0070～段落號0077中記載者。其中，就聚合反應迅速的觀點等而言，較佳為肟化合物或聯咪唑系化合物。

作為肟系化合物（以下，亦稱為「肟系光聚合起始劑」），並無特別限定，例如可列舉：日本專利特開2000-80068號公報、國際公開WO02/100903A1號公報、日本專利特開2001-233842號公報等中記載的肟系化合物。作為肟系化合物的具體例，可參照日本專利特開2013-182215號公報的段落號0053的記載，其內容可被編入至本說明書中。

另外，於本發明中，就感度、經時穩定性、後加熱時的著色的觀點而言，作為肟化合物，更佳為由下述通式（1）或通式（2）所表示的化合物。

[化56]（通式（1）中，R及X分別表示一價的取代基，A表示二價的有機基，Ar表示芳基；n為1～5的整數）

作為R，就高感度化的觀點而言，較佳為醯基，具體而言，較佳為乙醯基、丙醯基、苯甲醯基、甲苯甲醯基。

作為A，就提高感度、抑制伴隨加熱的著色的觀點而言，較佳為未經取代的伸烷基、經烷基（例如甲基、乙基、第三丁基、十二基）取代的伸烷基、經烯基（例如乙烯基、烯丙基）取代的伸烷基、經芳基（例如苯基、對甲苯基、二甲苯基、異丙苯基、萘基、蒽基、菲基、苯乙烯基）取代的伸烷基。

作為Ar，就提高感度、抑制伴隨加熱的著色的觀點而言，較佳為經取代或未經取代的苯基。當為經取代的苯基時，作為其取代基，例如較佳為氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等鹵素原子。

作為X，就提昇溶劑溶解性與長波長區域的吸收效率的觀點而言，較佳為烷基、芳基、烯基、炔基、烷氧基、芳氧基、烷基硫氧基、芳基硫氧基或胺基。另外，通式（1）中的n較佳為1～2的整數。

[化57]通式（2）中，R¹⁰¹ 表示烷基、烷醯基、烯醯基、芳醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、雜環氧基羰基、烷基硫羰基、芳基硫羰基、雜環硫羰基、或CO-CO-Rf。Rf表示碳環式芳香族基或雜環式芳香族基。

R¹⁰² 表示烷基、芳基或雜環基，該些亦可被取代。 R¹⁰³ 及R¹⁰⁴ 分別獨立地表示烷基、芳基或雜環基，該些基可經鹵素原子、烷基、芳基、烷氧基、烷基羰基等進一步取代。

R¹⁰⁵ ～R¹¹¹ 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳基、雜環基、烷氧基、芳醯基、雜芳醯基、烷基硫基、芳醯硫基、烷基羰基、芳基羰基、雜環羰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、雜環氧基羰基、硝基、胺基、磺基、羥基、羧基、醯胺基、胺甲醯基或氰基。 R¹⁰⁵ ～R¹¹¹ 中的一個或兩個為吸電子性的取代基，即硝基、氰基、烷基羰基或芳基羰基的情況因可獲得具有更高的硬化性的著色組成物，故較佳。

作為由所述通式（2）所表示的具有茀結構的化合物的具體例，可列舉日本專利特開2014-177502號公報的段落號0087～段落號0088中所記載的化合物，其內容可被編入至本說明書中。由所述通式（2）所表示的具有茀結構的化合物例如可依據國際公開WO2014-050738號公報中所記載的合成方法來合成。作為肟系光聚合起始劑的市售品，可使用：豔佳固（IRGACURE）-OXE01（巴斯夫（BASF）公司製造）、豔佳固（IRGACURE）-OXE02（巴斯夫公司製造），TR-PBG-304（常州強力電子新材料有限公司製造），艾迪科阿克魯斯（ADEKA ARKLS）NCI-831（艾迪科（ADEKA）公司製造）、艾迪科阿克魯斯（ADEKA ARKLS）NCI-930（艾迪科公司製造）等。

作為聯咪唑系化合物的具體例，可參照日本專利特開2013-182213號公報的段落號0061～段落號0070的記載，其內容可被編入至本說明書中。

另外，於本發明的著色組成物中，除所述光聚合起始劑以外，亦可使用日本專利特開2004-295116號公報的段落號0079中記載的其他公知的光聚合起始劑。本發明亦可使用具有氟原子的肟化合物作為光聚合起始劑。作為具有氟原子的肟化合物的具體例，可列舉：日本專利特開2010-262028號公報中記載的化合物，日本專利特表2014-500852號公報中記載的化合物24、化合物36～化合物40，日本專利特開2013-164471號公報中記載的化合物（C-3）等。其內容可被編入至本說明書中。

就更有效地獲得本發明的效果的觀點而言，光聚合起始劑於著色組成物的總固體成分中的含量較佳為0.1質量%～20質量%，更佳為0.5質量%～19質量%，特佳為1質量%～18質量%。本發明的組成物可僅含有一種光聚合起始劑，亦可含有兩種以上。當含有兩種以上時，較佳為其合計量成為所述範圍。

＜＜有機溶劑＞＞本發明的著色組成物較佳為含有有機溶劑。有機溶劑只要是可滿足併存的各成分的溶解性或製成著色組成物時的塗佈性者，則基本上無特別限制，特佳為考慮黏合劑的溶解性、塗佈性、安全性來選擇。

作為有機溶劑，可使用酯類、醚類、酮類、芳香族烴類，具體而言，可例示日本專利特開2012-032754號公報的段落號0161～段落號0162中記載者。

就所述各成分的溶解性等的觀點而言，將兩種以上的該些有機溶劑混合亦較佳。於此情況下，特佳為如下的混合溶液，其包含選自3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲基醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲基醚、及丙二醇甲基醚乙酸酯中的兩種以上。

作為有機溶劑於著色組成物中的含量，較佳為著色組成物中的總固體成分濃度成為10質量%～80質量%的量，更佳為著色組成物中的總固體成分濃度成為15質量%～60質量%的量。本發明的著色組成物可僅含有一種有機溶劑，亦可含有兩種以上。當含有兩種以上時，較佳為其合計量成為所述範圍。

＜＜鹼可溶性黏合劑＞＞本發明的著色組成物較佳為含有鹼可溶性黏合劑。鹼可溶性黏合劑除具有鹼可溶性以外，並無特別限定，較佳為可自耐熱性、顯影性、獲得性等的觀點出發進行選擇。

作為鹼可溶性黏合劑，較佳為可溶於有機溶劑中、且可藉由弱鹼性水溶液來顯影的線狀有機高分子聚合體。作為此種線狀有機高分子聚合體，可列舉側鏈上具有羧酸的聚合物，例如如日本專利特開昭59-44615號、日本專利特公昭54-34327號、日本專利特公昭58-12577號、日本專利特公昭54-25957號、日本專利特開昭59-53836號、日本專利特開昭59-71048號的各公報中所記載的甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、順丁烯二酸共聚物、部分酯化順丁烯二酸共聚物等，側鏈上具有羧酸的酸性纖維素衍生物同樣有用。

除所述者以外，作為本發明中的鹼可溶性黏合劑，於具有羥基的聚合物中加成酸酐而成者等，或者聚羥基苯乙烯系樹脂、聚矽氧烷系樹脂、聚((甲基)丙烯酸2-羥基乙酯)、聚乙烯基吡咯啶酮、聚環氧乙烷、聚乙烯醇等亦有用。另外，線狀有機高分子聚合體亦可為使具有親水性的單體進行共聚而成者。作為其例，可列舉：(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯、(甲基)丙烯酸羥基烷基酯、甘油(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、二級或三級的烷基丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸二烷基胺基烷基酯、嗎啉(甲基)丙烯酸酯、N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基己內醯胺、乙烯基咪唑、乙烯基***、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、分支狀或直鏈狀的(甲基)丙烯酸丙酯、分支狀或直鏈狀的(甲基)丙烯酸丁酯、或(甲基)丙烯酸苯氧基羥基丙酯等。此外，作為具有親水性的單體，包含四氫糠基、磷酸基、磷酸酯基、四級銨鹽基、伸乙氧基鏈、伸丙氧基鏈、磺基及源自其鹽的基、以及嗎啉基乙基等而成的單體等亦有用。

作為鹼可溶性黏合劑，亦可較佳地使用下述式（b1）及式（b2）所表示的順丁烯二醯亞胺與環氧乙烷的共聚物。

式（b1） [化58]（式（b1）中，R¹ 表示氫原子、芳基、或烷基）作為R¹ 表示烷基時的烷基，可列舉：碳數1～10的直鏈狀烷基、碳數3～10的具有支鏈的烷基、碳數5～20的環狀烷基等。烷基可具有取代基，作為可導入至烷基中的取代基，可列舉：苯基、羰基、烷氧基、羥基、胺基等。作為R¹ 表示芳基時的芳基，可列舉：單環結構的芳基、多環結構的芳基、縮環結構的芳基、含有雜原子的雜芳基等。更具體而言，可列舉：苯基、萘基、聯苯基、苯并咪唑基、吡啶基、呋喃基等。芳基可具有取代基，作為可導入至芳基中的取代基，可列舉：甲基、乙基、第三丁基、環己基等烷基，甲氧基等烷氧基，羧基，羥基，胺基，硝基，氯基，溴基等。

式（b2） [化59]（式（b2）中，R² 表示氫原子或甲基；R³ 為碳數2或3的伸烷基，R⁴ 表示氫原子、芳基、或烷基，m表示1～15的整數）

作為R⁴ 表示烷基時的烷基，可列舉：碳數1～20的直鏈狀烷基、碳數3～20的具有支鏈的烷基、碳數5～20的環狀烷基等。烷基可具有取代基，作為可導入至烷基中的取代基，可列舉：苯基、羰基、烷氧基等。作為R⁴ 表示芳基時的芳基，可列舉：單環結構的芳基、多環結構的芳基、縮環結構的芳基、含有雜原子的雜芳基等。更具體而言，可列舉：苯基、萘基、蒽基、聯苯基、苯并咪唑基、吲哚基、咪唑基、噁唑基、咔唑基、吡啶基、呋喃基等。芳基可具有取代基，作為可導入至芳基中的取代基，可列舉：壬基、甲基、乙基、第三丁基、環己基等烷基，甲氧基等烷氧基，羧基，羥基，胺基，硝基，氯基，溴基等。

另外，鹼可溶性黏合劑亦可於側鏈上具有聚合性基，例如於側鏈上含有烯丙基、(甲基)丙烯酸基、烯丙氧基烷基等的聚合物等亦有用。作為含有所述聚合性基的聚合物的例子，可列舉：市售品的KS RESIST-106（大阪有機化學工業（股份）製造）、賽克羅馬（Cyclomer）P系列（大賽璐（Daicel）（股份）製造）等。另外，為了提昇硬化膜的強度，醇可溶性尼龍、或2,2-雙-(4-羥基苯基)-丙烷與表氯醇的聚醚等亦有用。

該些各種鹼可溶性黏合劑之中，就耐熱性的觀點而言，較佳為聚羥基苯乙烯系樹脂、聚矽氧烷系樹脂、丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂，就控制顯影性的觀點而言，較佳為丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂。

尤其，較佳為具有由下述通式（2）所示的重複單元與酸性基的共聚物，更佳為可列舉除通式（2）與酸性基以外，具有由通式（3）所表示的結構單元的共聚物。

[化60]（通式（2）中，R²⁰ 表示氫原子或甲基，R²¹ ～R²⁵ 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、氰基、烷基、或芳基）

[化61]（通式（3）中，R¹¹ 表示氫原子或甲基。R¹² 及R¹³ 分別獨立地表示氫原子、或含有不飽和雙鍵作為部分結構的碳數3～20的羰基，不存在R¹² 及R¹³ 兩者為氫原子的情況。當R¹² 及R¹³ 的至少一者表示含有不飽和雙鍵作為部分結構的碳數3～20的羰基時，可進而含有羧基作為部分結構）

作為丙烯酸系樹脂，較佳為包含選自(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺等中的單體的共聚物，或者市售品的KS RESIST-106（大阪有機化學工業（股份）製造）、賽克羅馬（Cyclomer）P系列（大賽璐（股份）製造）等。

另外，鹼可溶性黏合劑亦可含有源自由下述式（X）所表示的化合物的結構單元。式（X） [化62]於式（X）中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示碳數2～10的伸烷基，R₃ 表示氫原子或可含有苯環的碳數1～20的烷基。n表示1～15的整數。

於所述式（X）中，R₂ 的伸烷基的碳數較佳為2～3。另外，R₃ 的烷基的碳數為1～20，較佳為1～10，R₃ 的烷基亦可含有苯環。作為由R₃ 所表示的含有苯環的烷基，可列舉苄基、2-苯基(異)丙基等。

就顯影性、液體黏度等的觀點而言，鹼可溶性黏合劑的重量平均分子量（藉由GPC法所測定的聚苯乙烯換算值）較佳為1,000～200,000，更佳為2,000～100,000，特佳為5,000～50,000。鹼可溶性黏合劑的酸價較佳為10 mgKOH/g～1,000 mgKOH/g，更佳為50 mgKOH/g～300 mgKOH/g，進而更佳為50 mgKOH/g～200 mgKOH/g，特佳為105 mgKOH/g～200 mgKOH/g。

鹼可溶性黏合劑的含量較佳為著色組成物的總固體成分的10質量%～80質量%，更佳為20質量%～60質量%。本發明的著色組成物可僅含有一種鹼可溶性黏合劑，亦可含有兩種以上。當含有兩種以上時，較佳為其合計量成為所述範圍。

＜分散劑＞本發明的著色組成物較佳為含有分散劑。尤其，當本發明的著色組成物含有顏料時，較佳為含有分散劑。再者，分散劑亦可用作黏合劑。分散劑較佳為具有與高分子化合物的主鏈結構的吸附基的樹脂。分散劑的吸附基較佳為含有酸性吸附基及鹼性吸附基的至少一者。

作為酸性吸附基，可例示：羧基、磷酸基、磺酸基等。作為鹼性吸附基，可例示：胺基、烷基胺基、咪唑基、噁唑基、吡啶基、嗎啉基。作為相當於烷基胺基的烷基部分的烷基，例如可使用甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第三丁基等碳數1～10、較佳為碳數1～4的直鏈狀或分支狀的烷基。另外，例如亦可使用環丙基、環丁基等碳數3～10、較佳為碳數3～6的環狀的烷基。

當分散劑的吸附基為酸性吸附基時，分散劑的酸價較佳為10 mgKOH/g～100 mgKOH/g，更佳為10 mgKOH/g～80 mgKOH/g，進而更佳為10 mgKOH/g～60 mgKOH/g，特佳為10 mgKOH/g～55 mgKOH/g。當分散劑的吸附基為鹼性吸附基時，分散劑的胺價較佳為3 mgKOH/g～100 mgKOH/g，更佳為10 mgKOH/g～100 mgKOH/g，進而更佳為10 mgKOH/g～80 mgKOH/g，尤佳為10 mgKOH/g～50 mgKOH/g，特佳為10 mgKOH/g～40 mgKOH/g。當分散劑具有酸性的吸附基及鹼性的吸附基兩者時，亦較佳為分散劑的酸價與胺價為所述範圍。於此情況下，酸價與胺價的比較佳為酸價：胺價=1：1～1：10，更佳為酸價：胺價=1：1～1：5，特佳為酸價：胺價=1：1～1：3。

作為高分子化合物的主鏈結構，可列舉：聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸酯、聚丙烯酸酯、聚烷基酸乙烯酯、聚丙烯醯胺、聚丙烯腈、聚氯乙烯、聚乙烯醇等乙烯基系聚合物，聚乙烯、聚丙烯、聚異丁烯等聚烯烴系聚合物，聚丁二烯、聚異戊二烯等二烯系聚合物等加成聚合系聚合物；聚酯、聚醯胺、聚醚、聚胺基甲酸酯樹脂、環氧樹脂、三聚氰胺樹脂等縮合系聚合物。再者，藉由聚合所形成的高分子化合物的結構可為無規聚合體、嵌段聚合體、接枝聚合體的任一種。

酸性吸附基、鹼性吸附基、或其兩者的吸附基較佳為以取代基的形式鍵結於所述高分子化合物中。

具有酸性吸附基、鹼性吸附基或其兩者的吸附基的分散劑可進行合成，亦可使用市售的分散劑。作為市售的分散劑，例如，胺系分散劑可列舉：畢克化學（BYK Chemie）公司製造的迪斯帕畢克（Disperbyk）182、迪斯帕畢克（Disperbyk）161、迪斯帕畢克（Disperbyk）162、迪斯帕畢克（Disperbyk）163、迪斯帕畢克（Disperbyk）2155、迪斯帕畢克（Disperbyk）2164、迪斯帕畢克（Disperbyk）9077。作為羧酸系分散劑，可列舉畢克化學公司製造的迪斯帕畢克（Disperbyk）190、迪斯帕畢克（Disperbyk）191。作為磷酸系分散劑，可列舉畢克化學公司製造的迪斯帕畢克（Disperbyk）110、迪斯帕畢克（Disperbyk）111。另外，作為市售的分散劑，可例示：奧維斯（Avecia）公司製造的索努帕斯（Solsperse）13240、索努帕斯（Solsperse）20000、索努帕斯（Solsperse）24000、索努帕斯（Solsperse）26000、索努帕斯（Solsperse）28000等。

相對於本發明的著色組成物的總固體成分，分散劑的含量較佳為0.5質量%～30質量%，更佳為1.0質量%～20質量%。另外，著色組成物中所含有的顏料與分散劑的質量比較佳為1：5～5：1，更佳為1：3～1：1。進而，著色組成物中所含有的具有三芳基甲烷結構的化合物與分散劑的質量比較佳為10：1～1：1，更佳為5：1～1：1。

＜＜交聯劑＞＞本發明的著色組成物亦可進而含有交聯劑。作為交聯劑，只要是可藉由交聯反應而進行膜硬化者，則並無特別限定，例如可列舉：（a）具有環氧基或氧雜環丁基的化合物，（b）經選自羥甲基、烷氧基甲基、及醯氧基甲基中的至少一種取代基取代的三聚氰胺化合物、胍胺化合物、甘脲化合物或脲化合物，（c）經選自羥甲基、烷氧基甲基、及醯氧基甲基中的至少一種取代基取代的苯酚化合物、萘酚化合物或羥基蒽化合物。其中，較佳為具有環氧基或氧雜環丁基的化合物，更佳為具有環氧基的化合物。關於交聯劑的具體例等的詳細情況，可參照日本專利特開2004-295116號公報的段落號0134～段落號0147的記載，其內容可被編入至本說明書中。

作為具有環氧基或氧雜環丁基的化合物，可列舉於側鏈上具有環氧基的聚合物、於分子內具有兩個以上的環氧基的單體或寡聚物等。例如可列舉：雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等。另外，亦可列舉單官能或多官能縮水甘油醚化合物，較佳為多官能脂肪族縮水甘油醚化合物。具有環氧基或氧雜環丁基的化合物的重量平均分子量較佳為500～5,000,000，更佳為1,000～500,000。

作為市售品，例如可參照日本專利特開2012-155288號公報的段落號0191等的記載，該些內容可被編入至本說明書中。另外，可列舉丹納考爾（Denacol）EX-212L、丹納考爾（Denacol）EX-214L、丹納考爾（Denacol）EX-216L、丹納考爾（Denacol）EX-321L、丹納考爾（Denacol）EX-850L（以上，長瀨化成（Nagase ChemteX）（股份）製造）等多官能脂肪族縮水甘油醚化合物。該些為低氯品，但亦可同樣地使用並非低氯品的丹納考爾（Denacol）EX-212、丹納考爾（Denacol）EX-214、丹納考爾（Denacol）EX-216、丹納考爾（Denacol）EX-321、丹納考爾（Denacol）EX-850等。此外，亦可列舉：艾迪科樹脂（ADEKA RESIN）EP-4000S、艾迪科樹脂（ADEKA RESIN）EP-4003S、艾迪科樹脂（ADEKA RESIN）EP-4010S、艾迪科樹脂（ADEKA RESIN）EP-4011S、NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502（以上，艾迪科（股份）製造），JER1031S、賽羅西德（Celloxide）2021P、賽羅西德（Celloxide）2081、賽羅西德（Celloxide）2083、賽羅西德（Celloxide）2085、EHPE3150、艾波利得（EPOLEAD）PB 3600、艾波利得（EPOLEAD）PB 4700、賽克羅馬（Cyclomer）P ACA 200M、賽克羅馬（Cyclomer）P ACA 230AA、賽克羅馬（Cyclomer）P ACA Z250、賽克羅馬（Cyclomer）P ACA Z251、賽克羅馬（Cyclomer）P ACA Z300、賽克羅馬（Cyclomer）P ACA Z320（以上，大賽璐（股份）製造）等。進而，作為苯酚酚醛清漆型環氧樹脂的市售品，可列舉：JER-157S65、JER-152、JER-154、JER-157S70（以上，三菱化學（股份）製造）等。另外，作為於側鏈上具有氧雜環丁基的聚合物、於分子內具有兩個以上的氧雜環丁基的聚合性單體或寡聚物的具體例，可使用亞龍氧雜環丁烷（Aron Oxetane）OXT-121、亞龍氧雜環丁烷（Aron Oxetane）OXT-221、亞龍氧雜環丁烷（Aron Oxetane）OX-SQ、亞龍氧雜環丁烷（Aron Oxetane）PNOX（以上，東亞合成（股份）製造）。

當本發明的著色組成物含有交聯劑時，相對於著色組成物的總固體成分，交聯劑的含量較佳為0.01質量%～50質量%，更佳為0.5質量%～30質量%。

＜＜界面活性劑＞＞本發明的著色組成物亦可含有界面活性劑。界面活性劑可為非離子系、陽離子系、陰離子系的任一種，但較佳為具有環氧乙烷結構的界面活性劑、氟系界面活性劑。特佳為親水親油平衡（Hydrophile-Lipophile Balance，HLB）值處於9.2～15.5的範圍內的具有環氧乙烷結構的界面活性劑、及日本專利特開平2-54202號公報中記載的氟系界面活性劑。

氟系界面活性劑的含氟率較佳為3質量%～40質量%。下限更佳為5質量%以上，進而更佳為7質量%以上。上限更佳為30質量%以下，進而更佳為25質量%以下。當含氟率為所述範圍內時，就塗佈著色組成物時的膜的厚度的均勻性或省液性的觀點而言有效，溶解性亦良好。

作為氟系界面活性劑，具體而言，可列舉日本專利特開2014-41318號公報的段落號0060～段落號0064（對應的國際公開WO2014/17669號公報的段落號0060～段落號0064）等中記載的界面活性劑，該些內容可被編入至本說明書中。作為氟系界面活性劑的市售品，例如可列舉：美佳法（Megafac）F-171、美佳法（Megafac）F-172、美佳法（Megafac）F-173、美佳法（Megafac）F-176、美佳法（Megafac）F-177、美佳法（Megafac）F-141、美佳法（Megafac）F-142、美佳法（Megafac）F-143、美佳法（Megafac）F-144、美佳法（Megafac）R30、美佳法（Megafac）F-437、美佳法（Megafac）F-475、美佳法（Megafac）F-479、美佳法（Megafac）F-482、美佳法（Megafac）F-554、美佳法（Megafac）F-780（以上，迪愛生（DIC）（股份）製造），弗洛德（Fluorad）FC430、弗洛德（Fluorad）FC431、弗洛德（Fluorad）FC171（以上，住友3M（Sumitomo 3M）（股份）製造），沙福隆（Surflon）S-382、沙福隆（Surflon）SC-101、沙福隆（Surflon）SC-103、沙福隆（Surflon）SC-104、沙福隆（Surflon）SC-105、沙福隆（Surflon）SC1068、沙福隆（Surflon）SC-381、沙福隆（Surflon）SC-383、沙福隆（Surflon）S-393、沙福隆（Surflon）KH-40（以上，旭硝子（股份）製造）等。另外，亦可例示下述化合物作為本發明中所使用的氟系界面活性劑。 [化63]所述化合物的重量平均分子量較佳為3,000～50,000，例如為14,000。另外，亦可使用於側鏈上具有乙烯性不飽和基的含氟聚合體作為氟系界面活性劑。作為具體例，可列舉日本專利特開2010-164965號公報的段落號0050～段落號0090及段落號0289～段落號0295中所記載的化合物，例如迪愛生公司製造的美佳法（Megafac）RS-101、美佳法（Megafac）RS-102、美佳法（Megafac）RS-718K等。

當本發明的著色組成物含有界面活性劑時，相對於著色組成物的總固體成分，界面活性劑的含量較佳為0.0001質量%～2.0質量%，更佳為0.005質量%～1.0質量%。本發明的組成物可僅含有一種界面活性劑，亦可含有兩種以上。當含有兩種以上時，較佳為其合計量成為所述範圍。

＜＜硬化促進劑＞＞本發明的著色組成物可含有作為硬化促進劑發揮功能的化合物。例如可使用：選自由芳香族胺化合物、三級胺化合物、胺鹽、鏻鹽、脒鹽、醯胺化合物、硫醇化合物、嵌段異氰酸酯化合物及含有咪唑環的化合物所組成的群組中的至少一種化合物。藉由著色組成物含有硬化促進劑，可更有效地實現著色組成物的低溫硬化。並且，亦可進一步提昇著色組成物的保存穩定性。作為硬化促進劑的市售品，可列舉卡倫茨（Karenz）MTBD-1等卡倫茨（Karenz）MT系列（昭和電工（股份）製造）等。於本發明中，硬化促進劑可單獨使用或將兩種以上混合使用。相對於聚合性化合物100質量份，硬化促進劑的含量較佳為0.01質量份～20質量份，特佳為0.1質量份～10質量份。

＜＜抗氧化劑＞＞本發明的著色組成物可含有抗氧化劑。作為抗氧化劑，可列舉：酚化合物、亞磷酸酯化合物、硫醚化合物等。較佳為分子量為500以上的酚化合物、分子量為500以上的亞磷酸酯化合物、及分子量為500以上的硫醚化合物。該些亦可混合使用兩種以上。作為酚化合物，可使用作為酚系抗氧化劑而為人所知的任意的酚化合物。作為較佳的酚化合物，可列舉受阻酚化合物。特佳為於與酚性羥基鄰接的部位（鄰位）具有取代基的化合物。作為所述取代基，較佳為碳數1～22的經取代或未經取代的烷基，更佳為甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、戊基、異戊基、第三戊基、己基、辛基、異辛基、2-乙基己基。另外，於同一分子內具有苯酚基與亞磷酸酯基的化合物亦較佳。另外，作為抗氧化劑，亦可適宜地使用磷系抗氧化劑。作為磷系抗氧化劑，可列舉：三[2-[[2,4,8,10-四(1,1-二甲基乙基)二苯并[d,f][1,3,2]二氧雜磷雜庚英-6-基]氧基]乙基]胺、三[2-[(4,6,9,11-四-第三丁基二苯并[d,f][1,3,2]二氧雜磷雜庚英-2-基)氧基]乙基]胺、及雙(2,4-二-第三丁基-6-甲基苯基)亞磷酸乙酯。該些可以市售品的形式容易地獲取，可列舉：艾迪科斯塔波（Adekastab）AO-20、艾迪科斯塔波（Adekastab）AO-30、艾迪科斯塔波（Adekastab）AO-40、艾迪科斯塔波（Adekastab）AO-50、艾迪科斯塔波（Adekastab）AO-50F、艾迪科斯塔波（Adekastab）AO-60、艾迪科斯塔波（Adekastab）AO-60G、艾迪科斯塔波（Adekastab）AO-80、艾迪科斯塔波（Adekastab）AO-330（艾迪科（股份））等。相對於著色組成物的總固體成分，抗氧化劑的含量較佳為0.01質量%～20質量%，更佳為0.3質量%～15質量%。抗氧化劑可僅為一種，亦可為兩種以上。當使用兩種以上時，較佳為合計量成為所述範圍。

＜＜雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鹽＞＞本發明的著色組成物亦可進而含有雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鹽。藉由含有雙三(氟甲磺醯基)醯亞胺鹽，可提昇由著色組成物所獲得的硬化膜的耐熱性。作為雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鹽，可列舉：雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鉀、雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鈉、雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰等。相對於聚合物TP所具有的具有三芳基甲烷結構的重複單元A的1莫耳，雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鹽的含量較佳為0.1莫耳～2莫耳，更佳為0.3莫耳～0.8莫耳。雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鹽可於聚合物TP的聚合時添加，亦可於聚合後添加，亦可於製造著色組成物時添加。

＜＜其他成分＞＞本發明的著色組成物視需要可進而含有染料穩定劑、抗還原劑、酸產生劑、填充材、紫外線吸收劑、抗凝聚劑、增感劑或光穩定劑等各種添加劑。作為染料穩定劑、抗還原劑、酸產生劑，可參照國際公開第2015/046285號公報的段落號0223～段落號0228的記載，其內容可被編入至本說明書中。

＜著色組成物的製備方法＞本發明的著色組成物可藉由將所述各成分與視需要的任意成分混合來製備。於製備著色組成物時，可一次性調配構成著色組成物的各成分，亦可將各成分溶解·分散於溶劑中後依次調配。另外，進行調配時的投入順序或作業條件並無特別限制。例如，可將所有成分同時溶解·分散於溶劑中來製備組成物，視需要，亦可先將各成分適宜製成兩種以上的溶液·分散液，於使用時（塗佈時）將該些溶液·分散液混合來作為組成物製備。為了去除異物或減少缺陷等，本發明的著色組成物較佳為利用過濾器進行過濾。作為過濾器，只要是自先前以來用於過濾用途等的過濾器，則可無特別限定地使用。例如可列舉利用聚四氟乙烯（Polytetrafluoroethylene，PTFE）等氟樹脂，尼龍-6、尼龍-6,6等聚醯胺系樹脂，聚乙烯、聚丙烯（Polypropylene，PP）等聚烯烴樹脂（包含高密度、超高分子量的聚烯烴樹脂）等原材料的過濾器。該些原材料之中，較佳為聚丙烯（包含高密度聚丙烯）。過濾器的孔徑合適的是0.01 μm～7.0 μm左右，較佳為0.01 μm～3.0 μm左右，更佳為0.05 μm～0.5 μm左右。藉由設為該範圍，可確實地去除於後續步驟中阻礙均勻及平滑的著色組成物的製備的微細的異物。

當使用過濾器時，亦可將不同的過濾器加以組合。此時，利用第1過濾器的過濾可僅進行一次，亦可進行兩次以上。另外，亦可於所述範圍內將孔徑不同的第1過濾器加以組合。此處的孔徑可參照過濾器生產商的標稱值。作為市售的過濾器，例如可自日本頗爾（Pall）股份有限公司、愛多邦得科東洋（Advantec Toyo）股份有限公司、日本英特格（Nihon Entegris）股份有限公司（原日本密科理（Mykrolis）股份有限公司）或北澤微濾器（Kitz Microfilter）股份有限公司等所提供的各種過濾器中進行選擇。第2過濾器可使用以與所述第1過濾器相同的材料等所形成的過濾器。例如，利用第1過濾器的過濾可僅於分散液中進行，於混合其他成分後，進行第2次過濾。

本發明的著色組成物因可形成色相及對比度優異的硬化膜，故可適宜地用作影像顯示裝置或固體攝影元件中所使用的彩色濾光片等的著色層形成用（著色畫素形成用）著色組成物，另外，可適宜地用作印刷油墨、噴墨油墨、及塗料等的製作用途。

＜硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法＞本發明的硬化膜是使本發明的著色組成物硬化而形成。該硬化膜可較佳地用於彩色濾光片。

只要是可形成將本發明的著色組成物應用於基材上並進行硬化而成的著色區域（著色圖案）的方法，則可藉由任一種方法來形成本發明的彩色濾光片。當使用本發明的著色組成物來製造固體攝影元件用的彩色濾光片時，亦可採用日本專利特開2011-252065號公報的段落號0359～段落號0371中所記載的製造方法。

本發明的彩色濾光片的製造方法包括：使用本發明的著色組成物而於基材上形成著色組成物層的步驟；以及藉由光微影法或乾式蝕刻法，於著色組成物層上形成圖案的步驟。

圖案形成方法可為藉由光微影法的圖案形成方法，亦可為藉由乾式蝕刻法的圖案形成方法。另外，當製造形成有經著色為多種顏色的硬化膜（著色圖案）而成的彩色濾光片時，針對所有著色圖案，可藉由光微影法或乾式蝕刻法來進行圖案形成，第一顏色（第一層）可藉由乾式蝕刻法來進行圖案形成，第二顏色以後（二層以後）可藉由光微影法來進行圖案形成。

藉由光微影法的圖案形成較佳為包括：使用著色組成物而於基材上形成著色組成物層的步驟；將著色組成物層曝光成圖案狀的步驟；以及將著色組成物層的未曝光部顯影去除而形成圖案的步驟。視需要亦可設置對著色組成物層進行烘烤的步驟（預烘烤步驟）、及對經顯影的著色圖案進行烘烤的步驟（後烘烤步驟）。另外，藉由乾式蝕刻法的圖案形成較佳為包括：使用著色組成物而於基材上形成著色組成物層，並加以硬化而形成著色層的步驟；於著色層上形成光阻劑層的步驟；藉由進行曝光及顯影來將光阻劑層加以圖案化而獲得抗蝕劑圖案的步驟；以及將抗蝕劑圖案作為蝕刻遮罩來對著色層進行乾式蝕刻而形成圖案的步驟。以下，對各步驟進行說明。

＜＜形成著色組成物層的步驟＞＞於形成著色組成物層的步驟中，將本發明的著色組成物應用於基材上來形成著色組成物層。

作為基材，例如可列舉：液晶顯示元件等中所使用的無鹼玻璃、鈉玻璃、派熱司（Pyrex）（註冊商標）玻璃、石英玻璃、及使透明導電膜附著於該些玻璃上而成者，或者固體攝影元件等中所使用的光電轉換元件基材，例如矽基材、或塑膠基材等。另外，於該些基材上，亦可形成有將各畫素隔離的黑色矩陣、或者為了促進密接等而設置有透明樹脂層。另外，為了改良與上部的層的密接、防止物質的擴散、或者為了表面的平坦化，視需要亦可於基材上形成底塗層。另外，塑膠基材較佳為於其表面具有阻氣層及/或耐溶劑性層。

此外，作為基材，使用配置有薄膜電晶體（Thin Film Transistor，TFT）方式彩色液晶顯示裝置的薄膜電晶體（TFT）的驅動用基材（以下，稱為「TFT方式液晶驅動用基材」），於該驅動用基材上，亦可形成使用本發明的著色組成物而成的著色圖案來製作彩色濾光片。作為TFT方式液晶驅動用基材中的基材，例如可列舉：玻璃基材、矽基材、聚碳酸酯基材、聚酯基材、芳香族聚醯胺基材、聚醯胺醯亞胺基材、聚醯亞胺基材等。視需要，亦可事先對該些基材實施使用矽烷偶合劑等的化學品處理、電漿處理、離子鍍、濺鍍、氣相反應法、真空蒸鍍等適宜的前處理。例如，可使用在TFT式液晶驅動用基材的表面形成氮化矽膜等鈍化膜而成的基材。

作為著色組成物的應用方法，較佳為塗佈，更佳為藉由旋轉塗佈、狹縫塗佈、流延塗佈、輥塗、棒塗、噴墨等方法來進行塗佈。

形成於基材上的著色組成物層較佳為進行乾燥（預烘烤）。預烘烤可使用加熱板、烘箱等，於50℃～140℃的溫度範圍內，較佳為70℃～110℃左右，以10秒～300秒的條件進行。再者，預烘烤亦可併用高頻處理等。高頻處理亦可單獨使用。視需要，亦可於預烘烤前實施真空處理。關於真空乾燥的條件，真空度較佳為13 Pa～133 Pa，更佳為26 Pa～66.5 Pa。

藉由著色組成物所形成的著色組成物層的厚度是對應於目的而適宜選擇。於影像顯示裝置用彩色濾光片的情況下，較佳為0.2 μm～5.0 μm的範圍，更佳為1.0 μm～4.0 μm的範圍，最佳為1.5 μm～3.5 μm的範圍。另外，於固體攝影元件用彩色濾光片的情況下，較佳為0.2 μm～5.0 μm的範圍，更佳為0.3 μm～2.5 μm的範圍，最佳為0.3 μm～1.5 μm的範圍。再者，著色組成物層的厚度為預烘烤後的膜的厚度。

（藉由光微影法的圖案形成）＜＜進行曝光的步驟＞＞繼而，於本發明的彩色濾光片的製造方法中，針對以所述方式形成於基材上的包含著色組成物的膜（著色組成物層），隔著例如光罩來進行曝光。作為可應用於曝光的光或放射線，較佳為g射線、h射線、i射線、j射線、KrF光、ArF光，特佳為i射線。當將i射線用於照射光時，較佳為以100 mJ/cm² ～10,000 mJ/cm² 的曝光量進行照射。

另外，作為其他曝光光線，亦可使用超高壓、高壓、中壓、低壓的各水銀燈，化學燈，碳弧燈，氙燈，金屬鹵化物燈，可見及紫外的各種雷射光源，螢光燈，鎢燈，太陽光等。

於使用雷射光源的曝光方式中，作為光源，較佳為使用紫外光雷射。照射光較佳為波長為300 nm～380 nm的範圍的紫外光雷射，更佳為波長為300 nm～360 nm的範圍的紫外光雷射。具體而言，尤其可適宜地使用輸出功率大、且比較廉價的固體雷射的Nd：YAG（釔·鋁·石榴石）雷射的第三諧波（355 nm），或準分子雷射的XeCl（308 nm）、XeF（353 nm）。被曝光物（圖案）的曝光量為1 mJ/cm² ～100 mJ/cm² 的範圍，更佳為1 mJ/cm² ～50 mJ/cm² 的範圍。若曝光量為該範圍，則就圖案形成的生產性的觀點而言較佳。

作為曝光裝置，並無特別限制，作為市售的曝光裝置，可使用Callisto（V科技（V-Technology）股份有限公司製造）或EGIS（V科技股份有限公司製造）或DF2200G（大日本網屏（Dainippon Screen）（股份）製造）等。另外，亦可適宜地使用所述以外的裝置。當製造液晶顯示裝置用的彩色濾光片時，可較佳地採用藉由接近式曝光機、鏡面投影式曝光機，並主要使用h射線、i射線的曝光。另外，當製造固體攝影元件用的彩色濾光片時，較佳為藉由步進式曝光機，並主要使用i射線。再者，當使用TFT方式液晶驅動用基材製造彩色濾光片時，所使用的光罩使用除設置有用以形成畫素（著色圖案）的圖案以外，亦設置有用以形成通孔等凹處的圖案的光罩。

以所述方式進行了曝光的著色組成物層亦可進行加熱。另外，為了抑制著色組成物層中的色材的氧化褪色，可於反應室內一面流入氮氣一面進行曝光。

＜＜進行顯影的步驟＞＞繼而，利用顯影液對曝光後的著色組成物層進行顯影。藉此，可形成負型或正型的著色圖案（抗蝕劑圖案）。於顯影步驟中，使曝光後的塗佈膜的未硬化部溶出至顯影液中，而僅使硬化部殘存於基材上。顯影液只要是溶解未硬化部中的著色組成物的塗佈膜（著色組成物層），另一方面不溶解硬化部者，則可使用任何顯影液。例如，可使用各種有機溶劑的組合或鹼性水溶液。作為用於顯影的有機溶劑，可列舉於製備本發明的著色組成物時可使用的已述的溶劑。作為鹼性水溶液，例如可列舉：使氫氧化四乙基銨、氫氧化四丙基銨、氫氧化四丁基銨、氫氧化三甲基苄基銨、氫氧化苄基三甲基銨、氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨水、乙基胺、二乙基胺、二甲基乙醇胺、氫氧化四甲基銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一烯等鹼性化合物以濃度成為0.001質量%～10質量%，較佳為成為0.01質量%～1質量%的方式溶解而成的鹼性水溶液。當顯影液為鹼性水溶液時，鹼濃度以較佳為pH成為11～13，更佳為pH成為11.5～12.5的方式製備為宜。於鹼性水溶液中，例如亦可添加適量的甲醇、乙醇等水溶性有機溶劑、或界面活性劑等。

顯影溫度較佳為20℃～30℃。顯影時間較佳為20秒～90秒。顯影可為浸漬方式、噴淋方式、噴霧方式等任一種，亦可與搖盪方式、旋轉方式、超音波方式等進行組合。亦可於接觸顯影液之前，事先利用水等潤濕被顯影面來防止顯影不均。另外，亦可使基材傾斜來進行顯影。另外，當製造固體攝影元件用的彩色濾光片時，亦可利用覆液式顯影。

顯影處理後，較佳為進行將剩餘的顯影液清洗去除的淋洗處理。淋洗處理通常利用純水來進行，但為了省液，亦可採用如下的方法：於最終清洗時使用純水，於清洗初期使用已使用過的純水，另外，使基材傾斜來進行清洗，或者併用超音波照射。

於顯影後、實施乾燥後，亦可進行加熱處理（後烘烤）。後烘烤是用以使膜完全硬化的顯影後的加熱處理。當進行後烘烤時，加熱溫度較佳為100℃～300℃，更佳為150℃～250℃，進而更佳為200℃～250℃。加熱時間較佳為10分鐘～120分鐘。可使用加熱板或對流烘箱（熱風循環式乾燥機）、高頻加熱機等加熱機構，以成為所述條件的方式，藉由連續式或批次式對顯影後的塗佈膜進行該加熱處理（後烘烤）。

本發明的彩色濾光片的製造方法中，亦可對使用著色組成物所形成的著色圖案（畫素）進行紫外線照射來進行後曝光。另外，亦可併用後曝光與後烘烤。例如，較佳為於進行後曝光後，進行後烘烤。

以所述方式獲得的著色圖案構成彩色濾光片中的畫素。於製作具有多種色相的畫素的彩色濾光片時，只要結合所期望的色數而重覆所述各步驟即可。再者，可於每種單色的著色組成物層的形成、曝光、顯影結束（每次一種顏色）後，進行所述後曝光及/或後烘烤處理，亦可於所有所期望的色數的著色組成物層的形成、曝光、顯影結束後，一次性進行所述後曝光及/或後烘烤處理。

藉由結合所期望的色相數，依次對每種顏色重覆進行以上的各步驟，可製作形成有多種顏色的經著色的硬化膜（著色圖案）的彩色濾光片。

（藉由乾式蝕刻法的圖案形成）另外，本發明的著色組成物亦可應用於包括乾式蝕刻步驟的彩色濾光片的製造方法。作為此種製造方法的一例，可列舉包括如下步驟的製造方法：使用本發明的著色組成物來形成著色層的步驟；於著色層上形成光阻劑層的步驟；藉由進行曝光及顯影來將光阻劑層加以圖案化而獲得抗蝕劑圖案的步驟；以及將抗蝕劑圖案作為蝕刻遮罩來對著色層進行乾式蝕刻的步驟。

藉由本發明的彩色濾光片的製造方法所獲得的彩色濾光片（本發明的彩色濾光片）的色相及對比度良好，且耐熱性、耐溶劑性優異。進而，電壓保持率亦優異。本發明的彩色濾光片可用於影像顯示裝置或固體攝影元件，特別適合液晶顯示裝置的用途。當用於液晶顯示裝置時，可一面達成良好的色相，一面進行分光特性及對比度優異的影像的顯示。

作為本發明的著色組成物的用途，於所述中主要以彩色濾光片的著色圖案的形成用途為中心進行了說明，但亦可應用於將構成彩色濾光片的著色圖案（畫素）隔離的黑色矩陣的形成。基材上的黑色矩陣可藉由如下方式來形成：使用含有碳黑、鈦黑等黑色顏料的加工顏料的著色組成物，經過塗佈、曝光、及顯影的各步驟後，視需要進行後烘烤。

＜影像顯示裝置＞本發明的影像顯示裝置是具備本發明的彩色濾光片而成者。作為影像顯示裝置，可列舉液晶顯示裝置或有機電致發光（有機EL（Electroluminescence））顯示裝置等。特別適合液晶顯示裝置的用途。具備本發明的彩色濾光片的液晶顯示裝置可進行顯示影像的色澤良好且顯示特性優異的高畫質影像的顯示。

關於影像顯示裝置的定義或各影像顯示裝置的詳細情況，於例如「電子顯示元件（佐佐木昭夫著，工業調查會（Kogyo Chosakai Publishing）（股份） 1990年發行）」、「顯示元件（伊吹順章著，產業圖書（Sangyo Tosho）（股份）1989年發行）」等中有記載。另外，關於液晶顯示裝置，於例如「下一代液晶顯示技術（內田龍男編輯，工業調查會（股份） 1994年發行）」中有記載。可應用本發明的液晶顯示裝置並無特別限制，例如可應用於所述「下一代液晶顯示技術」中所記載的各種方式的液晶顯示裝置。

本發明的彩色濾光片尤其對於彩色TFT（Thin Film Transistor）方式的液晶顯示裝置有效。關於彩色TFT方式的液晶顯示裝置，於例如「彩色TFT液晶顯示器（共立出版（股份）1996年發行）」中有記載。進而，本發明亦可應用於共面切換（In Plane Switching，IPS）等橫向電場驅動方式、多域垂直配向（Multi-domain Vertical Alignment，MVA）等畫素分割方式等的視角被擴大的液晶顯示裝置，或者超扭轉向列（Super-Twisted Nematic，STN）、扭轉向列（Twisted Nematic，TN）、垂直配向（Vertical Alignment，VA）、片上間隔物（On-Chip Spacer，OCS）、邊緣場切換（Fringe Field Switching，FFS）、及反射光學補償彎曲（Reflective Optically Compensated Bend，R-OCB）等。另外，本發明的彩色濾光片亦可供於明亮且高精細的彩色濾光片陣列（Color-filter On Array，COA）方式。

若將本發明的彩色濾光片用於影像顯示裝置，則當與先前公知的冷陰極管的三波長管組合時可實現高對比度，進而，藉由將紅、綠、藍的發光二極體光源作為背光源，可提供亮度高、色純度高且色彩再現性良好的影像顯示裝置。

＜固體攝影元件＞本發明的固體攝影元件具備所述本發明的彩色濾光片。作為本發明的固體攝影元件的構成，只要是具備本發明的彩色濾光片、且作為固體攝影元件發揮功能的構成，則並無特別限定，例如可列舉如下的構成。

該構成如下：於支撐體上具有構成固體攝影元件（電荷耦合元件（Charge Coupled Device，CCD）影像感測器、互補型金屬氧化膜半導體（Complementary Metal Oxide Semiconductor，CMOS）影像感測器等）的光接收區域的多個光二極體及包含多晶矽等的轉移電極，於所述光二極體及所述轉移電極上具有僅對光二極體的光接收部開口的包含鎢等的遮光膜，於遮光膜上具有以覆蓋遮光膜的整個面及光二極體光接收部的方式形成的包含氮化矽酮等的元件保護膜，於所述元件保護膜上具有本發明的固體攝影元件用彩色濾光片。進而，亦可為如下的構成等：於所述元件保護膜上、且於彩色濾光片下（靠近支撐體之側）具有聚光機構（例如微透鏡等。以下相同）的構成，或者於彩色濾光片上具有聚光機構的構成。 [實施例]

以下，列舉實施例來更具體地說明本發明。只要不脫離本發明的主旨，則以下的實施例中所示的材料、使用量、比例、處理內容、處理程序等可適宜變更。因此，本發明的範圍並不限定於以下所示的具體例。再者，只要事先無特別說明，則「%」及「份」為質量基準。

＜聚合物TP的重量平均分子量（Mw）的測定方法（GPC測定）＞聚合物TP的Mw為藉由凝膠滲透層析儀（GPC）測定的聚甲基丙烯酸換算值，利用HLC-8220GPC（東曹（股份）製造），將使TSKgel SuperAW4000、TSKgel SuperAW3000、及TSKgel SuperAW2500（東曹（股份）製造，7.8 mm（內徑）×30 cm）3根串聯連接而成者作為管柱，並將測定條件設為使用5 mmol/L含有三氟乙酸鈉的三氟乙醇溶液作為展開溶媒、流速為0.35 mL/min、樣品注入量為20 μL、測定溫度為40℃，並使用紫外線檢測器進行測定。

＜具有三芳基甲烷結構的重量平均分子量未滿5,000的化合物的含量＞根據聚合物TP的藉由GPC測定所獲得的資料，預估並算出重量平均分子量未滿5,000的含量（面積%）。

＜合成例1＞（TAM1的合成） TAM1是根據以下的途徑來合成。 [化64]

（合成中間物（化合物2）的合成）將4,4'-二氯二苯甲酮（化合物1）25.1 g、二甲苯200 mL、第三丁氧基鈉28.8 g、及1,3,5-均三甲苯基胺加入至三口燒瓶中，進行1小時氮起泡，然後添加乙酸鈀（II）22.5 mg、及二環己基(1,1-二苯基-1-丙烯-2-基)膦78.1 mg並於110℃下攪拌3小時。冷卻至室溫為止後，添加離子交換水200 mL與2-丙醇40 mL的混合溶液，進行過濾後，以甲苯160 mL與2-丙醇20 mL的混合溶液、離子交換水200 mL、及2-丙醇200 mL的順序進行清洗而獲得化合物2 39.3 g（產率為87.6%）。

（合成中間物（化合物3）的合成）使氮氣於三口燒瓶中流動，加入N-甲基吡咯啶酮150 mL及氫化鈉8.0 g，歷時30分鐘滴加使化合物2 30.0 g溶解於N-甲基吡咯啶酮100 mL中而成的溶液，攪拌3小時後，歷時30分鐘滴加對甲苯磺酸甲酯27.4 g。其後，攪拌2小時，緩慢地滴加離子交換水220 mL與2-丙醇50 mL的混合溶液後，滴加1 mol/L鹽酸水70 mL，並進行過濾。以離子交換水200 mL、甲醇200 mL、己烷160 mL與2-丙醇20 mL的混合溶液的順序進行清洗而獲得化合物3 31.6 g（99.0%）。

（合成中間物（化合物5）的合成）向三口燒瓶中添加乙腈110 mL、1-萘基胺（化合物4）24.5 g、及過氯酸鋅六水合物3.2 g，並昇溫至40℃，歷時30分鐘滴加1,2-環氧環己烷23.5 g後，攪拌5小時。添加乙腈110 mL，並滴加離子交換水170 mL，攪拌20分鐘後，冷卻至室溫為止，攪拌1小時後進行過濾。利用離子交換水50 mL清洗兩次而獲得化合物5 32.3 g（產率為71.2%）。

（合成中間物（R-2）的合成）向三口燒瓶中加入乙腈20 mL、2-甲基丙烯醯氧基乙基丁二酸4.8 g、對甲苯磺醯氯5.3 g、及化合物5 4.8 g，一面冷卻至10℃以下一面歷時30分鐘滴加1-甲基咪唑4.6 g後，攪拌5小時。昇溫至室溫後，添加甲苯30 mL及離子交換水30 mL進行分液後，利用5質量%NaHCO₃ 水溶液30 mL清洗兩次後，進行減壓濃縮而獲得油狀化合物。向三口燒瓶中加入所獲得的油狀化合物8.9 g、乙腈20 mL、化合物3 9.1 g、及***6.4 g，於90℃下攪拌3小時，冷卻至室溫後，添加乙酸乙酯110 mL及離子交換水60 mL進行分液。利用5質量%NaHCO₃ 水溶液進行清洗，添加雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰7.3 g並攪拌30分鐘後，添加離子交換水60 mL進行分液，並利用5質量%NaHCO₃ 水溶液進行清洗。進行減壓濃縮後，藉由矽膠管柱來進行兩次精製而獲得化合物R-2 7.0 g（產率為77.1%）。

（TAM1的合成（聚合步驟））向三口燒瓶中加入丙二醇-1-單甲基醚-2-乙酸酯1.9 g，一面使氮氣流動一面加熱至60℃，歷時1小時滴加丙二醇-1-單甲基醚-2-乙酸酯4.5 g、十二基硫醇0.18 g、合成中間物（R-2）3.8 g、甲基丙烯酸0.43 g、及2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)1.3 g的溶液，攪拌1小時後，添加2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)0.08 g，並攪拌5小時。冷卻至室溫，獲得重量平均分子量為30,000的TAM1的溶液（固體成分濃度為50質量%）。

＜合成例2＞（TAM2～TAM6的合成）除變更聚合步驟的十二基硫醇的量以外，與合成例1同樣地合成。

＜合成例3＞（TAM7～TAM12、TAM15～TAM18的合成）除變更聚合步驟的各單體的量、或具有酸基的單體的種類以外，與TAM1同樣地合成。

＜合成例4＞（TAM13的合成）除於合成中間物（R-2）的合成時，使用甲基丙烯酸來代替2-甲基丙烯醯氧基丁二酸來實施以外，使用藉由與合成中間物（R-2）的合成相同的方法而合成的合成中間物，與TAM1同樣地合成。

＜合成例5＞（TAM14的合成）除於合成中間物（R-2）的合成時，使用4,4'-雙-二乙基胺基二苯甲酮來代替化合物3以外，使用藉由與合成中間物（R-2）的合成相同的方法而合成的合成中間物，與TAM1同樣地合成。

＜R1的合成＞將鹼性藍7（東京化成公司製造）與雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鋰混合，並將抗衡陰離子的氯置換成雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺，從而獲得R1。

＜R2的合成＞向三口燒瓶中加入丙二醇-1-單甲基醚-2-乙酸酯2.0 g，一面使氮氣流動一面加熱至60℃，歷時1小時滴加丙二醇-1-單甲基醚-2-乙酸酯7.7 g、十二基硫醇0.15 g、所述合成中間物（R-2）3.2 g、甲基丙烯酸0.51 g、甲基丙烯酸環己酯0.51 g、及2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)1.3 g的溶液，攪拌1小時後，添加2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)0.08 g，並攪拌5小時。冷卻至室溫，獲得重量平均分子量為30,000的R2的溶液（固體成分濃度為30質量%）。於使用R2作為著色劑的比較例2中，將R2的溶液向著色組成物中的添加量設為17.0質量份。

＜R3、R4的合成＞將合成中間物（R-2）與甲基丙烯酸的質量比分別設為如下，並調整十二基硫醇的使用量，除以上所述以外，藉由與TAM1相同的方法來合成。 R3×××合成中間物（R-2）：甲基丙烯酸=90：10 質量比 R4×××合成中間物（R-2）：甲基丙烯酸=30：70 質量比

＜實施例1～實施例18、比較例1、比較例3、比較例4＞（著色組成物的製備）以成為下述組成的方式將各成分混合而製備著色組成物。＜＜組成＞＞ ·著色劑（固體成分濃度為50質量%溶液） ···10.2質量份 ·聚合性化合物（T-1） ···6.0質量份 ·鹼可溶性黏合劑（U-2） ···5.3質量份 ·光聚合起始劑（V-4） ···0.3質量份 ·硬化促進劑（V-5） ···0.2質量份 ·交聯劑（U-1） ···2.0質量份 ·添加劑（W-1） ···0.5質量份 ·溶劑（X-1） ···71質量份 ·溶劑（X-3） ···13質量份 ·界面活性劑（Z-1） ···0.01質量份

＜比較例2＞除使用以上所獲得的R2的溶液（固體成分濃度為30質量%溶液）17質量份作為著色劑以外，與實施例1同樣地製備著色組成物。

著色劑：所述合成例中所製造的TAM1～TAM18、R1～R4的溶液。以下表示TAM1～TAM18、R1～R4的結構。於以下的式中，一併記載於重複單元中的數值為重複單元的質量比。 [化65][化66][化67][化68]

·聚合性化合物（T-1）：卡亞拉得（KAYARAD）DPHA（日本化藥（股份）製造，二季戊四醇五丙烯酸酯與二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物） ·鹼可溶性黏合劑（U-2）：甲基丙烯酸烯丙酯/甲基丙烯酸（77/23「質量比」共聚物，重量平均分子量為37,000，酸價為137 mgKOH/g） ·光聚合起始劑（V-4）：豔佳固（IRGACURE）-OXE02（巴斯夫公司製造） ·硬化促進劑（V-5）：卡倫茲（Karenz）MTBD-1（昭和電工股份有限公司製造） ·交聯劑（U-1）：賽羅西德（Celloxide）2021P（大賽璐（股份）製造，環氧化合物） ·溶劑（X-1）：丙二醇單甲基醚乙酸酯 ·溶劑（X-3）：（甲基乙基二甘醇（Methyl Ethyl Diglycol，MEGD），日本乳化劑股份有限公司製造） ·添加劑（W-1）：雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鉀（三菱材料公司製造） ·界面活性劑（Z-1）：下述混合物（Mw=14,000） [化69]

＜硬化膜的製作＞將以上所獲得的著色組成物以600 nm～700 nm下的最大吸光度成為1.5～2.0的方式塗佈於100 mm×100 mm的玻璃基材（1737，康寧公司製造）上，並於100℃的烘箱中進行180秒乾燥，而於基材上製作硬化膜（著色膜）。對以上所獲得的硬化膜進行下述評價。

＜耐熱性＞將以上所獲得的硬化膜的透過光譜、與於230℃下對以上所獲得的硬化膜追加進行160分鐘煅燒後的透過光譜的600 nm下的吸光度的比作為殘色率進行評價。殘色率越高，耐熱性越高度良好。殘色率（%）=（追加煅燒後的硬化膜的600 nm下的吸光度/追加煅燒前的硬化膜的600 nm下的吸光度）×100 殘色率為90%以上 ···5 殘色率為85%以上、未滿90% ···4 殘色率為80%以上、未滿85% ···3 殘色率為75%以上、未滿80% ···2 殘色率未滿75% ···1

＜耐溶劑性（色度差）＞於230℃下對以上所獲得的硬化膜進行30分鐘加熱後，於25℃的丙二醇單甲基醚乙酸酯（Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate，PGMEA）中浸漬60分鐘，測定浸漬前後的色度，並算出色相變化的指標ΔEab。ΔEab值根據浸漬於PGMEA前後的硬化膜的透過光譜而算出。再者，ΔEab的值越低，色相變化越少，越具有優異的耐溶劑性。 ΔEab未滿1.5 ···6 ΔEab為1.5以上、未滿2 ···5 ΔEab為2以上、未滿3.5 ···4 ΔEab為3.5以上、未滿4 ···3 ΔEab為4以上、未滿5 ···2 ΔEab為5以上 ···1

＜電壓保持率＞將著色組成物以乾燥後的膜的厚度成為2.0 μm的方式塗佈於帶有氧化銦錫（Indium Tin Oxide，ITO）電極的玻璃基材（商品名：1737 康寧公司製造）上，並於100℃的烘箱中進行60秒乾燥（預烘烤）。其後，不隔著遮罩而進行100 mJ/cm² 的曝光（照度為20 mW/cm² ），然後利用鹼性顯影液（商品名：CDK-1，富士軟片電子材料（Fujifilm Electronic Materials）（股份）製造）的1質量%水溶液於25℃下進行顯影，於230℃的烘箱中對進行水洗、乾燥後的塗佈膜進行20分鐘加熱處理（後烘烤），而形成硬化膜。繼而，利用混合有5 μm的玻璃珠的密封劑將形成有該硬化膜的基材與僅將ITO電極蒸鍍成規定形狀的基材貼合後，向基材間注入默克（Merck）製造的液晶MJ971189（商品名），而製作液晶單元。繼而，將液晶單元放入至60℃的恆溫槽中24小時後，使用東陽特克尼卡（TOYO Corporation）製造的液晶電壓保持率測定系統VHR-1A型（商品名），藉由下述的測定條件來測定液晶單元的電壓保持率，並藉由下述基準中所示的分數來進行評價。分數越高，電壓保持率越良好。測定條件 ·電極間距離：5 μm～15 μm ·施加電壓脈衝振幅：5 V ·施加電壓脈衝頻率：60 Hz ·施加電壓脈衝寬度：16.67 msec *電壓保持率：16.7 msec後的液晶單元電位差/於0 msec內施加的電壓的值 *判定法 90%以上： 5 85%以上、未滿90%： 4 80%以上、未滿85%： 3 75%以上、未滿80%： 2 未滿75%： 1

[表1] *1）R1的分子量為758.84

根據所述結果，藉由實施例而形成了耐熱性及耐溶劑性優異的硬化膜。進而，藉由實施例所獲得的硬化膜的電壓保持率優異。另外，藉由旋塗法將以上所製備的實施例1～實施例18的著色組成物塗佈於玻璃（#1737；康寧公司製造）基材上後，於室溫下進行30分鐘乾燥，藉此使揮發成分揮發而獲得著色層。使用20 μm的線與空間圖案的光罩對所獲得的著色層照射全面曝光的i射線（波長為365 nm），而形成潛像。i射線的光源使用超高壓水銀燈，於成為平行光後進行照射。此時，將照射光量設為40 mJ/cm² 。繼而，於26℃下，使用碳酸鈉/碳酸氫鈉的水溶液（濃度為2.4質量%）對形成有該潛像的著色層進行45秒顯影，繼而，利用流水進行20秒淋洗後，藉由噴霧來進行乾燥。利用潔淨烘箱對乾燥後的膜進行230℃×20分鐘煅燒。利用光學顯微鏡對所獲得的圖案進行觀察，結果，圖案形成性良好，且亦形成了線寬為20 μm的圖案。另一方面，比較例中未能使耐熱性與耐溶劑性併存。

再者，所謂所述表中的重量平均分子量未滿5,000的化合物A的含有率，是指化合物A於含有具有三芳基甲烷結構的重複單元的聚合物TP、與聚合物TP以外的具有三芳基甲烷結構的重量平均分子量未滿5,000的化合物A的混合物中的含量。

＜合成例10＞（TAM-A-1的合成）向三口燒瓶中加入丙二醇-1-單甲基醚-2-乙酸酯4.2 g，一面使氮氣流動一面加熱至80℃，歷時2小時滴加丙二醇-1-單甲基醚-2-乙酸酯26.2 g、十二基硫醇1.18 g、合成中間物（R-2）14.8 g、甲基丙烯酸5.2 g、及2,2'-偶氮雙(2-丙酸甲酯)0.35 g的溶液，攪拌1小時後，間隔1.5小時地分兩次添加使2,2'-偶氮雙(2-丙酸甲酯)0.08 g溶解於丙二醇-1-單甲基醚-2-乙酸酯0.5 g中而成的溶液，進而攪拌1.5小時。其後，加熱至90℃，進而攪拌1.5小時。冷卻至室溫，獲得重量平均分子量為30,000的TAM-A-1的溶液（固體成分濃度為40質量%）。

＜合成例11＞（TAM-A-2～TAM-A-6的合成）除變更十二基硫醇的量以外，與TAM-A-1同樣地合成。

＜合成例12＞（TAM-A-7～TAM-A-14的合成）除變更各單體的量、或具有酸基的單體的種類以外，與TAM-A-1同樣地合成。

＜合成例13＞（TAM-A-15的合成）除於合成中間物（R-2）的合成時，使用甲基丙烯酸來代替2-甲基丙烯醯氧基丁二酸來實施以外，使用藉由與合成中間物（R-2）的合成相同的方法而合成的合成中間物，與TAM-A-1同樣地合成。

＜合成例14＞（TAM-A-16的合成）除於合成中間物（R-2）的合成時，使用4,4'-雙-二乙基胺基二苯甲酮來代替化合物3以外，使用藉由與合成中間物（R-2）的合成相同的方法而合成的合成中間物，與TAM-A-1同樣地合成。

＜合成例15＞（TAM-A-17的合成）向三口燒瓶中加入丙二醇-1-單甲基醚-2-乙酸酯4.2 g，一面使氮氣流動一面加熱至80℃，歷時2小時滴加丙二醇-1-單甲基醚-2-乙酸酯27.6 g、十二基硫醇1.18 g、合成中間物（R-2）14.8 g、甲基丙烯酸5.2 g、雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鉀1.5 g、及2,2'-偶氮雙(2-丙酸甲酯)0.35 g的溶液，攪拌1小時後，間隔1.5小時地分兩次添加使2,2'-偶氮雙(2-丙酸甲酯)0.08 g溶解於丙二醇-1-單甲基醚-2-乙酸酯0.5 g中而成的溶液，進而攪拌1.5小時。其後，加熱至90℃，進而攪拌1.5小時。冷卻至室溫，獲得重量平均分子量為30,000的TAM-A-17（聚合物的結構與TAM-A-1相同）與雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鉀的混合溶液（固體成分濃度為40質量%）。

＜R2-A的合成＞向三口燒瓶中加入丙二醇-1-單甲基醚-2-乙酸酯4.2 g，一面使氮氣流動一面加熱至80℃，歷時2小時滴加丙二醇-1-單甲基醚-2-乙酸酯24.8 g、十二基硫醇0.58 g、合成中間物（R-2）13.9 g、甲基丙烯酸2.2 g、甲基丙烯酸環己酯2.2 g、及2,2'-偶氮雙(2-丙酸甲酯)0.36 g的溶液，攪拌1小時後，間隔1.5小時地分兩次添加使2,2'-偶氮雙(2-丙酸甲酯)0.12 g溶解於丙二醇-1-單甲基醚-2-乙酸酯0.5 g中而成的溶液，進而攪拌1.5小時。其後，加熱至90℃，進而攪拌1.5小時。冷卻至室溫，獲得重量平均分子量為30,000的R2-A的溶液（固體成分濃度為40質量%）。

＜R3-A、R4-A的合成＞將合成中間物（R-2）與甲基丙烯酸的質量比分別設為如下，並調整十二基硫醇的使用量，除此以外，藉由與TAM-A-1相同的方法來合成。 R3-A×××合成中間物（R-2）：甲基丙烯酸=90：10 質量比 R4-A×××合成中間物（R-2）：甲基丙烯酸=30：70 質量比

＜顏料分散液1的製備＞以如下所述的方式製備顏料分散液1。以成為下述記載的組成的方式混合原料，使用均質機以轉速3,000 rpm進行3小時攪拌，而製備混合溶液。進而藉由使用直徑為0.1 mm的氧化鋯珠的珠分散機超級研磨機（Ultra Apex Mill）（壽工業公司製造）來進行8小時分散處理。此處，迪斯帕畢克（Disperbyk）110的吸附基為磷酸基（酸價為53 mgKOH/g）。（組成） ·C.I.顏料藍15：6 9.7份 ·迪斯帕畢克（Disperbyk）110 畢克化學公司製造（不揮發成分為52質量%） 13.3份 ·丙二醇甲基醚乙酸酯（以下，稱為PGMEA） 77.0份

＜顏料分散液2的製備＞除將分散劑變更成迪斯帕畢克（Disperbyk）162（畢克化學公司製造，不揮發成分為38質量%）以外，藉由與顏料分散液1相同的方法來製備顏料分散液2。再者，以使顏料分散液中的分散劑不揮發成分與顏料分散液1相等的方式製備PGMEA的添加量。此處，迪斯帕畢克（Disperbyk）162的吸附基為胺（胺價為13 mgKOH/g）。

＜顏料分散液3的製備＞除將分散劑變更成迪斯帕畢克（Disperbyk）191（畢克化學公司製造，不揮發成分為98質量%）以外，藉由與顏料分散液1相同的方法來製備顏料分散液2。再者，以使顏料分散液中的分散劑不揮發成分與顏料分散液1相等的方式製備PGMEA的添加量。此處，迪斯帕畢克（Disperbyk）191的吸附基為羧基（酸價為30 mgKOH/g）。

＜實施例19～實施例39、比較例6～比較例8＞（著色組成物的製備）以成為下述組成1、組成2或組成3的方式混合各成分而製備著色組成物。

＜＜組成1＞＞ ·著色劑（固體成分濃度為40質量%溶液） ···10.6質量份 ·聚合性化合物（T-1） ···6.0質量份 ·鹼可溶性黏合劑（U-2） ···4.0質量份 ·光聚合起始劑（V-4） ···0.31質量份 ·硬化促進劑（V-5） ···0.23質量份 ·交聯劑（U-1） ···1.0質量份 ·抗氧化劑（A-1） ···0.32質量份 ·添加劑（W-1） ···0.30質量份 ·溶劑（X-1） ···63.8質量份 ·溶劑（X-3） ···12.6質量份 ·界面活性劑（Z-1） ···0.01質量份

＜＜組成2＞＞ ·著色劑（固體成分濃度為40質量%溶液） ···11.4質量份 ·聚合性化合物（T-1） ···6.0質量份 ·鹼可溶性黏合劑（U-2） ···4.0質量份 ·光聚合起始劑（V-4） ···0.31質量份 ·硬化促進劑（V-5） ···0.23質量份 ·交聯劑（U-1） ···1.0質量份 ·抗氧化劑（A-1） ···0.32質量份 ·溶劑（X-1） ···63.8質量份 ·溶劑（X-3） ···12.6質量份 ·界面活性劑（Z-1） ···0.01質量份

＜＜組成3＞＞ ·著色劑（固體成分濃度為40質量%溶液） ···10.6質量份 ·顏料分散液 ···11.8質量份 ·聚合性化合物（T-1） ···6.0質量份 ·鹼可溶性黏合劑（U-2） ···4.0質量份 ·光聚合起始劑（V-4） ···0.31質量份 ·硬化促進劑（V-5） ···0.23質量份 ·交聯劑（U-1） ···1.0質量份 ·抗氧化劑（A-1） ···0.32質量份 ·添加劑（W-1） ···0.30質量份 ·溶劑（X-1） ···48.1質量份 ·溶劑（X-3） ···12.6質量份 ·界面活性劑（Z-1） ···0.01質量份

組成1～組成3的各成分的詳細情況如下所述。 ·著色劑：所述合成例中所製造的TAM-A-1～TAM-A-17、R2-A、R3-A、R4-A的溶液 ·顏料分散液：上述所製造的顏料分散液1～顏料分散液3 ·聚合性化合物（T-1）：卡亞拉得（KAYARAD）DPHA（日本化藥（股份）製造，二季戊四醇五丙烯酸酯與二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物） ·鹼可溶性黏合劑（U-2）：甲基丙烯酸烯丙酯/甲基丙烯酸（77/23「質量比」共聚物，重量平均分子量為37,000，酸價為137 mgKOH/g） ·光聚合起始劑（V-4）：豔佳固（IRGACURE）-OXE02（巴斯夫公司製造） ·硬化促進劑（V-5）：卡倫茲（Karenz）MTBD-1（昭和電工股份有限公司製造） ·交聯劑（U-1）：賽羅西德（Celloxide）2021P（大賽璐（股份）製造，環氧化合物） ·抗氧化劑（A-1）：AO-60：艾迪科斯塔波（Adekastab）AO-60（艾迪科製造） ·溶劑（X-1）：丙二醇單甲基醚乙酸酯 ·溶劑（X-3）：甲基乙基二甘醇（MEGD）（日本乳化劑股份有限公司製造） ·添加劑（W-1）：雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鉀（三菱材料公司製造） ·界面活性劑（Z-1）：下述混合物（Mw=14,000） [化70]

＜比較例5＞除使用3.4質量份的上述所獲得的R1作為著色劑以外，與實施例19同樣地製備著色組成物。

以下表示TAM-A-1～TAM-A-16、R2-A、R3-A及R4-A的結構。於以下的式中，一併記載於重複單元中的數值為重複單元的質量比。 [化71][化72][化73][化74]

＜硬化膜的製作＞將以上所獲得的著色組成物以600 nm～700 nm下的最大吸光度成為1.5～2.0的方式塗佈於100 mm×100 mm的玻璃基材（1737，康寧公司製造）上，並於100℃的烘箱中進行180秒乾燥，而於基材上獲得著色層。使用具有線寬為20 μm的線與空間圖案的光罩對所獲得的著色層照射i射線（波長為365 nm），而形成潛像。i射線的光源使用超高壓水銀燈，於成為平行光後進行照射。此時，將照射光量設為40 mJ/cm² 。繼而，於26℃下，使用碳酸鈉/碳酸氫鈉的水溶液（濃度為2.4質量%）對形成有該潛像的著色層進行45秒顯影，繼而，利用流水進行20秒淋洗後，藉由噴霧來進行乾燥。利用潔淨烘箱對乾燥後的膜進行230℃×30分鐘煅燒，而獲得硬化膜。對所獲得的硬化膜進行下述評價。

＜耐熱性＞將以上所獲得的硬化膜的透過光譜、與於230℃下對以上所獲得的硬化膜追加進行130分鐘煅燒後的透過光譜的600 nm下的吸光度的比作為殘色率進行評價。殘色率越高，耐熱性越高度良好。殘色率（%）=（追加煅燒後的硬化膜的600 nm下的吸光度/追加煅燒前的硬化膜的600 nm下的吸光度）×100 殘色率為90%以上 ···5 殘色率為85%以上、未滿90% ···4 殘色率為80%以上、未滿85% ···3 殘色率為75%以上、未滿80% ···2 殘色率未滿75% ···1

＜耐溶劑性（色度差）＞將以上所獲得的硬化膜於25℃的丙二醇單甲基醚乙酸酯（PGMEA）中浸漬60分鐘，測定浸漬前後的色度，並算出色相變化的指標ΔEab。ΔEab值根據浸漬於PGMEA前後的硬化膜的透過光譜而算出。再者，ΔEab的值越低，色相變化越少，越具有優異的耐溶劑性。 ΔEab未滿1.5 ···6 ΔEab為1.5以上、未滿2 ···5 ΔEab為2以上、未滿3.5 ···4 ΔEab為3.5以上、未滿4 ···3 ΔEab為4以上、未滿5 ···2 ΔEab為5以上 ···1

＜對比度＞將所獲得的硬化膜夾持於兩片偏光膜之間，使用色彩亮度計（拓普康（Topcon）（股份）製造，型號：BM-5A）來測定兩片偏光膜的偏光軸為平行時的亮度的值、及兩片偏光膜的偏光軸為垂直時的亮度的值，將兩片偏光膜的偏光軸為平行時的亮度除以垂直時的亮度，而將所得的值作為對比度來求出。對比度越高，表示作為液晶顯示器用彩色濾光片而言性能越良好。 4：對比度為30,000以上 3：對比度為20,000以上、未滿30,000 2：對比度10,000以上、未滿20,000 1：對比度未滿10,000

＜電壓保持率＞將著色組成物以乾燥後的膜的厚度成為2.0 μm的方式塗佈於帶有ITO（Indium Tin Oxide）電極的玻璃基材（商品名：1737 康寧公司製造）上，並於100℃的烘箱中進行60秒乾燥（預烘烤）。其後，不隔著遮罩而進行100 mJ/cm² 的曝光（照度為20 mW/cm² ），然後利用鹼性顯影液（商品名：CDK-1，富士軟片電子材料（股份）製造）的1質量%水溶液於25℃下進行顯影，於230℃的烘箱中對進行水洗、乾燥後的塗佈膜進行20分鐘加熱處理（後烘烤），而形成硬化膜。繼而，利用混合有5 μm的玻璃珠的密封劑將形成有該硬化膜的基材與僅將ITO電極蒸鍍成規定形狀的基材貼合後，向基材間注入默克製造的液晶MJ971189（商品名），而製作液晶單元。繼而，將液晶單元放入至60℃的恆溫槽中24小時後，使用東陽特克尼卡製造的液晶電壓保持率測定系統VHR-1A型（商品名），藉由下述的測定條件來測定液晶單元的電壓保持率，並藉由下述基準中所示的分數來進行評價。分數越高，電壓保持率越良好。測定條件 ·電極間距離：5 μm～15 μm ·施加電壓脈衝振幅：5 V ·施加電壓脈衝頻率：60 Hz ·施加電壓脈衝寬度：16.67 msec *電壓保持率：16.7 msec後的液晶單元電位差/於0 msec內施加的電壓的值 *判定法 90%以上： 5 85%以上、未滿90%： 4 80%以上、未滿85%： 3 75%以上、未滿80%： 2 未滿75%： 1

[表2] *1）R1的分子量為758.84

根據所述結果，藉由實施例而製造了耐熱性及耐溶劑性優異的硬化膜。進而，所獲得的硬化膜的對比度及電壓保持率優異。另外，利用光學顯微鏡對所獲得的硬化膜的圖案進行觀察，結果，圖案形成性良好，且亦形成了線寬為20 μm的圖案。另一方面，比較例中未能使耐熱性與耐溶劑性併存。

再者，所述表中的所謂重量平均分子量未滿5,000的化合物A的含有率，是指化合物A於含有具有三芳基甲烷結構的重複單元的聚合物TP、與聚合物TP以外的具有三芳基甲烷結構的重量平均分子量未滿5,000的化合物A的混合物中的含量。

無

Claims

一種著色組成物，其包括：聚合物TP，僅包含具有選自通式（TP1）及通式（TP2）中的至少一種三芳基甲烷結構的重複單元A、及具有酸基的重複單元B；以及聚合性化合物；所述聚合物TP含有聚合物TP的所有重複單元的12質量%～60質量%的所述重複單元B；通式（TP1）及通式（TP2）中，Rtp₁ ～Rtp₄ 分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基；Rtp₅ 、Rtp₆ 、Rtp₈ 、Rtp₉ 及Rtp₁₁ 分別獨立地表示取代基；Rtp₇ 表示氫原子、烷基、芳基或NRtp₇₁ Rtp₇₂ ；Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基；Rtp₁₀ 表示氫原子、烷基或芳基；a、b、c及d分別獨立地表示0～4的整數；當a為2以上時，Rtp₅ 彼此可連結而形成環；當b為2以上時，Rtp₆ 彼此可連結而形成環；當c為2以上時，Rtp₈ 彼此可連結而形成環；當d為2以上時，Rtp₉ 彼此可連結而形成環；X表示陰離子，或者不存在X且Rtp₁ ～Rtp₁₁ 、Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 的至少一個包含陰離子；Rtp₁ ～Rtp₁₁ 、Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 的任一者具有與所述重複單元A的鍵結部位。
如申請專利範圍第1項所述的著色組成物，其中所述聚合物TP的重量平均分子量為5,000以上、500,000以下。
如申請專利範圍第2項所述的著色組成物，其進而包括具有三芳基甲烷結構的重量平均分子量未滿5000的化合物A，相對於所述聚合物TP與所述化合物A的合計100質量份，所述化合物A的含量為20質量份以下。
如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的著色組成物，其中所述重複單元B所具有的酸基為羧基。
如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的著色組成物，其中所述X自具有作為氟陰離子、氯陰離子、溴陰離子、碘陰離子、氰化物離子、過氯酸根陰離子、硼酸鹽陰離子、PF₆ ^- 及SbF₆ ^- 的陰離子，以及選自-SO₃ ^- 、-COO^- 、-PO₄ ^- 、由下述通式（A1）所表示的結構及由下述通式（A2）所表示的結構中的至少一種結構的化合物中選擇；通式（A1）通式（A1）中，R¹ 及R² 分別獨立地表示-SO₂ -或-CO-；通式（A2）通式（A2）中，R³ 表示-SO₂ -或-CO-；R⁴ 及R⁵ 分別獨立地表示-SO₂ -、-CO-或-CN。
如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的著色組成物，其中所述X為含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子、三(磺醯基)甲基化物陰離子或磺酸根陰離子的化合物。
如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的著色組成物，其中通式（TP1）及通式（TP2）中，Rtp₁ ～Rtp₁₁ 、Rtp₇₁ 及Rtp₇₂ 的至少一個經通式（P）取代；通式（P）通式（P）中，L表示單鍵或二價的連結基；X¹ 為選自-SO₃ ^- 、-COO^- 、-PO₄ ^- 、含有由下述通式（A1）所表示的結構的基及含有由下述通式（A2）所表示的結構的基中的至少一種；通式（A1）通式（A1）中，R¹ 及R² 分別獨立地表示-SO₂ -或-CO-；通式（A2）通式（A2）中，R³ 表示-SO₂ -或-CO-；R⁴ 及R⁵ 分別獨立地表示-SO₂ -、-CO-或-CN。
如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的著色組成物，其中所述重複單元A所具有的三芳基甲烷結構由下述通式（TP3）表示；通式（TP3）中，Rtp₂₁ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；Rtp₂₂ 分別獨立地表示碳數6～10的芳基；Rtp₇₁ 表示烷基或芳基；X表示陰離子，或者不存在X且Rtp₂₁ 、Rtp₂₂ 及Rtp₇₁ 的至少一個包含陰離子；Rtp₂₁ 、Rtp₂₂ 及Rtp₇₁ 的任一者具有與所述重複單元A的鍵結部位。
如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的著色組成物，其中所述重複單元A由下述通式（TP3-1）表示；通式（TP3-1）中，Rtp₂₁ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；Rtp₂₂ 分別獨立地表示碳數6～10的芳基；Rtp_71a 表示伸烷基或伸芳基；L₁ 表示單鍵或二價的連結基；Rtp₃₁ 表示氫原子或甲基；X表示陰離子，或者不存在X且Rtp₂₁ 及Rtp₂₂ 的至少一個包含陰離子。
如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的著色組成物，其中所述重複單元A由下述通式（TP3-2）表示；通式（TP3-2）中，Rtp₂₁ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；Rtp₂₄ 分別獨立地表示碳數1～4的烷基；Rtp₂₅ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～3的烷基；Rtp_71a 表示伸烷基或伸芳基；Rtp₃₁ 表示氫原子或甲基；L₁ 表示單鍵或二價的連結基；X表示陰離子，或者不存在X且Rtp₂₁ 、Rtp₂₄ 及Rtp₂₅ 的至少一個包含陰離子。
如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的著色組成物，其中所述重複單元A由下述通式（TP3-3）表示；通式（TP3-3）中，Rtp₂₁ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；Rtp₂₄ 分別獨立地表示碳數1～4的烷基；Rtp₂₅ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～3的烷基；Rtp₃₁ 表示氫原子或甲基；X表示陰離子。
如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的著色組成物，其中所述重複單元B由下述通式（B-1）表示；通式（B-1）中，R^B 表示氫原子或甲基。
如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的著色組成物，其進而包括選自呫噸化合物、二吡咯亞甲基系金屬錯化合物、二噁嗪化合物及酞菁化合物中的至少一種。
如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的著色組成物，其中所述聚合物TP為由下述通式（TP-7）所表示的聚合物；通式（TP-7）中，R¹ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；R⁴ 表示氫原子或甲基；R^1a 表示伸烷基或伸芳基；L¹¹ 表示單鍵、或碳數1～30的二價的連結基；X表示含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子、三(磺醯基)甲基化物陰離子或磺酸根陰離子的化合物；a及b為重複單元的質量比，且a表示40～88，b表示12～60，a+b表示100。
如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的著色組成物，其中所述聚合物TP為由下述通式（TP-8）所表示的聚合物；通式（TP-8）中，R¹ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；R⁴ 表示氫原子或甲基；X表示含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子、三(磺醯基)甲基化物陰離子或磺酸根陰離子的化合物；a及b為重複單元的質量比，且a表示40～88，b表示12～60，a+b表示100。
如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的著色組成物，其中所述聚合物TP含有雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺陰離子。
如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的著色組成物，其進而包括雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺鹽。
如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的著色組成物，其進而包括交聯劑。
如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的著色組成物，其用於形成彩色濾光片的著色層。
一種硬化膜，其是使如申請專利範圍第1項至第19項中任一項所述的著色組成物硬化而成。
一種彩色濾光片，其包括如申請專利範圍第20項所述的硬化膜。
一種彩色濾光片的製造方法，其包括：使用如申請專利範圍第1項至第19項中任一項所述的著色組成物而於基材上形成著色組成物層的步驟；以及藉由光微影法或乾式蝕刻法，於組成物層上形成圖案的步驟。
一種固體攝影元件，其包括如申請專利範圍第21項所述的彩色濾光片。
一種影像顯示裝置，其包括如申請專利範圍第21項所述的彩色濾光片。
一種聚合物，其由下述通式（TP-7）表示；通式（TP-7）中，R¹ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；R⁴ 表示氫原子或甲基；R^1a 表示伸烷基或伸芳基；L¹¹ 表示單鍵、或碳數1～30的二價的連結基；X表示含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子、三(磺醯基)甲基化物陰離子或磺酸根陰離子的化合物；a及b為重複單元的質量比，且a表示40～88，b表示12～60，a+b表示100。
如申請專利範圍第25項所述的聚合物，其中由所述通式（TP-7）所表示的聚合物為由下述通式（TP-8）所表示的聚合物；通式（TP-8）中，R¹ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基；R⁴ 表示氫原子或甲基；X表示含有雙(磺醯基)醯亞胺陰離子、三(磺醯基)甲基化物陰離子或磺酸根陰離子的化合物；a及b為重複單元的質量比，且a表示40～88，b表示12～60，a+b表示100。