TW201038457A - Substrate lifting and transferring device and substrate processing and transferring system - Google Patents

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TW201038457A TW99108908A TW99108908A TW201038457A TW 201038457 A TW201038457 A TW 201038457A TW 99108908 A TW99108908 A TW 99108908A TW 99108908 A TW99108908 A TW 99108908A TW 201038457 A TW201038457 A TW 201038457A
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Maretoo Ishibashi
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201038457 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明,是有關於清淨搬運(Clean Material Handling )等的領域所使用的基板昇降移送裝置及基板處 理移送系統。 【先前技術】 0 在清淨搬運的領域,有使用在被配設在下階樓層的第 1基板處理裝置及被配設在上階樓層的第2基板處理裝置 之間,進行玻璃基板等的基板的昇降移送的基板昇降移送 裝置。一般的基板昇降移送裝置的結構等,是如以下者。 即,在第1基板處理裝置的附近,設有朝上下方向延 伸的昇降導引,在此昇降導引中,將基板支撐的昇降載置 台是可昇降地被設置。且,在昇降導引的適宜位置中’設 有將昇降載置台昇降的昇降用馬達。在此,昇降載置台, 〇 是在對應第1基板處理裝置的高度,對於第1基板處理裝 置可將基板拉出及送出。且,昇降載置台,是在對應第2 基板處理裝置的高度,對於第2基板處理裝置可將基板拉 出及送出。 因此,藉由昇降用馬達的驅動使昇降體下降,使昇降 體位於對應第1基板處理裝置的高度。接著,基板是從第 1基板處理裝置朝昇降載置台被拉出。且,藉由昇降用馬 達的驅動使昇降體上昇,使昇降體位於對應第2基板處理 裝置的高度。進一步,使基板從昇降載置台朝第2基板處 -5- 201038457 理裝置被送出。 如此,進行從第1基板處理裝置朝第2基板處理裝置 的基板的昇降移送。且,藉由使基板昇降移送裝置進行前 述動作的相反的動作,進行從前述第2基板處理裝置朝前 述第1基板處理裝置的基板的昇降移送。 又,關連於本發明的先行技術,是如下述專利文獻1 [先行技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本特開平1 -3 1 8247號公報 【發明內容】 (本發明所欲解決的課題) 但是,在上述的一般的基板昇降移送裝置中,將基板 支撐的昇降載置台因爲是可昇降地被設置在昇降導引,所 以成爲將基板保持呈倒伏(水平)姿勢的方式進行昇降。 因此,基板昇降移送裝置的占有平面積(設置平面積)是 成爲需要至少基板一枚分的平面積以上。因此,基板昇降 移送裝置的占有平面積增大,工場內空間的有效利用是有 困難。特別是,近年來,基板的大型化急速進行,此問題 更顯著。 在此,本發明的目的是提供一種新穎構成的基板昇降 移送裝置及基板處理移送系統,可以解決前述的問題。 -6 - 201038457 (用以解決課題的手段) 本發明的基板昇降移送裝置,是一種基板昇降移送裝 置,是在:被配設在下階供進行對於基板的處理的第1基 板處理裝置、及被配設在上階供進行對於在與基板的處理 的第2基板處理裝置之間,進行基板的昇降移送,其特徵 爲,具備:第1姿勢切換構件,在前述第1基板處理裝置 的一側朝水平的軸心周圍可擺動地被設置,具備將基板保 Q 持用的第1姿勢切換用保持具,將基板的姿勢切換至倒伏 姿勢及立起姿勢;及第1姿勢切換用致動器,供將前述第 1姿勢切換構件擺動用;及第2姿勢切換構件,在前述第 2基板處理裝置的一側朝水平的軸心周圍可擺動地被設置 ,具備將基板保持的第2姿勢切換用保持具,將基板的姿 勢切換至倒伏姿勢及立起姿勢;及第2姿勢切換用致動器 ,供將前述第2姿勢切換構件擺動用;及環形狀構件,朝 上下方向延伸且可循環行走地被設置在被立設於前述第1 〇 姿勢切換構件的一側的支撐框架;及行走用致動器,使前 述環形狀構件循環行走;及複數昇降用保持具,在周方向 隔有間隔被設置在前述環形狀構件,保持立起姿勢的基板 〇 又’在此’ 「設置」,是指直接地設置的情況以外, 也包含透過介在構件間接地設置的情況。同樣地,「配設 」,是指直接地設置的情況以外,也包含透過介在構件間 接地設置的情況。且,「基板的處理」,是包含基板的搬 運處理、基板的程序處理、基板的保管處理等,在程序處 201038457 理中包含蝕刻處理、CVD處理、PVD處理等。 依據本發明的基板昇降移送裝置,位於前述第1基板 處理裝置的預定位置的基板,是藉由前述第1姿勢切換用 保持具被保持。接著,使前述第1姿勢切換用致動器被驅 動使前述第1姿勢切換構件被擺動,使基板的姿勢從倒伏 姿勢朝立起姿勢切換。且,立起姿勢的基板,是藉由位於 對應前述第1基板處理裝置的高度的前述昇降用保持具被 保持,使由前述第1姿勢切換用保持具所産生的保持狀態 被解除。進一步,使前述行走致動器被驅動使前述環形狀 構件朝一方向循環行走,保持在立起姿勢且使基板上昇。 前述的動作是藉由被反覆進行,使複數基板從前述第1基 板處理裝置朝前述基板昇降移送裝置被送出。 將基板保持的前述昇降用保持具是位於對應前述第2 基板處理裝置的高度之後,藉由前述第2姿勢切換用保持 具使基板被保持,使由前述昇降用保持具所産生的保持狀 態被解除。且,將前述第2姿勢切換用致動器驅動使前述 第2姿勢切換構件被擺動,從立起姿勢朝倒伏姿勢切換基 板的姿勢,使由前述第2姿勢切換用保持具所産生的保持 狀態被解除。前述的動作是藉由被反覆進行,使複數基板 從前述基板昇降移送裝置朝前述第2基板處理裝置被送出 〇 如此,進行從前述第1基板處理裝置朝前述第2基板 處理裝置的基板的昇降移送。且,進行藉由前述動作的相 反的動作,進行從前述第2基板處理裝置朝前述第1基板 -8- 201038457 處理裝置的基板的昇降移送。 總而言之,在本發明中’因爲具有前述第1姿勢切換 用保持具的前述第1姿勢切換構件,是朝水平的軸心周圍 可擺動地設在前述第1基板處理裝置的—側;具有前述第 2姿勢切換用保持具的前述第2姿勢切換構件,是朝水平 的軸心周圍可擺動地設在前述第2基板處理裝置的一側; 複數前述昇降用保持具,是在周方向隔有間隔被設置在前 0 述環形狀構件,所以如上述,可以將立起姿勢保持且將基 板昇降,可以將前述基板昇降移送裝置的占有平面積抑制 在基板一枚分的平面積未滿。 且,因爲朝上下方向延伸的前述環形狀構件,是可循 環行走地設在前述支撐框架;複數前述昇降用保持具,是 在周方向隔有間隔被設置在前述環形狀構件,所以可以從 前述第1基板處理裝置朝前述第2基板處理裝置,或是從 前述第2基板處理裝置朝前述第1基板處理裝置,將複數 Q 基板連續地昇降移送。 本發明的基板昇降移送裝置,是進行對於基板的處理 及基板的昇降移送,具備:被配設在下階,進行對於基板 的處理的第1基板處理裝置;及被配設在上階,進行對於 基板的處理的第2基板處理裝置;及在前述第1基板處理 裝置及前述第2基板處理裝置之間進行基板的昇降移送的 上述基板昇降移送裝置。 依據本發明的基板昇降移送裝置,就可達成與由上述 基板昇降移送裝置所産生的作用同樣的作用。 -9- 201038457 [發明的效果] 依據本發明,可以將前述基板昇降移送裝置的占有平 面積抑制在基板一枚分的平面積未滿,可以將前述基板昇 降移送裝置的占有平面積充分地削減,可以達成工場內空 間的有效利用。 且,因爲可以從前述第1基板處理裝置朝前述第2基 板處理裝置,或是從前述第2基板處理裝置朝前述第2基 板處理裝置,將複數基板連續地昇降移送,所以基板的昇 降移送的周期時間(節拍時間(tact time ))可以縮短, 可以提高有關於基板的一連的作業能率。 【實施方式】 一邊參照第1圖〜第7圖一邊說明本發明的一實施例 。又’圖面中,「FF」是前方向,「FR」是後方向,「L 」是左方向,「R」是指示右方向。 如第1圖所示,本實施例的基板處理移送系統1,是 進行對於玻璃基板等的基板W的搬運處理(基板的處理 )及昇降移送的系統。且,基板處理移送系統1,是具備 :被配設在下階樓層LF,進行基板W的搬運處理的第1 基板搬運處理裝置(第1基板處理裝置)3:及被配設在 上階樓層UF’對於基板W進行搬運處理的第2基板搬運 處理裝置(第2基板處理裝置)5;及在第1基板搬運處 理裝置3及第2基板搬運處理裝置5之間進行基板%的 昇降移送的基板昇降移送裝置7。 -10- 201038457 說明第1基板搬運處理裝置3的結構。 如第1圖所示,在下階樓層LF中,設有第1處理裝 置本體9。第1處理裝置本體9,是構成第1基板搬運處 理裝置3的基座。且,如第4圖所示,在第1處理裝置本 體9中,設有藉由空氣的壓力將基板W浮上用的複數第1 浮上組件1 1。在各第1浮上組件1 1的上面,形成有將空 氣噴出的框狀的噴嘴lln。各噴嘴lln,是如日本國日本 0 特開2006- 1 825 63號公報所示,對於鉛直方向朝組件中心 側傾斜的方式構成。 又,可取代框狀的噴嘴lln,使複數圓孔狀的噴嘴形 成於各第1浮上組件11的上面也可以。 在第1處理裝置本體9中,朝搬運方向(左右方向) 延伸的一對的第1滾子支撐構件13,是在搬運寬度方向 (前後方向)隔離地被設置。在各第1滾子支撐構件13 中,將基板W可搬運地支撐的複數第1搬運滾子15,是 〇 在搬運方向隔有間隔地被設置。各第1搬運滾子15,是 朝水平的軸心周圍可旋轉。且,在各第1滾子支撐構件 13的適宜位置中,各別設有將複數第1搬運滾子15旋轉 的第1搬運用馬達17。各第1搬運用馬達17的輸出軸( 圖不省略),是透過由蝸輪及滾輪(worm screw and worm gear wheel )等所構成的連動機構(圖示省略),與 複數第1搬運滾子15的旋轉軸(圖示省略)連動連結。 說明第2基板搬運處理裝置5的結構。 如第1圖所示,在上階樓層UF中,設有第2處理裝 -11 - 201038457 置本體19。第2處理裝置本體19,是構成第2基板 處理裝置5的基座。且,如第5圖所示,在第2處理 本體19中’設有藉由空氣的壓力將基板…浮上的複 2浮上組件21。在各第2浮上組件21的上面,與第 i:'組件1 1同樣地,形成有將空氣噴出的框狀的噴嘴 〇 在第2處理裝置本體19中,朝搬運方向延伸的 的第2滾子支撐構件23,是在搬運寬度方向隔離地 置。在各第2滾子支撐構件23中,將基板W可搬運 撐的複數第2搬運滾子25,是在搬運方向隔有間隔 設置。各第2搬運滾子25,是朝水平的軸心周圍可 。且’在各第2滾子支撐構件23的適宜位置中,各 有將複數第2搬運滾子25旋轉的第2搬運用馬達27 第2搬運用馬達27的輸出軸(圖示省略),是透過 輪及滾輪等所構成的連動機構(圖示省略),與複數 搬運滾子25的旋轉軸(圖示省略)連動連結。 說明基板昇降移送裝置7的具體的構成。 如第1圖所示,在第1基板搬運處理裝置3的第 理裝置本體9的左側附近中,設有將基板W的姿勢 至立起(垂直)姿勢(第1圖中假想線所示的姿勢) 伏(水平)姿勢(第1圖中實線所示的姿勢)的第1 切換構件29。第1姿勢切換構件29,是透過一對的 3 1朝水平的軸心周圍可擺動(可轉動)。且’如第 所示,第丨姿勢切換構件29,是具備:第1擺動軸 搬運 裝置 數第 1浮 2 1η 一對 被設 地支 地被 旋轉 別設 。各 由蝸 第2 1處 切換 及倒 姿勢 托架 4圖 33、 -12- 201038457 及平行地延伸的一對的第1擺動臂35、及將基板w的背 面吸著的複數第1姿勢切換用吸著墊片(第1姿勢切換用 保持具)37。第1擺動軸33,是在第1處理裝置本體9 的左側附近透過一對的托架31可旋轉地被設置。一對的 第1擺動臂35,是與第1擺動軸33的外周面一體地形成 。複數第1姿勢切換用吸著墊片37,是在長度方向隔有 間隔被設置在各第1擺動臂3 5。 0 且,在一方的托架31中,設有將第1姿勢切換構件 29擺動的第1姿勢切換用馬達(第1姿勢切換用致動器 )39。第1姿勢切換用馬達39的輸出軸(圖示省略), 是透過聯接器(接頭、圖示省略)等,與第1擺動軸33 連動連結。在此,第1姿勢切換構件29即使擺動。一對 的第1擺動臂35也不會與第1浮上組件11干渉。 又,可取代第1擺動臂35上的第1姿勢切換用吸著 墊片37,第1姿勢切換用保持具,是設有:將基板W的 Ο 背面由非接觸保持的第1姿勢切換用柏努利挾盤( Bernoulli chuck)(圖示省略)、和將基板W的端部把持 (保持)的第1姿勢切換用夾具(圖示省略)也可以。 如第1圖及第3圖所示,在第2基板搬運處理裝置5 的第2處理裝置本體19的左側附近中,設有將基板w的 姿勢切換至立起姿勢(第3圖前假想線所示的姿勢)及倒 伏姿勢(第3圖中實線所示的姿勢)的第2姿勢切換構件 41。第2姿勢切換構件41,是透過一對的托架43朝水平 的軸心周圍可擺動(可轉動)。且,如第5圖所示,第2 -13- 201038457 姿勢切換構件41,是具備:第2擺動軸45、及平行地延 伸的一對的第2擺動臂47、及將基板W的背面吸著的複 數第2姿勢切換用吸著墊片(第2姿勢切換用保持具)49 。第2擺動軸45,是透過一對的托架43可旋轉地被設置 在第2處理裝置本體19的左側附近。一對的第2擺動臂 47,是在第2擺動軸45的外周面一體形成。複數第2姿 勢切換用吸著墊片49,是在長度方向隔有間隔被設置在 各第2擺動臂47。 且,在一方的托架43中,設有將第2姿勢切換構件 41擺動的第2姿勢切換用馬達(第2姿勢切換用致動器 )51。第2姿勢切換用馬達51的輸出軸(圖示省略), 是透過聯接器(圖示省略)等,與第2擺動軸45連動連 結。在此,第2姿勢切換構件41即使擺動,一對的第2 擺動臂47也不會與第2浮上組件21干渉。 又,可取代第2擺動臂47上的第2姿勢切換用吸著 墊片49’第2姿勢切換用保持具,是設有:將基板W的 背面由非接觸保持的第2姿勢切換用柏努利挾盤(圖示省 略)、和將基板W的端部把持(保持)的第2姿勢切換 用夾具(圖示省略)也可以。 如箄丨圖、第4圖及第5圖所示,在第1姿勢切換構 件2 9的左側附近,立設有朝上下方向延伸的一對的支撐 框架53。一對的支撐框架53,是前後遠離地位置,且’ 與一體的連結。在各支撐框架53的上部中,上部帶輪或 是上部鏈輪等的一對的上部旋轉車55,是透過共通的上 -14- 201038457 部旋轉軸57可旋轉地被設置。且,在各支撐框架53的下 部中’下部帶輪或是下部鏈輪等的一對的下部旋轉車59 ,是透過共通的下部旋轉軸61可旋轉地被設置。 進一步,朝上下方向延伸的可循環行走的環形皮帶或 是環形鏈條等的環形狀構件63,是從對應關係中的上部 旋轉車55橫跨下部旋轉車59捲繞。換言之,一對的環形 狀構件63’是透過上部旋轉車55及下部旋轉車59,在一 0 對的支撐框架5 3之間可循環行走地被設置。且,將一對 的環形狀構件63循環行走的行走用馬達(行走用致動器 )65,是設在一方的支撐框架53的上部的適宜位置。行 走用馬達65的輸出軸(圖示省略),是透過聯接器(圖 示省略),與上部旋轉軸57連動連結。 如第1圖、第6圖及第7圖所示,朝前後方向延伸的 複數連結桿67,是將一對的環形狀構件63連結的方式, 在環形狀構件63的周方向隔有間隔被設置。在各連結桿 〇 67的兩端部中,設有將立起姿勢的基板W的端部把持的 昇降用夾具(昇降用保持具)69。即,複數昇降用夾具 69,是透過複數連結桿67 ’在周方向隔有間隔地設有一 對的環形狀構件63。 各昇降用夾具69’是具備:夾具本體71、及固定挾 持爪73、及可動挾持爪77、及作動操作桿79、及彈簧81 。夾具本體71,是設在連結桿67。固定挾持爪73,是與 夾具本體71 —體設置(形成)。可動挾持爪77,是設在 夾具本體71’透過挾持銷75朝挾持方向/鬆開方向可擺動 -15- 201038457 (轉動)。且,可動挾持爪77,是與固定挾持爪73協動 將基板W的端部把持。作動操作桿79,是與可動挾持爪 77的基部一體設置。彈簧8 1,是位於連結桿67及作動操 作桿79之間的方式,設在夾具本體71。且,彈簧81,是 將可動挾持爪77朝挾持方向推迫。 第1鬆開用氣壓缸(第1鬆開用致動器)83,是透過 上部安裝臂85,設在各支撐框架53的下部的適宜位置。 第1鬆開用氣壓缸8 3,是將位於對應第1基板搬運處理 裝置3的高度的昇降用夾具69的作動操作桿79推壓,抵 抗彈簧81的推迫力將可動挾持爪77朝鬆開方向擺動(移 動)。同樣地,第2鬆開用氣壓缸(第2鬆開用致動器) 87,是透過下部安裝臂89,設在各支撐框架53的上部的 適宜位置。第2鬆開用氣壓缸87,是將位於對應第2基 板搬運處理裝置5的高度的昇降用夾具69的作動操作桿 79推壓,抵抗彈簧81的推迫力將可動挾持爪77朝鬆開 方向擺動。 又,可取代昇降用夾具69透過連結桿67設於一對的 環形狀構件63,其他的昇降用保持具,是使將基板W的 表面吸著的昇降用吸著墊片(圖示省略)透過連結桿67 等設置也可以。 接著,說明本實施例的作用及效果。 藉由從複數第1浮上組件11的噴嘴lln將空氣噴出 ,且將一對的第1搬運用馬達17驅動將複數第1搬運滾 子15旋轉,將基板W朝左方向浮上搬運,使基板W位在 -16- 201038457 待機的一對的第1擺動臂35的上側(第1基板搬運處理 裝置3的預定位置)(第4圖參照)。 將基板W位在待機的一對的第1擺動臂3 5的上側之 後,由複數第1姿勢切換用吸著墊片37將基板W的背面 吸著。且,如第1圖所示’將第1鬆開用氣壓缸83驅動 將位於對應第1基板搬運處理裝置3的高度的昇降用夾具 69的可動挾持爪77抵抗彈簧81的推迫力朝鬆開方向擺 0 動(第7圖參照)。接著’如第1圖所示’將第1姿勢切 換用馬達39驅動將第1姿勢切換構件29擺動’將基板W 的姿勢從倒伏姿勢朝立起姿勢切換。 且,停止各第1鬆開用氣壓缸83的驅動將立起姿勢 的基板W的端部由昇降用夾具69把持,將由複數第1姿 勢切換用吸著墊片37所産生的吸著狀態解除。進一步’ 如第2圖所示,將行走用馬達65驅動使環形狀構件63朝 一方向循環行走,將立起姿勢保持且將基板W上昇。藉 〇 由反覆進行前述的動作,可以將複數基板W從第1基板 搬運處理裝置3朝基板昇降移送裝置7依序送出。 如第3圖所示,將基板W的端部把持的昇降用夾具 69是上昇直到對應第2基板搬運處理裝置5的高度爲止 的話,停止環形狀構件63的循環行走。接著,由複數第 2姿勢切換用吸著墊片49將基板W的背面吸著。將各第 2鬆開用氣壓缸87驅動將位於對應第2基板搬運處理裝 置5的高度的昇降用夾具69的可動挾持爪77抵抗彈簧 81的推迫力朝鬆開方向擺動,將由昇降用夾具69所産生 -17- 201038457 的把持狀態解除(第7圖參照)。 且,如第3圖所示,將第2姿勢切換用馬達5 1驅動 將第2姿勢切換構件41擺動使基板W的姿勢從立起姿勢 朝倒伏姿勢切換,將由複數第2姿勢切換用吸著墊片49 所産生的吸著狀態解除。藉由反覆進行前述的動作,可以 將複數基板W從基板昇降移送裝置7朝第2基板搬運處 理裝置5依序送出。 解除由複數第2姿勢切換用吸著墊片49所産生的吸 著狀態之後,從複數第2浮上組件21的噴嘴2 1 η將空氣 噴出,且藉由將一對的第2搬運用馬達27驅動將複數第 2搬運滾子25旋轉使基板W朝右方向浮上搬運,使基板 W位在第2基板搬運處理裝置5的預定置位置(第5圖參 照)。 如以上說明,由第1基板搬運處理裝置3所産生的基 板W的搬運處理、及從第1基板搬運處理裝置3朝第2 基板搬運處理裝置5的基板W的昇降移送、及由第2基 板搬運處理裝置5所産生的基板W的搬運處理,可以依 序地進行。且’藉由前述動作的相反的動作,由第2基板 搬運處理裝置5所産生的基板W的搬運處理、及從第2 基板搬運處理裝置5朝第1基板搬運處理裝置3的基板W 的昇降移送、及由第1基板搬運處理裝置3將所産生的基 板W的搬運處理可以依序進行。 總而言之,在本實施例中,因爲:i)具有複數第1 姿勢切換用吸著墊片37的第1姿勢切換構件29,是朝水 -18- 201038457 平的軸心周圍可擺動地設在第1基板搬運處理裝置 側附近,Π )具有複數第2姿勢切換用吸著墊片49 姿勢切換構件41,是朝水平的軸心周圍可擺動地設 基板搬運處理裝置5的左側附近’ Hi)複數昇降 69,是在周方向隔有間隔被設置在一對的環形狀釋 ,所以如上述,可以將立起姿勢保持且將基板W 可以將基板昇降移送裝置7的占有平面積抑制在^ 0 —枚分的平面積未滿。 且,在本實施例中,因爲:iV)朝上下方向延 對的環形狀構件6 3,是可循環行走地設在一對的 架53,v)複數昇降用夾具69,是在周方向隔有間 置在一對的環形狀構件6 3,所以可以從第1基板 理裝置3朝第2基板搬運處理裝置5,或是從第2 運處理裝置5朝第1基板搬運處理裝置3,將複數 連續地昇降移送。 〇 因此,因爲可以將基板昇降移送裝置7的占有 抑制在基板W —枚分的平面積未滿,所以可以將 降移送裝置7的占有平面積充分地削減,可以達成 空間的有效利用。 且,因爲從第1基板搬運處理裝置3朝第2基 處理裝置5,或是從第2基板搬運處理裝置5朝第 搬運處理裝置3將複數基板w連續地昇降移送, 板W的昇降移送的周期時間可以縮短,可以提高 基板W的一連的作業能率。 3的左 的第2 在第2 用夾具 I件63 昇降, 塞板 W 伸的一 支撐框 隔被設 搬運處 基板搬 基板W 平面積 基板昇 工場內 板搬運 1基板 所以基 有關於 -19- 201038457 進一步,下階樓層LF及上階樓層UF的高度間隔大 的情況時,可以增加昇降用夾具69的個數,作爲保管多 數的基板W的裝置可以利用基板昇降移送裝置7。 又,本發明不限定前述的實施例的說明,可由各種態 樣實施。且,本發明所包含的權利範圍不限定於這些的實 施例。 【圖式簡單說明】 [第1圖]顯示本發明的基板處理移送系統的實施例的 側剖面圖。 [第2圖]顯示前述基板處理移送系統的動作的側剖面 圖。 [第3圖]顯示前述基板處理移送系統的動作的側剖面 圖。 [第4圖]第1圖中的沿著IV -1V線的平剖面圖。 [第5圖]第1圖中的沿著V-V線的平剖面圖。 [第6圖]昇降用夾具周邊的立體圖。 [第7圖]顯示昇降用夾具的鬆開動作的側剖面圖。 【主要元件符號說明】 LF :下階樓層 UF :上階樓層 W :基板 1 :基板處理移送系統 -20- 201038457 3:第1基板搬運處理裝置 5:第2基板搬運處理裝置 7:基板昇降移送裝置 1 1 :第1浮上組件 1 5 :第1搬運滾子 1 7 :第1搬運用馬達 21 :第2浮上組件 0 25:第2搬運滾子 27 :第2搬運用馬達 29 :第1姿勢切換構件 33 :第1擺動軸 3 5 :第1擺動臂 37:第1姿勢切換用吸著墊片 39:第1姿勢切換用馬達 41:第2姿勢切換構件 Q 45 :第2擺動軸 47 :第2擺動臂 49:第2姿勢切換用吸著墊片 51:第2姿勢切換用馬達 5 3 :支撐框架 5 5 :上部旋轉車 59 :下部旋轉車 63 :環形(無端)狀構件 65 :行走用馬達 -21 - 201038457 67 :連結桿 69 :昇降用夾具 71 :夾具本體 73 :固定挾持爪 77 :可動挾持爪 79 :作動操作桿 8 1 :彈簧 8 3 :第1鬆開用氣壓缸 87 :第2鬆開用氣壓缸 -22 -

Claims (1)

  1. 201038457 七、申請專利範圍: 1. 一種基板昇降移送裝置,是在:被配設在下階供進 行對於基板的處理的第1基板處理裝置、及被配設在上階 供進行對於基板的處理的第2基板處理裝置之間,進行基 板的昇降移送,其特徵爲,具備: 第1姿勢切換構件,在前述第1基板處理裝置的一側 朝水平的軸心周圍可擺動地被設置,具備將基板保持用的 〇 第1姿勢切換用保持具,將基板的姿勢切換至倒伏姿勢及 立起姿勢;及 第1姿勢切換用致動器,供將前述第1姿勢切換構件 擺動用;及 第2姿勢切換構件,在前述第2基板處理裝置的一側 朝水平的軸心周圍可擺動地被設置,具備將基板保持的第 2姿勢切換用保持具,將基板的姿勢切換至倒伏姿勢及立 起姿勢;及 〇 第2姿勢切換用致動器,供將前述第2姿勢切換構件 擺動用;及 環形狀構件,朝上下方向延伸且可循環行走地被設置 在被立設於前述第1姿勢切換構件的一側的支撐框架;及 行走用致動器,使前述環形狀構件循環行走;及 複數昇降用保持具,在周方向隔有間隔被設置在前述 環形狀構件,保持立起姿勢的基板。 2. 如申請專利範圍第1項的基板昇降移送裝置,其中 ’各昇降用保持具’是具備一對的挾持爪,由該挾持爪將 -23- 201038457 基板的端部把持的昇降用夾具,進一步具備: 第1鬆開用致動器,將位於對應前述第1基板處理裝 置的高度的前述昇降用夾具的至少一方的前述挾持爪朝鬆 開方向移動;及 第2鬆開用致動器,將位於對應前述第2基板處理裝 置的高度的前述昇降用夾具的至少一方的前述挾持爪朝鬆 開方向移動。 3. —種基板處理移送系統,是進行對於基板的處理及 基板的昇降移送,其特徵爲,具備: 第〗基板處理裝置,被配設在下階,進行對於基板的 處理;及 第2基板處理裝置,被配設在上階,進行對於基板的 處理;及 如申請專利範圍第1或2項的基板昇降移送裝置,在 前述第1基板處理裝置及前述第2基板處理裝置之間進行 基板的昇降移送。 -24-
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