TW200832372A - Process for producing magnetic recording medium and magnetic recording and reproducing device - Google Patents

Description

200832372 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種用於硬碟等裝置内之磁性記錄媒體的製 方法以及磁性記錄再生裝置。 "° 本申請案根據2006年8月1日在日本提出申請的特願 2006-209643號專利主張優先權，並在此援用其内容。… 【先前技術】 近年來，磁性碟片裝置等磁性記錄裝置的適用範圍明顯增 大，隨其重要性增加，吾人亦同時期望用於該等裝置内的磁&記 錄媒體其記錄密度顯著提咼。特別是，磁阻式讀寫頭 resistive head ; MR head)以及部份反應最大可能性（particle response maximum likelihood ; PRML)技術導入以來，平面記錄密 度更急劇上昇增加，近年來更亦導入巨磁阻讀寫頭（giant magnetoresistive head ; GMR head )、穿遂磁阻讀寫頭（___ magnetoresistive head ; TMR head)等，使平面記錄密度1年約 1〇〇%的速度持續增加。 千、、、g 對該等磁性記錄媒體，今後將更進一步要求達到高記錄密 度、磁性記錄層的高保磁力化與高信對雜訊比（signalt〇n〇ise • rati〇 ;驗）、高解析度。另外，近年來以提高線記錄密度與同時 增加，執密度來使平面記錄密度上昇的努力也持續進行中。 最新的磁性記錄裴置其磁軌密度可達每英寸磁軌數（tracks perinch ； TPI)^〇k^^ 〇 , 間的磁性5己錄資訊會互相干涉，進而容易產生該境界區域之磁化， 遷移，域變成雜訊來源而減損3>^的問題。由於該問題直接與位， 兀錯誤率（biterrormte ; BER)的降低有關聯，故會妨害記錄密 度提高。 -為了使平面記錄密度上昇，必須使磁性記錄媒體上之各記錄 位兀的大小更微細，並確保各記錄位元儘可能具有最大飽和磁化 200832372 ，度與磁性膜層厚度。然而，隨著記錄位元微細化，每丨位元的 ，小磁化體積會變小，且歸動所造磁化逆轉會使記錄 消失。 又，f磁轨抢度提高時磁軌間距離會縮近，故在磁性記錄裝 置使用極高精密度之循執伺服技術的同時，為了 來^ ===響，-般皆採用使再生讀寫頭幅寬比記錄 見更狹的方法。该方法雖能將相鄰磁軌的影響抑制到最小，但相 反的士很巧得足夠的再生輸出，@此_確保足夠的SNR。 〇人旨減在圯錄媒體表面上形成沿著磁軌的凹凸部並物理性 ΐΐίΐίΓ!1使磁軌密度提高’作為因應該等熱擾動問題或確 祕i之NR與輸出的方法之一。以下這種技術被稱為「離 ϋ軌」’以該方法製造的磁性記錄媒體被稱為「離散式磁軌 性美二ίίΐΐί*磁轨媒體’其在表面上形成了凹凸圖案的非磁 ^ 土板上形成磁性§己錄媒體，並形成已物理性 軌以及飼服信號圖案(參照例如專利文獻υ。離之‘己錄磁 磁性ίί 的磁性記錄媒體，包含：軟磁性層，其在非 石^板上具有魏凸部與凹部；以及強磁性層，其形成於 錄媒體在凸部區域形成與周圍物理性分斷開 車乂不易產生熱祕的影響，且轉健 形成雜訊的高密度雜記錄舰。 幻目干 俨德Ufft法，有形成若干層薄膜所構成之磁性記錄媒 f後巧成雜的枝’以及預絲基板絲上直接或者先在用 =法細凸随後獅柄性記錄媒體薄膜 i多A例如專利文獻2、專利文獻3)。其中，前項方法被箍 施石，故iiil在ΐΐ對表面的物理性加工係在媒體形成後實、 /、且易在衣造步驟中受到污染，且製造步驟非常複雜。 200832372 相對的，後者被稱為壓紋加工法，雖然不易在製造步驟 染，但由於所形成的薄膜會延續基板所形成的凹凸狀，動 執行記錄再生的記錄再生讀寫頭其浮動姿態、= 又，將氮離子或氧離子注入預先形成好的磁性層 磁軌媒體之雜間區域的方法已為人所揭;參 在每1位元按—定規則排瓶置之磁性記錄圖案（即 的製造中，利麟子照射進行蝴或將磁性層 錄圖案的方法已為人所揭示（參照非專 性声該磁，體或圖案化媒體係採用先在基板上形成磁 光阻等，後使用微影技術圖案化該光阻， 再便用"亥光阻圖案圖案化磁性層的方法。 材斜用旋轉塗布法作為在磁性記錄光碟1塗布液體 材料的方法（參照例如專利文獻6)。 [專利文獻1]特開2004_164692號公報 [專利文獻2]特開2004-178793號公報 [專利文獻3]特開2004-178794號公報 [專利文獻4]特開平5-205257號公報 [專利文獻5]美國專利第6331364號公報 [專利文獻6]特開2004-306032號公報 ΙΕΙγΙΪ專3文f11]信學技報’社®法人電子情報通信學會， 丄亂ETechmcal Report MR2〇〇5_55(2〇〇6_〇2)，21 頁〜％ 頁 【發明内容】 [發明所欲解決的問題] ，而，當吾人使用專利文獻6記載的塗布法在磁記 ^布液體材料時’會有容易產生塗布斑點關題存在I塗布斑 200832372 點會對其後步驟產生不良影燮， ☆ 本發明之目的在於提#1插j為良品率降低的主要原因。

適用於離散六、磁勤拔鱗々/、石性圮錄媒體的製造方法，其可 k用歹、離政式磁軌媒體或圖案化 、生, ^ J 產效率明顯提高。 ’、的衣仏中，亚使良α 口率與生 具備 為解決上述問題，本案發明人專 士 的光，很難被甩開，=ii生ί=:部周邊部位 亦即’本發明提供以下發明。 驟，ϋ種造方法，包含：—磁性層形成步 声，古觸基 形成作為磁性記錄圖案的磁性 層4基板在中央没有開口部，且具 :2資己錄區域與該開口部之間的内圓周區域' 二;阻層幵;成 ::荦开有ΐ磁性層的該非磁性基板上形成光阻層；以及 ，八使用该光阻層形成該磁性記錄圖案，其特徵 驟更包含：—浸潰步驟，其將該非磁性基板的 面更上方的位置’且該資料記錄區域的-部份配置在 下方的位置；以及—取出步驟，其邊以貫通該開口部 、*、主赫磁性基板之厚度方向延伸的旋轉軸為巾心，旋轉 2Ϊ1 液中的該非磁性基板，邊從該光阻溶液中取出該 非磁性基板。 (2) 如(1)所記載之磁性記錄媒體的製造方法，其中，在該浸潰 =中’ if以該旋轉軸為中心旋轉該非磁性基板厂邊將該非磁性 基板的一部份浸潰於該光阻溶液中。 (3) 如(1)或(2)所記載之磁性記錄媒體的製造方法，其中，將 200832372 該非磁性基板從該光阻溶液中取出後，仍繼續 旋轉該非磁性基板。 J疋轉軸為中心 (4)如(3)所記载之磁性記錄媒體的製造方法，1 ΐϊΐϊΐί非磁性基板後，使該非磁性基板的旋轉速i = 該非磁性基板浸潰於該光阻溶液中之時的旋“速度更高。 、 ⑶如(3)或(4)所記載之磁性記錄媒體的製造^法了苴中 巧潰_光阻溶液中之時的該非磁性基板的旋轉速 50轉//刀〜5〇〇轉/分的範圍内，且從該光阻溶液中 Φ ❿ 性基板取出後，使該非磁性基板的旋轉^度上升到5000轉^八 〜6000轉/分的範圍内。 V 轉/刀 JL tt/ )=如(\) (5)其中任1項$載之磁性記錄媒體的製造方法， :中，該非磁性基板的直徑在15mm〜100mm的範圍内，且該非 磁丨生基板從方向上的該資料記錄區域與該開口部之間的距 2mm〜3_的範圍内。 豆⑺如(1)〜⑹其中任丨項記載之磁性記錄媒體的製造方法， 該光阻層形成步财，沿該非磁性基板之厚度方向間隔 配置禝數片該非磁性基板。 (8)如⑺記載之磁性記錄媒體的製造方法，其中，該複數片之 非磁性基板間的距離在12mm以上。 立P) —種磁性記錄再生裝置，包含··磁性記錄媒體；驅動部， /、朝記錄方向驅動該磁性記錄媒體；磁性讀寫頭，其由記錄部與 再生f所構成；磁性讀寫頭驅動機構，其使該磁性讀寫頭相對該 磁^記錄媒體作相對運動；以及記錄再生信號處理機構，、其用來 執行對該磁性讀寫頭的信號輸入與該磁性讀寫頭輸出信號的再 生’其特徵為··該磁性記錄媒體係使用（1)〜⑻其中任1項記載之 磁性記錄媒體的製造方法所製造的。 [對照先前技術之功效] 若依本發明之磁性記錄媒體的製造方法，該光阻層形成步驟 由於具備：一浸潰步驟，其將該非磁性基板的一部份浸潰於該光 9 200832372 使封销D部之周邊配置在比絲溶液之液面更上 =的;;資 ;沿;非，基板的厚度方向二旋 性基板，故不易產生涂布掰戥品处 1Τ ， 因此右依本發明之磁性記錄婵體的掣 品轉造峰散式磁軌媒體或圖 Ξίΐίΐί板旋轉，邊從該光阻溶液中取出該非磁 體等具有高記錄再生特性的磁性記錄媒體 俾本發明之磁性記錄再生裝置具備以本發明之磁性2 =媒體的製造雜所製造_,_舰，故具有高記錄再= 【實施方式】 [第1實施形態] 以下’就本發明實施形態參照圖 限定於以下各實施形_ e。 〈料⑧明並非僅 〒卞 ΐ=ΐ 所 式排列配置的離散式磁軌型磁性記錄媒體為例説明之。、 體，係使用磁性讀寫頭讀寫的記錄媒 體其在非磁性基板31的表面上依序形成軟磁性芦 ^ 32b、由磁性層所構成之磁性記錄圖案％與非磁性;六^曰 置而成的磁性記錄層33a、保護膜層35、潤滑層％。θ又互配 吾人可使用例如圖2所示之非磁性基板31 ^ 使用的非磁性基板3卜圖2係表示使用於圖i所示=二媒 體中的非磁性基板31其-實施例的平面圖。圖2所 板31 ’係中央設有圓形開口部37的圓盤板如、 土 200832372 = 1與開口部37之間的内圓周區域3、位於資料記錄區 4安二於$、έ 1間的外81 域2。關區域3係將磁性記錄媒 的非=基板31的徑向距離為雜讀寫頭幅寬I/2左右的區域。 應 Λ施形態巾，非磁性基板31宜使用例如直徑在15讓〜 4 ikTT /&圍内’且非磁性基板31之直徑方向上的資料記錄區域 範圍m7,間的距離（內圓周區域3的幅寬)在2麵〜3顏

、口、人可使用任何非磁性材料作為非磁性基板31的材質，例如 =A1，主成分之Al«_Mg合金等材料所製成的义合金基板，或 W通碳酸納玻璃、鋁矽玻璃、結晶化玻璃等玻璃類，或矽、鈦、 各種樹脂等。其中，宜使用A1合金基板或結晶化玻璃等玻 埚製基板或矽基板為佳。 又’非磁性基板31的平均表面粗糙度(Ra)宜在1腿以下，較 佳在0.5nm以下’更佳在〇 inm以下。 本實施形態之非磁性基板31的表面上以FeC〇B層作為軟磁性 層32a，以RU層作為中間層32b。 、又，本實施形態之磁性記錄層33a係平面磁性記錄層或垂直 磁性記錄層均可，惟若欲實現較高記錄密度則以垂直磁性記錄層 為佳。又，主要宜使用以c〇為主成分的合金形成該等磁性記錄層 為佳。 、°人可使用例如非磁性的CrMo基底層與強磁性的CoCrPtTa 磁性層所構成的積層構造作為平面磁性記錄媒體用的磁性記錄 層。 又，吾人可使用例如以軟磁性的FeC〇合金（FeCoB、

FeCoSiB、FeCoZr、FeCoZrB、FeCoZrBCu 等）、FeTa 合金（FeTaN、 FeTaC等）、Co合金（CoTaZr、CoZrNB、CoB等)等合金所構成的 底層’與以Pt、Pd、NiCr、NiFeCr等材料所形成的定向控制膜， 11 200832372 與依實際需要〖XRU等材料卿成財賊，以及以 i000®15^1^ 70Co«5Cr45Pt40SiO2^^^#^^^^ g，層豐作為垂直磁性記錄媒體用的磁性記錄層。 八從f性記錄層3允應以配合使用的磁性合金種類與積層構造充. 7刀又传磁頭輸出輸入的方式形成。磁性記錄層33a的厚度宜 ·^ = =0=111以下為佳，在5麵以上15腿以下更好。為了於再生時 一疋程度以上的輪出，磁性記錄層33a的膜層厚度必須在一 另外’由於表現記錄再生特性的各參數隨輸出的上 Ϊ的^係通常慣例，故磁性記錄層孤的膜厚必須設定在最適 為了提高記錄密度，如圖1所示的，磁性記錄圖荦33的 宜在2GGnm以下，非磁性化層34的== 中田見L 土在l00mn以下為佳。接著，磁執間距p(=w+L)宜在 以下的粑^紐’且為了使記雜度提高宜儘餘狹窄愈好。 么士日口 用/乂碳（C)、氫化碳（HxC)、氮化碳（CN)，非 @ (SiQ等材料所形成的韻層或叫、zi， ϊΐΐί f2=i ’作成保護膜層35 °又’保護膜層35係1 層也可以，或2層以上所構成也可以。 保護膜層35賴厚灯超過1Gnm為佳。保獅 ^超過lO^m ’則挪為具備磁性記錄媒體之刪生記^生穿置子 ¥ ’磁性讀寫頭與磁性記錄圖* 33的距 能益^ 分的輸出入信號強度。 文八了此热法獲付充 吾人可使用例如氟系潤滑劑、碳化氮系潤滑劑以及 二―的厚度。又，保護膜層35上宜 ' ς成1 成潤滑層36也可以。 肖曰⑽局彳土，不形 明之其次’顧丨所狄雜記錄舰其製造方法的—實施例説 欲製造如圖1所示之磁性記錄媒體，首先，應在如圖2所示 12 200832372 之非磁性基板31的資料記錄區域4上以濺錢等 戽 性層瓜、中間層奶，以及作為磁性記錄層成= 層形成步驟）。其次，在作為磁性記錄層33a的磁 ^ 鑛法或CVD法料法形祕賴層35。 β面上以截 其後’運用微影技術，如以下所示的，把作為磁性 说 的磁性層S成經過磁性分離的磁性記錄_ 33以及非磁性曰匕声 34 〇 · 曰 百先，在保護膜層35的表面上形成光阻層(光阻層形成步 驟)〇

在光阻層職步财，首先，在具備轉練£_之主 部的塗布裝置上裝设非磁性基板31。如目3A所示的，構成 部之夾持部41的3根棒狀體貫通非磁性基板儿的開口部37，利 用3根棒狀體從中心、向外侧擴張的力量，將非磁性基板31之開口 部37的内端支撐固定在3根棒狀體上，藉此 設（夾持)到主軸部上。 土极^衣 ，、次，如圖3A所示的’非磁性基板31的内圓周區域3配置 在比光阻缝11其液面lla更上方驗置，且，將麵性基板31 的-部份浸潰在光阻驗U巾，使非磁性基板31之資料記錄區 域4的-部份配置在比光阻溶液n其液面lla更下方的位置(浸潰 步驟）。 、 所用的光阻溶液1丨雖無特別限定，但仍宜使用例如有機塗布 玻璃(SOG)所製成，枯度在〇 lcP〜1〇cp(lp=〇 lpa s)範圍内的光阻 溶液為佳。 浸潰方式宜以貫通非磁性基板31之開口部37的中心並沿非 磁性基板31厚度方向延伸的旋轉軸37a為中心，邊旋轉非磁性基 板31，邊將非磁性基板31浸潰於光阻溶液n中為佳。非磁性基 板31的旋轉係由塗布裝置的驅動裝置旋轉主軸部所帶動。 、例如，當把非磁性基板31浸潰於光阻溶液n中之後再旋轉 #磁性基板31時，光阻溶液u會因為非磁性基板31旋轉開始時 13 200832372 驗’可能會使非磁性基板31之關周區域3沾附到光 H η。X ’在非磁性基板31旋轉開始初期階段，由於旋轉數 -而心力小，塗布於非磁性基板3丨上的光阻溶液11合因重力 祕，亦可能使非磁性基板31之_周區域3沾附到光 對此τ採用邊力疋轉非磁性基板μ邊浸潰到光阻溶液η中 的方式防止非磁性基板31之内圓周區域3沾附到光阻溶液u。 之後，一邊繼續旋轉以旋轉軸37a為中心的非磁性基板3ι， 一邊從光阻溶液11中取出浸潰於光阻溶液u中的 基 (取出步驟）。 土做Μ 再者，在本實施形態中，將非磁性基板31從光阻溶液^ 取出後仍繼續以旋轉軸37a為中心旋轉非磁性基板31。藉此，非 磁性基板31之内圓周區域3便不會沾附到光阻溶液丨丨，並能在資 料記錄區域4以光阻溶液n塗布一層厚度平均的膜層。、 在從光阻，谷液11中取出非磁性基板31後，宜使非磁性基板 31的旋轉速度比將非磁性基板31浸潰於光阻溶液丨〗中時更快為 佳。 “、 當非磁性基板31浸潰於光阻溶液η中時，非磁性基板31的 旋轉速度應設定成可使基板獲得某一強度的離心力，該強度的離 心力可使塗布之光阻溶液11因重办而向下方滴落，但卻不^附著 到非磁性基板31的内圓周區域3。若將非磁性基板31浸潰^光阻 溶液11時的旋轉速度（旋轉數)提高到必要速度以上的話，、則會阻 礙光阻洛液11附著到非磁性基板31上，光阻溶液11的液面會被 擾亂，非磁性基板31的内圓周區域3便容易沾附到光阻溶液η。 具體而言，非磁性基板31浸潰於光阻溶液η中時非磁性基 板31的旋轉速度宜在350轉/分〜500轉/分的範圍内，可依光 阻溶液11的粘度或非磁性基板31的大小適當決定之。 又’攸光阻/谷液11中將非磁性基板31取出後再提高的非磁 性基板31的旋轉速度，應設定為使基板獲得某一強度的離心力， 14 200832372 該強度的離心力除了可使塗布的光阻溶液110為重力 落，但卻不會附著到非磁性基板3!的内圓周區域3之外y U滴 多餘的光阻溶液11飛散。又，若將非磁性基板31從’ =取出後再提高的非磁性基板3丨的旋轉速度提高到二之 時’光阻的厚度便會_光阻魏_變得很薄，又 均性也會降低。 膜居的平 具體的而言，從光阻溶液U中將非磁性基板3 $旋，速度，宜在5_轉/分〜_轉/分的範^ ^再^ 依光阻洛液11的粘度或非磁性基板31的大小適當決定之、、。土 17 又，當非磁性基板31使用直徑在15mm〜1〇〇_ 非^性基板31在徑方向上的f料記錄區域4與開D部37之間的 距—（内圓周區域3的幅寬)在2職〜3mm範圍内的規林曰杏 使用例如〇.1CP〜叫之一般粘度的光阻溶液°時，若在 ^磁性基板31浸潰於光阻溶液u中時將非磁性 二f ^設定在35〇轉/分〜5〇〇轉/分的範圍内，並的 中二巧磁錄板”後，將非雜额Μ的_速度上昇二二1 ☆〜6〇〇〇轉/分的範圍内，便能確實防止光 附 的内圓周區域3，並能在資料 二= 的光阻溶液11膜層。 土布杓勻 本其一欠’使用像這樣塗布所得到的光阻層，形成磁性記钎酸 步f。更具體而言，即使用微影技術案 將部分光阻層的厚度㈣，或除去部分的光阻層。《案化 其次’對光阻層的表面側照射原子。藉此:在光 部分或是沒有光阻層的部分，對部分磁 形 性化層34，而光阻層其他未注人原子的磁 ，圖案33，磁性記錄圖案33與非磁性化 1以= 性記錄層33a。吾人可使用例如β、F、沿、心二开 1磁 「王層之、纟口日日構垃非晶怨化，並使磁性層非磁性化。 15 200832372 ^後’將光阻層全部除去，並在保 36，作為圖i所示的磁性記錄媒體3()。辑層35上形成潤滑層

基板的歸步财，雖然非磁性 並未浸潰於光阻溶液夂S此中’但_周區域3 溶液^!，並能防止開π部37的周邊接觸觀，且周=接觸光阻 又，在本實施形態之光阻層形成 ^液1J 邊以旋轉軸37a為中心使光“液f/中1：的主取^f驟中，由於係 轉，邊從光阻溶液U中取出非的非磁性基板31旋

$暴扳3U付者的多餘光阻溶液 Z 基板31上均勻塗布光阻溶液u。 力从，亚此在非磁性 因此，若依本實施形態之磁性記錄媒生处 用戶：⑽光阻層形成精密度良好的雜記:;^ :二= 對此，例如，當五勺繼 即使在弁P1、、六y 11二士从碉邛37的周邊塗布光阻溶液11時， 3 f 布後以旋轉軸37"為中心旋轉非磁性基板 1 αΪ/37 ^ 周邊时了光阻n，則會料產生㈣麟。 Ϊΐί 總的妓步驟巾最後除去者，惟光阻溶液U “ 狀專不良衫響的主要，會降低雖記錄媒體的製造成品 Φ 本實卿射’雖難雜基板31浸潰於光阻溶液11 中，使非磁性基板31之内圓周區域3配置在比光阻溶液u之 ，na更上方的位置，然而也可以不將非磁性基板3 周 域3的全部配置在比光阻溶液u之液面lla更上方的位== 至:，口部37之周邊配置在比光阻溶液u之液面lla更上方： 置即—j-。 [第2實施形態] 16 200832372 上述第1實施形態之製造方法’係在光阻層形成步驟中，以 對1片非磁性基板形成光阻層的情況舉例説明，惟如圖3B 的，一次對複數片非磁性基板形成光阻層亦可。圖3BI 5 光阻層形成步财之浸潰步獅其他實施例賴式，其 ^磁性基板31與絲錄u _略立體I由於本^施形能^ 雜記錄舰的製造方法與上述第丨實_態的差異，、僅在^ 層形成步驟中塗布了光阻溶液的非磁性基板3 略其他部分的説明。 ㈣ 麵的製造方法中，非磁性基板31 /〜、厗度方向間p同配置4片。如圖3B所示之4 間的距離d，可依非雜基板31的大小雜1 ，，例如，直徑在〇.85，，(021職)時宜設在 Ϊ τ：τd ^ ^ 敬《51之間的光阻洛液h的流動性不右八 S。ί實施形態之磁性記錄:觸製容工7 二磁性基板31安裝於塗布裝置上。亦即如 =======麵貫通4片 力量，將非磁性基板31之開乂3f^，f杜中心 内圓周_配置在比触溶=之

之液面lla更下41部佩置姐細容液U 於光阻溶液η中(浸潰步驟)4邊基部，浸潰 非磁性基板31，邊從光阻溶、凉 轉軸37&為中心繼績旋轉 (取出步驟）。 11 +將浸潰的非磁性基板31取出 17 200832372 因此，在本實施形態之光阻層形成步驟的浸潰步驟中，內圓 ^域3不會浸潰到光阻溶液n，如是便能防止内_區域3接 „溶液11。又，在本實施形態中，由於非磁性基板31戈所 者的夕餘光阻溶液11可藉離心力飛散開，故便能在非磁美/

上均勻塗布光阻溶液u。 土低W 趨數，厚&向間隔配置 稷數片非磁性基板31，故生產效率優異。 p以=在t實施形態之製造方法中，將複數片之非磁性基板31 =距顧為12nrnm上，如是便能在配置複數片非 的情況下防止光阻溶液丨丨的塗布斑點。 假· 因此，在本實施形態之磁性記錄媒體的製造方法中， 光阻層形成精密度良好的磁性記錄圖案，並能以良好的成 率衣造出具有高記錄再生特性之離散式磁軌型磁性記錄媒體。 性Ή本ίϋ上職，雖宜雜轉非磁性基板31邊將非磁 $板31 4於絲溶液u中，惟將非磁性基板浸潰於光 液中之後再旋轉非磁性基板亦可。 又，光阻層形成步驟，如上述實施形態，雖可在保 =後到潤滑層設置前實行之，然而只要是在作為磁性 石^生層形成後其實在哪個階段實行均可，例如，在作為磁性 層的磁性層形成後立即實行亦可，或是在潤滑層設置後實行亦可、。 再者’在圖3B所示的實施例中，係以一次對4片非磁性美 ，成光阻層的情況作為範例説明之，惟非磁性基板的片數其^ 片都可以，並無特別限定。 、戍 [磁性記錄再生裝置] 其次，就本發明之磁性記錄再生裝置說明之。圖4係用來 明柄明之磁仏己錄再生裝置一實施例的概略構造圖。圖4所示 的磁性記錄再生裝置具備··雖記錄雜3G ;驅動部21，其將磁 性靖媒，朝記錄方向轉；磁性讀寫頭27，其由記錄部與再生 部構成；讀寫頭驅動部28，其使磁性讀寫頭27相對磁性記錄媒體 18 200832372 30作相對勒；概記錄再生雜處理手段29，其絲對磁性綠 寫頭27輸入信號並執行從磁性讀寫頭27輸出之信號的再生。在貝 之磁性記錄再生裝置中，使用上述磁性記錄媒體之製造 方法所衣造的如圖1所不之磁性記錄媒體作為磁性記錄媒體3〇。 =4所示之雜記錄再生裝置’祕具有高記錄再生特 ^之® 1所柏離散式磁執型雜記錄媒體 .=錄再生裝置。又，習知技術為了排除磁軌端二= ΪΞίΐ 必須將再生讀寫頭幅寬設成比記錄讀寫頭幅寬 • 軌係以磁性不連續方式配置的磁性記錄媒體，故即使^幾 =同幅寬也能順利動作。藉此便能獲得充分的再生輸出與高 (實施例）

準備圖2所示之非磁性基板31，其用在以L 、Al2〇3_K2〇、MgaP2〇5 ' Sb2〇3_Zn〇 為組成成分之吐 ' ^ Y 的硬碟_，將非磁性‘ •丨置的真空別，並將該真空室内的壓力排放到 依序开;石=!^、31的貢料記錄區域4上’使用賤鑛法， 32^ 軟磁性層32a、Ru所構成的中間層 驟、+ f0-5cr_15pt_losl02合金所構成的磁性層（磁性層形成步 驟）。接著，在磁性層表面上使用CVD法，依 由二所 35於氟系f滑劑所構成的调滑層36。i個膜 4*^：：^"0Α'+^100Α'^150Α'« ίϋ潤滑層36表面上形成光阻層（光阻層形成步驟）。 在先阻層形成步驟中，首先，將非磁性基板31的關周)區域 19 200832372 3安裝於縱置主軸上，以旋轉軸37a為中心，邊使非磁性基板％ 以350轉/分〜500轉/分的旋轉速度旋轉，邊配置非磁性基板 31，使光阻溶液11之液面lla在非磁性基板31之内圓周區域3 it 2r3mm的位置，並將非磁性基板31的一部份浸潰在光阻溶 液11中10秒鐘(浸潰步驟）。， ‘光阻溶液11可使用枯度lcp的有機旋塗式玻璃in〇n . glass ; SOG)。 之後，邊繼績旋轉以旋轉軸37a為中心並以350轉/分〜5〇〇 f〈刀μ的彡疋轉速度纟疋轉的非磁性*板31，邊將浸潰於光阻溶液11 巾的非磁性基板31從光阻溶液11中取出（取出步驟）。再來，從 fi溶液11中將非磁性基板31取出後，繼續旋轉以旋轉軸37a 杯Ή〇Π350轉/分〜5〇0轉/分的旋轉速度旋轉的非磁性基 ϋϋΓ4，之後，將旋轉速度上昇到5000轉/分〜60⑻ 轉/分再旋轉12秒鐘。 、使用像這樣塗布並乾燥後所得之光阻層，以如下 生記ί案形成步驟）。亦即，使用微影技術將‘層 部ί的光阻層。之後’從光阻層表面該側照射Ar 原子，在沒有光阻層的部分將原子注入部份的磁性芦 f化層34，並形成磁性記錄圖案33與非磁性化層3曰4交互配置所 # 構成的磁性記錄層33a。之後，除去全部光阻層， 不之磁性記錄媒體30。 于 tl所 就如是製得之磁性記錄媒體30，以如 。絲，細細 场評價，f賴國如孤公31 _ ρι她nd si7Gi娜進行。記錄再生讀寫頭使用 [比較例] 在與實施例相同的非磁性基板31的資料記錄區域4上，以跟 20 200832372 二^目同q的方式形成軟磁性層32a、中間層32b、磁性#、佯護 板1上塗布與實施例相同的光阻溶液。 阻溶之開口部的婦位置的方式，將基板浸潰於光 德、古料H取出並GGrpm、12秒鐘旋轉基板關光阻。 徭，後’跟實施例一樣地，形成了磁性記錄圖案。之 L 光阻層’即製得如圖1所示之磁性記錄媒體30。 且雷之磁性記錄媒㈣’以跟實施例相同的方式評價 i絲由1特性。結果，在非磁性基板31之内圓周區域3附近的 磁執，，確認出多數的磁性記錄位元有瑕疵。 4磁性記錄位元瑕疵的發生，肇因於非磁性基板31之内圓周 iii附近所塗布的細溶液的膜厚不均勻，以及微影之磁性記 ϊΐΐ的顯像精密度不充分而無法軸具有既定雜的磁性記錄 圖案等的原因。 [產業上利用性] 、本發明可適用於使用在硬碟等裝置中之磁性記錄媒體的製造 方法以及磁性記錄再生裝置中。 21 200832372 【圖式簡單說明】 圖1係表示以本發明之製造方法所製造的磁性記錄媒體其一 實施例的示意剖面圖。 圖2係表示使用於圖1所示之磁性記錄媒體中的非磁性基板 31其一實施例的平面圖。 圖3A係表示用來說明光阻層形成步驟之浸潰步驟其一實施 例的圖示。 ' 圖3B係表不用來說明光阻層形成步驟之浸潰步驟其一施 例的圖示。 、 β ㈣鍋#繼其一實施例 元件符號說明： 、 d基板間距 L 非磁性部的幅寬 W磁性部的幅寬 2外圓周區域 3内圓周區域 4資料記錄區域 φ 11光阻溶液 11a液面 21驅動部 27磁性讀寫頭 28讀寫頭驅動部 29記錄再生信號處理機構 30磁性記錄媒體 31非磁性基板 32a軟磁性層 32b中間層 22 200832372 33磁性記錄圖案 33a磁性記錄層 34非磁性化層 35保護膜層 36潤滑層 37開口部 37a旋轉軸 38外緣 41炎持部

Claims (1)

1. 200832372 十、申請專利範圍： 1、一種磁性記錄媒體的製造方法，包含： 一磁性層形成步驟，其在圓盤狀的非磁性基板上， ，性記錄圖案的磁性層，該基板在中央設有開口部，且呈 資料記錄區域，以及位於該資料記錄區域與該開口部之^的^圓 周區域； W 形絲=層=步驟’其在形成有該磁性層的該非磁性基板上 二圖案形成步驟，其使用該光阻層形成該磁性記錄圖案， 參 其特徵為該光阻層形成步驟更包含： ’、 中 置 以及 二步驟，其將該非磁性基板的—部份浸潰於該光阻溶液 使至開口部的周邊配置在比光阻溶液的液面更上方的位 且該貧料記親部份配置在_液面更下方的位置； 夕步驟’其邊以貫通該開口部之巾心並沿該非磁性基板 轉中心’旋轉浸潰於該光阻溶液中的該 非磁性基板，邊從该光阻溶液中取出該非磁性基板。 2、如申請專利範圍帛i項之磁性記錄媒體的製造方法，呈中， 邊』邊以該旋轉轴為中心旋轉該非磁性基板， 邊將该非磁性基板的一部份浸潰於該光阻溶液中。 3如申明專利範圍第1或2項之磁性記錄媒體的製造方法，豆中， Α中將^^基板從該光阻溶液中取出後，仍繼續以該旋轉轴 為中心旋轉該非磁性基板。 4、 如申請專利範圍第3項之磁性記錄媒體的製造方法，其中， 缠、中取出該非磁性基板後，使該非磁性基板的旋 又’將_磁性基板浸潰於該細溶液中之時的旋轉速度 更咼。 5、 如申請專利範目第3項之磁性記觸體的製造方法，其中， 將該非磁性基板浸潰於該光阻溶液中之時的該非磁性基板的 24 200832372 方疋轉速度在350轉/分〜500轉/分的範圍内，且從該光阻溶液中 將該非磁性基板取岐，使該非雜基板的旋轉速度上升到5_ 轉/分〜6000轉/分的範圍内。 6、 如申請專利範圍第工至5項其中任一項之磁性記錄媒體的製造 方法，其中， 該非磁性基板的直徑在15_〜1〇〇_的範圍内，且該非磁 性基板半徑方向上的該資料記錄區域與該開口部之間的距離在 2mm〜3mm的範圍内。 7、 如申請專利範圍第1或2項之磁性記錄媒體的製造方法，其中， 在該光阻層形成步驟中，沿該非磁性基板之厚度方向間隔配 置複數片該非磁性基板。 8、 如申請專利範圍第7項之磁性記錄媒體的製造方法，其中， 該複數片之非磁性基板間的距離在l2mm以上。 9、 一種磁性記錄再生裝置，包含·· 磁性記錄媒體； 驅動部，其朝記錄方向驅動該磁性記錄媒體；· 磁性讀寫頭，其由記錄部與再生部所構成； 磁性殯寫頭驅動機構，其使該磁性讀寫頭相對該磁性記錄媒 體作相對運動；以及 μ §己錄再生仏號處理機構，其用來執行對該磁性讀寫頭的信號 輪入與該磁性讀寫頭輸出信號的再生， / 其特徵為： 該磁性記錄媒體係使用申請專利範圍第丨或2項之磁性記錄 媒體的製造方:¾所製造的。 十一、圖式： 25