JP2011175703A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】データを記録するデータ領域と、上記データ領域に隣接し、磁気ヘッドの制御情報が記録されたサーボ情報とを備え、上記データ領域には、溝又は非磁性体により画成されたドットからなるパターンが形成されており、上記サーボ領域には、上記ドットからなるパターンは形成されておらず、平坦な領域に磁気情報が書き込まれている。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の磁気記録媒体10についての、データ領域12とサーボ領域14とを部分的に示す斜視図である。同図に示すように、磁気記録媒体10は、データを記録するデータ領域12と、データ領域12に隣接し、磁気ヘッドの制御情報が記録されたサーボ領域14とを備える。
図2は、本発明の磁気記録媒体の製造方法を順次示す断面図である。以下に、データ領域とすべき領域へのレジスト形成工程(a)、レジストのスタンパによる押圧工程(b)、スタンパ密着状態での磁界の印加工程(c)、サーボ領域とすべき領域へのレジスト形成工程(d)、エッチング工程(e)、及びレジストの除去工程(f)について詳述する。
なお、以下の説明では、図2に示す符号D,Sに従い、データ領域とすべき領域を領域Dと称し、サーボ領域とすべき領域を領域Sと称する場合がある。また、図2に示す符号D,Sは、図2(a)〜(e)に共通して使用される符号であり、図2(f)において得られた磁気記録媒体のデータ領域12、及びサーボ領域14にそれぞれ対応する。
(2−1−1.積層体の形成及びレジストの塗布)
図2(a)は、磁気記録層上の領域Dにレジストを形成する工程を示す断面図である。同図に示すように、非磁性基板20上に、下地層22及び磁気記録層24、さらに必要に応じて図示しないマスク層を形成する。これらの層を順次形成した後、領域Dにレジスト26を塗布する。また、これとは別に、スタンパ28を準備する。
スタンパ28は、凹凸パターンの凸部へ磁束を集中させるために高透磁率が必要であるという理由から、少なくとも凹凸パターンの凸部が軟磁性材料からなるように構成する。即ち、全体が軟磁性材料からなるものとしてもよく、また、非磁性基板上に密着層、軟磁性層を形成して、表面の凸部分のみが軟磁性材料からなるものとしてもよい。
図2(b)は、レジスト26のスタンパ28による押圧工程を示す断面図である。この工程では、スタンパ28の凹凸パターンをレジスト26に転写するナノインプリントを行う。
図2(c)は、レジスト26とスタンパ28との密着状態での磁界の印加工程を示す断面図である。この工程では、スタンパ28の凹凸パターンを、積層体の磁気記録層24の主に領域Sへ磁気的に転写する。
図2(d)は、領域Sへのレジスト形成工程を示す断面図である。この工程では、同図に示すように、図2(c)で磁気転写を行った領域Sにレジストを塗布する。
図2(e)は、エッチング工程を示す断面図である。この工程では、領域Dについてドライエッチングでレジスト残膜を除去し、さらに、残膜が除去されたレジストのパターンを元に、磁気記録層24をエッチングする。領域Sは、工程(d)で十分な厚さのレジストを塗布したことで、エッチングされないようにする。
図2(f)は、レジスト等を除去する工程を示す断面図である。この工程では、磁気記録層24上に残存するレジスト除去するとともに、マスク層を除去する。
図2(a)に示すように、領域Dへのレジスト形成を行った。非磁性基板20として外形φ65mm、内径φ20mm、厚さ0.635mmの強化ガラスを用いた。この基板20上に、磁気記録層24として厚さ20nmのCoPt膜を形成し、さらにマスク層として厚さ50nmのC膜を形成した。次いで、レジスト26の形成前に磁気記録層24の磁化方向を揃えた後、インクジェット法により領域Sを避けて領域Dのみに厚さ40nmのレジスト(東京応化工業製OCNL505)を形成し、図2(a)に示す積層体上にレジストが塗布され構造体を得た。
以上のようにして作製した磁気記録媒体を、AFMと磁気力顕微鏡(MFM)で観察した。その結果、磁気記録層のデータ領域には、100nmピッチで、溝で画成されたドットからなるパターンが形成されていることが確認された。
Claims (4)
- データを記録するデータ領域と、前記データ領域に隣接し、磁気ヘッドの制御情報が記録されたサーボ情報とを備える、磁気記録媒体において、
前記データ領域には、溝又は非磁性体により画成されたドットからなるパターンが形成されており、前記サーボ領域には、前記ドットからなるパターンは形成されておらず、平坦な領域に磁気情報が書き込まれていることを特徴とする、磁気記録媒体。 - 非磁性基板に形成された磁気記録層の少なくともデータ領域とすべき領域に、レジストを形成する工程、
前記レジストに、微細な凹凸パターンが形成されたスタンパを押圧して、レジストパターンを形成する工程、及び
前記レジストと前記スタンパとの密着状態を維持しつつ、前記磁気記録層の厚さ方向に磁界を印加することによって、前記磁気記録層にスタンパの凹凸パターンに起因する磁気情報を転写する工程
を含むことを特徴とする、磁気記録媒体の製造方法。 - 前記磁気記録層のサーボ領域とすべき領域に、レジストを形成する工程、
前記磁気記録層のデータ領域とすべき領域に、複数の溝を形成するか或いは複数の非磁性化領域を形成して、前記溝又は非磁性化領域により画成されたドットからなるパターンを形成する工程、及び
前記データ領域及び前記サーボ領域に残存するレジストを除去する工程
を含むことを特徴とする、請求項2に記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 前記非磁性基板と前記磁気記録層との間に、下地層を形成することを特徴とする、請求項2又は3に記載の磁気記録媒体の製造方法。
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