TW200305157A - Processing method for photoresist master, production method for recording medium-use master, production method for recording medium, photoresist master, recording medium-use master and recording medium - Google Patents

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TW200305157A TW92105103A TW92105103A TW200305157A TW 200305157 A TW200305157 A TW 200305157A TW 92105103 A TW92105103 A TW 92105103A TW 92105103 A TW92105103 A TW 92105103A TW 200305157 A TW200305157 A TW 200305157A
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Hisaji Oyake
Tatsuya Kato
Hajime Utsunomiya
Masanori Shibahara
Kenji Yoneyama
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Tdk Corp
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Description

200305157 ⑴ 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關光阻母模的加工方法，記錄媒體用母模 的製造方法，記錄媒體的製造方法，光阻母模，記錄媒體 用母模及記錄媒體，更詳細是有關於在光碟等的記錄媒體 上形成高精度的預製凹坑時，加工光阻母模而製造記錄媒 體用母模的方法。 【先前技術】 屬於記錄媒體之一種的光碟是經由使用設有凹坑、搜 軌用案內溝（凹軌）的負型圖案的光碟用母模（沖壓模），並 利用射出成形，或利用光硬化法（2P法）而轉印所製造。上 述沖壓模的負型圖案是藉由對著塗佈有感光性材料的玻璃 基板上照射雷射光束而曝光，且在感光的部分的凹凸圖案 的表面獲得鎳等的金屬膜，更以該金屬膜爲基層並進行厚 膜電鍍後，剝離感光性材料層而製成。 第7圖是表示使用切割機1〇〇來製造光碟用母模的方 法的槪略構成圖。如第7圖所示，自雷射裝置1 〇 1射出的 雷射光束 102 是利用 EOM(Electro Optic Modulator:使用 電氣光學效果的調制器）1 〇3成爲適於曝光的所定功率後 ，利用光束分光器1〇4、光束分光器105、反射鏡106進 行反射，並利用透鏡l〇7a聚光於光阻母模108上。製作 D VD用沖壓模的時候，是使用λ = 3 5 1 n m左右的雷射光束 -6 - 102 ° (2) (2)200305157 光阻母模108乃爲在玻璃基板108a上積層感光性材 料層108c的圓盤狀者，並藉由雷射光束102聚光於感光 性材料層108c上而曝光，進而顯像形成配合凹軌、預製 凹坑的凹凸圖案。 在光束分光器104和光束分光器105之間，設有對雷 射光束進行聚光的透鏡1 0 7b、和光調制器1 0 9、和令調制 後的雷射光束平行的透鏡1 07c，根據所輸入的脈衝信號 列，而調制雷射光束1 02的強度。其調制是根據可形成的 預製凹坑的凹坑長，成爲連續光束。例如日本特開2000-2 7 6 78 0號公報所揭示，凹坑的端部的脈衝長調制的比中 央部的脈衝長還要長，而前端脈衝後的脈衝間隔及後端脈 衝前的脈衝間隔調制的比中央部的脈衝間隔還要長。藉由 此種調制就能形成均勻寬度的預製凹坑，還可改善再生信 號的顫動、調制度。 反射鏡106和物鏡107a爲一體，並在光阻母模108 的半徑方向移動，同時光阻母模108是載置在旋轉盤11〇 而進行旋轉，藉此在光阻母模上螺旋狀地形成配置預製凹 坑的凹凸圖案的潛像，並進行顯像藉此形成凹凸圖案。 如上在形成配合預製凹坑的凹凸圖案的光阻母模108 上，利用電鍍及電鑄形成如上述的鎳膜，加以剝離光阻母 模藉此製作沖壓模。 可是最近促進光碟的資料記録密度更進一步的高密度 化。例如對於DVD的軌距〇.74μηι、DVD的最短凹坑長 〇.4μπι的光碟，能夠實現次世代的高資料轉移率的次世代 (3) 200305157 型光碟，是需要軌距0.32 μιη、最短凹坑長〇. 16 μπι的程度 。隨此用於光碟再生的雷射光波長也必需比習知的 λ = 6 5 0_還要短的λ= 40 5 nm左右更短的波長。 對於此種光碟，利用採用習知λ = 3 5 1 nm的雷射光的 切割機’製作沖壓模是很困難的。亦即切割機的雷射波長 λ=35 1πΓη的時候，如上所述光是簡單連續的脈衝，並無 法由配合短凹坑的凹凸圖案到配合長凹坑的凹凸圖案均句 的形成圖案寬度，而且有軌距無法變窄的問題。 肇 再者，只要切割機的雷射光爲更短的波長，就能形成 凹坑形成，但像這樣的切割機是很昂貴的，希用能用既存 的切割機來製作次世代型光碟的沖壓模。 【發明內容】 因而，本發明的目的是在於提供一種使用波長較長的 雷射時，能夠形成微細且寬度均勻的凹凸圖案的光阻母模 的加工方法及光阻母模。 · 而本發明的目的是在於提供一種使用波長較長的雷射 時，能夠不根據凹坑長形成均勻的預製凹坑的凹坑寬，而 且軌距也可變窄的光碟等的記錄媒體用母模的製造方法及 光碟等的記錄媒體用母模。 更且本發明的目的是在於提供一種使用波長較長的雷 射時，能夠不根據凹坑長形成均勻的預製凹坑的凹坑寬， 而且軌距也可變窄的光碟等的記錄媒體的製造方法及光碟 等的記錄媒體。 -8- (4) (4)200305157 有關本發明的目的是藉由對著設置在光阻母模的光吸 收層上的感光性材料層上，連續照射脈衝狀的雷射光束而 曝光後進行顯像，藉此在前述感光性材料層上形成凹凸圖 案爲其特徵的光阻母模的加工方法所達成。 按照本發明就能對於具有光吸收層的光阻母模，連續 的照射雷射光束，於使用較長波長的雷射時，能以微細且 均勻的寬度來形成顯像後的凹凸圖案。藉此製造出具有同 樣微細且均勻寬度的預製凹坑的記錄媒體用母模及記錄媒 體。 於本發明的最佳實施形態中，是配合可形成的凹凸圖 案的長度來改變前述雷射光束的工作週期比率。 按照本發明的最佳實施形態，照射改變工作週期比率 的連續雷射光束，於使用波長較長的雷射時，能以微細且 均勻的寬度來形成顯像後的凹凸圖案。藉此製造出具有同 樣微細且均勻寬度的預製凹坑的記錄媒體用母模及記錄媒 體。 本發明的前述目的並於對著設置在光阻母模的感光性 材料層連續照射脈衝狀的雷射光束而曝光後進行顯像，藉 此在前述感光性材料層形成凹凸圖案的光阻母模的加工方 法中，藉由配合可形成的凹凸圖案的長度來改變前述雷射 光束的工作週期比率爲其特徵的光阻母模的加工方法所達 成。 按照本發明，對著光阻母模照射改變工作週期比率的 連續雷射光束，於使用較長波長的雷射時，能以微細且均 • 9 - (5) (5)200305157 勻的寬度形成顯像後的凹凸圖案。藉此製造出具有同樣微 細且均勻寬度的預製凹坑的記錄媒體用母模及記錄媒體。 本發明的最佳實施形態中，在前述凹凸圖案的長度比 所定長度還短時，是配合前述凹凸圖案的長度來改變前述 雷射光束的工作週期比率，在前述凹凸圖案的長度爲所定 長度以上時，不根據前述凹凸圖案的長度，就能以即述雷 射光束的工作週期比率爲一定的進行曝光。 按照本發明的最佳實施形態，以一定的工作週期比率 來形成微細且均勻寬度的凹凸圖案是特別困難的，只在形 成比所定長度還短的凹凸圖案的時候改變工作週期比率， 不進行複雜的控制，就能以微細且均勻的寬度形成凹凸圖 案。藉此，製造出具有同樣微細且均勻寬度的預製凹坑的 記錄媒體用母模及記錄媒體。 於本發明的更佳實施形態中，藉此在形成第一長度的 凹凸圖案的時候，將前述雷射光束的工作週期比率設定在 第一値來進行曝光，在形成比前述第一長度還長的第二長 度的凹凸圖案的時候，將前述雷射光束的工作週期比率設 定在比前述第一値還小的第二値來改變前述工作週期比率 〇 按照本發明的更佳實施形態，是照射凹凸圖案的長度 愈長工作週期比率愈小的連續性雷射光束，在使用較長波 長的雷射時，不根據凹凸圖案的長度，就能以微細且均勻 的寬度形成顯像後的凹凸圖案。藉此，製造出具有同樣微 細且均勻寬度的預製凹坑的記錄媒體用母模及記錄媒體。 -10- (6) (6)200305157 本發明的前述目的並藉由具有：對著設置在光阻母模 的光吸收層上的感光性材料層連續性照射脈衝狀的雷射光 束並曝光後進行顯像，藉此在前述感光性材料層形成凹凸 圖案的步驟、和轉印形成在前述感光性材料層的凹凸圖案 ，藉此在記錄媒體用母模形成凹凸圖案的步驟爲其特徵的 記錄媒體用母模的製造方法所達成。 按照本發明，對著具有光吸收層的光阻母模，照射連 續性的雷射光束，在使用較長波長的雷射時，就能以微細 且均勻的寬度形成顯像後的凹凸圖案。藉此，製造出具有 同樣微細且均勻寬度的預製凹坑的記錄媒體用母模及記錄 媒體。 本發明的前述目的並藉由具有：對著設置在光阻母模 的光吸收層上的感光性材料層照射兩脈衝以上的雷射光束 並曝光後進行顯像，藉此在前述感光性材料層形成配合一 個預製凹坑的凹凸圖案的步驟、和轉印形成在前述感光性 材料層的凹凸圖案，藉此在記錄媒體用母模形成凹凸圖案 的步驟爲其特徵的記錄媒體用母模的製造方法所達成。在 此所謂兩脈衝是指連續性的兩個脈衝的意思。 按照本發明，對著具有光吸收層的光阻母模，照射兩 脈衝以上的雷射光束，在使用較長波長的雷射時，以微細 且均勻的寬度形成顯像後的凹凸圖案。藉此，製造出具有 同樣微細且均勻寬度的預製凹坑的記錄媒體。 於本發明的更佳實施形態中，是配合可形成的凹凸圖 案的長度來改變前述雷射光束的工作週期比率。 -11 - (7) (7)200305157 按照本發明的最佳實施形態，是照射改變工作週期比 率的連續性雷射光束，在使用波長較長的雷射時，就能以 微細且均勻的寬度形成顯像後的凹凸圖案。藉此，製造出 具有同樣微細且均勻寬度的預製凹坑的記錄媒體。 本發明的前述目的並藉由屬於具有：對著設置在光阻 母模的感光性材料層連續性照射脈衝狀的雷射光束並曝光 後進行顯像，藉此在前述感光性材料層形成凹凸圖案的步 驟、和轉印形成在前述感光性材料層的凹凸圖案，藉此在 記錄媒體用母模形成凹凸圖案的步驟的記錄媒體用母模的 製造方法中，配合可形成的凹凸圖案的長度來改變前述雷 射光束的工作週期比率爲其特徵的記錄媒體用母模的製造 方法所達成。 按照本發明，對著光阻母模照射改變工作週期比率的 連續性雷射光束，在使用較長波長的雷射時，以微細且均 勻的寬度形成顯像後的凹凸圖案。藉此，製造出具有同樣 微細且均勻寬度的預製凹坑的記錄媒體。 於本發明的最佳實施形態中，是在前述凹凸圖案的長 度比所定的長度還短的時候，配合前述凹凸圖案的長度來 改變前述雷射光束的工作週期比率，在前述凹凸圖案的長 度爲所定長度以上的時候，不根據前述凹凸圖案的長度， 就能以前述雷射光束的工作週期比率爲一定的來進行曝光 〇 按照本發明的最佳實施形態，以一定的工作週期比率 來形成微細且均勻寬度的凹凸圖案是特別困難的，只在形 -12- (8) (8)200305157 成比所定長度還短的凹凸圖案的時候改變工作週期比率， 不必進行複雜的控制，就能以微細且均勻的寬度形成凹凸 圖案。藉此，製造出具有同樣微細且均勻寬度的預製凹坑 的記錄媒體。 於本發明的更佳實施形態中，是在形成第一長度的凹 凸圖案的時候，將前述雷射光束的工作週期比率設定在第 一値來進行曝光，在形成比前述第一長度還長的第二長度 的凹凸圖案的時候，將前述雷射光束的工作週期比率設定 在比前述第一値還小的第二値，藉此來改變前述工作週期 比率。 按照本發明的更佳實施形態，是照射凹凸圖案的長度 愈長工作週期比率愈小的連續性雷射光束，在使用較長波 長的雷射時，不根據凹凸圖案的長度，就能以微細且均勻 的寬度形成顯像後的凹凸圖案。藉此，製造出具有同樣微 細且均勻寬度的預製凹坑的記錄媒體。 本發明的前述目的並藉由至少具有：對著設置在光阻 母模的光吸收層上的感光性材料層照射兩脈衝以上的雷射 光束並曝光後進行顯像，藉此在前述感光性材料層形成配 合一個預製凹坑的凹凸圖案的步驟、和轉印形成在前述感 光性材料層的凹凸圖案，藉此在記錄媒體用母模形成凹凸 圖案的步驟、和轉印形成在前述記錄媒體用母模的凹凸圖 案，藉此在在記錄媒體基板形成預製凹坑的步驟爲其特徵 的記錄媒體的製造方法所達成。 按照本發明，對著具有光吸收層的光阻母模照射兩脈 -13- (9) (9)200305157 衝以上的雷射光束，在使用較長波長的雷射時，就能以微 細且均勻的寬度形成顯像後的凹凸圖案。 按照本發明的最佳實施形態，照射改變工作週期比率 的連續性雷射光束，在使用波長較長的雷射時，就能以微 細且均勻的寬度形成顯像後的凹凸圖案。 本發明的前述目的並藉由屬於至少具有：對著設置在 光阻母模的感光性材料層照射兩脈衝以上的雷射光束並曝 光後進行顯像，藉此在前述感光性材料層形成配合一個預 製凹坑的凹凸圖案的步驟、和轉印形在前述感光性材料層 的凹凸圖案，藉此在記錄媒體用母模形成凹凸圖案的步驟 、和轉印形成在前述記錄媒體用母模的凹凸圖案，藉此在 記錄媒體基板形成預製凹坑的步驟的記錄媒體的製造方法 中，配合預製凹坑的長度來改變前述雷射光束的工作週期 比率爲其特徵爲記錄媒體的製造方法所達成。 按照本發明，對著光阻母模照射改變工作週期比率的 連續性雷射光束，在使用較長波長的雷射時，就能以微細 且均勻的寬度形成顯像後的凹凸圖案。 於本發明的最佳實施形態中，是在前述預製凹坑的長 度比所定長度還短的時候，配合前述預製凹坑的長度來改 變前述雷射光束的工作週期比率，在前述預製凹坑的長度 爲所定長度以上的時候，不根據前述預製凹坑的長度，就 能以前述雷射光束的工作週期比率爲一定的來進行曝光。 按照本發明的最佳實施形態，只是在以一定的工作週 期比率來形成微細且均勻寬度的凹凸圖案特別困難之形成 -14- (10) (10)200305157 比所定長度還短的凹凸圖案的時候改變工作週期比率，不 必進行複雜的控制，就能以微細且均勻的寬度形成凹凸圖 案。 於本發明的最佳實施形態中，是在形成第一長度的預 製凹坑的時候，將前述雷射光束的工作週期比率設定在第 一値來進行曝光，在形成比前述第一長度還長的第二長度 的預製凹坑的時候，將前述雷射光束的工作週期比率設定 在比前述第一値還小的第二値，藉此來改變前述工作週期 比率。 按照本發明的更佳實施形態，來照射凹凸圖案的長度 愈長工作週期比率愈小的連續性雷射光束，在使用較長波 長的雷射時，不根據凹凸圖案的長度，就能以微細且均勻 的寬度形成顯像後的凹凸圖案。 本發明的前述目的並藉由在基板上依序積層光吸收層 及感光性材料層所構成，前述感光性材料層具有凹凸圖案 ，且前述感光性材料層的凹凸圖案是藉由連續性照射脈衝 狀的雷射光束並曝光後進行顯像藉此所形成爲其特徵的光 阻母模所達成。 按照本發明，光阻母模上的凹凸圖案是很微細且均勻 的寬度，所以能用此製造出具有同樣微細且均勻寬度的凹 凸圖案的記錄媒體用母模及記錄媒體。 於本發明的最佳實施形態中，前述感光性材料層的凹 凸圖案是連續性照射配合其長度改變工作週期比率的脈衝 狀的雷射光束並曝光後進行顯像藉此所形成。 -15- (11) (11)200305157 按照本發明的最佳實施形態，光阻母模上的凹凸圖案 是更微細且均勻的寛度，所以能用此製造出具有同樣微細 且均勻寬度的凹凸圖案的記錄媒體用母模及記錄媒體。 本發明的前述目的並藉由在基板上積層感光性材料層 所構成，前述感光性材料層具有凹凸圖案，且前述感光性 材料層的凹凸圖案在連續性照射配合其長度而改變工作週 期比率的脈衝狀的雷射光束並曝光後進行顯像藉此所形成 爲其特徵的光阻母模所達成。 · 按照本發明，光阻母模上的凹凸圖案是很微細且均勻 的寬度，所以能用此製造出具有同樣微細且均勻寬度的凹 凸圖案的記錄媒體用母模及記錄媒體。 本發明的前述目的並經由利用轉印上述任何一個光阻 母模的前述凹凸圖案所形成的凹凸圖案爲其特徵的記錄媒 體用母模所達成。 按照本發明的更佳實施形態，照射連續性的雷射光束 ’在使用較長波長的雷射的時候，不根據凹凸圖案的長度 β ’就能以微細且均勻寬度形成顯像後的凹凸圖案。因而， 製造出具有同樣微細且均勻寬度的預製凹坑的記錄媒體。 本發明的前述目的並藉由具有轉印前述記錄媒體用母 模的前述凹凸圖案藉此所形成的預製凹坑爲其特徵的記錄 媒體所達成。 根據本發明，記錄媒體的凹坑寬不根據凹坑長就可變 得很均勻，而且軌距很窄。 -16- (12) (12)200305157 【實施方式】 以下一邊參照所附圖面一邊針對本發明的最佳實施形 態做詳細說明。 第1圖是有關本發明的最佳實施形態的光碟用母模的 製造方法的原理的槪略構成圖。如第1圖所示，自氪（κ〇 雷射等的雷射裝置101所射出的雷射光束102是經由 EOM(Electro Optic Modulator:使用電氣光學效果的調制器 )1〇3成爲適合曝光的所定功率後，利用光束分光器104、 光束分光器105、反射鏡106進行反射，並經由透鏡l〇7a 聚光於光阻母模108上。 光阻母模108乃屬於在玻璃基板l〇8a上依序積層光 吸收層l〇8b及感光性材料層l〇8c的圓盤狀者，藉由雷射 光束102聚光於感光性材料層l〇8c上而曝光，形成配合 預製凹坑的凹凸圖案的潛像。 該光吸收層爲具有光吸收性且含有有機化合物（以下 亦稱光吸收劑）是最好的。光吸收劑使用由光引發劑及染 料所選擇的至少一種化合物是最好的。一般光引發劑乃屬 於與光硬化型樹脂一起使用，吸收紫外線等的光而產生原 子團的有機化合物。而光引發助劑是種自身不會經由紫外 線照射產生活性化，但與光引發劑倂用的時候，比單獨使 用光引發劑更會促進引發反應，還很有效率的增進效果反 應。光引發劑是產生原子團進行分解，但光引發助劑很穩 定的緣故，本發明使用光引發助劑是更好的。 光引發助劑主要是使用脂肪族或芳香族的胺。本發明 -17- (13) (13)200305157 中，光引發助劑是使用4、^一雙（二甲胺基）二苯甲酮類 、4、4'—雙（二乙胺基）二苯甲酮類、4 —二甲胺基苯甲酸 導戊酯、4 —二甲胺基苯甲酸（n- 丁氧基）乙基、4 —二乙 胺基苯甲酸導戊酯、4-二乙胺基苯甲酸2-乙基己基的 至少一種是最好的，當中特別是使用二苯甲酮系化合物爲 最好的。 含有光吸收劑的光吸收層通常依以下順序所形成是最 好的。首先將光吸收劑溶解於溶媒中來調整塗佈液。於塗 佈液中除了光吸收劑外，配合需要還含有熱架橋性化合物 。形成含有加入光吸收劑中的熱架橋性化合物的塗膜後進 行加熱並硬化塗膜，接著只要在硬化塗膜上形成光阻層， 就能抑制在光吸收層與光阻層之間發生混合。而除此之外 也可將欲提高與光阻層接著性的接著助劑、吸光劑、界面 活性劑等的各種添加物配合需要添加於塗佈液中。 於光吸收層中的光吸收劑的含有量爲1 0〜70重量％ 是最好的。該含有量太少時，獲得充分的光吸收能是很困 難的。一方面，該含有量很多的話，熱架橋性化合物的硬 化物的含有量變少的緣故，光吸收層的塗膜強度不夠。再 者，所使用的雷射光束的波長中，光吸收層的吸收係數（ 消光係數）k最好爲0.01以上，更好爲0· 1以上。該吸收 係數很小的話，於光吸收層中充分吸收雷射光束是很困難 的。 光吸收層的厚並未特別限定，但要形成到能充分吸收 光阻層曝光時，曝光用的雷射光束程度的厚度。光吸收層 -18- (14) (14)200305157 的厚度不夠時，無法充分吸收雷射光束，而有光阻層被多 重曝光而潛像崩壞的傾向。一方面，就算超過3 00nm的 厚度形成光吸收層，光吸收性並沒有顯著提昇，故不需要 超過上述範圍的厚度。而形成超過3 OOnm厚的時候，在 照射雷射光束時，光吸收層會過度蓄熱，起因於此而光阻 層進行熱分解的結果，會有穩定曝光困難的傾向。因而， 光吸收層的厚度爲1〜3 00nm是最好的，1〇〜200nm是更 好的。此時，起因於上述的光吸收層蓄熱的光阻層的熱分 解程度是配合所照射的雷射光束的照射功率來變化。因此 ，使用較小功率的雷射光束進行曝光時，可超過 3 0 0 n m 的厚度，例如光吸收層的厚度也可爲5 00nm以下。 在光束分光器104和光束分光器105之間，設有：聚 光雷射光束的透鏡1 07b、和光調制器1 09、和平行調制後 的雷射光束的透鏡1 0 7 c，根據所輸入的脈衝信號列來調 制雷射光束1 02的強度。因而，調制後的光束具有所定的 工作週期比率，且成爲連續脈衝。再者，該工作週期比率 是根據脈衝狀的雷射光束（脈衝雷射）的脈衝寬和脈衝重複 周期之比所定義。 反射鏡106和物鏡107a是成爲一體，並在光阻母模 108的半徑方向進行移動，同時光阻母模108是載置在旋 轉盤1 1 0上進行旋轉，藉此在光阻母模上螺旋狀地形成預 製凹坑1 1 1的潛像。 第2圖（a)至（f)是表示光碟用母模的製造工程的工程 圖。光阻母模1 0 8乃具有：玻璃基板1 0 8 a、和形成在玻 -19- (15) (15)200305157 璃基板1 〇 8 a上的光吸收層1 〇 8 b、和形成在光吸收層1 0 8 b 上的感光性材料層1 〇Sc，並省略圖示，但在玻璃基板 1 0 8 a和光吸收層1 〇 8 b之間，爲了提高接著性也可以有接 著層（底層塗料）（第2圖（a))。 其次，經由透鏡1 〇 7 a將光束1 〇 2聚光於光阻母模 108的感光性材料層108c上的話，其照射部分會曝光（第 2圖（b))。藉此形成配合預製凹坑的凹凸圖案的潛像。此 時的光束1 02是經由光調制器1 09來調制強度。於該曝光 後的光阻母模1 08上噴射氫氧化納溶液等的顯像液，且令 凹凸圖案202顯像（第2圖（c))。 曝光光阻母模108，且在顯像後的感光性材料層l〇8c 上，利用無電解電鍍或蒸鍍法形成鎳薄膜203 (第2圖（d)) 。然後以鎳薄膜203的表面爲陰極，且陽極爲鎳來進行厚 膜電鍍，而形成約〇.3mm的鎳厚膜204 (第2圖（e))。 於該厚膜形成後，自鎳薄膜2 0 3剝離光阻劑面，且洗 淨加工內外徑而完成光碟用母模（沖壓模）2 0 5 (第2圖（f)) 。使用該沖壓模205並利用射出成形法或2P法等進行凹 凸圖案的轉印，就能量產光碟。 在此，凹凸圖案202的種類是根據適用於可製成光碟 的的調制方式所決定。並未特別限定，但針對可實現高資 料轉移率的次世代光碟而使用（〗，7)r〗〗的調制方式的時 候，可使用2T至8T的預製凹坑，所以凹凸圖案20 2的 種類爲2 T至8 T七種。 第3圖（a)至（c)是表示輸入至光調制器丨〇9的脈衝 (16) (16)200305157 信號列及藉此形成在光阻母模108上的凹凸圖案202的平 面形狀圖。如第3圖所示，於形成凹坑長配合2T至8T 的預製凹坑的凹凸圖案的時候，可形成的預製凹坑的凹坑 長例如比4T還短的時候，輸入至強度調制器1 09的脈衝 信號列的工作週期比率約爲3 0%〜8 0%，最好在約爲5 0% 〜6 5%的範圍做變化，連帶著預製凹坑的凹坑長變短並生 成工作週期比率高的脈衝信號列，且根據該脈衝信號列來 調制前述雷射光束。而可形成的預製凹坑的凹坑長例如爲 4T以上的時候，不根據預製凹坑的凹坑長，而是生成工 作週期比率爲一定的脈衝信號列，且根據該脈衝信號列來 調制前述雷射光束是最好的。 例如形成凹坑長2T的預製凹坑的時候，工作週期比 率約爲65%的脈衝301施加2時脈程度，藉此獲得配合 2T的預製凹坑的凹凸圖案3 02(第3圖（a))。 而形成凹坑長3 T的預製凹坑的時候，工作週期比率 約爲60%的脈衝3 0 3施加3時脈程度，藉此獲得配合3T 的預製凹坑的凹凸圖案3 04 (第3圖（b))。 更在形成凹坑長4T至8T的凹坑的時候，連4T至8T 中的任一個，脈衝3 0 5的工作週期比率均約爲50%，且該 脈衝3 0 5於4 T施加4時脈，於5 T施加5時脈，於6 T施 加6時脈，於7T施加7時脈，於8T施加8時脈程度， 藉此獲得配合4T至8T的預製凹坑的凹凸圖案3 0 6(第3 圖（c)) 〇 像這樣，藉由根據適當的工作週期比率的脈衝信號列 -21 - (17) (17)200305157 來調制雷射光束進行連續性的雷射照射的話，在使用波長 較長的雷射時，也可形成配合預製凹坑的凹凸圖案302、 3 〇4及3 06的凹坑寬w很窄，且不根據凹坑長就很均勻， 並可縮窄軌距。 再者，改變脈衝信號列的工作週期比率或判斷是否爲 一定的基準，可形成的預製凹坑的凹坑長選定屬於略等於 光束點徑尺寸者就很合適，於本發明所檢討者中，4T是 最好的，但也能以2 T、3 T或5 T爲基準。 Φ 而上述的工作週期比率爲一例，例如凹坑長2T設定 爲6 0%、3T設定爲55%、4T至8T設定爲50%的時候等 ，工作週期比率在5 0%〜6 5 %的範圍內的話，就可獲得略 相同的效果。但4T至8T爲60%左右相當高的工作週期 比率是很不好的。而且例如也可以像是凹坑長2T爲80% 、3T爲60%、4T至8T爲3 0%，在30%〜8 0%的範圍內來 調制工作週期比率。 更且連凹坑長爲所定長度（例如4T)以上的時候，工作 ® 週期比率不會是一定，例如也可以像是凹坑長2 T爲6 5 % 、3T 爲 60%、4T 爲 55%、5T 爲 53%、6T 爲 52%、7T 爲 5 1%、8T爲50%，在50%〜65%的範圍內更階段性的來調 制廣及2 T〜8 T的工作週期比率。 更且也可以像是將凹坑長2 T爲8 0 %、3 T爲6 5 %、4 T 爲 50%、ST 爲 45%、6T 爲 40%、7T 爲 35%、8T 爲 30% ，在30%〜8 0%的範圍內更階段性的來調制廣及2T〜8T 的工作週期比率。 -22- (18) (18)200305157 第4圖（a)至（〇是表示屬於雷射光束的調制信號的脈 衝信號列的生成方法圖。例如加算屬於頻率f= 20MHz的 矩形波信號的基準時脈（第4圖（a))、和將此移相的時脈（ 第4圖（b))，藉此獲得所定工作週期比率的脈衝（第4圖 (c))。例如工作週期比率65%的脈衝，將基準時脈進行 3 π / 1 0移位後，加算原來的基準時脈藉此所獲得。以工 作週期比率60%的脈衝做π/ 5移位，且以55%的脈衝做 π / 1 0移位。 第5圖是表示脈衝信號的生成電路之一例的方塊圖。 如第5圖所示，該脈衝生成電路是經由移相器5 0 1和加算 器502所構成。基準時脈是在分岐點503被二分岐，而一 方會輸入至移相器502。移相器502是僅移位所定移相量 來輸出前述基準時脈。其移相量是根據所輸入的凹坑長資 料來設定。加算器5 02是輸入移相前的基準時脈和移相後 的基準時脈，且將此進行加算而輸出。 其次，針對使用像這樣所製作的沖壓模2 0 5，而實際 來製造光碟的方法做說明。 第6圖（a)至（c)是表示光碟的製造工程的工程圖。就 可實現高資料轉移率的次世代型光碟來看，與CD或DVD 相比’光透過層的厚度需要極薄的。 先使用經由上述方法所製作的沖壓模20 5，經由射出 成形法（噴射法）射出形成厚度約1.1 mm的光碟基板60 1。 藉此製成轉印有沖壓模20 5表面的凹凸的光碟基板601( 第6圖（a))。光碟基板6〇1的材料並未特別限定，例如可 (19) (19)200305157 用聚碳酸酯。而製作使用沖壓模205的光碟基板601也可 利用光硬化法（2P法）所構成。 其次，配合需要使用濺鍍裝置，於形成光碟基板60 1 的凹凸側的表面濺鍍金屬。 藉此在光碟基板601的表面形成反射膜602(第6圖 (b))。反射膜602的厚度設定在10〜3 00nm程度是最好的 ，希望構成反射膜的金屬是使用以銀爲主成份的合金。 然後使用旋塗法、滾輪塗佈法、網版印刷法等，在形 成光碟基板601的凹凸的面，或是反射膜602的表面，塗 佈紫外線硬化性樹脂後，照射紫外線，藉此形成厚度約 10〜3 00μηι的光透過層603 (第6圖（〇)。經由以上完成光 碟。尙且可於光透過層603的形成中，藉由先將所形成的 聚碳酸酯或鏈烯烴等的樹脂性片材料接著於反射膜的表面 所施行。 而爲了防止腐蝕反射膜602，也可在光碟基板601和 反射膜602之間及/或反射膜602和光透過層603之間設 置防濕層。 如以上說明，按照本實施形態，對著具有光吸收層的 光阻母模，連續性照射脈衝狀的雷射光束，在使用較長波 長的雷射時，不根據凹坑長就能均勻形成預製凹坑的凹坑 寬，且軌距變窄。因而能夠製造出凹坑寬均勻且軌距窄的 光碟用母模。 亦即，按照本實施形態，藉由用於製作D VD用沖壓 模的λ = 3 5 1 nm的雷射光束，就能製作出軌距0.3 2 μηι、最 -24- (20) (20)200305157 短凹坑長0.1 6μπι左右的次世代型的光碟用沖壓模。 而按照本實施形態，根據適當的工作週期比率的脈衝 信號列來調制雷射光束，藉此連續性照射脈衝狀的雷射光 束，在使用波長較長的雷射時，預製凹坑的凹坑寬不根據 凹坑長就能十分的均勻，而且軌距十分的窄。
本發明並不限於以上實施形態，在申請專利範圍所記 載的發明範圍內可做各種變更，該些當然也包含在本發明 的範圍內。 H
例如於前述實施形態中，是對著具有光吸收層的光阻 母模連續照射雷射光束者，但並不限於此，也可對著沒有 光吸收層的光阻母模照射連續性的雷射光束。亦即對著沒 有光吸收層的光阻母模，藉由根據適當的工作週期比率的 脈衝信號列所調制的雷射光束，進行連續性的雷射照射時 ，與具有光吸收層的光阻母模相比，雖然品質會稍微劣少 ，但與藉由根據可形成的凹坑長的脈衝長的信號進行雷射 照射時相比，預製凹坑的凹坑寬不根據凹坑長就能十分的 I 均勻，而且軌距十分的窄。 而例如於前述實施形態中，舉例說明使用光阻母模來 製造光碟用母模的情形，但並不限於此，使用較長波長的 雷射對著光阻母模做微細且均勻寬度的凹凸圖案加工的方 法，可用於各種用途。 更於例如前述實施形態中，光阻母模及沖壓模爲圓盤 狀者，但並不限於此，例如也可爲矩形其他卡片狀者。 更於前述實施形態中，是舉例說明光碟，但並不限於 -25- (21) (21)200305157 此，可適用於包括離散型媒體等的所謂記錄媒體。 更例如於前述實施形態中，是舉例說明使用利用移相 器和加算器所構成的脈衝生成電路來移位基準時脈，藉此 控制雷射脈衝的工作週期比率的方法，但並不限於此，可 利用各種方法進行雷射脈衝的負載控制。 如以上說明，按照本發明可提供一在使用波長較長的 雷射時，能形成微細且均勻寬度的顯像後的凹凸圖案的光 阻母模的加工方法及光阻母模。 因此按照本發明，就能藉由應用於更舊世代的光碟用 的沖壓模製作的切割機，來製作屬於軌距爲0.3 2 μπι、最 短凹坑長爲〇 . 1 6 μιη左右的次世代型的光碟用的沖壓模。 而且按照本發明可提供一種在使用波長較長的雷射時 ’預製凹坑的凹坑寬不根據凹坑長就能十分的均勻，而且 軌距十分的窄的記錄媒體用母模的製造方法及記錄媒體用 母模。 更按照本發明可提供一種在使用波長較長的雷射時， 預製凹坑的凹坑寬不根據凹坑長就能十分的均勻，而且軌 距十分的窄的記錄媒體的製造方法及記錄媒體。 【圖式簡單說明】 第1圖是表示有關本發明的最佳實施形態的光碟用母 模的製造方法的原理的槪略構成圖。 第2圖（a)至（f)是表示光碟用母模的製造工程的工程 (22) (22)200305157 第3圖是表示輸入至光調制器1 09的脈衝信號列及藉 由該脈衝信號列形成在光阻母模108上的凹凸圖案202的 平面形狀圖。 第4圖是表示屬於雷射光束的調制信號的脈衝信號列 的生成方法圖。 第5圖是表示脈衝信號的生成電路之一例的方塊圖。 第6圖（a)至（c)是表示光碟的製造工程的工程圖。 第7圖是表示使用切割機100來製造光碟用母模的方 法的槪略構成圖。 圖號的說明 1 〇 1 :雷射裝置 1 0 2 :雷射光束 103 * EOM(Electro Optic Modulator) 104、105 :光束分光器 1 〇 6 :反射鏡 107a' 107b、 107c ：透鏡 Π)8 :光阻母模 1 0 8 a :玻璃基板 108b :光吸收層 1 0 8 c :感光性材料層 1 0 9 :光調制器 1 1 0 :旋轉盤 1 1 1 :預製凹坑 -27- 200305157 (23) 202 :凹凸圖案 203 :鎳薄膜 204 :鎳厚膜 205 :光碟用母模（沖壓模） 301、 303、 305 ：脈衝 302、 304、 306 ：凹凸圖案 5 0 1 :移相器 5 0 2 :加算器 5 0 3 :分岐點 601 :光碟基板 6 0 2 :反射膜 6 0 3 :光透過層

Claims (1)

  1. (1) 200305157 拾、申請專利範圍 1 · 一種光阻母模的加工方法，其特徵爲： 對著設置在光阻母模的光吸收層上的感光性材料層連 續性照射脈衝狀的雷射光束並曝光後進行顯像，藉此在前 述感光性材料層形成凹凸圖案。 2 ·如申請專利範圍第1項所記載的光阻母模的加工 方法’其中，配合可形成的凹凸圖案的長度來改變前述雷 射光束的工作週期比率。 φ 3 · —種光阻母模的加工方法，乃屬於對著設置在光 阻母模的感光性材料層連續性照射脈衝狀的雷射光束並曝 光後進行顯像，藉此在前述感光性材料層形成凹凸圖案的 光阻母模的加工方法，其特徵爲： 配合可形成的凹凸圖案的長度來改變前述雷射光束的 工作週期比率。 4 .如申請專利範圍第2項所記載的光阻母模的加工 方法，其中，在前述凹凸圖案的長度比所定長度還短的時 ® 候，配合前述凹凸圖案的長度來改變前述雷射光束的工作 週期比率，在前述凹凸圖案的長度爲所定長度以上的時候 ，不根據前述凹凸圖案的長度，而是前述雷射光束的工作 週期比率爲一定的來進行曝光。 5 .如申請專利範圍第3項所記載的光阻母模的加工 方法，其中，在前述凹凸圖案的長度比所定長度還短的時 候，配合前述凹凸圖案的長度來改變前述雷射光束的工作 週期比率，在前述凹凸圖案的長度爲所定長度以上的時候 -29- (2) (2)200305157 ，不根據前述凹凸圖案的長度，而是前述雷射光束的工作 週期比率爲一定的來進行曝光。 6 ·如申請專利範圍第2項所記載的光阻母模的加工 方法’其中，在形成第一長度的凹凸圖案的時候，將前述 雷射光束的工作週期比率設定在第一値來進行曝光，在形 成比前述第一長度還長的第二長度的凹凸圖案的時候，將 前述雷射光束的工作週期比率設定在比前述第一値還小的 第二値，藉此來改變前述工作週期比率。 7 .如申請專利範圍第3項所記載的光阻母模的加工 方法，其中，在形成第一長度的凹凸圖案的時候，將前述 雷射光束的工作週期比率設定在第一値來進行曝光，在形 成比前述第一長度還長的第二長度的凹凸圖案的時候，將 前述雷射光束的工作週期比率設定在比前述第一値還小的 第二値，藉此來改變前述工作週期比率。 8 ·如申請專利範圍第4項所記載的光阻母模的加工 方法，其中，在形成第一長度的凹凸圖案的時候，將前述 雷射光束的工作週期比率設定在第一値來進行曝光，在形 成比前述第一長度還長的第二長度的凹凸圖案的時候，將 前述雷射光束的工作週期比率設定在比前述第一値還小的 第二値，藉此來改變前述工作週期比率。 9 · 一種記錄媒體用母模的製造方法，其特徵爲具有 對著設置在光阻母模的光吸收層上的感光性材料層連 續性照射脈衝狀的雷射光束並曝光後進行顯像，藉此在前 -30- (3) (3)200305157 述感光性材料層形成凹凸圖案的步驟、和 轉印形成在前述感光性材料層的凹凸圖案，藉此在記 錄媒體用母模形成凹凸圖案的步驟。 10· —種記錄媒體用母模的製造方法，其特徵爲具有 對著設置在光阻母模的光吸收層上的感光性材料層照 射兩脈衝以上的雷射光束並曝光後進行顯像，藉此在前述 感光性材料層形成配合一個預製凹坑的凹凸圖案的步驟、 和 轉印形成在前述感光性材料層的凹凸圖案，藉此在記 錄媒體用母模形成凹凸圖案的步驟。 1 1 ·如申請專利範圍第9項所記載的記錄媒體用母模 的製造方法，其中，配合可形成的凹凸圖案的長度來改變 前述雷射光束的工作週期比率。 12. 如申請專利範圍第10項所記載的記錄媒體用母 模的製造方法，其中，配合可形成的凹凸圖案的長度來改 變前述雷射光束的工作週期比率。 13. —種記錄媒體用母模的製造方法，乃屬於具有： 對著設置在光阻母模的感光性材料層連續性照射脈衝 狀的的雷射光束並曝光後進行顯像，藉此在前述感光性材 料層形成凹凸圖案的步驟、和 轉印形成在前述感光性材料層的凹凸圖案’藉此在記 錄媒體用母模形成凹凸圖案的步驟的記錄媒體用母模的製 造方法，其特徵爲： -31 - (4) (4)200305157 配合可形成的凹凸圖案的長度來改變前述雷射光束的 工作週期比率。 1 4 .如申請專利範圔第11項所記載的記錄媒體用母 模的製造方法，其中，在前述凹凸圖案的長度比所定長度 還短的時候，配合前述凹凸圖案的長度來改變前述雷射光 束的工作週期比率，在前述凹凸圖案的長度爲所定長度以 上的時候，不根據前述凹凸圖案的長度，而是前述雷射光 束的工作週期比率爲一定的來進行曝光。 1 5 ·如申請專利範圍第1 3項所記載的記錄媒體用母 模的製造方法，其中，在前述凹凸圖案的長度比所定長度 還短的時候，配合前述凹凸圖案的長度來改變前述雷射光 束的工作週期比率，在前述凹凸圖案的長度爲所定長度以 上的時候，不根據前述凹凸圖案的長度，而是前述雷射光 束的工作週期比率爲一定的來進行曝光。 16.如申請專利範圍第11項所記載的記錄媒體用母 模的製造方法，其中，在形成第一長度的凹凸圖案的時候 ，將前述雷射光束的工作週期比率設定在第一値來進行曝 光，在形成比前述第一長度還長的第二長度的凹凸圖案的 時候，將前述雷射光束的工作週期比率設定在比前述第一 値還小的第二値，藉此來改變前述工作週期比率。 1 7·如申請專利範圍第1 3項所記載的記錄媒體用母 模的製造方法，其中，在形成第一長度的凹凸圖案的時候 ’將前述雷射光束的工作週期比率設定在第一値來進行曝 光’在形成比前述第一長度還長的第二長度的凹凸圖案的 -32- (5) (5)200305157 時候’將前述雷射光束的工作週期比率設定在比前述第一 値還小的第二値，藉此來改變前述工作週期比率。 1 8 ·如申請專利範圍第1 4項所記載的記錄媒體用母 模的製造方法，其中，在形成第一長度的凹凸圖案的時候 ’將前述雷射光束的工作週期比率設定在第一値來進行曝 光’在形成比前述第一長度還長的第二長度的凹凸圖案的 時候’將前述雷射光束的工作週期比率設定在比前述第一 値還小的第二値，藉此來改變前述工作週期比率。 1 9. 一種記錄媒體的製造方法，其特徵爲至少具有： 對著設置在光阻母模的光吸收層上的感光性材料層照 射兩脈衝以上的雷射光束並曝光後進行顯像，藉此在前述 感光性材料層形成配合一個預製凹坑的凹凸圖案的步驟、 和 轉印形成在前述感光性材料層的凹凸圖案，藉此在記 錄媒體用母模形成凹凸圖案的步驟、和 轉印形成在前述記錄媒體用母模的凹凸圖案，藉此在 記錄媒體基板形成預製凹凸的步驟。 20.如申請專利範圍第12項所記載的記錄媒體的製 造方法，其中，配合可形成的預製凹坑的長度來改變前述 雷射光束的工作週期比率。 2 1 . —種記錄媒體的製造方法，乃屬於至少具有 對著設置在光阻母模的感光性材料層照射兩脈衝以上 的雷射光束並曝光後進行顯像，藉此在前述感光性材料層 形成配合一個預製凹坑的凹凸圖案的步驟、和 -33- (6) (6)200305157 轉印形成在前述感光性材料層的凹凸圖案，藉此在記 錄媒體用母模形成凹凸圖案的步驟、和 轉印形成在前述記錄媒體用母模的凹凸圖案，藉此在 記錄媒體基板形成預製凹凸的步驟的記錄媒體的製造方法 ，其特徵爲： 配合可形成的預製凹坑的長度來改變前述雷射光束的 工作週期比率。 22. 如申請專利範圍第20項所記載的記錄媒體的製 造方法，其中，在前述預製凹坑的長度比所定長度還短的 時候，配合前述預製凹坑的長度來改變前述雷射光束的工 作週期比率，在前述預製凹坑的長度爲所定長度以上的時 候，不根據前述預製凹坑的長度，而是前述雷射光束的工 作週期比率爲一定的來進行曝光。 23. 如申請專利範圍第2 1項所記載的記錄媒體的製 造方法，其中，在前述預製凹坑的長度比所定長度還短的 時候，配合前述預製凹坑的長度來改變前述雷射光束的工 作週期比率，在前述預製凹坑的長度爲所定長度以上的時 候，不根據前述預製凹坑的長度，而是前述雷射光束的工 作週期比率爲一定的來進行曝光。 24. 如申請專利範圍第20項所記載的記錄媒體的製 造方法，其中，在形成第一長度的預製凹坑的時候，將前 述雷射光束的工作週期比率設定在第一値來進行曝光，在 形成比前述第一長度還長的第二長度的預製凹坑的時候， 將前述雷射光束的工作週期比率設定在比前述第一値還小 -34- 200305157 σ) 的第二値，藉此來改變前述工作週期比率。 2 5 .如申請專利範圍第2 1項所記載的記錄媒體的製 造方法，其中，在形成第一長度的預製凹坑的時候，將前 述雷射光束的工作週期比率設定在第一値來進行曝光，在 形成比前述第一長度還長的第二長度的預製凹坑的時候， 將前述雷射光束的工作週期比率設定在比前述第一値還小 的第二値，藉此來改變前述工作週期比率。 26. 如申請專利範圍第22項所記載的記錄媒體的製 造方法，其中，在形成第一長度的預製凹坑的時候，將前 述雷射光束的工作週期比率設定在第一値來進行曝光，在 形成比前述第一長度還長的第二長度的預製凹坑的時候， 將前述雷射光束的工作週期比率設定在比前述第一値還小 的第二値，藉此來改變前述工作週期比率。 27. —種光阻母模，其特徵爲： 在基板上依序積層光吸收層及感光性材料層所構成， 前述感光性材料層具有凹凸圖案，且前述感光性材料層的 凹凸圖案是連續性照射脈衝狀的雷射光束並曝光後進行顯 像藉此所形成。 2 8.如申請專利範圍第27項所記載的光阻母模，其 中，前述感光性材料層的凹凸圖案是連續性照射配合其長 度來改變工作週期比率的脈衝狀的雷射光束並曝光後進行 顯像藉此所形成。 29. —種光阻母模，其特徵爲： 在基板上積層感光性材料層所構成，前述感光性材料 (8) (8)200305157 層具有凹凸圖案，且前述感光性材料層的凹凸圖案是連續 性照射配合其長度來改變工作週期比率的脈衝狀的雷射光 束並曝光後進行顯像藉此所形成。 3 〇 . —種記錄媒體用母模，乃屬於具有轉印記錄媒體 用母模的凹凸圖案藉此所形成的預製凹坑的記錄媒體用母 模，其特徵爲： 前述光阻母模是在基板上依序積層光吸收層及感光性 材料層所構成，前述感光性材料層具有前述凹凸圖案； 鲁 前述感光性材料層的凹凸圖案是連續性照射脈衝狀的 雷射光束並曝光後進行顯像藉此所形成。 3 1. —種記錄媒體用母模，乃屬於具有轉印記錄媒體 用母模的凹凸圖案藉此所形成的預製凹坑的記錄媒體用母 模，其特徵爲： 前述光阻母模是在基板上依序積層光吸收層及感光性 材料層所構成，前述感光性材料層具有前述凹凸圖案； 前述感光性材料層的凹凸圖案是連續性照射配合其長 ® 度來改變工作週期比率的脈衝狀的雷射光束並曝光後進行 顯像藉此所形成。 3 2. —種記錄媒體用母模，乃屬於具有轉印記錄媒體 用母模的凹凸圖案藉此所形成的預製凹坑的記錄媒體用母 模，其特徵爲： 前述光阻母模是在基板上積層光吸收層及感光性材料 層所構成，前述感光性材料層具有前述凹凸圖案； 前述感光性材料層的凹凸圖案是連續性照射配合其長 -36- 200305157 Ο) 度來改變工作週期比率的脈衝狀的雷射光束並曝光後進行 顯像藉此所形成。 3 3. —種記錄媒體，乃屬於具有轉印記錄媒體用母模 的凹凸圖案藉此所形成的預製凹坑的記錄媒體，其特徵爲 前述記錄媒體用母模的凹凸圖案是轉印光阻母模的凹 凸圖案藉此所形成； 前述光阻母模是在基板上依序積層光吸收層及感光性 材料層所構成，前述感光性材料層具有前述凹凸圖案； 前述感光性材料層的凹凸圖案是連續性照射脈衝狀的 雷射光束並曝光後進行顯像藉此所形成。 34. 一種記錄媒體，乃屬於具有轉印記錄媒體用母模 的凹凸圖案藉此所形成的預製凹坑的記錄媒體’其特徵爲 前述記錄媒體用母模的凹凸圖案是轉印光阻母模的凹 凸圖案藉此所形成； 前述光阻母模是在基板上依序積層光吸收層及感光性 材料層所構成，前述感光性材料層具有前述凹凸圖案； 前述感光性材料層的凹凸圖案是連續性照射配合其長 度來改變工作週期比率的脈衝狀的雷射光束並曝光後進行 顯像藉此所形成。 3 5 . —種記錄媒體，乃屬於具有轉印記錄媒體用母模 的凹凸圖案藉此所形成的預製凹坑的記錄媒體’其特徵爲 -37- (10) 200305157 前述記錄媒體用母模的凹凸圖案是轉印光阻母模的凹 凸圖案藉此所形成； 前述光阻母模是在基板上積層感光性材料層所構成， 前述感光性材料層具有前述凹凸圖案； 前述感光性材料層的凹凸圖案是連續性照射配合其長 度來改變工作週期比率的脈衝狀的雷射光束並曝光後進行 顯像藉此所形成。 -38-
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