JP2727942B2 - 光ディスクマスタリング用露光原盤 - Google Patents
光ディスクマスタリング用露光原盤Info
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- JP2727942B2 JP2727942B2 JP5315884A JP31588493A JP2727942B2 JP 2727942 B2 JP2727942 B2 JP 2727942B2 JP 5315884 A JP5315884 A JP 5315884A JP 31588493 A JP31588493 A JP 31588493A JP 2727942 B2 JP2727942 B2 JP 2727942B2
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- JP
- Japan
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- main body
- light
- exposure master
- optical disc
- absorbing film
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスクを大量複製
する際の原盤となるニッケルスタンパーを作製するため
の光ディスクマスタリング用露光原盤（以下、単に「露
光原盤」という。）に関する。
する際の原盤となるニッケルスタンパーを作製するため
の光ディスクマスタリング用露光原盤（以下、単に「露
光原盤」という。）に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２は、従来の露光原盤を示す断面図で
ある。
ある。
【０００３】露光原盤４８は、ガラス材質から成る本体
部５０と、本体部５０の表面５０ａに被着されると共に
レーザ光５２で露光されるフォトレジスト膜５４とを備
えたものである。フォトレジスト膜５４は、本体部５０
の表面５０ａに、数十から数百nmの厚さで塗布されたも
のである。そして、フォトレジスト膜５４を、高い開口
数ＮＡを持つ集光レンズ５６で絞られた近紫外域のレー
ザ光５２でピット露光をし、現像後パターンを形成す
る。
部５０と、本体部５０の表面５０ａに被着されると共に
レーザ光５２で露光されるフォトレジスト膜５４とを備
えたものである。フォトレジスト膜５４は、本体部５０
の表面５０ａに、数十から数百nmの厚さで塗布されたも
のである。そして、フォトレジスト膜５４を、高い開口
数ＮＡを持つ集光レンズ５６で絞られた近紫外域のレー
ザ光５２でピット露光をし、現像後パターンを形成す
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フォト
レジスト膜５４を透過したレーザ光５２の一部が本体部
５０の裏面５０ｂで反射され、多重干渉光５８となり、
フォトレジスト膜５４の未露光部５４ｃ，５４ｄを感光
させてしまう場合がある（ハレーション効果）。また、
本体部５０の裏面５０ｂを透過したレーザ光５２の一部
が、露光原盤４８を乗せるターンテーブル（図示せず）
で反射して、再び本体部５０の裏面５０ｂから入射する
場合がある。この場合は、ターンテーブルの形状を反映
したパターンがフォトレジスト膜５４に露光されてしま
う。
レジスト膜５４を透過したレーザ光５２の一部が本体部
５０の裏面５０ｂで反射され、多重干渉光５８となり、
フォトレジスト膜５４の未露光部５４ｃ，５４ｄを感光
させてしまう場合がある（ハレーション効果）。また、
本体部５０の裏面５０ｂを透過したレーザ光５２の一部
が、露光原盤４８を乗せるターンテーブル（図示せず）
で反射して、再び本体部５０の裏面５０ｂから入射する
場合がある。この場合は、ターンテーブルの形状を反映
したパターンがフォトレジスト膜５４に露光されてしま
う。
【０００５】このように、従来の露光原盤４８では、次
のような問題があった。すなわち、結果的にコントラス
トの悪いパターンが形成されてしまう。特に高密度のパ
ターンの露光を行う際には、コントラストの低下が著し
くなる。
のような問題があった。すなわち、結果的にコントラス
トの悪いパターンが形成されてしまう。特に高密度のパ
ターンの露光を行う際には、コントラストの低下が著し
くなる。
【０００６】
【発明の目的】そこで、本発明の目的は、フォトレジス
ト膜をレーザ光で露光する際のコントラストを向上させ
た露光原盤を提供することにある。
ト膜をレーザ光で露光する際のコントラストを向上させ
た露光原盤を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたものであり、ガラス材質から成る
本体部と、この本体部の表面に被着されると共にレーザ
光で露光されるフォトレジスト膜とを備えた露光原盤を
改良したものである。
成するためになされたものであり、ガラス材質から成る
本体部と、この本体部の表面に被着されると共にレーザ
光で露光されるフォトレジスト膜とを備えた露光原盤を
改良したものである。
【０００８】その改良した点とは、前記本体部の裏面に
被着されると共に前記レーザ光を吸収する光吸収膜を備
え、この光吸収膜が黒鉛を含む塗料からなることであ
る。また、この光吸収膜の代わりに、前記レーザ光及び
熱を吸収する光熱吸収膜を備えたものとしてもよい。
被着されると共に前記レーザ光を吸収する光吸収膜を備
え、この光吸収膜が黒鉛を含む塗料からなることであ
る。また、この光吸収膜の代わりに、前記レーザ光及び
熱を吸収する光熱吸収膜を備えたものとしてもよい。
【０００９】
【作用】レーザ光は、本体部表面のフォトレジスト膜を
露光した後、その一部が本体部中を透過し、本体部裏面
の光吸収膜に到達する。この光吸収膜は、本体部中を透
過したレーザ光を吸収する。したがって、本体部中を透
過したレーザ光が本体部裏面で反射したり，本体部裏面
を透過して再び入射したりすることが抑えられる。
露光した後、その一部が本体部中を透過し、本体部裏面
の光吸収膜に到達する。この光吸収膜は、本体部中を透
過したレーザ光を吸収する。したがって、本体部中を透
過したレーザ光が本体部裏面で反射したり，本体部裏面
を透過して再び入射したりすることが抑えられる。
【００１０】
【実施例】図１は、本発明に係る露光原盤の一実施例を
示す断面図である。以下、この図面に基づき本実施例に
ついて説明する。ただし、図２と同一部分には同一符号
を付し説明を省略する。なお、図示の都合上、フォトレ
ジスト膜５４及び光吸収膜１２は、本体部１０に比べて
拡大して示している。
示す断面図である。以下、この図面に基づき本実施例に
ついて説明する。ただし、図２と同一部分には同一符号
を付し説明を省略する。なお、図示の都合上、フォトレ
ジスト膜５４及び光吸収膜１２は、本体部１０に比べて
拡大して示している。
【００１１】本発明に係る露光原盤８は、ガラス材質か
ら成る本体部１０と、本体部１０の表面１０ａに被着さ
れると共にレーザ光５２で露光されるフォトレジスト膜
５４と、本体部１０の裏面１０ｂに被着されると共にレ
ーザ光５２を吸収する光吸収膜１２とを備えている。
ら成る本体部１０と、本体部１０の表面１０ａに被着さ
れると共にレーザ光５２で露光されるフォトレジスト膜
５４と、本体部１０の裏面１０ｂに被着されると共にレ
ーザ光５２を吸収する光吸収膜１２とを備えている。
【００１２】本体部１０は、洗浄済のHOYA株式会社製ガ
ラス基盤を用いた。光吸収膜１２は、本体部１０の裏面
１０ｂに黒鉛を含む塗料を10nm以上の厚さで一様に塗布
することにより形成した。この黒鉛を含む塗料は、波長
域300nm から500nm までのレーザ光５２に対しての光の
吸収率が60％以上あるものである。フォトレジスト膜５
４は、本体部１０の表面１０ａにシプレーファーイース
ト社製ポジ型フォトレジスト 9600シリーズ又は東京応
化株式会社製ポジ型フォトレジストTSMR8800シリーズを
スピン塗布法で100nm 程度塗布し、窒素雰囲気中でアニ
ールすることにより形成した。
ラス基盤を用いた。光吸収膜１２は、本体部１０の裏面
１０ｂに黒鉛を含む塗料を10nm以上の厚さで一様に塗布
することにより形成した。この黒鉛を含む塗料は、波長
域300nm から500nm までのレーザ光５２に対しての光の
吸収率が60％以上あるものである。フォトレジスト膜５
４は、本体部１０の表面１０ａにシプレーファーイース
ト社製ポジ型フォトレジスト 9600シリーズ又は東京応
化株式会社製ポジ型フォトレジストTSMR8800シリーズを
スピン塗布法で100nm 程度塗布し、窒素雰囲気中でアニ
ールすることにより形成した。
【００１３】この露光原盤８を日本レーザ株式会社製MR
Y-1MCN光ディスク露光装置で露光した。その結果、集光
レンズ５６で絞られて本体部１０を透過したレーザ光５
２は、光吸収膜１２で十分に吸収された。したがって、
従来フォトレジスト膜５４上に生じていたターンテーブ
ルの形状を反映した縞模様がなくなり、ハレーションも
減少してコントラストの良いパターンを形成する事がで
きた。
Y-1MCN光ディスク露光装置で露光した。その結果、集光
レンズ５６で絞られて本体部１０を透過したレーザ光５
２は、光吸収膜１２で十分に吸収された。したがって、
従来フォトレジスト膜５４上に生じていたターンテーブ
ルの形状を反映した縞模様がなくなり、ハレーションも
減少してコントラストの良いパターンを形成する事がで
きた。
【００１４】なお、光吸収膜１２としての黒鉛を含む塗
料は、熱を吸収する性質も有するので、光熱吸収膜とし
ても機能する。この場合、フォトレジスト膜をレーザ光
で露光する際の、熱の影響を軽減できる。
料は、熱を吸収する性質も有するので、光熱吸収膜とし
ても機能する。この場合、フォトレジスト膜をレーザ光
で露光する際の、熱の影響を軽減できる。
【００１５】
【発明の効果】本発明に係る露光原盤によれば、黒鉛を
含む塗料からなる光吸収膜を本体部裏面に被着させたの
で、本体部中を透過したレーザ光を光吸収膜で吸収でき
る。したがって、本体部中を透過したレーザ光が本体部
裏面で反射したり，本体部裏面を透過して再び入射した
りすることを防止できることにより、フォトレジスト膜
をレーザ光で露光する際のコントラストを向上できる。
しかも、光吸収膜は、黒鉛を含む塗料からなるので、材
料が安価であるとともに製造も容易である。
含む塗料からなる光吸収膜を本体部裏面に被着させたの
で、本体部中を透過したレーザ光を光吸収膜で吸収でき
る。したがって、本体部中を透過したレーザ光が本体部
裏面で反射したり，本体部裏面を透過して再び入射した
りすることを防止できることにより、フォトレジスト膜
をレーザ光で露光する際のコントラストを向上できる。
しかも、光吸収膜は、黒鉛を含む塗料からなるので、材
料が安価であるとともに製造も容易である。
【図１】本発明の一実施例を示す断面図である。
【図２】従来の一例を示す断面図である。
８ 露光原盤 １０ 本体部 １０ａ 本体部の表面 １０ｂ 本体部の裏面 １２ 光吸収膜 ５２ レーザ光 ５４ フォトレジスト膜
Claims (2)
- 【請求項１】 ガラス材質から成る本体部と、この本体
部の表面に被着されると共にレーザ光で露光されるフォ
トレジスト膜とを備えた光ディスクマスタリング用露光
原盤において、 前記本体部の裏面に被着されると共に前記レーザ光を吸
収する光吸収膜を備え、この光吸収膜が黒鉛を含む塗料
からなることを特徴とする光ディスクマスタリング用露
光原盤。 - 【請求項２】 ガラス材質から成る本体部と、この本体
部の表面に被着されると共にレーザ光で露光されるフォ
トレジスト膜とを備えた光ディスクマスタリング用露光
原盤において、 前記本体部の裏面に被着されると共に前記レーザ光及び
熱を吸収する光熱吸収膜を備え、この光吸収膜が黒鉛を
含む塗料からなることを特徴とする光ディスクマスタリ
ング用露光原盤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5315884A JP2727942B2 (ja) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | 光ディスクマスタリング用露光原盤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5315884A JP2727942B2 (ja) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | 光ディスクマスタリング用露光原盤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07147026A JPH07147026A (ja) | 1995-06-06 |
| JP2727942B2 true JP2727942B2 (ja) | 1998-03-18 |
Family
ID=18070766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5315884A Expired - Fee Related JP2727942B2 (ja) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | 光ディスクマスタリング用露光原盤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2727942B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW466472B (en) * | 1997-02-24 | 2001-12-01 | Seiko Epson Corp | Original board for manufacturing optical disk stampers, optical disk stamper manufacturing method, and optical disk |
| TWI264717B (en) | 2002-01-08 | 2006-10-21 | Tdk Corp | Manufacturing method of stamper for manufacturing data medium, the stamper, and the photoresist template |
| TWI254306B (en) * | 2002-01-08 | 2006-05-01 | Tdk Corp | Manufacturing method of stamper for manufacturing data medium, the stamper, and the photoresist template |
| TWI258142B (en) * | 2002-01-08 | 2006-07-11 | Tdk Corp | Manufacturing method of stamper for manufacturing data medium, the stamper, and the stamper spacer with template |
| AU2003221338A1 (en) | 2002-03-11 | 2003-09-22 | Tdk Corporation | Processing method for photoresist master, production method for recording medium-use mater, production method for recording medium, photoresist master, recording medium-use master and recording medium |
| JP2004013973A (ja) * | 2002-06-05 | 2004-01-15 | Tdk Corp | フォトレジスト原盤の製造方法、光記録媒体製造用スタンパの製造方法、スタンパ、フォトレジスト原盤、スタンパ中間体及び光記録媒体 |
| WO2004001736A1 (ja) * | 2002-06-25 | 2003-12-31 | Tdk Corporation | 光記録媒体製造用スタンパの製造方法及び装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04263140A (ja) * | 1991-02-07 | 1992-09-18 | Ricoh Co Ltd | 無反射コート付きガラス原盤 |
-
1993
- 1993-11-22 JP JP5315884A patent/JP2727942B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07147026A (ja) | 1995-06-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19971111 |
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