JP2000276780A - 光ディスク用原盤の加工方法、スタンパ及び、光ディスク - Google Patents
光ディスク用原盤の加工方法、スタンパ及び、光ディスクInfo
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- JP2000276780A JP2000276780A JP11082587A JP8258799A JP2000276780A JP 2000276780 A JP2000276780 A JP 2000276780A JP 11082587 A JP11082587 A JP 11082587A JP 8258799 A JP8258799 A JP 8258799A JP 2000276780 A JP2000276780 A JP 2000276780A
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- G—PHYSICS
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- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】再生信号のジッター、変調度が改善された、読
取り精度の良好な光ディスク用原盤の加工方法を提供す
る。 【解決手段】光ディスク原盤に露光するレーザビーム１
０２を断続ビームとして複数のパルス列のレーザビーム
露光により一つのピットを形成する露光方法において、
ピットの端部のパルス長を中央部のパルス長に比べて長
くする。又、前端パルス後のパルス間隔及び後端パルス
前のパルス間隔を中央部のパルス間隔に比べて長くす
る。
取り精度の良好な光ディスク用原盤の加工方法を提供す
る。 【解決手段】光ディスク原盤に露光するレーザビーム１
０２を断続ビームとして複数のパルス列のレーザビーム
露光により一つのピットを形成する露光方法において、
ピットの端部のパルス長を中央部のパルス長に比べて長
くする。又、前端パルス後のパルス間隔及び後端パルス
前のパルス間隔を中央部のパルス間隔に比べて長くす
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク原盤加
工工程に関するものであり、特に光ディスク用原の盤加
工方法及び、それにより加工されたスタンパとそのスタ
ンパにより成形、製造された光ディスクに関する。
工工程に関するものであり、特に光ディスク用原の盤加
工方法及び、それにより加工されたスタンパとそのスタ
ンパにより成形、製造された光ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクは、通常、案内溝（グルー
ブ）やピットなどの凹凸パターンを備えたスタンパを用
いて、射出成形などの方法でその凹凸パターンを転写す
ることにより作成される。このスタンパの凹凸パターン
を作成する手段として、感光性材料が塗布された原盤上
にレーザビームを露光、記録する方法が一般的に用いら
れている。上記露光によって感光された感光性材料は、
現像によって凹凸パターンが作成され、その表面にメッ
キを施すことにより金属表面に転写されてスタンパが作
成される。
ブ）やピットなどの凹凸パターンを備えたスタンパを用
いて、射出成形などの方法でその凹凸パターンを転写す
ることにより作成される。このスタンパの凹凸パターン
を作成する手段として、感光性材料が塗布された原盤上
にレーザビームを露光、記録する方法が一般的に用いら
れている。上記露光によって感光された感光性材料は、
現像によって凹凸パターンが作成され、その表面にメッ
キを施すことにより金属表面に転写されてスタンパが作
成される。
【０００３】図６は、従来の光ディスク原盤の加工方法
を示す光路図である。レーザ装置１０１より出射された
レーザビーム１０２は、ミラー１０３、１０５、１０７
にて反射して対物レンズ１０８に入射する間に、音響光
学変調器１０４にて強度変調される。音響光学変調器１
０４に入力される変調信号は、ピットの有無に応じてオ
ン、オフされる入力信号６０１である。対物レンズ１０
８を透過したレーザビーム１０２は、感光性材料が塗布
された原盤１０９に集光され、その表面にスポット１１
１を形成する。対物レンズ１０８、ミラー１０７を搭載
した移動光学台１０６が原盤１０９の半径方向に一定速
度で徐々に移動すると同時に、原盤１０９がターンテー
ブル１１０に搭載されて回転することにより、原盤１０
９にはスパイラル状にピット１１２が記録される。
を示す光路図である。レーザ装置１０１より出射された
レーザビーム１０２は、ミラー１０３、１０５、１０７
にて反射して対物レンズ１０８に入射する間に、音響光
学変調器１０４にて強度変調される。音響光学変調器１
０４に入力される変調信号は、ピットの有無に応じてオ
ン、オフされる入力信号６０１である。対物レンズ１０
８を透過したレーザビーム１０２は、感光性材料が塗布
された原盤１０９に集光され、その表面にスポット１１
１を形成する。対物レンズ１０８、ミラー１０７を搭載
した移動光学台１０６が原盤１０９の半径方向に一定速
度で徐々に移動すると同時に、原盤１０９がターンテー
ブル１１０に搭載されて回転することにより、原盤１０
９にはスパイラル状にピット１１２が記録される。
【０００４】ピット１１２の形状は、前後のビームの干
渉により、短いピットは幅が細く、長いピットは幅が太
くなる傾向にあるため、ピット長に応じて光量を変えて
記録補償を行う、または特開平１０−１７７７２２に開
示されているように、長いピットを断続ビームで記録す
る方法等が提案されている。
渉により、短いピットは幅が細く、長いピットは幅が太
くなる傾向にあるため、ピット長に応じて光量を変えて
記録補償を行う、または特開平１０−１７７７２２に開
示されているように、長いピットを断続ビームで記録す
る方法等が提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の方式を用い
てピットを作成した場合、図５に示すように、入力信号
５０１によって記録すると、ビームの干渉とレジストの
特性により、ピットの前端部及び後端部５０２（以後、
単に「端部」とする）に比べて中央部５０３の幅が太く
なるという問題が発生する。このピット幅の不均一性
は、再生信号のジッター、変調度に悪影響を及ぼし、読
取り精度を悪化させてしまう。また、ピットの端部壁面
５０４の角度が緩慢となり、さらにジッターを悪化させ
る要因となる。
てピットを作成した場合、図５に示すように、入力信号
５０１によって記録すると、ビームの干渉とレジストの
特性により、ピットの前端部及び後端部５０２（以後、
単に「端部」とする）に比べて中央部５０３の幅が太く
なるという問題が発生する。このピット幅の不均一性
は、再生信号のジッター、変調度に悪影響を及ぼし、読
取り精度を悪化させてしまう。また、ピットの端部壁面
５０４の角度が緩慢となり、さらにジッターを悪化させ
る要因となる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明に
よれば、感光性材料が塗布された原盤にレーザビームを
集光して露光し、ピットを作成する光ディスク用原盤の
加工方法であり、上記レーザビームを断続ビームとし
て、複数のパルス列のレーザビーム露光により一つのピ
ットを形成する露光方法において、前端パルス及び／又
は後端パルスのパルス長が、中央部のパルス長に比べて
長いことを特徴とする光ディスク用原盤の加工方法が提
供される。このことにより、ピットの端部と中央部の幅
の差を補正し、さらにピットの端部の角度が急峻となる
ため、ジッター、変調度の良好な、よって読取り精度の
良好な光ディスク用原盤の加工が可能となる。
よれば、感光性材料が塗布された原盤にレーザビームを
集光して露光し、ピットを作成する光ディスク用原盤の
加工方法であり、上記レーザビームを断続ビームとし
て、複数のパルス列のレーザビーム露光により一つのピ
ットを形成する露光方法において、前端パルス及び／又
は後端パルスのパルス長が、中央部のパルス長に比べて
長いことを特徴とする光ディスク用原盤の加工方法が提
供される。このことにより、ピットの端部と中央部の幅
の差を補正し、さらにピットの端部の角度が急峻となる
ため、ジッター、変調度の良好な、よって読取り精度の
良好な光ディスク用原盤の加工が可能となる。
【０００７】請求項２に記載の発明によれば、前端パル
ス後のパルス間隔及び／又は後端パルス前のパルス間隔
が、それ以外のパルス間隔に比べて長いことを特徴とす
る請求項１に記載の光ディスク用原盤の加工方法が提供
される。このことにより、ピットの端部の壁面角度をさ
らに急峻にし、しかも略均一な幅のピットを作成するこ
とが可能となり、さらにジッターの良好な光ディスク用
原盤の加工が可能となる。
ス後のパルス間隔及び／又は後端パルス前のパルス間隔
が、それ以外のパルス間隔に比べて長いことを特徴とす
る請求項１に記載の光ディスク用原盤の加工方法が提供
される。このことにより、ピットの端部の壁面角度をさ
らに急峻にし、しかも略均一な幅のピットを作成するこ
とが可能となり、さらにジッターの良好な光ディスク用
原盤の加工が可能となる。
【０００８】請求項３に記載の発明によれば、上記請求
項１、２による加工方法を用いて製造したスタンパ及
び、それから成形し製造された光ディスクが提供され
る。
項１、２による加工方法を用いて製造したスタンパ及
び、それから成形し製造された光ディスクが提供され
る。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施例について、
図面を参照しながら説明する。
図面を参照しながら説明する。
【００１０】[実施例]図１は、本発明の実施形態に関わ
る光ディスク原盤加工方法を示す光路図である。レーザ
装置１０１より出射されたレーザビーム１０２は、ミラ
ー１０３、１０５、１０７にて反射して対物レンズ１０
８に入射する間に、音響光学変調器１０４にて強度変調
される。音響光学変調器１０４に入力される入力信号１
１３は、図３に示すように端部パルスのパルス長が中央
部のパルス長に比べて長い断続パルスであり、変調され
たビームはそのパルス長に応じた断続ビームとなる。対
物レンズ１０８を透過したレーザビーム１０２は、感光
性材料が塗布された原盤１０９に集光され、その表面に
スポット１１１を形成する。対物レンズ１０８、ミラー
１０７を搭載した移動光学台１０６が原盤１０９の半径
方向に一定速度で徐々に移動すると同時に、原盤１０９
がターンテーブル１１０に搭載されて回転することによ
り、原盤上にはスパイラル状にピット１１２が記録され
る。
る光ディスク原盤加工方法を示す光路図である。レーザ
装置１０１より出射されたレーザビーム１０２は、ミラ
ー１０３、１０５、１０７にて反射して対物レンズ１０
８に入射する間に、音響光学変調器１０４にて強度変調
される。音響光学変調器１０４に入力される入力信号１
１３は、図３に示すように端部パルスのパルス長が中央
部のパルス長に比べて長い断続パルスであり、変調され
たビームはそのパルス長に応じた断続ビームとなる。対
物レンズ１０８を透過したレーザビーム１０２は、感光
性材料が塗布された原盤１０９に集光され、その表面に
スポット１１１を形成する。対物レンズ１０８、ミラー
１０７を搭載した移動光学台１０６が原盤１０９の半径
方向に一定速度で徐々に移動すると同時に、原盤１０９
がターンテーブル１１０に搭載されて回転することによ
り、原盤上にはスパイラル状にピット１１２が記録され
る。
【００１１】図２は本発明の実施形態に関わる光ディス
ク原盤加工方法における入力信号１１３の生成方法であ
る。信号Ａはピットの有無に応じてオン、オフする源信
号である。ＢはＡをＴ1だけ遅延させた信号、 ＣはＡを
Ｔ2だけ進めた信号、ＤはＡをＴ3だけ遅延させた信号、
ＥはＡをＴ4だけ進めた信号、Ｆは断続ビームを生成す
るための高周波パルスの源信号である。 Ｇはそれぞれ
の信号のオン、オフをそれぞれ１、０に対応させ、Ａ・
Ｂ＋Ａ・Ｃ＋Ｄ・Ｅ・Ｆの論理演算を施した結果であり、
本発明に関わる入力信号１１３である。入力信号１１３
において、前端及び後端部のパルス長はそれぞれＴ1、
Ｔ2によって定まり、前端パルス後のパルス間隔Ｔs1及
び後端パルス前のパルス間隔Ｔs2は、Ｔ1、Ｔ2、高周波
パルスＦの周期Ｔpp、パルス長Ｔpw、ゲート長ＴG、及
び高周波パルスＦとピット源信号Ａの位相差によって定
まるので、これらを任意に設定することにより、自由に
調整が可能である。
ク原盤加工方法における入力信号１１３の生成方法であ
る。信号Ａはピットの有無に応じてオン、オフする源信
号である。ＢはＡをＴ1だけ遅延させた信号、 ＣはＡを
Ｔ2だけ進めた信号、ＤはＡをＴ3だけ遅延させた信号、
ＥはＡをＴ4だけ進めた信号、Ｆは断続ビームを生成す
るための高周波パルスの源信号である。 Ｇはそれぞれ
の信号のオン、オフをそれぞれ１、０に対応させ、Ａ・
Ｂ＋Ａ・Ｃ＋Ｄ・Ｅ・Ｆの論理演算を施した結果であり、
本発明に関わる入力信号１１３である。入力信号１１３
において、前端及び後端部のパルス長はそれぞれＴ1、
Ｔ2によって定まり、前端パルス後のパルス間隔Ｔs1及
び後端パルス前のパルス間隔Ｔs2は、Ｔ1、Ｔ2、高周波
パルスＦの周期Ｔpp、パルス長Ｔpw、ゲート長ＴG、及
び高周波パルスＦとピット源信号Ａの位相差によって定
まるので、これらを任意に設定することにより、自由に
調整が可能である。
【００１２】入力信号１１３を音響光学変調器に入力す
ると、レーザービームがパルス変調され、断続ビームと
なって原盤１０９に露光、記録される。この時、断続ビ
ームの周期Ｔppは、原盤上での露光ピッチに変換した場
合、光スポット径よりも十分小さくなるような周期とな
っているため、作成されたピット形状はパルス状とはな
らずに連続した形状となる。これはローパスフィルタを
通したことと同等となり、等価的にＰＷＭ（Ｐｕｌｓｅ
Ｗｉｄｔｈ Ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ）変調方式となる。
つまり、パルス長の長い部分はパワーが高く、パルス長
の短い部分はパワーが低くなるのと同等の効果が発生す
る。
ると、レーザービームがパルス変調され、断続ビームと
なって原盤１０９に露光、記録される。この時、断続ビ
ームの周期Ｔppは、原盤上での露光ピッチに変換した場
合、光スポット径よりも十分小さくなるような周期とな
っているため、作成されたピット形状はパルス状とはな
らずに連続した形状となる。これはローパスフィルタを
通したことと同等となり、等価的にＰＷＭ（Ｐｕｌｓｅ
Ｗｉｄｔｈ Ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ）変調方式となる。
つまり、パルス長の長い部分はパワーが高く、パルス長
の短い部分はパワーが低くなるのと同等の効果が発生す
る。
【００１３】ここで、請求項１に記載の方法を用いる
と、図３に示すように、入力信号３０１の端部のパルス
長Ｔ1、Ｔ2が中央部のパルス長Ｔpwに比べて長いため、
端部の記録パワー３０２が中央部の記録パワー３０３に
比べて等価的に高くなる。そのため、従来問題となって
いた、ピットの端部５０２に比べてピットの中央部５０
３の幅が太くなってしまうという現象を補正し、幅の均
一なピットを形成することが可能となる。
と、図３に示すように、入力信号３０１の端部のパルス
長Ｔ1、Ｔ2が中央部のパルス長Ｔpwに比べて長いため、
端部の記録パワー３０２が中央部の記録パワー３０３に
比べて等価的に高くなる。そのため、従来問題となって
いた、ピットの端部５０２に比べてピットの中央部５０
３の幅が太くなってしまうという現象を補正し、幅の均
一なピットを形成することが可能となる。
【００１４】また、ピットの端部３０４の記録パワーが
等価的に高くなる為、端部壁面３０６の角度３０７が急
峻となり、さらにジッターの良好な光ディスクの作成が
可能となる。
等価的に高くなる為、端部壁面３０６の角度３０７が急
峻となり、さらにジッターの良好な光ディスクの作成が
可能となる。
【００１５】請求項２に記載の方法を用いると、図４に
示すように、入力信号４０１のピットの端部のパルス長
Ｔ１、Ｔ２を上記補正量以上に長くして壁面４０５の角
度をさらに急峻とした場合に、前端パルス後のパルス間
隔Ｔs1及び後端パルス前のパルス間隔Ｔs2が中央部のパ
ルス間隔Ｔpsに比べて長いため、ピットの端部４０３と
ピットの中央部４０４の間に記録パワー減少部４０２が
発生し、ピットの端部が中央部に比べて逆に太くなって
しまうという現象を補正する効果が生ずる。記録パワー
の減少部４０２には、ピットのくびれ部４０３が形成さ
れるが、再生信号に影響する程ではない。その結果、幅
が略均一でかつ端部壁面４０５の角度４０６がさらに急
峻となり、さらにジッターの良好な光ディスクの作成が
可能となる。
示すように、入力信号４０１のピットの端部のパルス長
Ｔ１、Ｔ２を上記補正量以上に長くして壁面４０５の角
度をさらに急峻とした場合に、前端パルス後のパルス間
隔Ｔs1及び後端パルス前のパルス間隔Ｔs2が中央部のパ
ルス間隔Ｔpsに比べて長いため、ピットの端部４０３と
ピットの中央部４０４の間に記録パワー減少部４０２が
発生し、ピットの端部が中央部に比べて逆に太くなって
しまうという現象を補正する効果が生ずる。記録パワー
の減少部４０２には、ピットのくびれ部４０３が形成さ
れるが、再生信号に影響する程ではない。その結果、幅
が略均一でかつ端部壁面４０５の角度４０６がさらに急
峻となり、さらにジッターの良好な光ディスクの作成が
可能となる。
【００１６】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１の発明によれば、断続ビームとして複数のパルス列の
レーザビーム露光により一つのピットを形成する露光方
法において、ピットの端部のパルス長を中央部のパルス
長に比べて長くしたので、ピットの端部に比べて中央部
の幅が太くなってしまうという現象を補正し、幅の均一
なピットを形成することが可能となる。また、ピット端
部の壁面の角度が急峻となるため、再生信号のジッタ
ー、変調度が改善され、読取り精度の良好な光ディスク
用原盤の加工方法を提供することが可能となる。
１の発明によれば、断続ビームとして複数のパルス列の
レーザビーム露光により一つのピットを形成する露光方
法において、ピットの端部のパルス長を中央部のパルス
長に比べて長くしたので、ピットの端部に比べて中央部
の幅が太くなってしまうという現象を補正し、幅の均一
なピットを形成することが可能となる。また、ピット端
部の壁面の角度が急峻となるため、再生信号のジッタ
ー、変調度が改善され、読取り精度の良好な光ディスク
用原盤の加工方法を提供することが可能となる。
【００１７】又、請求項２の発明によれば、ピットの端
部のパルス長を上記補正量以上に長くして壁面の角度を
さらに急峻とした場合に、前端パルス後のパルス間隔及
び後端パルス前のパルス間隔は中央部のパルス間隔に比
べて長いため、ピットの端部が中央部に比べて逆に太く
なってしまうという現象を補正し、幅が略均一でかつ端
部の壁面角度がさらに急峻となり、さらにジッターの良
好な光ディスク用原盤の加工方法を提供することが可能
となる。
部のパルス長を上記補正量以上に長くして壁面の角度を
さらに急峻とした場合に、前端パルス後のパルス間隔及
び後端パルス前のパルス間隔は中央部のパルス間隔に比
べて長いため、ピットの端部が中央部に比べて逆に太く
なってしまうという現象を補正し、幅が略均一でかつ端
部の壁面角度がさらに急峻となり、さらにジッターの良
好な光ディスク用原盤の加工方法を提供することが可能
となる。
【図１】本発明の原盤加工方法の全体構成を示す光路
図。
図。
【図２】本発明のパルス列信号の生成方法を示す図。
【図３】請求項1に記載のパルス列信号とピット形状を
示す図。
示す図。
【図４】請求項２に記載のパルス列信号とピット形状を
示す図。
示す図。
【図５】従来のレーザ露光に用いられる信号とピット形
状を示す図。
状を示す図。
【図６】従来の原盤加工方法の全体構成を示す光路図。
１０１ レーザ装置 １０２ レーザビーム １０３ ミラー １０４ 音響光学変調器 １０５ ミラー １０６ 移動光学台 １０７ ミラー １０８ 対物レンズ １０９ 原盤 １１０ ターンテーブル １１１ スポット １１２ ピット １１３ 入力信号 ３０１ 入力信号 ３０２ 端部の記録パワー ３０３ 中央部の記録パワー ３０４ ピットの端部 ３０５ ピットの中央部 ３０６ 端部壁面 ３０７ 壁面の角度 ４０１ 入力信号 ４０２ 記録パワー減少部 ４０３ ピットの端部 ４０４ ピットの中央部 ４０５ ピットのくびれ部 ４０６ 端部壁面 ４０７ 壁面の角度 ５０１ 入力信号 ５０２ ピットの端部 ５０３ ピットの中央部 ５０４ 端部壁面 ５０５ 壁面の角度 ６０１ 入力信号
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 英明 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 5D029 WA20 WD11 5D121 BB21 BB26 BB38 CA10
Claims (3)
- 【請求項１】感光性材料が塗布された原盤にレーザビー
ムを集光して露光し、ピットを作成する光ディスク用原
盤の加工方法であり、上記レーザビームを断続ビームと
して、複数のパルス列のレーザビーム露光により一つの
ピットを形成する露光方法において、ピットの前端パル
ス及び／又は後端パルスのパルス長が、中央部のパルス
長に比べて長いことを特徴とする光ディスク用原盤の加
工方法。 - 【請求項２】ピットの前端パルス後のパルス間隔及び／
又は後端パルス前のパルス間隔が、中央部のパルス間隔
に比べて長いことを特徴とする請求項１に記載の光ディ
スク用原盤の加工方法。 - 【請求項３】上記請求項１、２による加工方法を用いて
製造したスタンパ及び、それから成形し製造された光デ
ィスク。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11082587A JP2000276780A (ja) | 1999-03-25 | 1999-03-25 | 光ディスク用原盤の加工方法、スタンパ及び、光ディスク |
| US09/534,133 US6515953B1 (en) | 1999-03-25 | 2000-03-23 | Processing method of a master disc for optical discs and processing method of grooves |
| TW089105521A TW505912B (en) | 1999-03-25 | 2000-03-24 | Fabrication method for master of compact discs, pressing mold and compact discs manufactured using the master, and the manufacturing method for pits |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11082587A JP2000276780A (ja) | 1999-03-25 | 1999-03-25 | 光ディスク用原盤の加工方法、スタンパ及び、光ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000276780A true JP2000276780A (ja) | 2000-10-06 |
Family
ID=13778624
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11082587A Withdrawn JP2000276780A (ja) | 1999-03-25 | 1999-03-25 | 光ディスク用原盤の加工方法、スタンパ及び、光ディスク |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6515953B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000276780A (ja) |
| TW (1) | TW505912B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7297472B2 (en) | 2002-03-11 | 2007-11-20 | Tdk Corporation | Processing method for photoresist master, production method for recording medium-use mater, production method for recording medium, photoresist master, recording medium-use master and recording medium |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000074045A1 (fr) * | 1999-05-31 | 2000-12-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Dispositif et procede d'enregistrement d'informations optiques, et support d'enregistrement d'informations optiques |
| JP2004005872A (ja) * | 2002-04-09 | 2004-01-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスク原盤作製方法および光ディスクとその製造方法 |
| JP2008509504A (ja) * | 2004-08-04 | 2008-03-27 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | パルス記録ストラテジを用いたマスタディスクを製造するための装置及び方法 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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