JP2615833B2 - 光ディスク原盤製造方法 - Google Patents
光ディスク原盤製造方法Info
- Publication number
- JP2615833B2 JP2615833B2 JP63116135A JP11613588A JP2615833B2 JP 2615833 B2 JP2615833 B2 JP 2615833B2 JP 63116135 A JP63116135 A JP 63116135A JP 11613588 A JP11613588 A JP 11613588A JP 2615833 B2 JP2615833 B2 JP 2615833B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pit
- optical disc
- sector mark
- laser beam
- master
- Prior art date
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- Optical Head (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光ディスク原盤製造方法および装置に関す
る。
る。
光ディスク原盤の中に入れられるプリフォーマット部
は一定のパワーを持つ露光レーザビームを変調すること
により行われている。
は一定のパワーを持つ露光レーザビームを変調すること
により行われている。
第６図は従来のプリフォーマット部露光レーザビーム
の変調パターンの一例を示した状態図である。変調パタ
ーンは長いピットからなるセクターマークピット部４′
を露光するレーザパワー光13と短いピットからなるプリ
ピット部６を露光するレーザパワー光14から作られてい
る。これらのパターンで露光レーザビームをon−offす
ることによってガラス原盤上に塗布されたレジストを露
光することによりプリフォーマット部５′を形成してい
た。
の変調パターンの一例を示した状態図である。変調パタ
ーンは長いピットからなるセクターマークピット部４′
を露光するレーザパワー光13と短いピットからなるプリ
ピット部６を露光するレーザパワー光14から作られてい
る。これらのパターンで露光レーザビームをon−offす
ることによってガラス原盤上に塗布されたレジストを露
光することによりプリフォーマット部５′を形成してい
た。
このような従来の露光レーザビームの変調法ではレー
ザパワーを一定にして露光しているためレジスト上に形
成されたプリフォーマットパターンの形がセクターマー
ク部とプリピット部で変わってしまう。特に第７図に示
すようにセクターマーク部４′のパターン幅はプリピッ
ト部６のパターン幅に比べて広くなってしまう。
ザパワーを一定にして露光しているためレジスト上に形
成されたプリフォーマットパターンの形がセクターマー
ク部とプリピット部で変わってしまう。特に第７図に示
すようにセクターマーク部４′のパターン幅はプリピッ
ト部６のパターン幅に比べて広くなってしまう。
しかしながら、このような上述した従来の光ディスク
原盤製造方法および装置はプリピット部のパターン幅に
比しセクターマークピット部のパターン幅が広くなるた
めプリフォーマット信号の品質が劣化されるという欠点
があった。
原盤製造方法および装置はプリピット部のパターン幅に
比しセクターマークピット部のパターン幅が広くなるた
めプリフォーマット信号の品質が劣化されるという欠点
があった。
本発明の光ディスク原盤製造方法および装置は、プリ
フォーマットを露光するレーザビームのセクターマーク
ピット部を露光する時間に比べ充分短いパルス列によっ
て露光し等価的に露光パワーを低下させてレジスト上に
パターンを形成する方法とセクターマークピット部の露
光に必要なパルス列を発生する制御回路を有して構成さ
れる。
フォーマットを露光するレーザビームのセクターマーク
ピット部を露光する時間に比べ充分短いパルス列によっ
て露光し等価的に露光パワーを低下させてレジスト上に
パターンを形成する方法とセクターマークピット部の露
光に必要なパルス列を発生する制御回路を有して構成さ
れる。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明
する。
する。
第１図は本発明の一実施例を示す状態図、第２図は第
１図に示す実施例で形成されるピットの形状を示す形状
図である。
１図に示す実施例で形成されるピットの形状を示す形状
図である。
第１図に示す光ディスク原盤製造方法は、セクターマ
ークピット部４を露光するためのレーザパワー光１と、
プリピット部６を露光するためのレーザパワー光２とを
含んたプリフォーマット露光レーザパワー光で構成され
ている。
ークピット部４を露光するためのレーザパワー光１と、
プリピット部６を露光するためのレーザパワー光２とを
含んたプリフォーマット露光レーザパワー光で構成され
ている。
レーザパワー光１によりレーザビームが変調され露光
ビーム状態３で示すようにビームスポットが重なった状
態で露光され等価的に露光パワーが減少したことにな
る。この状態のレジストを現像することによってセクタ
ーマークピット部４が形成される。レーザパワー光１の
パルス幅とパルス間隔を選択することによりセクターマ
ークピット部４とプリピット部６のパターン幅がほぼ等
しいプリフォーマット部５を形成することができる。
ビーム状態３で示すようにビームスポットが重なった状
態で露光され等価的に露光パワーが減少したことにな
る。この状態のレジストを現像することによってセクタ
ーマークピット部４が形成される。レーザパワー光１の
パルス幅とパルス間隔を選択することによりセクターマ
ークピット部４とプリピット部６のパターン幅がほぼ等
しいプリフォーマット部５を形成することができる。
次に、前述したパルス発生回路を有する光ディスク原
盤製造装置の実施例について説明する。
盤製造装置の実施例について説明する。
第４図は本発明の他の実施例を示すブロック図であ
り、光ディスク原盤製造装置の露光ビーム変調用制御回
路のブロックダイアグラムである。第５図は第４図に示
す各部でのパルス波形を模式的に示した波形図である。
り、光ディスク原盤製造装置の露光ビーム変調用制御回
路のブロックダイアグラムである。第５図は第４図に示
す各部でのパルス波形を模式的に示した波形図である。
第４図に示す光ディスク原盤製造装置は、プリフォー
マット信号ａを発生するプリフォーマット信号発生回路
７と、プリフォーマット信号ａの中からセクターマーク
信号ｂを取り出すセクターマーク信号分離回路８と、セ
クターマーク信号ｂのパルス幅に比べて充分狭いパルス
信号ｃを発生するパルス発生回路９と、パルス信号ｃを
セクターマーク信号ｂのみのパルス信号ｄにするための
パルス合成回路10と、プリフォーマット信号ａとパルス
信号ｄを合成しレーザーをon−offするためのパルス信
号ｅを発生するパルス合成回路11と、パルス信号ｅによ
ってレーザーをon−offする光変調素子12とを含んで構
成される。
マット信号ａを発生するプリフォーマット信号発生回路
７と、プリフォーマット信号ａの中からセクターマーク
信号ｂを取り出すセクターマーク信号分離回路８と、セ
クターマーク信号ｂのパルス幅に比べて充分狭いパルス
信号ｃを発生するパルス発生回路９と、パルス信号ｃを
セクターマーク信号ｂのみのパルス信号ｄにするための
パルス合成回路10と、プリフォーマット信号ａとパルス
信号ｄを合成しレーザーをon−offするためのパルス信
号ｅを発生するパルス合成回路11と、パルス信号ｅによ
ってレーザーをon−offする光変調素子12とを含んで構
成される。
このような回路を持つ光ディスク原盤製造装置を使用
することによって前述した光ディスク原盤製造方法を達
成することができる。
することによって前述した光ディスク原盤製造方法を達
成することができる。
本発明の光ディスク原盤製造方法および装置は、セク
ターマークピット部のピット形状を望ましいものにする
ことができるため、プリフォーマット信号の品質を向上
できるという効果がある。
ターマークピット部のピット形状を望ましいものにする
ことができるため、プリフォーマット信号の品質を向上
できるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す状態図、第２図は第１
図に示す実施例を用いて形成される露光スポットの状態
と現像後のピットの形状を示す形状図、第３図は第１図
に示す実施例で形成されるピットの形状を示す形状図、
第４図は本発明の他の実施例を示すブロック図、第５図
は第４図に示す各部の波形を示す波形図、第６図は従来
の一例を示す状態図、第７図は第６図に示す従来例で形
成されるピット形状を示す形状図である。 1,2,13,14……レーザパワー光、３……露光ビーム状
態、4,4′……セクターマークピット部、5,5′……プリ
フォーマット部、６……プリピット部、７……プリフォ
ーマット信号発生回路、８……セクターマーク信号分離
回路、９……パルス発生回路、10,11……パルス合成回
路、12……光変調素子、ａ……プリフォーマット信号、
ｂ……セクターマーク信号、c,d,e……パルス信号。
図に示す実施例を用いて形成される露光スポットの状態
と現像後のピットの形状を示す形状図、第３図は第１図
に示す実施例で形成されるピットの形状を示す形状図、
第４図は本発明の他の実施例を示すブロック図、第５図
は第４図に示す各部の波形を示す波形図、第６図は従来
の一例を示す状態図、第７図は第６図に示す従来例で形
成されるピット形状を示す形状図である。 1,2,13,14……レーザパワー光、３……露光ビーム状
態、4,4′……セクターマークピット部、5,5′……プリ
フォーマット部、６……プリピット部、７……プリフォ
ーマット信号発生回路、８……セクターマーク信号分離
回路、９……パルス発生回路、10,11……パルス合成回
路、12……光変調素子、ａ……プリフォーマット信号、
ｂ……セクターマーク信号、c,d,e……パルス信号。
Claims (1)
- 【請求項１】光デイスク原盤にレーザビームを照射して
露光することによりピットの長いセクターマークピット
部とピットの短いプリピット部とからなるプリフォーマ
ット部を形成する光デイスク原盤製造方法であり、 前記セクターマーク部を形成するためのレーザビームを
断続ビームとし、この断続ビームにより前記原盤上に連
続するスポットを照射し、各々のスポットは、隣接する
スポットとその端部においてのみ重なるように前記断続
ビームのオンオフ周波数を定め、 前記プリピット部を形成するためのレーザビームを連続
ビームとした ことを特徴とする光デイスク原盤製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63116135A JP2615833B2 (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 光ディスク原盤製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63116135A JP2615833B2 (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 光ディスク原盤製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01286144A JPH01286144A (ja) | 1989-11-17 |
| JP2615833B2 true JP2615833B2 (ja) | 1997-06-04 |
Family
ID=14679593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63116135A Expired - Lifetime JP2615833B2 (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 光ディスク原盤製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2615833B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01312751A (ja) * | 1988-06-10 | 1989-12-18 | Seiko Epson Corp | 光ディスク基板及びその製造方法 |
| AU2003221338A1 (en) * | 2002-03-11 | 2003-09-22 | Tdk Corporation | Processing method for photoresist master, production method for recording medium-use mater, production method for recording medium, photoresist master, recording medium-use master and recording medium |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0650567B2 (ja) * | 1984-12-07 | 1994-06-29 | 松下電器産業株式会社 | 信号記録装置 |
| JPS6342035A (ja) * | 1986-08-08 | 1988-02-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 光情報記録媒体への情報記録方法 |
-
1988
- 1988-05-12 JP JP63116135A patent/JP2615833B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01286144A (ja) | 1989-11-17 |
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Legal Events
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| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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