RU2242063C2 - Способ изготовления трехмерно расположенных проводящих и соединительных структур для объемных и энергетических потоков - Google Patents

Способ изготовления трехмерно расположенных проводящих и соединительных структур для объемных и энергетических потоков Download PDF

Info

Publication number
RU2242063C2
RU2242063C2 RU2001126395/28A RU2001126395A RU2242063C2 RU 2242063 C2 RU2242063 C2 RU 2242063C2 RU 2001126395/28 A RU2001126395/28 A RU 2001126395/28A RU 2001126395 A RU2001126395 A RU 2001126395A RU 2242063 C2 RU2242063 C2 RU 2242063C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
layer
layers
connecting structures
dimensional
curing
Prior art date
Application number
RU2001126395/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2001126395A (ru
Inventor
Райнер ГЕТЦЕН (DE)
Райнер ГЕТЦЕН
Original Assignee
Райнер ГЕТЦЕН
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Райнер ГЕТЦЕН filed Critical Райнер ГЕТЦЕН
Publication of RU2001126395A publication Critical patent/RU2001126395A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2242063C2 publication Critical patent/RU2242063C2/ru

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B7/00Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011Working of insulating substrates or insulating layers
    • H05K3/0017Etching of the substrate by chemical or physical means
    • H05K3/0023Etching of the substrate by chemical or physical means by exposure and development of a photosensitive insulating layer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10Processes of additive manufacturing
    • B29C64/106Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
    • B29C64/124Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
    • B29C64/129Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
    • B29C64/135Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask the energy source being concentrated, e.g. scanning lasers or focused light sources
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0035Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29LINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2011/00Optical elements, e.g. lenses, prisms
    • B29L2011/0075Light guides, optical cables
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29LINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2031/00Other particular articles
    • B29L2031/30Vehicles, e.g. ships or aircraft, or body parts thereof
    • B29L2031/3055Cars
    • B29L2031/3061Number plates
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0272Adaptations for fluid transport, e.g. channels, holes
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • H05K1/095Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks for polymer thick films, i.e. having a permanent organic polymeric binder
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/05Patterning and lithography; Masks; Details of resist
    • H05K2203/0562Details of resist
    • H05K2203/0568Resist used for applying paste, ink or powder
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/465Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits by applying an insulating layer having channels for the next circuit layer
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/4664Adding a circuit layer by thick film methods, e.g. printing techniques or by other techniques for making conductive patterns by using pastes, inks or powders
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4697Manufacturing multilayer circuits having cavities, e.g. for mounting components

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Waveguides (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Moulding By Coating Moulds (AREA)

Abstract

Использование: для изготовления трехмерно расположенных проводящих и соединительных структур для объемных и энергетических потоков. Объемные потоки могут быть газообразными, жидкими, твердыми или состоять из смеси этих агрегатных состояний. Энергетические потоки могут иметь акустический, электрический или электромагнитный характер. Сущность изобретения: в способе изготовления трехмерно расположенных проводящих и соединительных структур для получения слоев применяются различные светоотверждаемые материалы. При замене материалов новым материалом заполняют также участки слоев, в которых в предшествующем процессе отверждения отверждение не состоялось, так что при последующем отверждении с нижерасположенным слоем соединяется не только самый верхний слой, но и материал самого верхнего слоя соединяется с материалом слоя, расположенного под предпоследним слоем. Тем самым внутри последовательных слоев можно соединять друг с другом слой за слоем структуру с другими свойствами. Техническим результатом изобретения является изготовление комплексной микросхемы на базе слоистой конструкции, имеющей полости, в которые могут устанавливаться, например, электрические детали, и при этом существует возможность соединения их между собой посредством проводников. 3 з.п. ф-лы, 6 ил.

Description

Изобретение относится к способу изготовления трехмерно расположенных проводящих и соединительных структур для объемных и энергетических потоков. Объемные потоки могут быть газообразными, жидкими, твердыми или состоять из смеси этих агрегатных состояний. Энергетические потоки могут иметь акустический, электрический или электромагнитный характер.
Подобные объемные и энергетические потоки в настоящее время могут быть реализованы с помощью различных технологий. Для микросистемной техники чаще всего применяемыми являются направляющие и гибкие металлические проводники. Для транспортировки электромагнитной энергии наряду с полыми проводниками применяются также стекловолокна. Объемные потоки реализуют с помощью каналов, шлангов и трубопроводов. При нарастающей миниатюризации эти проводящие и соединительные элементы удается соединять с большим трудом.
Предложенный способ относится к созданию комплексной микросистемы, в которой, например, рядом расположено несколько соединенных друг с другом интегрированных схем, причем одновременно система может включать в себя и механические детали, например микронасос, и система имеет выводы, предназначенные, например, для соединения с другой подобной системой.
Изобретение решает задачу посредством применения структурообразующей слоистой конструкции. Способы последовательного расположения слоев известны из микротехнологии. Так, например, патент ФРГ DE-PS 4420996 описывает способ, в котором между двумя параллельными друг другу пластинами, из которых, по меньшей мере, одна может пропускать электромагнитные волны, благодаря поверхностному натяжению удерживается небольшое количество отверждаемого светом синтетического материала. Поверхность синтетической жидкости под пластиной, пропускающей электромагнитные волны, отверждается, причем воздействие осуществляют по заранее заданному контуру, например при помощи направляющей матрицы или при помощи лазерного луча, управляемого компьютером согласно заданной трехмерной модели, то есть отверждению подвергается не весь материал, а только его часть, при этом возникает область жидкого материала, окруженная отвержденным материалом.
Целью предлагаемого изобретения является изготовление комплексной микросистемы на базе слоистой конструкции, имеющей полости, в которые могут устанавливаться, например, электрические детали, и при этом существует возможность соединения их между собой посредством проводников.
Для достижения данной цели необходимо формирование слоистой трехмерной конструкции, имеющей полости, и проводящие и соединительные структуры, например каналы. В эти полости могут устанавливаться различные элементы, например ИС. Проводящие и соединительные структуры могут использоваться для транспортировки различных фаз, например газов или жидкостей при использовании микронасоса. При этом каналы или полости могут заполняться светоотверждаемым материалом, имеющим отличные свойства от материала, образующего стенки полостей или каналов, например электрическую проводимость, и использоваться для энергетических потоков.
Процесс формирования слоистой трехмерной конструкции заключается в послойном отверждении лазерным лучом по трехмерной слоистой модели синтетической жидкости между двумя параллельными друг другу пластинами, из которых, по меньшей мере, одна может пропускать электромагнитные волны, и на поверхности одной из пластин благодаря поверхностному натяжению удерживается небольшое количество отверждаемой светом жидкости, причем после отверждения слоя расстояние между пластинами увеличивается соответственно на толщину слоя так, что свежий синтетический материал только вследствие своего поверхностного натяжения может стекать в создаваемое пространство между отвержденным слоем и пластиной, таким образом очень точно могут быть созданы структуры в микрометрическом диапазоне.
При этом для получения слоев применяются различные отверждаемые светом материалы. Эти материалы могут иметь различные физические, химические и биологические свойства, например, электропроводящие, электроизолирующие, различные оптические расчетные показатели. При замене материалов, области слоев, в которых на предшествующей операции процесса отверждение не состоялось, также заполняются новым материалом, и подвергаются последующему отверждению. Тем самым совокупность последовательных слоев образует структуры с отличающимися свойствами. Таким же образом могут быть образованы каналы, используемые для объемных потоков. Эти каналы могут использоваться также как полые проводники для высокой частоты, когда стенки каналов изготавливаются из материала с соответствующими свойствами.
Из материалов с разным показателем преломления также можно получать светопроводящие структуры. Эти светопроводящие структуры в соединении со светотранзисторами (ключевые слова: свет включает свет) могут использоваться в оптических интегральных схемах.
Таким образом, согласно данному способу может создаваться комплексная микросистема, включающая несколько интегральных схем (ИС), соединенных между собой, причем от одной ИС с помощью присоединений (контактных площадок) можно образовать проводящую структуру или канал с проводящим материалом, который затем можно провести до следующей ИС, а также к выполненным штепсельным разъемам.
Далее изобретение поясняется графически.
На фиг.1-6 показана последовательность создания комплексной микросистемы, причем на каждой последующей фигуре содержится большее число трехмерно расположенных проводящих и соединительных структур, а также полостей.
Способ согласно изобретению осуществляется между двумя пластинками, между которыми за счет поверхностного натяжения удерживается некоторое количество светоотверждаемой жидкости. Подобного небольшого количество жидкости достаточно для образования тонкого слоя соответствующей толщины. При осуществлении способа пластины отодвигаются друг от друга на толщину слоя, что позволяет послойно создавать комплексную микросистему, состоящую из структурированных слоев. При данном способе сначала формируют днище микросистемы в виде сплошного слоя, как изображено на фиг.1. Слой 1 выполняется в форме круга. После отверждения данного слоя пластины раздвигают на толщину следующего слоя, а зазор между ними любым способом, например при помощи пипетки, заполняют подаваемой сбоку новой порцией светоотверждаемого материала. Следующий слой структурирован таким образом, что в нем имеется полость. Материал, находящийся в области 2, полностью отверждают, а остаток неотвержденного материала из области 3 удаляют. При формировании следующий слоев так же как и предыдущего образуется вертикальный канал или полость 4. Таким образом, может быть создана полость, подходящая для установки ИС. Как следует из фиг.2 в полость 4 может устанавливаться ИС 5, к которой подводят выводы 6, выполненные из электропроводного материала послойным методом, таким образом образуется электропроводное соединение 7.
При этом электропроводное соединение 7 внедрено в основной материал, из которого состоит корпус, причем при формировании корпуса, те места, в которых должен располагаться электрический проводник, не подвергаются воздействию электромагнитных волн, после чего происходит промывка и удаление неотвержденного материала. Следующим шагом в пространство между пластинками или в качестве следующего слоя подается электропроводный материал, который заполняет оставленные для него полости и подвергается отверждению только в них, после чего также вымывается из остальных областей. Так послойно формируют слоистую конструкцию, содержащую структуры, которые изображены на фиг.4.
На фиг.5 и фиг.6 изображено, что электропроводное соединение достигает второй полости 8, в которой также устанавливается электрическая деталь, например вторая ИС 9. При дальнейшем формировании системы также образуют полость 10, в которую входит канал 11. По этому каналу может подаваться среда, например химический реагент, который транспортируется к реактору 12 для осуществления химической реакции. Канал 13 в свою очередь является внешним выводом, например для подачи реагента. Таким образом создается комплексная микросистема, включающая несколько ИС 5, 9, соединенных между собой посредством электропроводных соединений 7, а также включающая каналы 11, 13 для объемных потоков и реактор 12 для осуществления химических реакций.

Claims (4)

1. Способ изготовления трехмерно расположенных проводящих и соединительных структур для объемных и энергетических потоков в 3-мерной слоистой конструкции, включающий в себя создание структурированных слоев из различных жидких светоотверждаемых материалов, удерживаемых за счет поверхностных явлений между двумя плоскими расположенными параллельно пластинами, по меньшей мере одна из которых является проницаемой для электромагнитного излучения, путем отверждения сегментов слоев этих материалов в соответствии с моделью слоистой конструкции под воздействием электромагнитных волн, причем расстояние между пластинами для создания каждого нового структурированного слоя увеличивается в соответствие с толщиной слоя, отличающийся тем, что после отверждения светом жидкого материала с избранными физическими, химическими или биологическими свойствами структурированный слой очищают от неотвердевшего материала промывкой, сегменты слоев заполняют новым материалом с другими физическими, химическими или биологическими свойствами и проводят последующее отверждение в соответствии с моделью слоистой конструкции, содержащей проводящие и соединительные структуры.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что не заполненные светоотверждаемым материалом сегменты слоев оснащают электронными, механическими, оптическими или химическими деталями.
3. Способ по п.2, отличающийся тем, что проводящие и соединительные структуры используют для соединения электронных, механических, химических или биологических/электрических деталей.
4. Способ по п.2, отличающийся тем, что проводящие и соединительные структуры используют для соединения между деталями и окружающей средой.
RU2001126395/28A 1999-12-31 2000-12-08 Способ изготовления трехмерно расположенных проводящих и соединительных структур для объемных и энергетических потоков RU2242063C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19964099A DE19964099B4 (de) 1999-12-31 1999-12-31 Verfahren zur Herstellung dreidimensional angeordneter Leit- und Verbindungsstrukturen für Volumen- und Energieströme
DE19964099.8 1999-12-31

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2001126395A RU2001126395A (ru) 2003-08-20
RU2242063C2 true RU2242063C2 (ru) 2004-12-10

Family

ID=7935210

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2001126395/28A RU2242063C2 (ru) 1999-12-31 2000-12-08 Способ изготовления трехмерно расположенных проводящих и соединительных структур для объемных и энергетических потоков

Country Status (13)

Country Link
US (1) US6805829B2 (ru)
EP (1) EP1196820A2 (ru)
JP (1) JP2003519039A (ru)
KR (1) KR100652036B1 (ru)
CN (1) CN1211197C (ru)
AU (1) AU757191B2 (ru)
CA (1) CA2362387C (ru)
DE (1) DE19964099B4 (ru)
IS (1) IS6064A (ru)
NO (1) NO328157B1 (ru)
RU (1) RU2242063C2 (ru)
TW (1) TWI248555B (ru)
WO (1) WO2001050198A2 (ru)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19964099B4 (de) * 1999-12-31 2006-04-06 Götzen, Reiner, Dipl.-Ing. Verfahren zur Herstellung dreidimensional angeordneter Leit- und Verbindungsstrukturen für Volumen- und Energieströme
DE10102063A1 (de) * 2001-01-17 2002-07-25 Alpha Technology Ges Fuer Ange Analysechip mit mehreren funktionalen Ebenen für elektrofokussiertes Spotten
DE102004013161B4 (de) * 2004-03-17 2008-04-10 microTec Gesellschaft für Mikrotechnologie mbH Mikrofluidik-Chip
DE102006008332B4 (de) * 2005-07-11 2009-06-04 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Herstellung einer funktionellen Baueinheit und funktionelle Baueinheit
US20070074579A1 (en) * 2005-10-03 2007-04-05 Honeywell International Inc. Wireless pressure sensor and method of forming same
DE102009050325B4 (de) * 2009-10-22 2014-03-20 Amphenol-Tuchel Electronics Gmbh Kontaktiervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Kontaktiervorrichtung, Band mit Kontaktiervorrichtungen sowie SIM-Block
US10828828B2 (en) * 2016-11-08 2020-11-10 Flex Ltd. Method of manufacturing a part

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01232024A (ja) * 1988-03-14 1989-09-18 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 光硬化性樹脂を用いた3次元模型の製造方法
DK0500225T3 (da) * 1991-01-31 1996-02-05 Texas Instruments Inc System, fremgangsmåde og proces til computerstyret fremstilling af tredimensionale genstande udfra computerdata
US6175422B1 (en) * 1991-01-31 2001-01-16 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus for the computer-controlled manufacture of three-dimensional objects from computer data
US5173220A (en) * 1991-04-26 1992-12-22 Motorola, Inc. Method of manufacturing a three-dimensional plastic article
US5278442A (en) * 1991-07-15 1994-01-11 Prinz Fritz B Electronic packages and smart structures formed by thermal spray deposition
CA2118021A1 (en) * 1992-04-15 1993-10-28 Young C. Bae Rapid prototype three-dimensional stereolithography
US5264061A (en) * 1992-10-22 1993-11-23 Motorola, Inc. Method of forming a three-dimensional printed circuit assembly
US5398193B1 (en) * 1993-08-20 1997-09-16 Alfredo O Deangelis Method of three-dimensional rapid prototyping through controlled layerwise deposition/extraction and apparatus therefor
DE4332982A1 (de) * 1993-09-28 1995-03-30 Eos Electro Optical Syst Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts
DE4420996C2 (de) * 1994-06-16 1998-04-09 Reiner Dipl Ing Goetzen Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von mikromechanischen und mikrooptischen Bauelementen
US6549821B1 (en) * 1999-02-26 2003-04-15 Micron Technology, Inc. Stereolithographic method and apparatus for packaging electronic components and resulting structures
DE19964099B4 (de) * 1999-12-31 2006-04-06 Götzen, Reiner, Dipl.-Ing. Verfahren zur Herstellung dreidimensional angeordneter Leit- und Verbindungsstrukturen für Volumen- und Energieströme

Also Published As

Publication number Publication date
NO20014209D0 (no) 2001-08-30
US6805829B2 (en) 2004-10-19
US20020125612A1 (en) 2002-09-12
CN1211197C (zh) 2005-07-20
CA2362387C (en) 2007-09-11
CA2362387A1 (en) 2001-07-12
KR20010105354A (ko) 2001-11-28
WO2001050198A2 (de) 2001-07-12
EP1196820A2 (de) 2002-04-17
WO2001050198A3 (de) 2002-01-17
JP2003519039A (ja) 2003-06-17
AU3150401A (en) 2001-07-16
AU757191B2 (en) 2003-02-06
CN1358131A (zh) 2002-07-10
IS6064A (is) 2001-08-28
KR100652036B1 (ko) 2006-11-30
NO20014209L (no) 2001-10-25
DE19964099B4 (de) 2006-04-06
NO328157B1 (no) 2009-12-21
DE19964099A1 (de) 2001-09-13
TWI248555B (en) 2006-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8479375B2 (en) Method of making an embedded electromagnetic device
Ding et al. Surface acoustic wave microfluidics
Zheng et al. A mathematically defined 3D auxetic metamaterial with tunable mechanical and conduction properties
US20230226751A1 (en) Method for the manufacture of a spatially varying dielectric material, articles made by the method, and uses thereof
RU2242063C2 (ru) Способ изготовления трехмерно расположенных проводящих и соединительных структур для объемных и энергетических потоков
US7419630B2 (en) Methods and systems for rapid prototyping of high density circuits
US10099918B2 (en) Photostructured chemical devices and methods for making same
US9073258B2 (en) Methods for making photostructured acoustic devices
JP6602535B2 (ja) 環境に配慮した回路基板構築方法
JP2007526108A (ja) 流体memsデバイス
US20150370076A1 (en) Photostructured Optical Devices and Methods For Making Same
Tribe et al. Additively manufactured heterogeneous substrates for three‐dimensional control of local permittivity
Nawrot et al. Additive manufacturing revolution in ceramic microsystems
Hegg et al. Remote monitoring of resin transfer molding processes by distributed dielectric sensors
US8369070B2 (en) Photostructured electronic devices and methods for making same
TWI295273B (en) Mikrofluidik-chip
US20210252757A1 (en) Field Programmable Fluidic Array
AU2003214001B2 (en) Method for producing microsystems
US8845842B2 (en) Method for manufacturing circuit board using electrically conductive particles and circuit board manufactured by the method
Chudpooti et al. Harmonized Rapid Prototyping of Millimeter-Wave Components Using Additive and Subtractive Manufacturing
RU2001126395A (ru) Способ изготовления трехмерно расположенных проводящих и соединительных структур для объемных и энергетических потоков
EP3224899A1 (en) Systems and methods for manufacturing stacked circuits and transmission lines
KR101086466B1 (ko) 고분자 광결합 소자의 정렬을 위한 임프린트 금형의 제작 방법 및 이를 이용한 광결합 소자의 제작 방법
WIXFORTH et al. XIAOYUN DINGa, PENG LIa, SZ-CHIN STEVEN LINa, ZACKARY S. STRATTONa, NITESH NAMAa, FENG GUOa, DANIEL SLOTCAVAGEa, XIAOLE MAOb, JINJIE SHIa, FRANCESCO COSTANZOa, THOMAS FRANKEc
Liu Case studies of microwave applicators for industrial heating processes

Legal Events

Date Code Title Description
PC4A Invention patent assignment

Effective date: 20070425

MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20121209