RU2014154141A - Пластиковая пленка, покрытая оксидом цинка-олова, имеющая улучшенную способность оптического поглощения - Google Patents

Пластиковая пленка, покрытая оксидом цинка-олова, имеющая улучшенную способность оптического поглощения Download PDF

Info

Publication number
RU2014154141A
RU2014154141A RU2014154141A RU2014154141A RU2014154141A RU 2014154141 A RU2014154141 A RU 2014154141A RU 2014154141 A RU2014154141 A RU 2014154141A RU 2014154141 A RU2014154141 A RU 2014154141A RU 2014154141 A RU2014154141 A RU 2014154141A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
plastic substrate
zinc
coated plastic
tin oxide
substrate according
Prior art date
Application number
RU2014154141A
Other languages
English (en)
Inventor
Петер Райхерт
Штеффен ГЮНТЕР
Тобиас ФОГТ
Original Assignee
Байер Метириелсайенс Аг
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Байер Метириелсайенс Аг filed Critical Байер Метириелсайенс Аг
Publication of RU2014154141A publication Critical patent/RU2014154141A/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08Oxides
    • C23C14/086Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/048Forming gas barrier coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/06Coating with compositions not containing macromolecular substances
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021Reactive sputtering or evaporation
    • C23C14/0036Reactive sputtering
    • C23C14/0057Reactive sputtering using reactive gases other than O2, H2O, N2, NH3 or CH4
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

1. Покрытая пластиковая подложка, включающая основной слой, включающий, по меньшей мере, один полимерный материал и, по меньшей мере, одно покрытие оксида цинка-олова, где покрытие оксида цинка-олова получают путем процесса напыления в присутствии водорода в технологическом газе, по меньшей мере, один полимерный материал не содержит полиэтилентерефталат, и покрытая пластиковая подложка имеет коэффициент поглощения менее чем 0.5 л/мкм в области спектра от 380 до 430 нм.2. Покрытая пластиковая подложка по п. 1, отличающаяся тем, что, по меньшей мере один из полимерных материалов в основном слое представляет собой термопластический полимерный материал, где, по меньшей мере, один термопластический полимерный материал не содержит полиэтилентерефталат.3. Покрытая пластиковая подложка по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что полимерный материал(ы) представляет собой/представляют собой поликарбонаты или сополикарбонаты на основе дифенолов, поли- или сополи-акрилаты, поли- или сополи-метакрилаты, полимеры или сополимеры с стиролом, термопластические полиуретаны, полиолефины, продукты сополиконденсации терефталевой кислоты, продукты поли- или сополи-конденсации нафталиндикарбоновой кислоты или их смеси.4. Покрытая пластиковая подложка по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что оксид цинка-олова представляет собой химическое соединение элементов цинка, олова и кислорода, где количество по массе цинка составляет от 5 до 70%.5. Покрытая пластиковая подложка по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что технологический газ дополнительно содержит кислород.6. Покрытая пластиковая подложка по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что толщина покрытия оксида цинка-олова составляет в каждом случае от 10 до 1000 нм.7. П

Claims (11)

1. Покрытая пластиковая подложка, включающая основной слой, включающий, по меньшей мере, один полимерный материал и, по меньшей мере, одно покрытие оксида цинка-олова, где покрытие оксида цинка-олова получают путем процесса напыления в присутствии водорода в технологическом газе, по меньшей мере, один полимерный материал не содержит полиэтилентерефталат, и покрытая пластиковая подложка имеет коэффициент поглощения менее чем 0.5 л/мкм в области спектра от 380 до 430 нм.
2. Покрытая пластиковая подложка по п. 1, отличающаяся тем, что, по меньшей мере один из полимерных материалов в основном слое представляет собой термопластический полимерный материал, где, по меньшей мере, один термопластический полимерный материал не содержит полиэтилентерефталат.
3. Покрытая пластиковая подложка по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что полимерный материал(ы) представляет собой/представляют собой поликарбонаты или сополикарбонаты на основе дифенолов, поли- или сополи-акрилаты, поли- или сополи-метакрилаты, полимеры или сополимеры с стиролом, термопластические полиуретаны, полиолефины, продукты сополиконденсации терефталевой кислоты, продукты поли- или сополи-конденсации нафталиндикарбоновой кислоты или их смеси.
4. Покрытая пластиковая подложка по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что оксид цинка-олова представляет собой химическое соединение элементов цинка, олова и кислорода, где количество по массе цинка составляет от 5 до 70%.
5. Покрытая пластиковая подложка по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что технологический газ дополнительно содержит кислород.
6. Покрытая пластиковая подложка по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что толщина покрытия оксида цинка-олова составляет в каждом случае от 10 до 1000 нм.
7. Покрытая пластиковая подложка по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что покрытие оксида цинка-олова представляет собой барьерный слой от проникания газов и паров.
8. Покрытая пластиковая подложка по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что она имеет антиотражающий слой на покрытии оксида цинка-олова.
9. Покрытая пластиковая подложка по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что пластиковая подложка является пластиковой пленкой.
10. Барьерное покрытие от проникания газов и паров, предпочтительно кислорода и/или паров воды, на основе оксида цинка-олова, где покрытие оксида цинка-олова получают на пластиковой подложке, которая не является полиэтилентерефталатом, путем процесса напыления в присутствии водорода в технологическом газе, и покрытая пластиковая подложка имеет коэффициент поглощения менее чем 0.5 л/мкм в области спектра от 380 до 430 нм.
11. Электронное устройство, включающее, по меньшей мере, одну покрытую пластиковую подложку согласн, по меньшей мере, одному из пп. 1-9 или, по меньшей мере, одно барьерное покрытие от проникания по п. 10.
RU2014154141A 2012-05-31 2013-05-28 Пластиковая пленка, покрытая оксидом цинка-олова, имеющая улучшенную способность оптического поглощения RU2014154141A (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP12170145 2012-05-31
EP12170145.2 2012-05-31
PCT/EP2013/060932 WO2013178613A1 (de) 2012-05-31 2013-05-28 Mit zink-zinn-oxid beschichtete kunststofffolie mit verbesserter optischer absorptionseigenschaft

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2014154141A true RU2014154141A (ru) 2016-07-20

Family

ID=48534396

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2014154141A RU2014154141A (ru) 2012-05-31 2013-05-28 Пластиковая пленка, покрытая оксидом цинка-олова, имеющая улучшенную способность оптического поглощения

Country Status (9)

Country Link
US (1) US20150184278A1 (ru)
EP (1) EP2855728A1 (ru)
JP (1) JP2015525288A (ru)
KR (1) KR20150023451A (ru)
CN (1) CN104781442A (ru)
BR (1) BR112014030056A2 (ru)
RU (1) RU2014154141A (ru)
TW (1) TW201412531A (ru)
WO (1) WO2013178613A1 (ru)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150086158A (ko) * 2014-01-17 2015-07-27 주식회사 엘지화학 배리어 필름 및 그 제조 방법
US10752985B2 (en) 2014-10-29 2020-08-25 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Laminate film and electrode substrate film, and method of manufacturing the same
WO2018084484A2 (ko) * 2016-11-02 2018-05-11 롯데첨단소재(주) 열가소성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 성형품

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1127381B1 (en) * 1998-11-02 2015-09-23 3M Innovative Properties Company Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays
US7947373B2 (en) * 2004-10-14 2011-05-24 Pittsburgh Glass Works, Llc High luminance coated glass
WO2007028060A2 (en) * 2005-09-02 2007-03-08 Southwall Technologies, Inc. Durable near-infrared blocking and emi shielding film for display filter
JP4961786B2 (ja) * 2006-03-17 2012-06-27 住友金属鉱山株式会社 透明導電膜、およびこれを用いた透明導電性フィルム
US7663165B2 (en) * 2006-08-31 2010-02-16 Aptina Imaging Corporation Transparent-channel thin-film transistor-based pixels for high-performance image sensors
DE102007019994A1 (de) 2007-04-27 2008-10-30 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Transparente Barrierefolie und Verfahren zum Herstellen derselben

Also Published As

Publication number Publication date
US20150184278A1 (en) 2015-07-02
KR20150023451A (ko) 2015-03-05
TW201412531A (zh) 2014-04-01
EP2855728A1 (de) 2015-04-08
BR112014030056A2 (pt) 2017-08-08
WO2013178613A1 (de) 2013-12-05
JP2015525288A (ja) 2015-09-03
CN104781442A (zh) 2015-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11492453B2 (en) Urea (multi)-(meth)acrylate (multi)-silane compositions and articles including the same
KR101602120B1 (ko) 장벽 필름, 장벽 필름의 제조 방법, 및 장벽 필름을 포함하는 용품
JP5966821B2 (ja) ガスバリア積層フィルム
US20150243816A1 (en) Methods of making barrier assemblies
RU2014154141A (ru) Пластиковая пленка, покрытая оксидом цинка-олова, имеющая улучшенную способность оптического поглощения
KR20180124912A (ko) 가스 배리어 필름, 유기 전자 장치, 유기 전계 발광 장치용 기판, 및 유기 전계 발광 장치
CN105829099A (zh) 叠层膜、及复合膜的制造方法
CN107922657A (zh) 包括多层阻隔组件的复合材料制品及其制造方法
JP6467867B2 (ja) 透明ガスバリア性フィルム
CN107922656B (zh) 复合制品及其制备方法
JP2005256061A (ja) 積層体
US20150214405A1 (en) Methods of making barrier assemblies
JP2013095111A (ja) ガスバリア積層フィルム
WO2022243756A1 (en) Ultraviolet radiation and atomic oxygen barrier films and methods of making and using the same
CN107921753B (zh) 包括多层阻挡组件的复合制品及其制备方法
JP2013154584A (ja) ガスバリア性フィルム及びその製造方法並びにガスバリア性フィルムを用いた装置
JP2016107556A (ja) ガスバリアフィルム
US20240229227A1 (en) Ultraviolet Radiation and Atomic Oxygen Barrier Films and Methods of Making and Using the Same
JP2014188750A (ja) ガスバリア性フィルムおよびその製造方法