TW201412531A - 具改良之光學吸收性質之塗覆氧化鋅錫的塑膠膜 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種特別是於380至430 nm之藍色光譜範圍內具改良之光學吸收性質之塗覆氧化鋅錫的塑膠膜，該氧化鋅錫塗層本身及製造方法，及包含對應的塗覆塑膠膜之電子裝置。

Description

具改良之光學吸收性質之塗覆氧化鋅錫的塑膠膜
本發明提供一種特別是於380至430 nm之藍色光譜範圍內具改良之光學吸收性質之塗覆氧化鋅錫的塑膠膜，該氧化鋅錫塗層本身及其製造方法，及包含對應的塗覆塑膠膜之電子裝置。
撓性電子元件的製程特別要求撓性基材保護該電子裝置免於受氧及水蒸汽影響。此種氧及水蒸汽之障壁係藉對應地塗覆撓性塑膠基材(特別是塑膠膜)來達成的，已知如(例如)氧化鋁、二氧化鈦或氮化矽之類的無機塗層適合作為此障壁塗層之塗層，根據EP 2 148 899 A1，氧化鋅錫(ZTO)亦適合作為塑膠基材之無機障壁塗層，例如用於食品包裝，根據EP 2 148 899 A1，應用於撓性塑膠基材上之此類塗層具有優於低破裂性的氧化鋁及氮化矽之優點。
然而，除了對氧及水蒸汽之滲透形成良好障壁的要求性質之外，用於撓性電子裝置的該撓性基材在可見光譜範圍必須展現良好透射率(transmission)，為此目的，因為該裝置在該可見光譜範圍內局部增加的吸收度導致顏色位移及因此造成假的色象(colour impression)，因此在該光譜範圍之吸收度在任何範圍內無法明顯地增加，而在低於430 nm之藍色光譜範圍，ZTO具有高吸收度之缺點，其在塗層中產生微黃色像及因而不適用於電子裝置，常用的ZTO塗層如(例如)於EP 2 148 899 A1所述，例如層厚度為90 nm、在380至430 nm光譜範圍具有吸收度大於4%。
因此，需要改良此類ZTO塗層的吸收性質，從而改良該塗覆基材之吸收性質，特別是還能使彼等作為撓性電子裝置之障壁-塗覆基材。
由B.-Y.Oh et al.,Journal of Crystal Growth 281(2005)475-480，已知用作為透明導電塗層之藉濺鍍塗布之摻雜鋁的氧化鋅層體(ZnO：Al)，以氫隨後熱處理結果，在300至700 nm之光譜範圍展現改良的電性及光學性質，而為此目的，該塗層必需在氫氛圍中300℃溫度下經處理10至120分鐘，然而無法得知此H2後處理對氧化鋅錫障壁塗層的效應，此外，該後處理不僅需另外、非常昂貴的用於大規模製造方法之步驟，且也由於在相當高溫度下使用純氫而將要求與方法相關的安全性測量之高安全性風險，如(例如)此類系統之相對應密封，此後處理則無法於連續製造方法中進行或僅能以高費用進行，此外，此後處理不適用在來自高溫之塑膠基材。
依此，基於本發明之目的，係提供一種塗覆ZTO障壁塗層的基材，及一種ZTO障壁塗層，和已知的ZTO塗層比較下，該塗層具有改良之光學吸收性質，及係發現一種製造其的簡單方法。
令人驚訝的是，藉由濺鍍方法之方式，於存在氫的處理氣體中藉進行此類ZTO塗層之沉積而達成該目的。
令人驚訝地發現，於存在H2的處理氣體中，一方面產生在380至430 nm之光譜範圍內具有低吸收係數之障壁塗層，且另一方面該塗層的障壁性質仍和以常用方式於沒有氫的處理氣體中製得的障壁層之性質一樣好，由於存在於處理氣體中的H2造成壓力增加，其接著使產生的障壁層之孔隙度增加，這是該項技術領域熟悉者無法預期的，增加的孔隙度會負面影響該層體的障壁性質，而非常令人驚訝的是根據本發明之塗覆塑膠基材並沒有這情況。
依此，本發明提供一種塗覆的塑膠基材，其包含一底層(base layer)，該底層包含至少一種塑膠材料(較佳至少一種熱塑性塑膠材料)及至少一層氧化鋅錫塗層，其特徵在於該氧化鋅錫塗層係以濺鍍方法於存在有氫的處理氣體中製造。
該氧化鋅錫塗層可直接位於該底層上，該底層包含至少一種塑膠材料，較佳至少一種熱塑性塑膠材料，而根據本發明亦可包含另外層 體位於該底層與該氧化鋅錫塗層之間。
本發明進一步提供一種用於氣體及蒸汽之以氧化鋅錫為基底的滲透障壁塗層，該氣體及蒸汽較佳為氧、氮及/或水蒸汽，特佳為氧及/或水蒸汽，其特徵在於該氧化鋅錫塗層係以濺鍍方法於存在有氫的處理氣體中製造，根據本發明之塗層可另為一用於氮之另外的滲透障壁塗層。
圖1顯示進行輥對輥程序的配置概略圖。
圖2顯示介於380至430 nm之由透射率及反射率計算得的光學吸收度光譜之放大區域。
和在沒有添加氫至處理氣體中製造的塗層比較下，此類氧化鋅錫塗層令人驚訝的是在380至430 nm之藍色光譜範圍內具有明顯較低的吸收度，從而具較淡的黃色色調，在該光譜範圍內可將吸收度降至小於5%，較佳小於4%，於濺鍍方法中藉添加氫至該處理氣體中製造的ZTO塗層對吸收性質的效果更令人驚訝的是，由於不需要純的氫氛圍(如B.-Y.Oh et al.中所述)，故即使在該處理氣體中相當小量的氫足以改良該吸收度。除了氫之外，於藉濺鍍方法製造，該處理氣體包含至少一種稀有氣體，較佳為氬，特佳為於藉濺鍍方法製造，該處理氣體另外包含氧。
該處理氣體包含較佳0.1至20 vol.%，特佳0.5至15 vol.%，最佳1至12 vol.%之氫。該vol.%數字係以該包括可存在的任何稀有氣體之處理氣體的總體積為基準。
於該塗層中的氧化鋅錫較佳為元素鋅、錫及氧之化學組成，其中以質量計該鋅的含量為5至70%，較佳為10至70%。
又較佳地，該氧化鋅錫為ZnSnxOy，其中x代表0.2至10.0之數及y代表1.4至21.0之數，此氧化鋅錫為所稱的混合氧化物，係具不同含量的相ZnSnO3、Zn2SnO4及選擇地另外的ZnO及SnO2及選擇地未反應的Zn及Sn。
為了改良該障壁性質，一層或以上的氧化鋅錫塗層可被施用於該基材。於本發明之特定具體實施例，該氧化鋅錫塗層亦可以其它層體代替，各例中，該氧化鋅錫塗層的厚度為10至1000 nm，較佳為20至500 nm，特佳為50至250 nm，於複數層的氧化鋅錫塗層之例中，其可為相同組成或不同組成ZnSnxOy。於本發明之較佳具體實施例，在個別氧化鋅錫塗層中的該組成ZnSnxOy實質上相同，此外，於複數層塗層之例中，該個別氧化鋅錫塗層的層厚度可為相同或不同。於本發明之較佳具體實施例，該每一個別氧化鋅錫塗層的層厚度為相同，此外，於複數層塗層之例中，該層體之間的界面可為一明顯界面(sharp interface)(跨過該界面的組成變化為破壞性)或可為一連續界面(跨過該界面的組成變化連續超過預定距離)。
在380至430 nm之光譜範圍，該氧化鋅錫塗層較佳具有吸收係數為小於0.5 l/μm，特佳小於0.3 l/μm，可使用常用的光譜儀藉測量透射率及反射率測定該吸收係數，由測得的數據計算該吸收度，及由在380至430 nm之光譜範圍測得討論的吸收度之平均值(mean value)，使用該層厚度可由其計算得該吸收係數。
該塑膠基材(較佳為熱塑性塑膠基材)包含一底層，該底層包含至少一種塑膠材料，較佳為至少一種熱塑性塑膠材料，較佳為撓性塑膠基材，特佳為單-或多層塑膠膜，該塑膠基材較佳為包含一底層之塑膠基材，該底層包含至少一種熱塑性塑膠材料，作為基材的多層熱塑性塑膠膜可為一熱塑性塑膠膜，該膜係藉由共-擠壓、擠壓層合或層合之方式製造，較佳為藉由共-擠壓之方式製造的熱塑性塑膠膜，該包含一底層的單-或多層塑膠膜具有厚度較佳為10 μm至1000 μm，特佳為20至500 μm，最佳為50至300 μm。
適用於該塑膠層體的熱塑性塑膠材料，彼此獨立地為熱塑性塑膠材料，選自乙烯性不飽和單體之聚合物及/或雙官能性反應性化合物之聚縮合產物，以透明的熱塑性塑膠材料為特別適宜。
特別適合的熱塑性塑膠材料為：以二酚類為基底的聚碳酸酯類或共聚碳酸酯類；聚-或共聚-丙烯酸酯類及聚-或共聚-甲基丙烯酸酯 類，如(例如及較佳)聚甲基丙烯酸甲基酯；含苯乙烯之聚合物或共聚物，如(例如及較佳)透明聚苯乙烯或聚苯乙烯丙烯腈(SAN)；透明的熱塑性聚胺酯類；還有聚烯烴類，如(例如及較佳)透明的聚丙烯型或以環烯烴類為基底的聚烯烴類(例如，TOPAS，Hoechst)；對苯二甲酸或萘二羧酸之聚-或共聚-縮合產物，如(例如及較佳)聚-或共聚-對苯二甲酸乙二酯(PET或CoPET)、乙二醇-改質的PET(PETG)或聚-或共聚-對苯二甲酸丁二酯(PBT或CoPBT)、聚-或共聚-萘二甲酸乙二酯(PEN或CoPEN)；或上述的混合物。
該熱塑性塑膠材料較佳為以二酚類為基底的聚碳酸酯類或共聚碳酸酯類、聚-或共聚-丙烯酸酯類、聚-或共聚-甲基丙烯酸酯類、含苯乙烯之聚合物或共聚物、熱塑性聚胺酯類、聚烯烴類、對苯二甲酸之共聚縮合產物、萘二羧酸之聚-或共聚-縮合產物，或其混合物。
於本發明之一具體實施例，該至少一種熱塑性塑膠材料不含聚對苯二甲酸乙二酯。
特別適宜者，為具有高透明度及低濁度值之彼等熱塑性塑膠材料，乃因他們特別適用於光學及光電應用，如(例如)於顯示器應用，此類熱塑性塑膠材料特佳為以二酚類為基底的聚碳酸酯類或共聚碳酸酯類、聚-或共聚-丙烯酸酯類、聚-或共聚-甲基丙烯酸酯類、或對苯二甲酸或萘二羧酸之聚-或共聚-縮合產物，如(例如及較佳)聚-或共聚-對苯二甲酸乙二酯(PET或CoPET)、乙二醇-改質的PET(PETG)、或聚-或共聚-對苯二甲酸丁二酯(PBT或CoPBT)、聚-或共聚-萘二甲酸乙二酯(PEN或CoPEN)，或上述的混合物。
此類塑膠膜及它們的製造為該項技術領域熟悉者已知的，及另可市售獲得。
於本發明之較佳具體實施例，一平滑層(smoothing layer)可被施用至該欲塗覆的塑膠基材之表面，較佳為該塑膠膜的表面，此類平滑層較佳具有一表面粗度(以Ra值(平均粗度)測量)為小於500 nm，特佳為小於200 nm，最佳為小於150 nm，於較佳具體實施例，此類平滑層具有表面粗度為小於100 nm，較佳為小於50 nm，特佳為小於20 nm， 使用Contour GT-KO Optical Surface-profiler根據DIN EN ISO 4287可測得此類平滑層的表面粗度。此平滑層體之預先施用可具有在氧化鋅錫塗層產生較少缺陷之優點，從而可達到對氣體及蒸汽(較佳對氧及/或水蒸汽)之較佳滲透障壁。
適用於此平滑層體的材料為該項技術領域熟悉者已知的，它們可為(例如)用於輻射-固化的塗層或以聚胺酯-或環氧樹脂為基底的塗層之塗覆組成物，適宜者為用於輻射-固化的塗層之材料，特別是以丙烯酸酯類為基底的組成物。
輻射-固化的塗層較佳可獲自包含輻射-可固化的聚合物及/或單體之塗覆組成物。
適合的輻射-可交聯的聚合物特別是可藉由電磁輻射之方式交聯的彼等聚合物，例如藉由UV射線、電子束、X-射線或伽瑪射線之方式，較佳藉由UV輻射或電子束之方式，特別適宜者為可藉由輻射方式交聯之帶有乙烯性不飽和基團的聚合物，此乙烯性不飽和基團可為(例如)丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、乙烯基醚、烯丙基醚及馬來醯亞胺基團，適合的乙烯性不飽和聚合物為(例如及較佳)(甲基)丙烯酸酯化的聚(甲基)丙烯酸酯類、聚胺酯(甲基)丙烯酸酯類、聚酯(甲基)丙烯酸酯類、聚醚(甲基)丙烯酸酯類、環氧(甲基)丙烯酸酯類、(甲基)丙烯酸酯化油類及不飽和的聚酯類(R.Schwalm,UV Coatings,2007,Elsevier,p.93-139)，特別適宜的乙烯性不飽和聚合物為(甲基)丙烯酸酯化的聚(甲基)丙烯酸酯類或聚胺酯(甲基)丙烯酸酯類。
適合的輻射-可交聯的單體特別是可藉由電磁輻射方式交聯的彼等單體，例如藉由UV射線、電子束、X-射線或伽瑪射線之方式，較佳藉由UV輻射或電子束之方式，較佳為不飽和單體，不飽和單體較佳可為：丙烯酸酯類或甲基丙烯酸酯類，較佳為丙烯酸C1-C20-烷基酯類或甲基丙烯酸C1-C20-烷基酯類；乙烯基芳香族化合物，較佳為C1-C20-乙烯基芳香族化合物，如(例如)苯乙烯、乙烯基甲苯、α-丁基苯乙烯或4-n-丁基苯乙烯；羧酸類之乙烯基酯類，較佳為C1-C20-羧酸類之乙烯基酯類，如(例如)月桂酸乙烯基酯、硬脂酸乙烯基酯、丙酸 乙烯基酯及乙酸乙烯基酯；乙烯基醚類，較佳為C1-C20-醇類之乙烯基醚類，如(例如)乙烯基甲基醚、乙烯基異丁基醚、乙烯基己基醚或乙烯基辛基醚；不飽和腈類，如(例如)丙烯腈或甲基丙烯腈；或具一個或以上雙鍵之烯類，較佳為一個或二個雙鍵，較佳為具一個或以上雙鍵之C2-C20-烯類，較佳為一個或二個雙鍵，如(例如)乙烯、丙烯、異丁烯、丁二烯或異戊二烯，該輻射-可交聯的單體特佳為丙烯酸酯類或甲基丙烯酸酯類，較佳為丙烯酸C1-C20-烷基酯類或甲基丙烯酸C1-C20-烷基酯類。
此類丙烯酸酯類或甲基丙烯酸酯類(較佳為丙烯酸C1-C20-烷基酯類或甲基丙烯酸C1-C20-烷基酯類)之適合實例，為丙烯酸甲基酯、丙烯酸乙基酯、丙烯酸n-丁基酯、丙烯酸異丁基酯、丙烯酸tert-丁基酯、丙烯酸2-乙基-己基酯、丙烯酸異癸基酯、丙烯酸n-月桂基酯、丙烯酸C12-C15-烷基酯類、丙烯酸n-硬脂基酯、丙烯酸n-丁氧乙基酯、丙烯酸丁氧二乙二醇酯、丙烯酸甲氧三乙二醇酯、丙烯酸環己基酯、丙烯酸四氫糠基酯、丙烯酸苄基酯、丙烯酸2-苯氧乙基酯、丙烯酸異莰基酯(isobornyl acrylate)、丙烯酸2-羥乙基酯、丙烯酸2-羥丙基酯、丙烯酸2-羥乙基酯、丙烯酸2-羥丁基酯、丙烯酸2-羥丁基酯、二丙烯酸甲二醇酯、二丙烯酸丙三醇酯、二丙烯酸新戊二醇酯、二丙烯酸2-丁基-2-乙基-1,3-丙二醇酯、二丙烯酸三羥甲基丙烷酯、三丙烯酸季戊四醇酯、三丙烯酸丙三醇酯、三丙烯酸1,2,4-丁三醇酯、三丙烯酸三羥甲基丙烷酯、二丙烯酸三環癸烷二甲醇酯、四丙烯酸雙三羥甲基丙烷酯、四丙烯酸季戊四醇酯、四丙烯酸二季戊四醇酯、五丙烯酸二季戊四醇酯、六丙烯酸二季戊四醇酯，及對應的甲基丙烯酸酯類，另外上述提及的烷氧化的(較佳為乙氧化的)丙烯酸酯類及甲基丙烯酸酯類也適合作為丙烯酸酯類及甲基丙烯酸酯類。
用於該平滑層體的塗覆組成物係用於塗覆該基膜(base film)，較佳包含至少一種適合的光起始劑，該光起始劑亦可共價鍵結至該可交聯的聚合物，該輻射-誘導的聚合反應較佳藉由具有400 nm至1 pm波長的輻射方式進行，如(例如)UV射線、電子束、X-射線或伽瑪射線。
當使用UV輻射時，在光起始劑存在下起始固化，至於相關光起始劑為單分子型(I)及雙分子型(II)，理論上在兩種類型之間有區分，適合的型(I)系統為芳香族酮化合物如(例如)二苯基酮類(benzophenone)與三級胺類之組合、烷基二苯基酮類、4,4'-雙(二甲基胺基)二苯基酮類(Michler's酮)、蒽酮(anthrone)及鹵化的二苯基酮類或上述種類的混合物，又適合的型(II)起始劑如苯偶姻(benzoin)及它的衍生物、二苯乙二酮縮酮類(benzil ketals)、醯基膦氧化物、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基膦氧化物、雙醯基膦氧化物、苯乙醛酸酯類(phenylglyoxylic acid ester)、樟腦酮(camphorquinone)、α-胺基烷基苯酮類、α,α-二烷氧基苯乙酮類(α,α-dialkoxyacetophenone)及α-羥基烷基苯酮類，以可易於併入該水性分散液之光起始劑為較佳，此類產品為(例如)Irgacure 500(二苯基酮類與(1-羥基環己基)苯基酮之混合物，BASF SE，Ludwigshafen,DE)、Irgacure 819 DW(苯基雙-(2,4,6-三甲基苯甲醯基)膦氧化物，BASF SE，Ludwigshafen,DE)、Esacure® KIP EM(寡聚-[2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)-苯基]-丙酮]，Lamberti,Aldizzate，Italy)，亦可使用彼等化合物的混合物。
該氧化鋅錫塗層較佳為用於氣體及蒸汽，特佳為氧、氮及/或水蒸汽，最佳為氧及/或水蒸汽，極佳為氧及水蒸汽之滲透障壁層。
於根據本發明之塗覆薄膜，較佳可將一抗反射層施用至該最外層、或至該氧化鋅錫塗層，該根據本發明塗覆的塑膠基材(較佳為塑膠膜)之透射率可藉諸如此類的抗反射層而再提高，此類層體為該項技術熟悉者已知的，它們可為(例如)具低折射率的材料層體(如(例如)SiO2、MgF2或其類似材料)、其中具不同折射率代替材料之薄的材料層體之複合多層結構、或具折射率梯度之層體。
根據本發明塗覆的塑膠基材(較佳為塑膠膜)較佳在可見光譜範圍具有透射率為大於75%，特佳為大於80%，最佳地，根據本發明塗覆的塑膠基材在可見光譜範圍亦可具有透射率為大於85%，甚佳為大於90%，特別是與另外的抗反射層之組合。
根據本發明塗覆的塑膠基材(較佳為塑膠膜)較佳具有氧滲透率為 小於0.5cm3/m2/日，特佳為小於0.1cm3/m2/日，及/或水蒸汽滲透率為小於0.1g/m2/日，特佳為小於0.01g/m2/日。
根據本發明塗覆的塑膠基材(較佳為塑膠膜)可以簡單方法而不需另外複雜的後處理步驟製造，特別是經由輥對輥方法之連續製程是可行的。
本發明進一步提供一種製造根據本發明塗覆的塑膠基材(較佳為塗覆塑膠膜)之方法，其中藉由真空濺鍍方法之方式將至少一層氧化鋅錫塗層施用至一塑膠基材(較佳為塑膠膜)，其特徵在於該處理氣體包含氫。
用於濺鍍方法之適合的靶材(電極)較佳為由合金製成，該合金至少包含鋅及錫或至少包含氧化鋅錫，當使用氧化鋅錫靶材時，亦可包含少量另外的添加物，如(例如)氮。
除了氫之外，藉濺鍍方法之製法中的該處理氣體包含至少一種稀有氣體(較佳為氬)，較佳地，該處理氣體另外包含氧，特別是當靶材為包含鋅及錫之合金的靶材(較佳為主要包含鋅及錫之合金的靶材)時，氧在處理氣體中是必須的。
於較佳具體實施例，根據本發明之方法係連續進行，該製法特佳可藉簡單的輥對輥方法進行(參照圖1)。
圖1顯示進行此項輥對輥方法之配置概略圖。
濺鍍方法可使用所有常用的及已知的方法，如(例如)直流電(direct-current)濺鍍(DC濺鍍)、高頻(high-frequency)濺鍍(HF濺鍍)、離子束濺鍍、磁控(magnetron)濺鍍或反應性濺鍍，氧化鋅錫層體較佳藉由金屬性靶材之DC濺鍍方式製造，較佳選用可提高方法穩定性之雙磁控配置(double magnetron arrangement)，特佳利用介於10至100 kHz之脈衝式直流電操作該系統，而使用高頻濺鍍(HF濺鍍)同樣可行，由此特別可用於陶瓷性氧化鋅錫靶材之濺鍍。
使用的靶材之幾何形狀變化性大，可使用平面方形靶材，亦可施用所稱的管式靶材，藉此確保長的方法生命期。
根據本發明之滲透障壁塗層或根據本發明塗覆的塑膠基材皆適用 於包裝材料之製造，及由於它們的光學性質，亦適用於電子裝置(特別是撓性電子裝置)之製造。
依此，本發明進一步提供一種根據本發明之滲透障壁塗層或根據本發明塗覆的塑膠基材之用途，係用於包裝材料之製造或用於電子裝置(較佳為撓性電子裝置)之製造。
該包裝材料可為用於食品包裝的包裝材料，或用於對氧及/或水蒸汽敏感的工業物品之包裝的包裝材料，如(例如)太陽能電池、薄膜太陽能電池、鋰系薄膜電池、有機發光二極體、透明的(選擇性真空絕緣的)面板、平面有機發光元件、LCD顯示器、TFT顯示器等。
本發明進一步提供一種電子裝置，較佳為一種撓性電子裝置，包含至少一種根據本發明塗覆的塑膠基材或至少一種根據本發明之滲透障壁塗層。
電子裝置，特別是撓性電子裝置，可為(例如)E-閱讀器、LCD螢幕、LCD電視機、OLED顯示器及發光裝置、觸控面板、PDAs、行動電話等。
藉由實施例方式，下述實施例作為說明本發明，而不作為限制解釋。
實施例：
於一輥對輥真空塗覆裝置中，在下列條件下，將氧化鋅錫濺鍍層體施用至一Makrofol®DE 1-1聚碳酸酯薄膜(薄膜寬度600 mm，薄膜厚度175 μm)：塗覆技術：
- 脈衝式磁控濺鍍
- 中頻脈衝50 kHz
- 雙磁控配置
- 鋅錫靶材
- 控制的反應程序
- 電力10 kW
於沒有氫的處理氣體中，藉濺鍍將層厚度為70 nm及115 nm的氧化鋅錫(ZTO)層體各自施用至一聚碳酸酯基材，該處理氣體係含130 sccm氧及200 sccm氬組成；於存在35 sccm氫之處理氣體中，藉濺鍍，將一厚度110 nm之ZTO層及一厚度70 nm之ZTO層各自施用至一聚碳酸酯基材，除了氫之外，此處該處理氣體含130 sccm氧及200 sccm氬組成；測定該四個塗覆有ZTO層體之基材的光學透射率Tvis及層吸收度Ablue。
藉由得自PerkinElmer之Lambda 900光譜儀(檢測範圍350至800 nm，包括基材之透射率及反射率的檢測，使用積分球(integrating sphere)(Ulbricht sphere)，藉由透射率及反射吸收度之方式計算，藉基材的吸收度校正)，進行該光學光譜檢測。
根據DIN EN 410，不考慮標準光源D65的光譜分布，按照測定光透射率τv的程度，進行光學透射率Tvis的計算。
藉基材效應校正，取380至430 nm之波長範圍的吸收度光譜的平均值，進行層吸收度Ablue的計算。
接著，如下式計算吸收係數：吸收係數[1/μm]=1000．ln(100/(100-Ablue[%]))/層厚度[nm]。
該結果顯示，與沒有氫的處理氣體相較下，在存在氫的處理氣體 中，在380至430 nm之光譜範圍的吸收度明顯較低，其明顯地降低不希望的黃色色調之風險；這結果清楚示於圖2，該圖2係顯示介於380至430 nm之光學吸收度光譜(由透射率及反射率計算得)之放大區域。
存在氫之反應性氣體不會損及該層體在可見光譜範圍之良好透射率。
在有氫之處理氣體中製造的樣品與在沒有氫之處理氣體中沉積的具相等層厚度之樣品之比較，在檢測誤差範圍之內，在具有厚度約70 nm的層體(比較例1及實施例2)顯示差異性；對具有厚度約110 nm的層體(比較例2及實施例1)，該水蒸汽透射速率(WVTR)值相同，而僅有該氧透射速率(OTR)在檢測誤差範圍之內仍有差異性。

Claims (11)

  1. 一種塗覆的塑膠基材，包含一底層，該底層包含至少一種塑膠材料及至少一種氧化鋅錫塗層，其中該氧化鋅錫塗層可藉濺鍍方法於存在氫的處理氣體中製得，該至少一種塑膠材料不包含聚對苯二甲酸乙二酯，及該塗覆的塑膠基材在380至430 nm之光譜範圍具有一吸收係數為小於0.5 l/μm。
  2. 根據申請專利範圍第1項之塗覆的塑膠基材，其特徵在於在該底層的至少一種塑膠材料為熱塑性塑膠材料，其中該至少一種熱塑性塑膠材料不包含聚對苯二甲酸乙二酯。
  3. 根據申請專利範圍第1或2項之塗覆的塑膠基材，其特徵在於該塑膠材料為以二酚類為基底的聚碳酸酯類或共聚碳酸酯類、聚-或共聚-丙烯酸酯類、聚-或共聚-甲基丙烯酸酯類、含苯乙烯之聚合物或共聚物、熱塑性聚胺酯類、聚烯烴類、對苯二甲酸之共聚縮合產物、萘二羧酸之聚-或共聚-縮合產物，或其混合物。
  4. 根據申請專利範圍第1至3項中至少一項之塗覆的塑膠基材，其特徵在於該氧化鋅錫為元素鋅、錫及氧之化學組成，其中鋅含量以質量計為5至70%。
  5. 根據申請專利範圍第1至4項中至少一項之塗覆的塑膠基材，其特徵在於該處理氣體另外包含氧。
  6. 根據申請專利範圍第1至5項中至少一項之塗覆的塑膠基材，其特徵在於各狀況下該氧化鋅錫塗層的厚度為10至1000 nm。
  7. 根據申請專利範圍第1至6項中至少一項之塗覆的塑膠基材，其特徵在於該氧化鋅錫塗層係為氣體及蒸汽之滲透障壁層。
  8. 根據申請專利範圍第1至7項中至少一項之塗覆的塑膠基材，其特徵在於在該氧化鋅錫塗層上具有一抗反射層。
  9. 根據申請專利範圍第1至8項中至少一項之塗覆的塑膠基材，其特徵在於該塑膠基材為一塑膠膜。
  10. 一種氣體及蒸汽之滲透障壁塗層，較佳為氧及/或水蒸汽之滲透障壁塗層，其係以氧化鋅錫為基底，其中藉濺鍍方法於存在氫的處理氣體中，在不是聚對苯二甲酸乙二酯的塑膠基材上可製得該氧化鋅錫塗層，及該塗覆的塑膠基材在380至430 nm之光譜範圍具有一吸收係數為小於0.5 l/μm。
  11. 一種電子裝置，其包含申請專利範圍第1至9項中至少一項所述的至少一種塗覆的塑膠基材或根據申請專利範圍第10項所述的至少一種滲透障壁塗層。
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