NO117942B - - Google Patents

Description

Fremgangsmåte til rensning av en gass ved frysebehandling.

Foreliggende oppfinnelse angår rensning av gasser ved frysebehandling, som siden skal behandles ved lave temperaturer, for eksempel i et anlegg for å skille gasser fra hverandre ved kondensasjon og rektifi-sering. Denne fremgangsmåte foregår ved såkalt periodisk omstilling av gasstrømmer, hvor gassen som behandles (f. eks. luft) går inn i et varmeutvekslingskammer under trykk hvor den avkjøles og avsetter sine lett kondenserbare forurensninger (f. eks. av vann og kullsyre), mens iallfall en del av den behandlede gass (f. eks. kvelstoff), såkalt spylegass, under et lavere trykk ledes inn i et annet utvekslingskammer hvor de oppvarmes og fordamper forurensningen som ble utskilt av gassene i en foregående periode. Ved slutten av hver periode omstilles gasstrømmene på slik måte at de utgående gasser passerer gjennom kammeret, hvor de inngående gasser i samme periode utskilte sine forurensninger.

Man kjenner omstillbare utvekslere

som virker etter dette prinsipp, som bare består av to omstillbare kammere, hvor den inngående gass og en del av den utgående gass passerer i motstrøm med hverandre, således at varmeutvekslingen foregår direkte mellom gassen under rensning og spylegassen.

Denne anordning medfører en alvorlig

ulempe. Spylegassen har jo et vesentlig lavere trykk enn den inngående gass. Under disse forhold vil temperaturforskjellen mellom de to fluida under varmeutvekslingen

.øke fra utvekslerens varme til dennes kalde

ende, fordi den spesifikke varme av en komprimert gass er større enn den spesifikke varme av den samme gass ved lavt trykk. Forurensningene som avsetter seg i nærheten av den kalde ende vil derfor under spylingen være utsatt for en vesentlig lavere temperatur enn da den ble utskilt. Forurensningens dampspenning varierer sterkt med temperaturen, så det vanligvis er umulig å fjerne den hele mengde forurensninger med den til rådighet stående mengde spylegass.

Man har forsøkt mange kunstgrep for å unngå denne ulempe uten dog å komme frem til en tilfredsstillende løsning av pro-blemet.

Ved hjelp av fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen blir det derimot mulig å fjerne den hele mengde forurensninger med stor sikkerhet i alle tilfeller. Oppfinnelsen er kjennetegnet ved at man suksessivt leder gassen som behandles gjennom en første utvekslers to kammere i motstrøm med seg selv, idet den mellom de to gjennomløp av-kjøles ved tilførsel av kulde utenfra og derpå ledes den inn i et av kamrene til en annen med den første utveksler identisk utveksler, idet tilførselen av kulde og ut-vekslernes egenskaper avpasses slik at temperaturen til gassen som behandles ved utløpet fra den første utvekslers kalde ende er lavere enn spylegassens temperatur ved innløpet til den annen utvekslers kalde ende.

Gassen som behandles vil således av-sette sine forurensninger i den første utvekslers første kammer, mens spylegassen fordamper de i den annen utveksler utskilte forurensninger i den foregående periode. Den første utveksler arbeider følgelig ute-lukkende som renseapparat, idet gassen som behandles forlater denne praktisk talt med samme temperatur som ved innløpet, og den annen utveksler arbeider utelukken-de som temperaturutveksler.

Det er alltid mulig å beregne en utveksler slik at gasstemperaturen ved utløpet fra den første utvekslers første kammer med en liten kuldetilførsel er lavere enn spylegassens temperatur ved innløpet til den annen utveksler. Da trykkene i den første utvekslers to kammere alltid er de samme, foregår varmeutvekslingen i disse med konstant temperaturforskjell; mens temperaturforskjellen i den annen varmeutveksling varierer sterkt fra den varme til den kalde ende. Herved økes også forskjellen mellom spylegassens og gassens temperatur overalt mellom den kalde og varme ende under rensningen. På hvert sted i utveksleren vil derfor forurensningenes avsetningstemperatur alltid være lavere enn deres fordamp-ningstemperatur. Alle forurensninger vil derfor fjernes med sikkerhet.

For å oppnå dette resultat selv ved den kalde ende er det vanligvis, og særlig når trykkene til gassen som behandles og spylegassen er meget forskjellige, nødvendig å oppvarme spylegassen før den går inn i den annen utveksler, så avvikelsen mellom forurensningenes utspylings- og avsetningstemperatur blir tilstrekkelig stor. Denne oppvarmning kan oppnås uten kuldetap ved hjelp av en væskekjøler, i tilfelle de rensede gasser deretter behandles i et anlegg, hvor gassen skilles ved kondensasjon og rekti-fikasjori i dobbeltkolonnne. I de fleste tilfeller er det også fordelaktig å oppvarme gassen som behandles ved dens utløp fra den første og før dens innløp i den annen utveksler, for å utlikne temperaturforskjellen ved den første utvekslers varme ende, så man, selv ved den annen utvekslers varme ende, oppnår en utspylingstempera-tur, som er høyere enn forurensningenes avsetningstemperatur .

Hvis kuldetilførselen ved den første utvekslers kalde ende, oppvarmningen av gassene som behandles og eventuelt oppvarmingen av spylegassene foretas i bad av stof-fer som er i flytende tilstand i nærvær av deres gassfase og i likevekt med denne, vil de to utvekslere arbeide mellom helt be-stemte temperaturnivåer, hvorved systemet vil arbeide stabilt.

Ved den foretrukne utførelsesform av

oppfinnelsen er de to utvekslere rørformete, f. eks. av «Hampson»-typen, og gassgjennom-løpene er anordnet slik at den første utvekslers første kammer og også det kammer i den annen utveksler, hvorigjennom spylegassen passerer, dannes av rommet mellom yttervegegne og rørene i hver utveksler. Forurensninger avsetter seg derfor alltid på rørenes utside hvor det er bedre plass. Dertil kommer at spylegassene, som har lavt trykk, alltid sirkulerer på utsiden av rørene, med derav følgende mindre tap.

Ifølge en annen utførelsesform av oppfinnelsen, som gjør det mulig å forvarme spylegassen så sterkt man vil, foretas til-førselen av kulde utenfra for å avkjøle gassen som skal behandles mellom dens gjen-nomløp gjennom den første utvekslers to kammere, i en første ekstrautveksler i mot-strøm med spylegassen. Denne første ekstrautveksler gjør også tjeneste som en ekstra renseanordning, hvor gassen som behandles avsetter de forurensninger, som fremdeles er tilstede etter å ha passert gjennom den første utvekslers første kammer, mens den annen hjelpeutveksler, som kan ombyttes med den første, gjennom-strømmes i motstrøm av en del av gassen som behandles fra den annen hovedutveksler og dessuten av spylegassen fra den før-ste hjelpeutveksleren.

I denne anordning medrives de i den foregående periode i den annen hjelpeutveksler avsatte forurensninger og spylegassen forvarmes i. de to hjelpeutvekslere.

Tegningene viser flere utførelsesfor-mer av apparater egnet for utførelse av oppfinnelsen anvendt på rensning av vannstoff, som inneholder små mengder kvelstoff i et anlegg for fabrikasjon av deuterium ved kondensasjon og rektifikasjon av vannstoff.

Fig. 1 viser skjematisk en utførelses-form av apparatet,

fig. 2 viser grafisk temperaturene Ul gassen som behandles og spylegassen som en funksjon av avstanden fra den kalde ende under deres gjennomløp gjennom det i fig. 1 viste apparatets to utvekslere, og særlig forurensningenes avsetnings- og fordampningstemperaturer på de forskjellige steder i hver utveksler,

fig. 3 viser en annen utførelsesform av renesapparatet, hvor hjelpeutvekslerne ombyttes samtidig med hovedutvekslerne,

fig. 4 viser en tredje utførelsesform av renseapparatet, hvor hjelpeutvekslerne ikke ombyttes samtidig med hovedutvekslerne

og fig. 5 viser grafisk de omtrentlige temperaturer til gassen som behandles og

spylegassen i apparatet i fig. 3 og 4 som en funksjon av avstanden fra hjelpeutvekslernes kalde ende under deres gjennomløp gjennom de to hovedutvekslere og de to hjelpeutvekslere og særlig forurensningenes avsetning- og fordampningstemperaturer på forskjellige steder i utvekslerne.

Det i fig. 1 viste renseapparat utgjør en del av et anlegg for fabrikasjon av deuterium ved kondensasjon og rektifikasjon av vannstoff.

Vannstoffet som skal behandles inneholder spor av kvelstoff, som må fjernes fullstendig før innledningen i separeringskolonnen.

Renseapparatet har to utvekslere 1 og 2 av «Hampson»-typen hvis vegger tåler vannstofftrykket. Det urene vannstoff ledes under trykk, f. eks. 30 atm., inn gjennom røret 3. Når ventilen 4 er åpen og ventilen 5 lukket strømmer det urene vannstoff inn i rommet mellom utvekslerens 1 vegger og yttersiden av dens rør og går ut gjennom røret 6. Når ventilen 7 er åpen og ventilen 8 lukket vil vannstoffet passere videre gjennom en rørslange 9, som er neddykket i flytende, ved en atmosfæres trykk kokende vannstoff og når ventilen 10 er lukket vende tilbake til utveksleren 1, men denne gang gjennom rørenes indre og ut gjennom røret 11, og passere gjennom rør-slangen 12, som er neddykket i et kvelstoff-bad som er i nærvær av dettes gassfase og i likevekt med denne ved en temperatur som er ekvivalent med temperaturen av gassen som behandles og som strømmer inn i apparatet gjennom røret 3. Denne temperatur er f. eks. i et bestemt tilfelle 63° K; i denne gass holdes altså kvelstoffet under et absolutt trykk på 9 cm Hg. Deretter passerer gassen gjennom utvekslerens 2 rør og forlater denne gjennom røret 13. Da ventilen 14 er åpen og ventilen 15 lukket, føres vannstoffet under trykk gjennom røret 16 til rektifikasjonskolonnen 34, etterat dets initialtrykk ved ekspansjon er blitt nedsatt til den første rektifikasjonskolonnes trykk, f. eks. gjennom en ekspansjonsventil 16a.

På den annen side vil vannstoff under lavt trykk (1 atm.) — befridd for sitt deuterium i den dobbelte rektifikasjonskolonne som deuteriumet forlater gjennom røret 35

— strømme gjennom røret 17 og, før det forlater separasjonanlegget, gjennom væ-skekjøleren 18 i motstrøm med flytende vannstoff, som kommer fra den første rektifikasjonskolonne under et trykk av f. eks. 3 atm. Dette flytende vannstoff har altså en temperatur på 24° K; det avkjøles til 20° K mens det oppvarmer til 24° K, det

gassformede vannstoff som forlater den annen kolonne under atmosfæretrykk og ved 20° K, og strømmer inn i væskekjøleren. Den således underkjølte væske, som forlater utvekslerens 18 kolde ende, ekspanderes gjennom en ventil inn i den annen rektifikasjonskolonne med 1 atm. trykk og 20° K temperatur, i hvilken den befries for sitt deuterium. Fra kjøleren passerer vannstoffet, da ventilene 8 og 15 er lukket og ventilen 20 er åpen, inn i utveksleren 2 mellom dennes vegger og rør og derfra, da ventilen 22 er åpen og ventilen 5 lukket, ut av anlegget gjennom løret 23, da ventilen 24 er lukket.

I den påfølgende periode er de lukkede ventiler åpne og de åpne ventiler lukket. Rørslangen 9 vil da være utkoblet og erstat-tet med en liknende rørslange 25, men man kan selvfølgelig med hjelp av passende ventiler klare seg med bare en rørslange, iste-denfor de to slanger 9 og 25.

Under overgangen mellom hver omstilling kan gassene med lavt trykk unn-vike gjennom grenledningen 26 med ventil 27.

For å forkorte omstillingstiden mest mulig, er det termodynamisk sett fordelaktig å sette rommene i de to utvekslere mellom veggene og rørene i forbindelse med hverandre ved tilsvarende temperaturnivåer ved hjelp av flere f. eks. fire rør 28, med ventiler 29, som åpnes når omstillin-gen skal foregå. På denne måte kan man nesten øyeblikkelig utlikne trykkene i de to kammere utenfor rørene, så man mest mulig unngår enhver forandring av tempe-raturfordelingen langs de to utvekslere.

Fig. 2 viser grafisk gassens og spylegassens temperaturer som en funksjon av avstanden fra den kalde ende under deres gjennomløp gjennom de to utvekslere. Avstanden x fra den kalde ende er oppført som absisse og temperaturene T (Kelvin - grader) som ordinat. Hver utvekslers sam-lede lengde er betegnet med 1.

Gassen som behandles går ved en temperatur av 63° K inn i utveksleren 1 (eller 2), hvor den avkjøles til 22° K etter kurven

30, som praktisk talt følger en rett linje. Derpå avkjøles gassen til 20° K i rørslangen 9 (eller 25) og oppvarmes deretter til 61° K

i den samme utvekslers rør etter kurven 31, som er parallell med kurven 30, hvoretter gassen i rørslangen 12 oppvarmes til 63° K, altså samme temperatur som den hadde ved innløpet til utveksleren.

Gassen som behandles går så inn i utvekslerens 2 (eller 1) rør, hvor den av-kjøles til omtrent 32° K etter kurven 32 med nedadrettet konkavitet, og inn i separeringskolonnen.

På den annen side går spylegassen fra væskekjøleren 18 inn i utveksleren 2 (eller 1) ved en temperatur av 24° K. Temperaturforskjellen ved utvekslerens varme ende er vanligvis meget liten, så spylegassen oppvarmes til praktisk talt 63° K etter kurven 33, hvis konkavitet nødvendigvis også vender nedover på samme måte som kurven 32, hvoretter gassen forlater apparatet.

De stivnede forurensninger, fortrinsvis kvelstoff, avsettes under gassens avkjøling etter kurven 30, dvs. i rommet mellom utvekslerens 1 (eller 2) vegger og yttersiden a\ rørene i denne, mens de avsatte forurensninger fordampes under spylegassenes oppvarming etter kurven 31, så de altså tas med ut av rommet mellom utvekslerens 2 (eller 1) vegger og rør. På grunn av den innbyrdes stilling til de to kurvers ende-punkter og kurvens 33 konkavitet vil denne alltid befinne seg over kurven 30. Følgelig vil fordampningstemperaturene alltid være høyere enn avsetningstempera-turene.

Det i fig. 3 viste renseapparat har to hovedutvekslere 1 og 2 og to hjelpeutvekslere 101 og 201 av «Hampson»-typen, hvis vegger tåler trykket av vannstoffet som behandles.

Det urene vannstoff ledes under trykk (f. eks. 30 atm.) inn gjennom 3. I en periode er ventilen 4 åpen og ventilene 5 og 24 er lukket. Det urene vannstoff går altså inn i rommet mellom hovedutvekslerens 1 vegger og yttersiden av dennes rør ut gjennom røret 6.

Derpå går vannstoffet inn i rommet mellom hjelpeutvekslerens 101 vegger og yttersiden av dennes rør og ut gjennom røret 102. Da ventilen 103 er åpen og ventilene 104 og 105 er lukket, vender vannstoffet tilbake til hovedutveksleren 1, men denne gang gjennom dennes rør. Det forlater utveksleren gjennom røret 11 og passerer gjennom en rørslange 12 som befinner seg i et ved 63° K kokende kvelstoff bad som er i kontakt med sin gassfase og i likevekt med denne. Derfra passerer vannstoffet gjennom hovedutveksleren 2 og fra denne ut gjennom røret 13 og gjennom hjelpeutveksleren 201, da ventilen 205 er åpen og ventilene 203 og 104 er lukket, og ut gjennom røret 206. Da ventilen 7 er åpen og ventilene 208 og 107 lukket, går vannstoffet under trykk gjennom røret 16 til rektifikasjonskolonnen 34 etter å ha ekspandert fra sitt initialtrykk til trykket i den første rektifikasjonskolonne, f. eks. gjennom en ekspansjonsventil 16a.

På den annen side går det for deuterium i rektifikasjonskolonnen befridde vannstoff under lavt trykk (ca. 1 atm) inn i hjelpeutvekslerens 101 rør gjennom røret 17 og røret 106, da ventilen 208 er lukket og ventilen 108 er åpen. Da ventilen 204 er åpen og ventilene 105 og 203 lukket, passerer gassen videre hjelpeutveksleren 201 og hovedutveksleren 2 mellom disses vegger og yttersiden av deres rør og ut av anlegget gjennom rørene 21 og 23, da ventilen 22 er åpen og ventilene 5 og 24 lukket.

I den påfølgende periode er de ovenfor lukkede ventiler åpne og de åpne ventiler lukket, således at hovedutvekslerne 1 og 2 og hjelpeutvekslerne 101 og 201 samtidig er ombyttet.

Grenledningen 26 med ventilen 27, rø-rene 28 med ventilene 29 er de samme som i fig. 1 og virker på samme måte.

I det i fig. 4 viste eksempel ombyttes ikke hjelpeutvekslerne samtidig med hovedutvekslerne. I dette eksempel er de deler som også finnes i fig. 3 gitt de samme henvisningstall som i det første eksempel og er ikke nærmere beskrevet.

Det i fig. 4 viste apparat har dessuten ifølge oppfinnelsen en rørslange 130, som er neddykket i det samme flytende kvel-stoffbad som rørslangen 12 og gjennom-strømmes av vannstoff under trykk før dette gjennom ventilen 4 går inn i hovedutveksleren 1. Videre er rørledningen 26 ombyttet til to rørledninger 26A og 26B som hver omsluttes av en rørslange i hovedutvekslerne 1 resp. 2, for partiell gjenvinning av kulde fra lavtrykksvannstoffet under hver omstillingsperiode.

For å muliggjøre forskjellige ombyt-ningsperioder for hjelpe- og hovedutvekslerne, er apparatet i fig. 4 utstyrt med 8 ekstraventiler 131, 132, 133, 134, 135, 136,

137 og 138. Er ventilene 131, 132, 133 og 134 åpne og ventilene 135, 136, 137 og 138 lukket og de øvrige ventiler innstilt som angitt i forbindelse med eksemplet i fig. 3,

vil vannstoff med høyt og lavt trykk sirku-lere som beskrevet ovenfor i eksemplet.

Hovedutvekslerne 1 og 2 omstilles ved samtidig innvirkning på disses ventiler og på ekstraventilene, idet man lukker ventilene 4 og 22 og også ventilene 131, 132, 133 og 134 og åpner ventilene 5 og 24 samt ventilene 135, 136, 137 og 138. Dette gjøres f. eks. hvert femte minutt.

Hjelpeutvekslernes 101 og 201 omstilling kan derimot foregå med meget større tidsmellomrom, f. eks. flere timer. Det gjø-res ved samtidig manøvrering av hjelpeutvekslernes ventiler og ekstraventilene. Går man ut fra at ventilene er innstilt som først angitt, lukkes følgelig ventilene 103, 205, 207, 108 og 204 samt ventilene 131, 132, 133 og 134 og: ventilene 104, 105, 203, 208 og 107 samt ventilene 135, 136, 137 og 138 åpnes.

Fig. 5 viser grafisk gassens og spylegassens temperaturer som en funksjon av avstanden fra hjelpeutvekslernes 101 og 201 kalde ende under deres gjennomløp gjennom de to hovedutvekslere og de to hjelpeutvekslere. Avstanden x fra den kalde ende er oppført som absisse og temperaturen (Kelvingrader) som ordinat. Hjelpeutvekslernes lengde er betegnet med 1 og hoved-utvekslernes lengde med L.

De deler av kurvene som svarer til gjennomløpet i hovedutvekslerne er vist med opptrukne linjer, og de som svarer til gjennomløpet i hjelpeutvekslerne med stre-kede linjer.

Gassen som behandles går inn i hovedutveksleren 1 (eller 2) med en temperatur av 63° K og derfra inn i hjelpeutveksleren 101 (eller 201). Vannstoffet avkjøles i mot-strøm med seg selv etter kurven a i hovedutveksleren og kulde tilføres etter kurven b i hjelpeutveksleren. Størsteparten av forurensningene avsetter seg i hovedutveksleren 1 (eller 2) og under gjennom-løpet gjennom hjelpeutveksleren 101 (eller 201) befris gassen for forurensninger, som fremdeles er tilstede etter gjennomløpet gjennom hovedutveksleren. Derpå oppvarmes gassen etter kurven c i hovedutvekslerens rør. Eventuelt oppvarmes gassen i rørslangen 12 til 63° K, dvs. samme temperatur som den hadde ved innløpet til hovedutveksleren.

Derpå går gassen som behandles inn i hovedutvekslerens 2 (eller 1) rør og inn i hjelpeutvekslerens 201 (eller 101), hvor den avkjøles etter kurvene d og e, og ledes derpå inn i separeringskolonnen, etter ekspansjon gjennom ventilen 16a.

På den annen side passerer spylegassen gjennom hjelpeutvekslerens 101 (eller 201) rør, hvor den oppvarmes etter kurven f og hjelpeutveksleren 201 (eller 101) hvor den oppvarmes etter kurven g. Under den før-ste del av oppvarmningen, etter kurven f, går vannstoff med lavt trykk inn i en av hjelpeutvekslernes 101 (eller 201) rør uten å møte avsetninger. Under den annen del av oppvarmingen etter kurven g kommer den i kontakt med de små mengder forurensninger som har avsatt seg omkring hjelpeutvekslerens 201 (eller 101) rør, men er da tilstrekkelig varm til med letthet å kunne fordampe disse.

De på denne måte oppvarmede spyle-gasser går derpå inn i hovedutveksleren 2 (eller 1) hvor de fordamper de avsatte forurensninger, idet gassen oppvarmes yt-terligere etter kurven h og forlater apparatet.

Forurensningene, særlig kvelstoff, avsetter seg under avkjøling av gassene som behandles etter kurvene a og b, mens deres fordampning foregår under spylegassens oppvarming etter kurvene g og h. På grunn av denne forvarming av spylegassen etter kurven f og de forskjellige kurvers form, vil kurven g-h alltid befinne seg over kurven a-b. Følgelig vil fordampningstemperaturene alltid være høyere enn de utskilte forurensningers temperaturer.

Claims (7)

1. Fremgangsmåte til ved utfrysing under periodisk omvending av gasstrømmen å rense gassblandinger som siden skal behandles ved lav temperatur, spesielt i et anlegg for å skille gasser fra hverandre ved kondensasjon og rektifikasjon, ved hvilken gassen som skal behandles føres under trykk inn i en varmeutvekslers kammer, hvor den avkjøles og avsetter sine stivnede forurensninger, mens i det minste en del av gassen som behandles, såkalt spylegass, under trykk passerer gjennom et annet hovedutvekslingskammer, hvor den oppvarmes og fordamper og tar med seg de i den forutgående periode avsatte forurensninger, karakterisert ved at man suksessivt leder gassen som behandles gjennom en første hovedutvekslers to kammere i mot-strøm med seg selv, idet den mellom de to gjennomløp avkjøles ved tilførsel av kulde utenfra, og derpå ledes den inn i et av kamrene til en annen med den første utveksler identisk utveksler, i motstrøm til spylegassen, idet tilførselen av kulde og utveksler-nes egenskaper avpasses slik at temperaturen av gassen som behandles ved utløpet fra den første utvekslers kalde ende er lavere enn spylegassens temperatur ved innløpet til den annen utvekslers kalde ende og at den første og den annen hoved-vekslers roller ombyttes periodisk.

2. Fremgangsmåte ifølge påstand 1, karakterisert ved at spylegassen oppvarmes før den går inn i den annen hovedutveksler.

3. Fremgangsmåte til rensing av en gass, som siden skal behandles i et anlegg for å skille gasser fra hverandre ved kondensasjon og rektifikasjon ifølge påstand 2, karakterisert ved at spylegassen oppvarmes ved å ledes gjennom en væskekjøler i det nevnte anlegg.

4. Fremgangsmåte ifølge påstand 1—3, karakterisert ved at gassen som behandles oppvarmes ved dens utløp fra den første utveksler og før dens innløp i den annén utveksler, for utlikning av forskjellen fra temperaturen ved den første utvekslers varme ende.

5. Fremgangsmåte ifølge påstand 1—4, karakterisert ved, at den nevnte tilførsel av kulde utenfra finner sted i en første hjelpe-varmeutveksler hvori det sirkulerer spylegass fra behandlingsanlegget, hvilken før-ste hjelpeutveksler også gjør tjeneste som en ekstra renseanordning, hvor gassen som behandles avsetter i fast form de forurensninger som fremdeles er tilstede etter at gassen har passert gjennom den første hovedutvekslers første kammer, mens for det ene gassen som behandles og som forlater den annen hovedutveksler og for det annet spylegassen som forlater den første hjelpeutveksler ledes i motstrøm gjennom en annen hjelpeutveksler som kan ombyttes med den første.

6. Fremgangsmåte ifølge påstand 5, karakterisert ved at de periodiske omstillinger av gasstrømmene, på den ene side i hovedutvekslerne og på den annen side i hjelp-utvekslerne, foretas samtidig.

7. Fremgangsmåte ifølge påstand 5, karakterisert ved at de periodiske omstillinger av gasstrømmene i hoved- resp. hjelpeutvekslerne foregår med forskjellige tidsmellomrom, idet hjelpeutvekslerne omstilles meget sjeldnere enn hovedutvekslerne.