NL9001800A - Methode voor het direct verkrijgen van amplitude- en fase-informatie van een object met behulp van beelden van een hoge-resolutie elektronenmicroscoop. - Google Patents

Methode voor het direct verkrijgen van amplitude- en fase-informatie van een object met behulp van beelden van een hoge-resolutie elektronenmicroscoop. Download PDF

Info

Publication number
NL9001800A
NL9001800A NL9001800A NL9001800A NL9001800A NL 9001800 A NL9001800 A NL 9001800A NL 9001800 A NL9001800 A NL 9001800A NL 9001800 A NL9001800 A NL 9001800A NL 9001800 A NL9001800 A NL 9001800A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
images
resolution
electron microscope
wave function
image
Prior art date
Application number
NL9001800A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Priority to NL9001800A priority Critical patent/NL9001800A/nl
Priority to US07/731,676 priority patent/US5134288A/en
Priority to DE69125435T priority patent/DE69125435T2/de
Priority to EP91202017A priority patent/EP0472235B1/fr
Priority to JP03221143A priority patent/JP3130584B2/ja
Publication of NL9001800A publication Critical patent/NL9001800A/nl

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/22—Optical or photographic arrangements associated with the tube
    • H01J37/222—Image processing arrangements associated with the tube

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
NL9001800A 1990-08-10 1990-08-10 Methode voor het direct verkrijgen van amplitude- en fase-informatie van een object met behulp van beelden van een hoge-resolutie elektronenmicroscoop. NL9001800A (nl)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL9001800A NL9001800A (nl) 1990-08-10 1990-08-10 Methode voor het direct verkrijgen van amplitude- en fase-informatie van een object met behulp van beelden van een hoge-resolutie elektronenmicroscoop.
US07/731,676 US5134288A (en) 1990-08-10 1991-07-17 Method of directly deriving amplitude and phase information of an object from images produced by a high-resolution electron microscope
DE69125435T DE69125435T2 (de) 1990-08-10 1991-08-06 Verfahren zum direkten Erhalten von Amplituden und Phaseninformation eines Objekts mittels Bilder aus einem Hochauflösungs- Elektronenmikroskop
EP91202017A EP0472235B1 (fr) 1990-08-10 1991-08-06 Procédé pour l'obtention directe d'information d'amplitude et de phase sur un object à l'aide d'images fournies par un microscope électronique à haute résolution
JP03221143A JP3130584B2 (ja) 1990-08-10 1991-08-07 高分解能電子顕微鏡でつくられた像から直接に物体の振幅および位相情報を得る方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL9001800A NL9001800A (nl) 1990-08-10 1990-08-10 Methode voor het direct verkrijgen van amplitude- en fase-informatie van een object met behulp van beelden van een hoge-resolutie elektronenmicroscoop.
NL9001800 1990-08-10

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL9001800A true NL9001800A (nl) 1992-03-02

Family

ID=19857536

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL9001800A NL9001800A (nl) 1990-08-10 1990-08-10 Methode voor het direct verkrijgen van amplitude- en fase-informatie van een object met behulp van beelden van een hoge-resolutie elektronenmicroscoop.

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5134288A (fr)
EP (1) EP0472235B1 (fr)
JP (1) JP3130584B2 (fr)
DE (1) DE69125435T2 (fr)
NL (1) NL9001800A (fr)

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5751243A (en) * 1990-10-29 1998-05-12 Essex Corporation Image synthesis using time sequential holography
NL9100076A (nl) * 1991-01-17 1992-08-17 Philips Nv Methode voor automatische uitlijning van een elektronenmicroscoop en een elektronenmicroscoop geschikt voor uitvoering van een dergelijke methode.
JP3287858B2 (ja) * 1991-05-15 2002-06-04 株式会社日立製作所 電子顕微鏡装置及び電子顕微方法
US5866905A (en) * 1991-05-15 1999-02-02 Hitachi, Ltd. Electron microscope
EP0555911B1 (fr) * 1992-02-12 1999-01-07 Koninklijke Philips Electronics N.V. Procédé pour réduire une dispersion spatiale d'énergie d'un faisceau électronique et appareil à faisceau électronique convenant pour la mise en oeuvre d'un tel procédé
US5460034A (en) * 1992-07-21 1995-10-24 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Method for measuring and analyzing surface roughness on semiconductor laser etched facets
EP0597538B1 (fr) * 1992-11-12 1997-04-16 Koninklijke Philips Electronics N.V. Méthode de reconstruction d'image dans un microscope électronique à haute résolution et microscope électronique adapté à la mise en oeuvre d'une telle méthode
US5432347A (en) * 1992-11-12 1995-07-11 U.S. Philips Corporation Method for image reconstruction in a high-resolution electron microscope, and electron microscope suitable for use of such a method
US5432349A (en) * 1993-03-15 1995-07-11 The United State Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Fourier transform microscope for x-ray and/or gamma-ray imaging
EP0628984A1 (fr) * 1993-06-10 1994-12-14 Koninklijke Philips Electronics N.V. Procédé pour examiner des structures d'objets dans un appareil à faisceau d'électrons
BE1007465A3 (nl) * 1993-09-03 1995-07-04 Philips Electronics Nv Additionele samenstelling van defocusseringsbeelden in een elektronenmicroscoop.
JP3973231B2 (ja) * 1995-03-16 2007-09-12 エフ イー アイ カンパニ 粒子−光学機器内における粒子波の再構築方法
JP3402868B2 (ja) * 1995-09-14 2003-05-06 株式会社東芝 荷電粒子光学鏡筒における非点収差の補正及び焦点合わせ方法
DE69606517T2 (de) * 1995-10-03 2000-09-14 Koninklijke Philips Electronics N.V., Eindhoven Verfahren zum wiederaufbau eines bildes in einem korpuskularoptischen gerät
US20060060781A1 (en) * 1997-08-11 2006-03-23 Masahiro Watanabe Charged-particle beam apparatus and method for automatically correcting astigmatism and for height detection
US6590209B1 (en) * 1999-03-03 2003-07-08 The Regents Of The University Of California Technique to quantitatively measure magnetic properties of thin structures at <10 NM spatial resolution
JP4069545B2 (ja) * 1999-05-19 2008-04-02 株式会社日立製作所 電子顕微方法及びそれを用いた電子顕微鏡並び生体試料検査方法及び生体検査装置
JP3813798B2 (ja) * 2000-07-13 2006-08-23 株式会社日立製作所 電子顕微鏡
JP3942363B2 (ja) * 2001-02-09 2007-07-11 日本電子株式会社 透過電子顕微鏡の位相板用レンズシステム、および透過電子顕微鏡
AUPR672601A0 (en) * 2001-07-31 2001-08-23 Iatia Imaging Pty Ltd Apparatus and method of imaging an object
US20070182844A1 (en) * 2003-03-09 2007-08-09 Latia Imaging Pty Ltd Optical system for producing differently focused images
GB2491199A (en) * 2011-05-27 2012-11-28 Univ Antwerpen Methods and systems for material characterization
GB201302624D0 (en) * 2013-02-14 2013-04-03 Univ Antwerpen High-resolution amplitude contrast imaging
KR20140106053A (ko) * 2013-02-25 2014-09-03 도시바삼성스토리지테크놀러지코리아 주식회사 빔 제어 방법 및 이를 적용하는 광 픽업 장치
US9076462B2 (en) * 2013-12-03 2015-07-07 HGST Netherlands B.V. Magnetic head having a short yoke with a tapered coil structure
DE112014006444B4 (de) * 2014-04-04 2020-03-26 Hitachi High-Technologies Corporation Mit einem Strahl geladener Teilchen arbeitende Vorrichtung und Verfahren zum Korrigieren der sphärischen Aberration
US9159350B1 (en) * 2014-07-02 2015-10-13 WD Media, LLC High damping cap layer for magnetic recording media
US9886977B1 (en) 2016-12-22 2018-02-06 Western Digital Technologies, Inc. Dual cap layers for heat-assisted magnetic recording media
DE102019204575B3 (de) 2019-04-01 2020-08-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren, Vorrichtung und Computerprogramm zum Bestimmen einer Wellenfront eines massebehafteten Teilchenstrahls
CN114624006B (zh) * 2022-03-03 2022-11-08 湖南大学 一种利用样品下表面出射波函数测量电镜残余像差的方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5769654A (en) * 1980-10-16 1982-04-28 Jeol Ltd Picture image processing method for electron microscope image
JPS59163548A (ja) * 1983-03-09 1984-09-14 Central Res Inst Of Electric Power Ind 電子線回折像の自動分析方法

Also Published As

Publication number Publication date
US5134288A (en) 1992-07-28
EP0472235B1 (fr) 1997-04-02
DE69125435T2 (de) 1997-10-23
EP0472235A1 (fr) 1992-02-26
JPH04233150A (ja) 1992-08-21
JP3130584B2 (ja) 2001-01-31
DE69125435D1 (de) 1997-05-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL9001800A (nl) Methode voor het direct verkrijgen van amplitude- en fase-informatie van een object met behulp van beelden van een hoge-resolutie elektronenmicroscoop.
EP1740975B1 (fr) Imagerie haute resolution
Dierksen et al. Towards automatic electron tomography II. Implementation of autofocus and low-dose procedures
JP2007200902A (ja) 粒子−光学機器内における粒子波の再構築方法
Berujon et al. X-ray optics and beam characterization using random modulation: theory
JP2010528279A (ja) 三次元撮像
Berujon et al. X-ray optics and beam characterization using random modulation: experiments
Fuhse et al. Waveguide-based off-axis holography with hard x rays
US6421163B1 (en) Two dimensional transform generator
CN111656482A (zh) 进行了空间相位调制的电子波的发生装置
US20200312613A1 (en) Method and apparatus for determining a wavefront of a massive particle beam
Takeo et al. A highly efficient nanofocusing system for soft x rays
Uhlén et al. Ronchi test for characterization of X-ray nanofocusing optics and beamlines
Vine et al. An in-vacuum x-ray diffraction microscope for use in the 0.7–2.9 keV range
Gürsoy et al. Digital autofocusing of a coded-aperture Laue diffraction microscope
van Riessen et al. A soft X-ray beamline for quantitative nanotomography using ptychography
Poyneer et al. X-ray metrology and performance of a 45-cm long x-ray deformable mirror
Schropp et al. Scanning coherent x-ray microscopy as a tool for XFEL nanobeam characterization
JPH10199464A (ja) 電子干渉計測装置
NL9100076A (nl) Methode voor automatische uitlijning van een elektronenmicroscoop en een elektronenmicroscoop geschikt voor uitvoering van een dergelijke methode.
US20240192152A1 (en) Information processing system and phase analysis system
Colliex et al. Fresnel fringes in STEM
Zhao et al. X-ray wavefront sensing and optics metrology using a microfocus x-ray grating interferometer with electromagnetic phase stepping
JP3690888B2 (ja) 光情報処理装置
Li et al. Study on full-aperture intensity response measurement for x-ray Kirkpatrick–Baez microscope

Legal Events

Date Code Title Description
A1B A search report has been drawn up
BV The patent application has lapsed