NL1001343C2

NL1001343C2 - Optische pick-up en methode voor het voortbrengen ervan.

Info

Publication number: NL1001343C2
Application number: NL1001343A
Authority: NL
Inventors: Shigeki Takeuchi; Shogo Horinouchi; Kazuhiko Higo; Hideki Yoshinaka; Toshihiro Koga; Jiro Mimas; Hidehiro Kugisaki
Original assignee: Matsushita Electric Ind Co Ltd
Priority date: 1994-10-06
Filing date: 1995-10-04
Publication date: 1998-07-15
Also published as: FR2725547A1; JP2806293B2; US5978344A; JPH08161768A; NL1001343A1; US5790502A; FR2725547B1

Description

Optische pick-up en methode voor het voortbrengen ervan.

De uitvinding heeft betrekking op een optische pick-up voor het opnemen en weergeven van informatie met betrekking tot een optisch element of een optische schijf, en heeft 5 tevens betrekking op een methode voor het voortbrengen van de optische pick-up.

Het is tot nog toe gewenst geweest om een compacte vorm te verkrijgen van een optische schijfeenheid, in staat om informatie op te nemen en weer te geven onder gebruikmaking 10 van een laserbundel, en er zijn pogingen in het werk gesteld om een compacte en lichtgewicht vorm van een optische pick-up te verkrijgen door het verminderen van het aantal optische onderdelen. De compacte en lichtgewicht vorm van de optische pick-up draagt niet alleen bij tot een gereduceerde 15 totaalgrootte van de optische schijfeenheid, maar tevens tot een verhoogde prestatie zoals een verkorte toegangstijd. Recentelijk is een optische hologram pick-up voorgesteld teneinde een compact en lichtgewicht ontwerp te verkrijgen, en enkele van dergelijke voorstellen zijn in praktische 20 toepassing gebracht.

Een gebruikelijke optische hologram pick-up zal nu beschreven worden met verwijzing naar de fig. 35a tot 38. Fig. 35a is een vlak aanzicht van de gebruikelijke optische pick-up, en fig. 35b is een opstaand zijaanzicht van de 25 gebruikelijke optische pick-up.

Verwezen wordt eerst naar een uitwendige optische weg van een halfgeleiderlaser (licht-emitterende inrichting) naar een optische schijf. In fig. 35b wordt een laserbundel, horizontaal geëmitteerd vanaf een halfgeleiderlaserchip 2, 30 horizontaal aangebracht op een sensorbasisplaat 1, met behulp van een trapezoidaal prisma 4 (dat gemonteerd is op de sensorbasisplaat 1 met het reflecterende oppervlak ervan toegekeerd naar de halfgeleiderlaserchip 2) ertoe gebracht om het inwendige van een transparant optisch 35 geleidingsorgaan 5 binnen te komen via een invalsvenster 6 op een tweede oppervlak 5b van het optisch geleidingsorgaan 5, zodat de laserbundel wordt omgezet tot gediffuseerd licht 7 in het optische geleidingsorgaan 5. Een hologram 8 wordt 1001343 2 gevormd op een eerste oppervlak 5a van het optische geleideorgaan 5, en het gediffuseerde licht 7, dat uittreedt uit het optische geleideorgaan 5, gaat door het hologram 8, en wordt omgezet tot gediffuseerd licht 9. Het gediffuseerde 5 licht 9 valt in op een objectieflens 10 en wordt omgezet tot naar buiten convergerend licht 13, dat vervolgens wordt gefocusseerd tot een stip 12 op een informatieregistratie-laag 11a van de optische schijf 11.

Vervolgens wordt verwezen naar een terugkeer-optische 10 weg van de optische schijf naar lichtontvangende sensoren. Gereflecteerd licht 14 van de informatieregistratielaag 11 van de optische schijf gaat door de objectieflens 10, en wordt geconverteerd tot terugkeer-convergent licht 15, en vervolgens valt het in op het hologram 8.

15 Zoals getoond in fig. 36, is het hologram 8 verdeeld in twee gebieden met een gelijk oppervlak door een verdelings-lijn (grens), die zich uitstrekt in dezelfde richting als die van een spoor van de optische schijf 11, waarbij de twee gebieden respectievelijk verschillende patronen hebben. Het 20 hologram 8 converteert het terugkeer-convergente licht 15 in eerste diffractielicht 16 en tweede diffractielicht 17, die diffracteren in verschillende richtingen onder een hoek van (2n + 1) n/4, bijvoorbeeld 45° en 135°, ten opzichte van de polarisatierichting van de halfgeleiderlaserchip 2.

25 Een eerste terugkeer-gepolariseerd-lichtsplits-gedeelte 18 en een tweede terugkeer-gepolariseerd-lichtsplitsgedeelte 19 worden gevormd op het tweede oppervlak 5b van het optische geleidingsorgaan 5, en elk van de twee splitsgedeelten 18 en 19 wordt gevormd van een 30 terugkeer-polarisatie-separatiefilm, aangebracht op het tweede oppervlak 5b, en transmitteert een P polarisatie-component van het diffraktielicht 16, 17 daar doorheen, maar reflecteert een S polarisatiecomponent daarvan.

Indien de toestand van polarisatie van het gediffuseerde 35 licht 7, dat invalt op het hologram 8, wordt weergegeven door lineair gepolariseerd licht 23 zoals aangegeven door een pijl in fig. 35a, worden de P polarisatiecomponent en de S polarisatiecomponent van elk van de twee diffraktie-lichtbundels 16 en 17 ongeveer de helft ten opzichte van een 1 00 1 3 A3 3 respectievelijke van de twee terugkeer-gepolariseerd-lichtsplitsgedeelten 18 en 19, aangezien de richting van diffraktie van de twee diffraktielichtbundels 16 en 17 is ingesteld op (2n + 1) n/4 ten opzichte van de polarisatie-5 richting van het lineair gepolariseerde licht 23. Daardoor bedraagt de lichthoeveelheid van elk van de eerste en tweede getransmitteerde lichtbundels 24 en 25, die respectievelijk uittreden uit de twee terugkeer-gepolariseerd-lichtsplits-gedeelten 18 en 19, ongeveer de helft van lichthoeveelheid 10 van een respectievelijke van de eerste en tweede diffraktie-lichtbundels 16 en 17. De twee getransmitteerde lichtbundels 24 en 25 worden respectievelijk toegevoerd aan eerste en tweede lichtontvangende sensoren 26 en 27, gevormd op de sensorbasisplaat 1. Eerste en tweede gereflecteerde 15 lichtbundels 28 en 29 (die de rest of de andere helften zijn van de twee diffraktielichtbundels 16 en 17 resp.), respectievelijk gereflecteerd door de twee terugkeer-gepolariseerd-lichtsplitsgedeelten 18 en 19, worden verdere gereflecteerd respectievelijk door eerste en tweede 20 reflectiegedeelten 30 en 31 op het eerste oppervlak 5a voor het respectievelijk vormen van derde en vierde gereflecteerde lichtbundels 32 en 33, gericht naar het tweede oppervlak 5b. De derde en vierde gereflecteerde lichtbundels 32 en 33 gaan respectievelijk door eerste en 25 tweede transmissievenster 34 en 35 op het tweede oppervlak 5b voor het vormen van derde en vierde getransmitteerde lichtbundels 36 en 37 respectievelijk, welke worden toegevoerd naar derde en vierde lichtontvangende sensoren 38 en 39 respectievelijk. De focus van het diffraktielicht 16 30 is gelegen tussen het terugkeer-gepolariseerd-lichtsplits-gedeelte 18 en de derde lichtontvangende sensor 38, terwijl de focus van het diffraktielicht 17 gelegen is tussen het terugkeer-gepolariseerd-lichtsplitsgedeelte 19 en de vierde lichtontvangende sensor 39.

35 Vervolgens zal een optomagnetisch signaaldetectie-principe nu in detail worden beschreven. In fig. 37 geeft het verwijzingscijfer 23 de richting van de polarisatie aan van het lineair gepolariseerde licht 23, dat invalt op het hierboven beschreven hologram 8. Het hologram 8 oefent geen '10 0 13 4 3 4 enkele invloed uit op het polarisatievlak, en daardoor, indien er geen enkele informatie is opgeslagen op het informatieregistratieoppervlak 11a van de optische schijf 11 (d.w.z. het informatieregistratieoppervlak 11a is niet 5 gemagnetiseerd), hebben de twee diffraktielichtbundels 16 en 17, die het gereflecteerde licht zijn van de stip 12, dezelfde polarisatierichting als die van het lineair gepolariseerde licht 23. Met betrekking tot de polarisatierichting van de twee diffraktielichtbundels 16 en 17 in deze 10 toestand worden de richtingen van diffraktie van de twee diffraktielichtbundels 16 en 17 respectievelijk ingesteld op 45 en 135° ten opzichte van de polarisatierichting van het lineair gepolariseerde licht 23, zodat de diffraktielichtbundels 16 en 17 respectievelijk kunnen invallen op de 15 twee terugkeer-gepolariseerd-lichtsplitsgedeelten 18 en 19 (welke nagenoeg 100 % van de P polarisatiecomponent daar doorheen doorlaten, en nagenoeg 100 % van de S polarisatiecomponent reflecteren) met respectievelijke richtingen van 45 en 135° zoals getoond in fig. 37. De richting van rotatie 20 van het lineair gepolariseerde licht 23, wanneer gereflecteerd door een magnetische informatieput in de optische schijf 11, varieert in het gebied van ± 0k in afhankelijkheid van de polariteit van grootte van de magnetisatie (Kerr effekt).

25 Indien nu wordt aangenomen, dat het lineair gepolariseerde licht 40 wordt verkregen door het lineair gepolariseerde licht 23 te draaien over een hoek van ©k, en dat lineair gepolariseerd licht 41 wordt verkregen door het lineair gepolariseerde licht 23 te draaien over een hoek 30 -©k. Indien nu het geval in aanmerking genomen wordt, waarbij het optische signaal, gemoduleerd vanaf het lineair gepolariseerde licht 40 naar het lineair gepolariseerde licht 41 door het registrerende magneetveld van de optische schijf 11, invalt op de gepolariseerd lichtsplitsfilms van 35 de twee gepolariseerd lichtsplitsgedeelten 18 en 19.

Wanneer de polarisatietoestand van het terugkeer-convergente licht 15 wordt geroteerd over ©k ten opzichte van de toestand van het lineair gepolariseerde licht 23, wordt de polarisatietoestand van het eerste diffraktielicht '1 0 0 1 3 4 3 5

16 gemoduleerd in lineair gepolariseerd licht 40, terwijl de polarisatietoestand van het tweede diffraktielicht 17 wordt gemoduleerd in het lineair gepolariseerde licht 41. Wanneer de polarisatietoestand van het terugkeer-convergente licht 5 15 wordt geroteerd over -0k van de toestand van het lineair gepolariseerde licht 23, wordt de polarisatietoestand van het eerste diffraktielicht 16 gemoduleerd in het lineair gepolariseerde licht 41, terwijl de polarisatietoestand van het tweede diffraktielicht 17 wordt gemoduleerd in het 10 lineair gepolariseerde licht 40. Daardoor is de P

polarisatiecomponent van het tweede diffraktielicht 17 gelijk aan de S polarisatiecomponent van het eerste diffraktielicht 16, en de S polarisatiecomponent van het tweede diffraktielicht 17 is gelijk aan de P polarisatie-15 component van het eerste diffraktielicht 16. Een RF

reproducerend signaal wordt verdubbeld in zijn signaal-component vanwege het verschil (uitgedrukt door de later te beschrijven formule (1)) tussen de som van het signaal van de P polarisatiecomponent van het eerste diffraktielicht 16 20 en het signaal van de S polarisatiecomponent van het tweede diffraktielicht 17 en de som van het signaal van de S polarisatiefcomponent van het eerste diffraktielicht 16 en het signaal van de P polarisatiecomponent van het tweede diffraktielicht 17, en ruis in de componenten van dezelfde 25 fase worden opgeheven, zodat het signaal kan worden verkregen met een hoge signaal/ruisverhouding.

Signalen worden ingevoerd naar en uitgevoerd van de sensorbasisplaat 1, welke de halfgeleiderlaserchip 2 en de groep lichtontvangende sensoren via een geleiderframe 44 30 bezit.

Vervolgens zal de configuratie van de eerste, tweede, derde en vierde lichtontvangende sensoren 26, 27, 38 en 39, alsook een signaaldetectieprincipe, worden beschreven met verwijzing naar fig. 38.

35 De tweede lichtontvangende sensor 27 en de vierde lichtontvangende sensor 39 zijn een drie-divisie type, dat wil zeggen de eerste is verdeeld in drie secties, 27a, 27b en 27c, terwijl de laatste is verdeeld in drie secties 39a, 39b en 39c. Hier worden de uitgangen van de eerste en tweede 1001343 6 lichtontvangende sensoren 26 en 38 gerepresenteerd door respectievelijk 126 en 138, de uitgangen van de drie secties 27a, 27b en 27c van de tweede lichtontvangende sensor 27 worden gerepresenteerd door respectievelijk I27a, I27b en 5 I27c, en de uitgangen van de drie secties 39a, 39b en 39c van de vierde lichtontvangende sensor 39 worden gerepresenteerd door respectievelijk I39a, I39b en I39c.

Het RF reproduktiesignaal (R. F.) zal van de diverse signalen het eerst worden beschreven. Zoals boven 10 beschreven, wordt het RF reproduktiesignaal verkregen van het verschil tussen het somsignaal representatief van de som van de P polarisatiecomponent van het diffraktielicht 16 en de S polarisatiecomponent van het diffraktielicht 17 en het somsignaal representatief van de som van de S polarisatie-15 component van het diffraktielicht 16 en de P polarisatiecomponent van het diffraktielicht 17, en zodoende is R. F. verkregen uit de volgende formule, zoals begrepen zal worden uit een ketenschema van fig. 38: R. F. = [126 - (I27a + I27b + I27c)] - [138 -20 (I39a + I39b + I39c)]

Vervolgens zal een focusfoutsignaal (F. E.) worden beschreven. F. E. wordt verkregen uit de volgende formule zoals begrepen zal worden uit het schakelschema van fig. 38: F. E. = [(I27a + I27c) + I39b] = [(I39a + I39c) + 25 I27b)

Hier zij aangenomen, dat de stip 12, gevormd door de objectieflens 10, nauwkeurig in focus is op de informatie-registratielaag 11a avan de optische schijf 11, en dat in deze gefocusseerde toestand de configuratie van bestraling 30 van de laserbundel op de tweede lichtontvangende sensor 27 wordt weergegeven door 45a, terwijl de configuratie van bestraling van de laserbundel op de vierde lichtontvangende sensor 39 wordt gerepresenteerd door 46a. Vervolgens worden de laserbundelbestralingsintensiteitverdeling en de posities 35 van de lichtontvangende sensoren zo bijgesteld, dat de volgende formule kan worden ingesteld: F. E. = 0

Vervolgens, wanneer de afstand tussen de optische schijf 11 en de objectieflens 10 kleiner wordt ten opzichte van die ‘1 0 0 1 3 4 3 7 in de bovengenoemde brandpuntsafstandconditie, wordt de configuratie van bestraling van de laserbundel op de tweede lichtontvangende sensor 27 weergegeven door 45c, terwijl de configuratie van bestraling van de laserbundel op de vierde 5 lichtontvangende sensor 39 wordt gerepresenteerd door 46c, en F. E. wordt gevarieerd zoals aangegeven in de volgende formule: F. E. > 0

In tegenstelling wordt, wanneer de afstand tussen de 10 optische schijf 11 en de objectieflens 10 toeneemt ten opzichte van de bovengenoemde brandpuntsafstandconditie, de configuratie van bestraling van de laserbundel op de tweede lichtontvangende sensor 27 weergegeven door 45b, terwijl de configuratie van bestraling van de laserbundel op de vierde 15 lichtontvangende sensor 39 wordt weergegeven door 46b, en F. E. wordt gevarieerd zoals aangegeven in de volgende formule: F. E. < 0

Deze focusfoutdetectiemethode is bekend als een 20 stipgroottemethode.

Vervolgens zal een spoorfoutsignaal (T. E.) worden beschreven. De grens tussen de twee gebieden van het hologram 8, welke hetzelfde oppervlak hebben en de verschillende patronen, wordt uitgebreid in dezelfde 25 richting als die van het spoor van de optische schijf, en daardoor wordt spoorinformatie, verkregen in het gereflecteerde licht van de optische schijf 11, verdeeld door het hologram 8 in twee (linker en rechter) spoor-informaties, gedeeld door de middellijn van de stip 12, zich 30 uitstrekkende in de richting van het spoor. De twee spoorinf ormaties worden verdeeld in de eerste en tweede diffraktielichtbundels 16 en 17. Het hologram 8 is zo ontworpen, dat de twee gebieden voor de eerste en tweede diffraktielichtbundels 16 en 17 hetzelfde diffraktie-35 rendement hebben. Daardoor wordt T. E. verkregen uit de volgende formule, zoals begrepen zal worden uit het schakelschema van fig. 38: T. E. = [(I27a + I27b + I27c) + (I39a + I39b + I39c)] - [ (126 + 138) '1 0 0 1 3 4 3 8

Wanneer de stip 12 wordt aangelegd op de middellijn van het spoor, ontvangen de tweede gebieden van het hologram 8 het terugkeer-convergente licht 15 in gelijke mate, en daardoor zijn de twee diffraktielichtbundels 16 en 17 gelijk 5 in lichthoeveelheid ten opzichte van elkaar, en het somsignaal, dat representatief is van de som van het signaal van de eerste lichtontvangende sensor 26 en het signaal van de derde lichtontvangende sensor 38 (welke representatief zijn voor de lichthoeveelheid van het eerste diffraktielicht 10 16) is gelijk aan het somsignaal, dat representatief is voor de som van het signaal van de tweede lichtontvangende sensor 27 en het signaal van de vierde lichtontvangende sensor 39 (die representatief zijn voor de lichthoeveelheid van de tweede diffraktielijn 17). Daardoor wordt T. E. uitgedrukt 15 door de volgende formule: T. E. = 0

Wanneer de stip 12 wordt verplaatst van de middellijn van het spoor in een richting onder 90° ten opzichte van het spoor, ontvangen de twee gebieden van het hologram 8 het 20 terugkeer-convergente licht 15 in respectievelijk verschillende hoeveelheden, en het somsignaal, dat representatief is voor de som van het signaal van de eerste lichtontvangende sensor 26 en het signaal van de derde lichtontvangende sensor 38 (die representatief zijn voor de 25 lichthoeveelheid van het eerste diffraktielicht 16), is niet gelijk aan het somsignaal, dat representatief is voor de som van het signaal van de tweede lichtontvangende sensor 27 en het licht van de vierde lichtontvangende sensor 39 (die representatief zijn voor de lichthoeveelheid van het tweede 30 diffraktielicht 17). Daardoor wordt T. E. uitgedrukt door of de een of de ander van de volgende formules: T. E. > 0 T. E. < 0

Deze spoorfoutdetectiemethode is bekend als een push-35 pull methode.

Zodoende is het hologram 8 verdeeld in de twee gebieden met hetzelfde oppervlak (welke de respectievelijke verschillende patronen hebben) door de deellijn (grens), die zich uitstrekt in dezelfde richting als die van het spoor '1 0 0 1 3 4 3 9 van de optische schijf 11, en de twee gebieden voor de twee diffraktielichtbundels 16 en 17 bezitten hetzelfde diffraktierendement. Met deze constructie kan het spoorfout-signaal worden verkregen.

5 Bij de vervaardiging van een optische pick-up, zoals beschreven in de niet onderzochte Japanse octrooipublikaties Nos. 5-258382 en 5-258386, worden optische geleidings-elementen met optische elementen aangebracht aan grensoppervlakken, aaneen-gelamineerd of gebonden voor het 10 vormen van een assemblageblok, en vervolgens worden gehelde oppervlakken gevormd. Daarna worden polarisatiefilms gevormd, en vervolgens wordt het assembleringsblok gesneden in een voorbepaalde grootte om daardoor een optische pick-up element te verschaffen.

15 Bij de bovengenoemde bekende constructie heeft men evenwel te maken met de volgende problemen, waardoor de signaal/ruisverhouding van het RF signaal in nadelige zin wordt beïnvloed:

Hoewel een hologram gebruikt wordt voor het scheiden van 20 naar buiten tredend licht en terugkerend licht ten opzichte van elkaar, wordt nulde orde diffraktielicht gebruikt in de uitwaartse weg, terwijl eerste orde licht gebruikt wordt in de terugkeerweg, en vanwege een beperkte invalshoek op een gepolariseerd-lichtsplitsgedeelte, is de "blazing pitch" van 25 het hologram klein, en de onderdrukking van het eerste orde diffraktielicht door "blazing" is moeilijk, en daarnaast is het eerste orde diffraktierendement van de S polarisatie-component lager dan het eerste orde diffraktierendement van de P polarisatiecomponent. Daardoor is de verbetering van 30 het rendement van gebruik van de buitenwaartse en terugkeer-lichtbundels (het nulde orde diffraktierendement van het buitenwaartse licht x het eerste orde diffraktierendement van het terugkeerlicht) beperkt, en een verlies van de lichthoeveelheid bij het hologram is groot.

35 Aangezien het RF signaal ook gedetecteerd wordt door lichtontvangende sensoren van het verdeelde type, welke een focusfout detecteert, treedt een verlies van de lichthoeveelheid op een een dode zone van het verdelings-gedeelte.

1001343 10

Aangezien een bundelsplitsfilm met een polarisatie-selectiviteit niet gebruikt wordt, wordt er geen versterkingseffekt verkregen voor het verhogen van de schijnbare Kerr rotatiehoek.

5 In toevoeging komt men de volgende problemen tegen, waardoor het focusfoutsignaal en het spoorfoutsignaal in nadelige zin worden beïnvloed:

Het focusfoutsignaal wordt gedetecteerd door de grootte van een P gepolariseerde lichtstip op de lichtontvangende 10 sensor en de grootte van een S gepolariseerde lichtstip op de lichtontvangende sensor en daardoor wordt, wanneer de lichthoeveelheidverhouding van het P gepolariseerde licht tot het S gepolariseerde licht van het diffraktielicht wordt gevarieerd door dubbele breking, Kerr rotatie enz., het 15 focusfoutsignaal onderworpen aan afwijking.

Aangezien het spoorfoutsignaal wordt gedetecteerd door een push-pull methode, loopt deze detectie de kans om te worden beïnvloed door de diepte van putten en groeven in de optische schijf.

20 In het geval, waarbij het spoorfoutsignaal wordt gedetecteerd door een driebundels-methode, onder gebruikmaking van een diffraktierooster, treedt overspraak op tussen een hoofdbundel en zijbundels, aangezien de groot van de stip op de lichtontvangende sensor groot is.

25 Bij de vervaardiging van de optische pick-up zoals beschreven in de Japanse niet-onderzochte patentpublikaties Nos. 5-258382 en 5-258386 wordt het aantal optische pick-up elementen, geproduceerd van één assembleringsblok, bepaald door de lengte van de optische geleidingsorganen, en 30 daarnaast, aangezien het assembleringsblok de gehelde oppervlakken heeft, is het moeilijk om de pick-up elementen van dezelfde configuratie te rangschikken in de richting van de breedte van het assembleringsblok, hetgeen resulteert in een lage produktiviteit.

35 US Patent No. 5.095.476 en de Japanse niet-onderzochte patentpublikatie No. 62-117150 zijn andere publikaties uit de eerdere stand der techniek.

100 1 3 A3 11

SAMENVATTING VAN DE UITVINDING

Het is een doel van deze uitvinding om een optische pick-up te verschaffen, die in staat is om een reproduktie-signaal te produceren van goede kwaliteit met een hoge 5 signaal/ruisverhouding en stabiele servosignalen, en compact is in grootte, en kan worden vervaardigd bij lage kosten met een hoge produktiviteit.

KORTE SAMENVATTING VAN DE TEKENINGEN

Fig. 1 is een opstaand zijaanzicht van een eerste 10 uitvoering van een optische pick-up volgens de uitvinding, Fig. 2 is een vlak aanzicht van de optische pick-up van de eerste uitvoering,

Fig. 3 is een aanzicht in perspectief van een plaat met V-vormige groef in de optische pick-up van de eerste 15 uitvoering,

Fig. 4 is een aanzicht waarin de inrichting getoond is van lichtontvangende sensoren en een signaalverwerkings-eenheid in de optische pick-up van de eerste uitvoering,

Fig, 5 is een illustratie waarin een optomagnetisch 20 signaaldetectieprincipe in de optische pick-up van de eerste uitvoering getoond is,

Fig. 6 is een illustratie waarin een conditie van polarisatie in een gepolariseerd-lichtsplitsfilm in de eerste uitvoering getoond is, 25 Fig. 7a tot 7f zijn aanzichten, waarin een focusfout-signaaldetectieprincipe door middel van een astigmatisme-methode volgens de uitvinding getoond is,

Fig. 8a tot 8c zijn aanzichten, waarin de positionele relatie getoond is tussen beeldstippen op een optische 30 schijf en een informatiespoor in de optische pick-up van de eerste uitvoering,

Fig. 9a tot 9f zijn aanzichten, waarin een methode getoond is voor het vormen van een V-vormige groef door slijpen in de optische pick-up van de eerste uitvoering, 35 Fig. 10a tot 10c zijn aanzichten, waarin een methode getoond is voor het vormen van de V-vormige groef in de optische pick-up van de eerste uitvoering, '10 0 13 4 3 12

Fig. 11 is een aanzicht, waarin de optische pick-up van de eerste uitvoering getoond is,

Fig. 12 is een aanzicht, waarin een methode getoond is voor het vormen van een registratiemerker op een gebonden 5 positie in de optische pick-up van de eerste uitvoering,

Fig. 13 is een aanzicht, waarin een methode getoond is voor het vormen van een registratiemerker op een gebonden positie in de optische pick-up van de eerste uitvoering,

Fig. 14 is een aanzicht, waarin een methode getoond is 10 voor het vormen van een diffraktierooster van het reflectietype in de eerste uitvoering,

Fig. 15a tot 15d zijn aanzichten, waarin een methode getoond is voor het vormen van een diffusiehoekconversie-hologramelement van het reflectieve type in de optische 15 pick-up van de eerste uitvoering,

Fig. 16a tot 16d zijn aanzichten, waarin een methode getoond is voor het vormen van een reflecterende film van het diffraktierooster van het reflectieve type en een eerste dieptemerker in de optische pick-up van de eerste 20 uitvoering,

Fig. 17 is een aanzicht, waarin een methode getoond is voor het vormen van een fase-ingestelde reflecterende film in een V-vormige groef in de optische pick-up van de eerste uitvoering, 25 Fig. 18 is een opstaand zijaanzicht, waarin platen getoond zijn van de optische pick-up van de eerste uitvoering, alvorens de platen worden gecombineerd tot een assembleringsblok,

Fig. 19 is een aanzicht, waarin een methode getoond is 30 voor het vormen van het assembleringsblok van de optische pick-up van de eerste uitvoering,

Fig. 20a tot 20c zijn aanzichten, waarin de vorming getoond is van het assembleringsblok van de optische pick-up volgens de eerste uitvoering, 35 Fig. 21a tot 21e zijn aanzichten, waarin een methode getoond is voor het vormen van een planair blok in de optische pick-up van de eerste uitvoering,

Fig. 22a tot 22d zijn aanzichten, waarin een methode getoond is voor het vormen van een staafblok, alsook een '7 0 0 1 3 4 3 13 uiteindelijk snijproces bij de optische pick-up van de eerste uitvoering,

Fig. 23 is een opstaand zijaanzicht van een tweede uitvoering van een optische pick-up van de uitvinding, 5 Fig. 24 is een vlak aanzicht van de optische pick-up van de tweede uitvoering,

Fig. 25 is een aanzicht, waarin de inrichting getoond is van lichtontvangende sensoren en een signaalverwerkings-eenheid in de optische pick-up van de tweede uitvoering, 10 Fig. 26 is een illustratie, waarin een conditie van polarisatie getoond is in een gepolariseerde lichtsplitsfilm in de optische pick-up van de tweede uitvoering,

Fig. 27 is een opstaand zijaanzicht van een derde uitvoering van de optische pick-up van de uitvinding, 15 Fig. 28 is een vlak aanzicht van de optische pick-up van de derde uitvoering,

Fig. 29 is een opstaand zijaanzicht van een vierde uitvoering van een optische pick-up van de uitvinding,

Fig. 30 is een vlak aanzicht van de optische pick-up van 20 de vierde uitvoering,

Fig. 31a en 31b zijn dwarsdoorsneden van een bundel in resp. een X en Y richting, zonder eerste en tweede diffusiehoekconversiehologrammen in de optische pick-up van de vierde uitvoering, 25 Fig. 32a en 32b zijn aanzichten, waarin een beeldstip getoond is op een optische schijf zonder de eerste en tweede diffusiehoekconversiehologrammen in de optische pick-up van de vierde uitvoering,

Fig. 34 is een aanzicht, waarin een beeldstip getoond is 30 op de optische schijf zonder de eerste en tweede diffusiehoekconversiehologrammen in de optische pick-up van de vierde uitvoering,

Fig. 35a en 35b zijn aanzichten, waarin een gebruikelijke optische pick-up getoond is, 35 Fig. 36 is een aanzicht, waarin een patroon getoond is van een gebruikelijk hologram,

Fig. 37 is een illustratie, waarin een conditie van polarisatie getoond is in een gebruikelijke gepolariseerd-lichtsplitsfilm, en ‘10 0 13 4 3 14

Fig. 38 is een aanzicht, waarin in een gebruikelijke signaalverwerkingsketen getoond is.

BESCHRIJVING VAN DE VOORKEURSUITVOERINGEN

Een eerste uitvoering van de onderhavige uitvinding zal 5 nu worden beschreven met verwijzing naar de tekeningen.

Fig. 1 is een opstaand zijaanzicht van de eerste uitvoering van een optische pick-up van de uitvinding, en Fig. 2 is een vlak aanzicht van deze optische pick-up.

In de fig. 1 en 3 valt een laserbundel, horizontaal 10 geëmitteerd van een halfgeleiderlaserchip 103, die horizontaal gemonteerd is op een basisplaat 101 met behulp van een hulpmontage 102, in op een oppervlak 104c van een optisch geleiderorgaan 104, dat een aantal paralllelle, gehelde oppervlakken bezit, en treedt het optische 15 geleidingsorgaan 104 binnen en bereikt een diffusiehoek-conversiehologram 106 van het reflectieve type, gevormd op een tweede geheld oppervlak 105b van het optische geleidingsorgaan 104. Dit hologram 106 heeft deze funktie, omdat het een diffusiehoek van het uitgaande licht 20 converteert ten opzichte van een diffusiehoek van het invalslicht (hierna aangeduid als "om de diffusiehoek te converteren"). Het licht, geconverteerd in de diffusiehoek en gereflecteerd door het diffusiehoekconversiehologram 106, wordt verdeeld in nulde orde diffraktielicht (hierna aan te 25 duiden als "hoofdbundel") en ± eerste orde diffraktielicht (hierna aangeduid als "zijbundel") door een diffraktierooster 107 van het reflectieve type, gevormd op een eerste geheld oppervlak 105a. De hoofdbundel en de zijbundel, gevormd door het diffraktierooster 107, vallen in 30 op een eerste bundelspitsfilm (eerste bundelsplitsfilm met polarisatieselectiviteit) 108. Dat gedeelte van het licht (dat invalt op de eerste bundelsplitsfilm 108) dat gaat door deze film 108, wordt gebruikt als monitorlicht voor het licht, geëmitteerd van de halfgeleiderlaserchip 103. De 35 hoofdbundel en de zijbundels, gereflecteerd door de eerste bundelsplitsfilm 108, gaan door een oppervlak 104 heen van het optische geleidingsorgaan 104, en gaan door een 1001343 15 objectieflens 109 voor het vormen van beelden op een informatieregistratieoppervlak 111 van een optische schijf 110 door middel van het focusseringseffekt van de objectieflens 108. Op dit tijdstip zijn de beeldstippen 112 5 en 114 van de twee zijbundels gelegen nagenoeg symmetrisch ten opzichte van elkaar rond de beeldstip van de hoofdbundel. De registratie van informatie op het informatieregistratieoppervlak 111 en het lezen van een reproduktiesignaal en spoor- en focusseringssignalen (d.w.z. 10 servosignalen) van het informatieregistratieoppervlak 111, worden geëffektueerd onder gebruikmaking van de beeldstip 113 van de hoofdbundel en de beeldstippen 112 en 114 van de zijbundels.

Het diffusiehoekconversiehologram 106 kan vrijelijk de 15 diffusiehoek van het gereflecteerde licht converteren van het diffusiehoekconversiehologram 106 ten opzichte van de diffusiehoek van de lichtbundel (welke wordt geëmitteerd door de halfgeleiderlaserchip 103), welke kan invallen op het diffusiehoekconversiehologram 106. Het 20 diffusieconversiehologram 106 kan het licht tevens converteren in parallelle lichtstralen, die in het geheel geen diffusiehoek hebben. Dankzij het diffusieconversiehologram 106 wordt de lichtbundel, die uitgaat uit het optische geleidingsorgaan 104, gevormd tot een ideale 25 sferische golf 115 vrij van golfaberraties, geaccumuleerd in de lichtweg, zoals getoond in fig. 1. Bijgevolg heeft het licht, dat invalt op de objectieflens 109, de ideale sferische golf 115, en de beeldstip, gevormd op de optische schijf 110 door de objectieflens 109, wordt gecondenseerd of 30 geconvergeerd nagenoeg tot een diffraktielimiet, d.w.z. een ideale grootte, zodat de informatie gemakkelijk kan worden opgenomen en gereproduceerd.

Het terugkerende licht, d.w.z. de hoofdbundel en de zijbundels, gereflecteerd door het informatieregistratie-35 oppervlak 111 van de optische schijf 110, gaat wederom door de objectieflens 109 en het oppervlak 104a van het optische geleidingsorgaan 104, en vallen wederom in op de eerste bundelsplitsfilm 108, gevormd op het tweede geheld oppervlak 105b van het optische geleidingsorgaan 104. De eerste 7001343 16 bundelsplitsfilm 108 heeft een voorbepaalde reflectantie voor licht (hierna aan te duiden als uitsluitend "S polarisatiecomponent") met een oscillatiecomponent loodrecht op het vlak van de inval, en heeft nagenoeg 100 % 5 transmittantie voor een oscillatiecomponent (hierna aan te duiden als uitsluitend "P polarisatiecomponent") parallel aan het vlak van inval.

Dat gedeelte van het terugkerende licht (van de optische schijf 110) getransmitteerd door de eerste bundelsplitsfilm 10 108, valt in op een tweede bundelsplitsfilm (tweede bundelsplitsfilm met polarisatieselectiviteit) 116, gevormd op een derde geheld oppervlak 105c van het optische geleidingsorgaan 104 parallel met het eerste gehelde oppervlak 105a. De tweede bundelsplitsfilm 116 heeft evenals 15 de eerste bundelsplitsfilm 108 een voorbepaalde reflectantie voor licht (hierna aan te duiden als uitsluitend "S polarisatiecomponent") met een oscillatiecomponent loodrecht op het vlak inval, en heeft nagenoeg 100 % transmittantie voor een oscillatiecomponent (hierna aan te duiden als 20 uitsluitend "P polarisatiecompoent") parallel aan het vlak van inval.

Thans zij verwezen naar dat gedeelte (d.w.z. getransmitteerd licht 117) van de lichtbundel (invallend op de tweede bundelsplitsfilm 116), getransmitteerd door de 25 tweede bundelsplitsfilm 116. Het getransmitteerde licht 117 valt in op een V-vormige groeiplaat 118, gevormd op het derde gehelde oppervlak 105c. Fig. 3 is een aanzicht in perspectief van de V-vormige groeiplaat 118 van de optische pick-up van de eerste uitvoering. Een V-vormige groef is 30 gevormd in de V-vormige groefplaat 118 door vormen en snijden, en de V-vormige groefplaat 118 is gevormd op het derde gehelde oppervlak 105c. Het getransmitterde licht 116 van de tweede bundelsplitsfilm 116 wordt gereflecteerd door een reflecterend oppervlak 118a, bepaald door een 35 reflecterende film, gevormd op het oppervlak van de V-vormige groef in de V-vormige groefplaat 118.

Fig. 4 toont de inrichting van lichtontvangende sensoren op een sensorbasisplaat 119. Gereflecteerd licht 120 van het oppervlak 118a van de V-vormige groefplaat 118 valt in op 1001343 17 een gepolariseerde lichtsplitsfilm 121, gevormd op het derde gehelde oppervlak 105c. De P polarisatiecomponent van het gereflecteerde licht 120 transmitteert nagenoeg 100 % door de gepolariseerde lichtsplitsfilm 121 en wordt gereflecteerd 5 door een reflecterende film 122, gevormd op het tweede gehelde oppervlak 105b van het optisch geleideorgaan, en bereikt een lichtontvangende sensor 170 op de sensorbasisplaat 119. Aan de andere kant wordt de S polarisatiecomponent van het gereflecteerde licht 120 van 10 het oppervlak 108a van de v-vormige groeiplaat 118 gereflecteerd nagenoeg 100 % door de gepolariseerde lichtsplitsfilm 121, en bereikt een lichtontvangende sensor 171 op de sensorbasisplaat 119.

Een optomagnetisch signaaldetectieprincipe zal nu worden 15 beschreven in detail met verwijzing naar de fig. 4 tot 6, waar een versterkingsconstructie gegeven is voor het schijnbaar versterken van de Kerr rotatiehoek ek, teneinde het RF reproduktiesignaal van goede kwaliteit te verkrijgen en tevens de signaal/ruisverhouding te verhogen. In fig. 5 20 geeft de pijl 150 de richting van polarisatie aan van lineair gepolariseerd licht, dat invalt op de gepolariseerd lichtsplitsfilm 121, indien er geen enkele informatie wordt geregistreerd op het informatieregistratieoppervlak 111 van de optische schijf 110 zoals boven beschreven. Wanneer het 25 lineair gepolariseerde licht 150 wordt gereflecteerd door gemagnetiseerde informatieputten van de optische schijf 110, varieert de rotatiehoek in het traject van ±0k in afhankelijheid van de polariteit en grootte van de magnetisatie (Kerr effekt). 0k wordt de Kerr rotatiehoek 30 genoemd. Hier wordt lineair gepolariseerd licht 151 verkregen door het roteren van het lineair gepolariseerde licht 150 over een hoek 0k, en lineair gepolariseerd licht 152 wordt verkregen door het lineair gepolariseerde licht 150 te roteren over een hoek -Qk. Het terugkeerlicht van de 35 optische schijf 110 transmitteert door het bovenoppervlak 104a van het optische geleidingsorgaan 104, en valt vervolgens in op de eerste bundelsplitsfilm 108, gevormd op het tweede gehelde oppervlak 105b. De eerste bundelsplitsfilm 108 heeft de voorbepaalde reflectantie voor 1001343 18 gepolariseerde licht, en heeft tevens nagenoeg 100 % transmittantie voor het P gepolariseerde licht. Daardoor wordt ten opzichte van de lineaire polarisatierichting in fig. 5 het lineair gepolariseerde licht 151, geroteerd over 5 ©k, gebracht in een ©k' geroteerde toestand, zoals bij 153, en het lineair gepolariseerde licht 152, geroteerd over -©k, wordt gebracht in een -©k' geroteerde conditie zoals bij 154, zodat de Kerr rotatiehoek ©k schijnbaar is vergroot. Hetzelfde gebeurt met het licht 117, getransmitteerd door de 10 tweede bundelsplitsfilm 116, en met betrekking tot de lineaire polarisatierichting wordt het lineair gepolariseerde licht 153, geroteerd over ©k', gebracht in een ©k" geroteerde toestand, zoals bij 155, en het lineair gepolariseerde licht 154, geroteerd over -©k', wordt 15 gebracht in een -©k" geroteerde toestand, zoals bij 156, zodat de Kerr rotatiehoek ©k schijnbaar verhoogd is. Deze constructie door aldus de schijnbare Kerr rotatiehoek ©k te vergroten, wordt algemeen aangeduid als de versterkings-constructie.

20 Daardoor is, ten opzichte van het gereflecteerde licht 120, gereflecteerd van het reflecterende oppervlak 118a van de V-vormige groeiplaat 118 teneinde in te vallen op de gepolariseerde lichtsplitsfilm 121, de schijnbare Kerr rotatiehoek ©k reeds verhoogd van ©k tot ©k". Fig. 6 is een 25 diagram, dat de polarisatietoestand in de gepolariseerd-lichtsplitsfilm 121 van de eerste uitvoering toelicht. Het oppervlak 118a van de V-vormige groeiplaat 118 is ingericht onder een dergelijk hoek, dat de P polarisatiecomponent (de component parallel aan het invalsvlak) en de S 30 polarisatiecomponent (de component loodrecht op het invalsvlak) van het gereflecteerde licht 120 ten opzichte van het invalsvlak op de gepolariseerd-lichtsplitsfilm 121, gevormd op het derde gehelde oppervlak 105c, nagenoeg fifty-fifty zijn.

35 Hierbij wordt de toestand, waarin het lineair gepolariseerd licht 150 is geroteerd over ©k', gerepresenteerd door het lineair gepolariseerde licht 155, en de toestand, waarin het lineair gepolariseerde licht 150 is geroteerd over -©k" is gerepresenteerd door het lineair

ï 0 01 3 U

19 gepolariseerde licht 156. Wanneer het optomagnetische signaal, gemoduleerd van het lineair gepolariseerde licht 155 tot het lineair gepolariseerde licht 156, invalt op de gepolariseerde lichtsplitsfilm 121, wordt het signaal van de 5 P polarisatiecomponent, ontvangen door de lichtontvangende sensor 170, gerepresenteerd door een signaal 161, en het signaal van de S polarisatiecomponent, ontvangen door de lichtontvangende sensor 171, is gerepresenteerd door een signaal 162. Zodoende wordt het RF reproduktiesignaal 10 verdubbeld in signaalcomponent door het verkrijgen van het verschil tussen het signaal 161 van de P polarisatiecomponent van het gereflecteerde licht en het signaal 162 van de S polarisatiecomponent daarvan, d.w.z., het verschil tussen het signaal van de lichtontvangende sensor 170 en het 15 signaal van de lichtontvangende sensor 171, en tevens wordt de ruis in de componenten van dezelfde fase opgeheven, zodat de hoge signaal/ruisverhouding kan worden verkregen.

Indien de foto-elektrische stroom, gedetecteerd door de eerste lichtontvangende sensor 170, is gerepresenteerd door 20 1170, en de foto-elektrische stroom, gedetecteerd door de tweede lichtontvangende sensor 171 is gerepresenteerd door 1171, wordt het RF signaal (R. F.) uitgedrukt door de volgende formule: R. F. = 1170 - 1171 25 Vervolgens zij verwezen naar gereflecteerd licht 123 onder de lichtbundel, invallend op de tweede bundelsplitsfilm 116. Het gereflecteerde licht 123 valt in op een astigmatisme genererend hologram 124 van het reflectieve type, gevormd op het tweede gehelde oppervlak 30 105b. Het gereflecteerde licht 123 wordt gereflecteerd door het astigmatisme-genererende hologram 124 onder het genereren van astigmatisme, en wordt gereflecteerd door een reflecterende film 125 op het derde gehelde oppervlak 105c, en door een reflecterende film 126 op het tweede gehelde 35 oppervlak 105b, en vervolgens bereikt het terugkeerlicht van de hoofdbundel een lichtontvangende sensor 172 op de sensorbasisplaat 119, terwijl de terugkeerlichtbundels van de zijbundels respectievelijk lichtontvangende sensoren 176 en 177 op de sensorbasisplaat 119 bereiken.

1001343 20

De detectie van het focusfoutsignaal door een astigmatisme-methode, alsook de toestand van astigmatisme in deze uitvoering, zal nu in verder detail worden beschreven met verwijzing naar fig. 4 en de fig. 7a tot 7f.

5 Fig. 7a tot 7c tonen de astigmatische lichtbundel, en meer in het bijzonder tonen deze figuren een toestand, waarin de optische schijf 110 zich bevindt op de focale positie, een toestand, waarbij de optische schijf 110 inwaarts van de focale positie afgelegen is, en een 10 toestand, waarin de optische schijf 110 opwaarts van de focale positie afgelegen is, respectievelijk. De fig. 7d tot 7f tonen de configuratie van de lichtstip, gevormd door het astigmatisme-genererende hologram 123 op de lichtontvangende sensoren 172a, 172b, 172c en 172d, waarbij de 15 stipconfiguraties van de fig. 7d tot 7f respectievelijk corresponderen met de toestanden van de fig. 7a tot 7c.

Wanneer de optische schijf 110 geplaatst is in focale positie, produceert het astigmatisme-genererende hologram 124 een eerste focus 178 stroomopwaarts van de 20 lichtontvangende sensor 172, en produceert een tweede focus 179 stroomafwaarts van de lichtontvangende sensor 172.

Indien uitgedrukt in termen van een x-as richting en een y-as richting, zoals getoond in de fig. 7d tot 7f, wordt een lineair beeld in de y-as richting gevormd op de positie 25 van de eerste focus 178, en een lineair beeld wordt gevormd op de x-as in de positie van de tweede focus 179. Het astigmatisme-genererende hologram 124 is zo ontworpen, dat, wanneer de optische schijf 110 is geplaatst in de focale positie, de diameters van de stip (voortgebracht door 30 astigmatisme) en de x-as en y-as richtingen gelijk zijn aan elkaar, zodat de stip een cirkelvorm heeft.

Indien de foto-elektrische stromen, uitgevoerd respectievelijk van de lichtontvangende sensoren 172a, 172b, 172c en 172d respectievelijk gerepresenteerd worden door 35 1172a, 1172b, 1172c en I172d, wordt het focusfoutsignaal uitgedruk door de volgende formule, zoals duidelijk zal zijn uit het schakelschema van fig. 4: P. E. = (1172a + 1172c) - (1172b + I172d)

Wanneer de optische schijf 110 geplaatst is in de focale 1001343 21 positie, zijn de diameters van de stip in de x-as en y-as richtingen aan elkaar gelijk, zodat de stip een cirkelvorm heeft, zoals te zien is uit de fig. 7a tot 7d, en daardoor is de som van de hoeveelheden van het licht, ontvangen 5 respectievelijk door de sensoren 172a en 172c, gelijk aan de som van de hoeveelheden van het licht, ontvangen respectievelijk door de sensoren 172b en 172d, zodat het focusfoutsignaal wordt uitgedrukt door de volgende formule: F. E. = 0 10 Wanneer de optische schijf 110 inwaarts uit de focale positie is, zijn de eerste focus 178 en de tweede focus 179, die geproduceerd worden door het astigmatisme-genererende hologram 124, verder van het focusfoutdetectie-element 124, zodat de stip op de lichtontvangende sensoren 15 172a, 172b, 172c en 172d gevormd is tot een ovale lichtbundel met een hoofdas in de y-asrichting zoals getoond in fig. 7e. Als gevolg is de hoeveelheid licht, ontvangen door de lichtontvangende sensoren 172a en 172c, groter dan de hoeveelheid licht, ontvangen door de lichtontvangende 20 sensoren 172b en 172d, en het focusfoutsignaal wordt uitgedrukt door de volgende formule: F. E. > 0

Wanneer de optische schijf 110 buitenwaarts uit de focale positie is, zijn de eerste focus 178 en de tweede 25 focus 179, die geproduceerd zijn door het astigmatisme-genererende hologram 124, dichter bij het astigmatisme-genererende hologram 124, zodat de stip op de lichtontvangende sensoren 172a, 172b, 172c en 172d gevormd wordt tot een ovale lichtbundel met een hoofdas in de x-as 30 richting zoals getoond in fig. 7f. Als gevolg is de hoeveelheid licht, ontvangen door de lichtontvangende sensoren 172b en 172d groter dan de hoeveelheid licht, ontvangen door de lichtontvangende sensoren 172 en 172c, en het focusfoutsignaal wordt uitgedrukt door de volgende 35 formule: F. E. = < 0

Bovengenoemde focusfoutsignaaldetectiemethode is bekend als een astigmatisme-methode.

De spoordetectiemethode zal nu worden beschreven met 1001343 22 verwijzing naar fig. 4 en de fig. 8a tot 8c.

Fig. 8 toont de positionele relatie tussen de beeldstippen, gevormd op de optische schijf en een informatiespoor 180 op de optische schijf in de optische 5 pick-up van de eerste uitvoering. Beeldstippen 181 en 183 van de twee zijbundels zijn geplaatst symmetrisch ten opzichte van elkaar rond een beeldstip 182 van de hoofdbundel in de richting van het spoor, en zijn respectievelijk iets in tegengestelde richting verschoven 10 ten opzichte van het infiltratiespoor 180, zoals getoond in fig. 8b. De zijbundelstippen 181 en 183 in de fig. 8a tot 8c bereiken de lichtontvangende sensoren respectievelijk 176 en 177 op de sensorbasisplaat 119 langs overeenkomstige optische wegen als bovenbeschreven voor de astigmatisme-15 methode, waardoor respectievelijk stippen 184 en 186 worden gevormd. Hierbij zijn foto-elektrische stromen, respectievelijk geproduceerd aan de lichtontvangende sensoren 176 en 177 op dit tijdstip, voorgesteld door 1176 en 1177 respectievelijk. Wanneer het informatiespoor 180 20 naar links afwijkt ten opzichte van de informatiestip 182, zoals getoond in fig. 8a, is de beeldstip 183 nagenoeg juist geplaatst op het informatiespoor 180, zodat de intensiteit van het gereflecteerde licht daarvan afneemt. Daarentegen wijkt de beeldstip 181 af van het informatie-25 spoor 180, zodat het gereflecteerde licht daarvan toeneemt. In tegenstelling treedt, wanneer het informatiespoor 180 rechts afwijkt ten opzichte van de beeldstip 182, zoals getoond in fig. 8c, het omgekeerde verschijnsel ten opzichte van het voorgaande op, en meer in het bijzonder neemt de 30 hoeveelheid of intensiteit van het gereflecteerde licht van de beeldstip 181 af, terwijl de hoeveelheid van het gereflecteerde licht van de beeldstip 183 toeneemt.

Daardoor kan, zoals zal worden begrepen uit het schakelschema van fig. 4, het spoorfoutsignaal (T. E.), 35 indien de schakeling aldus is ontworpen, worden verkregen volgens de volgende formule: T. E. = 1176 - 1177

De bovengenoemde spoorfoutsignaaldetectiemethode is bekend als een driebundelmethode.

1001343 23

Vervolgens zal een spoordetectiemethode op basis van de push-pull methode worden beschreven.

Bij de push-pull methode wordt de spoordeviatie-informatie op de beeldstippen, gevormd door de objectieflens 5 109, gevonden door het evenwicht tussen de lichthoeveelheden van het + eerste orde diffraktielicht en het - eerste orde diffraktielicht, geproduceerd aan het geleidespoor en registratieputten op het oppervlak van de optische schijf 110, waardoor het spoorfoutsignaal kan worden verkregen. Het 10 gereflecteerde licht van de beeldstip 182 in fig. 8 bereikt de lichtontvangende sensor 172 op sensorbasisplaat 119 over de weg, zoals boven beschreven, en vormt een stip 185 daarop. Ten opzichte van de stip 185 op de lichtontvangende sensor 172 in fig. 4 overlappen de terugkeerlichtbundels van 15 het nulde orde diffraktielicht en het - eerste orde diffraktielicht, geproduceerd aan het oppervlak van de optische schijf 110, elkaar bij een gebied 185a en een gebied 185b ontvangt alleen het nulde orde diffraktielicht, en de terugkeerlichtbundels van het nulde orde 20 diffraktielicht en het + eerste orde diffraktielicht overlappen elkaar bij een gebied 185c. Zodoende wordt de balans tussen de hoeveelheid van het licht, aanwezig in het gebied 185a en de hoeveelheid licht, aanwezig in het gebied 185c, gedetecteerd door het verschil tussen de gedetecteerde 25 waarden van de lichtontvangende sensoren 172a en 172c, waardoor de spoordeviatie-informatie wordt verkregen. Indien de foto-elektrische stroom, geproduceerd door de sensor 172a bij ontvangst van het licht is gerepresenteerd door 1172a, en de foto-elektrische stroom, geproduceerd door de sensor 30 172c bij ontvangst van het licht is gerepresenteerd door 1172c, wordt het spoorfoutsignaal (T. E.) verkregen uit de volgende formule, gebaseerd op de uitgangen van de lichtontvangende sensoren 172a en 172c: T. E. = 1172a - 1172c ... (1) 35 De diffusiehoek van het licht, geëmitteerd door de halfgeleiderlaserchip 103, invallend op het diffusiehoek-conversiehologram 106, is gerepresenteerd door 01, en de diffusiehoek van het uitgaande licht van het diffusiehoek-conversiehologram 106 is gerepresenteerd door 02. Het heeft 1001343 24 de voorkeur, dat de diffusiehoek Θ1 van het licht, dat invalt op het diffusiehoekconversiehologram 106 groot is, zodat een hoog lichtbenuttingsrendement (d.w.z. de verhouding van de lichthoeveelheid, nodig voor de 5 beeldformatie, tot de totale hoeveelheid van het licht, geëmitteerd door de halfgeleiderlaserchip), nodig voor het uitwissen van de registratie, kan zijn gewaarborgd. De onderste limiet ervan wordt uitgedrukt door de volgende formule: 10 sin©l > 0,18

Indien de diffusiehoek Θ1 te groot wordt, moet het effektieve oppervlak van het diffusiehoekconversiehologram 106 worden vergroot, en de diameter van de lichtbundel wordt vergroot na conversie van diffusiehoek, en de diameters van 15 alle lichtbundels over de gehele weg naar de sensorbasisplaat 119 worden verhoogd. Als gevolg kan het optische systeem niet meer op geschikte wijze worden geconstrueerd. De bovenlimiet ervan wordt uitgedrukt door de volgende formule: 20 sinöl < 0,3

Daarentegen valt het licht in op de eerste en tweede gepolariseerde bundelsplitsers, de analysator, enz. met de diffusiehoek algemeen gelijk aan de diffusiehoek Θ2 van het uitgaande licht van het diffusiehoekconversiehologram 106, 25 en daarom verdient het de voorkeur, dat de diffusiehoek Θ2 klein is, zodat de optische fase aan de polarisatiebundel-splitsers en de analysator gemakkelijk kunnen worden gecontroleerd. De bovenlimiet ervan wordt uitgedrukt door de volgende formule: 30 sine2 < 0,17

Verder bereikt het licht de objectieflens met de diffusiehoek algemeen gelijk aan de diffusiehoek Θ2 van het uitgaande licht van het diffusiehoekconversiehologram 106 en daardoor is de vergroting van de objectieflens 109 begrensd 35 door de diffusiehoek Θ2. Indien de diffusiehoek Θ2 te klein is, wordt de beeldafstand van de objectieflens 109 verhoogd, en de afstand tussen het optische geleidingsorgaan 104 en de objectieflens 109 wordt groot, zodat de totale constructie van het optische systeem groter wordt. De onderste grens 1001343 25 ervan wordt uitgedrukt door de volgende formule: sin©2 > 0,06

Daarom verdient het de voorkeur, dat het diffusiehoek-conversiehologram 106 zo ontworpen is, dat het licht, 5 geëmitteerd van de halfgeleiderlaserchip 103, kan voldoen aan de volgende formules: 0,18 < sin01 < 0,3 ... (2) 0,06 < sin©2 <0,17 ... (3)

Zoals boven beschreven worden de diffusiehoeken Θ1 en ©2 10 bepaald door de formules (2) en (3) respectievelijk, en de diffusiehoek wordt gereduceerd van ©1 tot Θ2. Door zo te doen, kan het hoge gebruiksrendement van het licht, nodig voor het uitwissen van de registratie, zijn gewaarborgd, en de optische fase kan gemakkelijk worden geregeld, en de 15 verslechtering van de signaal/ruisverhouding wordt voorkomen, en het optische systeem kan van compacte constructie zijn.

Nog meer de voorkeur heeft het, dat het diffusiehoek-conversiehologram 106 zo is ontworpen, dat het licht, 20 geëmitteerd van de halfgeleiderlaserchip 103, kan beantwoorden aan de volgende formules: 0,18 < sin©l < 0,23 0,09 < sin©2 < 0,15

Bij deze uitvoering kan, hoewel de drie bundels worden 25 geproduceerd door het reflectie-type diffraktierooster 107, waardoor het spoorfoutsignaal verkregen wordt volgens de driebundelmethode, in plaats van het diffraktierooster 107, een push-pull methode worden gebruikt, waarbij een andere reflecterende film gebruikt wordt, en de spoorfout wordt 30 verkregen door berekening zoals in bovengegeven formule (1) zonder de drie bundels te produceren.

In deze uitvoering wordt het licht, geëmitteerd door de halfgeleiderlaserchip 103, eenmaal gereflecteerd door het diffusiehoekconversiehologram 106, gevormd op het tweede 35 gehelde oppervlak 105b, en dan eenmaal gereflecteerd door het diffraktierooster 107, gevormd op het eerste gehelde oppervlak 105a. Zodoende wordt dit geëmitteerde licht tweemaal gereflecteerd, en vervolgens geleid naar de eerste bundelsplitsfilm 108. Het geëmitteerde licht kan evenwel een ï 0 0 1 3 4 3 26 aantal malen worden gereflecteerd bij de eerste en tweede gehelde oppervlakken. In een dergelijk geval kunnen het diffusiehoekconversiehologram 106 en het diffraktierooster 107 zijn gevormd aan elk van de eerste en tweede gehelde 5 oppervlakken.

Bij deze uitvoering kan het astigmatisme-genererende hologram 124 zijn gevormd aan elk van de posities van de reflecterende films 125 en 126, in welk geval overeenkomstige effekten als boven beschreven, kunnen worden 10 verkregen, en de servosignalen kunnen worden gedetecteerd. Verder kan het gebruik van de reflecterende film 125 of de reflecterende film 126 worden overgeslagen, in welk geval het licht kan transmitteren door het derde gehelde oppervlak 105c, en wordt geleid naar de lichtontvangende sensor 172, 15 176 of 177.

Bij deze uitvoering kunnen, hoewel het diffusiehoekconversiehologram 106 van het reflectieve type en het astigmatisme-genererende hologram 124 van het reflectieve type gebruikt worden, reflecterende lenzen, welke 20 overeenkomstige effekten bereiken, worden gebruikt in plaats van deze hologrammen.

Bij deze uitvoering kan, hoewel het focusfoutsignaal verkregen wordt door de astigmatismemethode onder gebruikmaking van het astigmatisme-genererende hologram 124, 25 in plaats van het astigmatisme-genererende hologram 124 een reflectief type hologram gebruikt worden of een reflectief type lens met een of meer patronen, die er voor zorgen dat het gereflecteerde licht 123 van de bundelsplitsfilm 116 een beeld vormen op de sensorbasisplaat 119, teneinde het 30 focusfoutsignaal te verkrijgen door een mesrandmethode of een Foucaultse methode.

Een methode voor het voortbrengen van het optische geleidingsorgaan 104 van deze uitvoering zal nu worden beschreven met verwijzing naar de fig. 9a tot 22d. Voor het 35 vormen van het optisch geleidingsorgaan 104 van deze uitvoering, worden drie parallelle platte platen of substraten en V-vormige groefplaat 118 met een V-vormige groef aan elkaar gebonden door middel van hechtlagen voor het vormen van een assembleringsblok, en de 10013 A3 27 assembleringsblokken worden aan elkaar gebonden door hechtlagen voor het vormen van een samengesteld blok, en het samengestelde blok wordt schuin gesneden ten opzichte van de verbindingsoppervlakken van de blokken voor het verschaffen 5 van een planair blok. Staafblokken worden gevormd van dit planaire blok, en het optische geleidingsorgaan 104 van elke uitvoering wordt gevormd uit dit staafblok door snijden.

Bij deze uitvoering werden voor het vormen van de V-vormige groeiplaat 118 een slijpmethode en een 10 glasvormmethode gebruikt. Voor het vormen van de V-vormige groef door de slijpmethode van deze uitvoering wordt een komvormige slijpsteen gebruikt. Het principe van de vorming van de V-vormige groef door de komvormige slijpsteen 210 zal nu worden beschreven met verwijzing naar de fig. 9a tot 9f. 15 Fig. 9a is een opstaand vooraanzicht van de komvormige slijpsteen 210, en fig. 9b is een dwarsdoorsnee genomen volgens de lijn A-B van fig. 9a. Een slijpende korrellaag 212 is gevormd op een basis van de komvormige slijpsteen, en de apexhoek van de slijpende korrellaag is algemeen 45°.

20 Fig. 9c toont de wijze van het slijpen van een plaat 213 onder gebruikmaking van de slijpsteen 210. De komvormige slijpsteen 210 wordt geroteerd bij hoge snelheid, en de plaat 213 wordt aangevoerd in een x-as richting (fig. 9c), zodat een bodemuitsparing 214 wordt gevormd in de plaat 213 25 zoals getoond in fig. 9b. Vervolgens wordt de plaat 213 toegevoerd in een z-as richting (fig. 9c), zodat er een V-vormige groef wordt gevormd in de plaat 213, waarbij de apex of bodem van de V-vormige groef is gelegen aan het diepste bodempunt 215 van de bodemuitsparing 214. Fig. 9e is een 30 opstaand vooraanzicht van de plaat 213, die onderworpen is aan het slijpen, terwijl deze wordt toegevoerd in de z-as richting, en fig. 9f is een opstaand zijaanzicht daarvan. De V-vormige groef, welke zijn apex gelegen heeft op een lijn, die gaat door de punten 215, is gevormd. De hoek Θ1 van de 35 V-vormige groef wordt verkregen door het stellen van de plaat 213 onder een hoek Θ1 ten opzichte van het voorvlak 216 van de komvormige slijpsteen 210. Het valt gemakkelijk te begrijpen, dat de diepte L van de v-vormige groef wordt bepaald door de mate van toevoer in de x-as richting.

"10 0 13 4 3 28

Met betrekking tot de diepte L van de V-vormige groef kan een methode worden gebruikt, waarbij een V-vormige groef met een diepte L' eerst wordt gevormd door slijpen, en vervolgens wordt slijpen en lappen toegepast op een 5 oppervlak 217 van de plaat 213, waardoor de V-vormige groef tot een diepte L gevormd wordt. Het slijpen van de plaat 213 door de komvormige slijpsteen 210 gaat voort, terwijl de plaat 213 en de slijpende korrellaag 212 algemeen in een lijnachtig contact met elkaar gehouden worden. Door de plaat 10 213 in deze lijnachtige contacttoes tand toe te voeren, wordt de V-vormige groef gevormd, daarom kan met betrekking tot de apexhoek Θ2 van de V-vormige groef de hoek tussen het voorvlak 216 en een zijoppervlak 218 van de slijpsteen (zie fig. 9b) nauwkeurig worden overgebracht ongeacht een 15 belastingshoeveelheid van de komvormige slijpsteen en een kromming van de komvormige slijpsteen. Vervolgens zal de slijpmethode, gebruikt voor de V-vormige groefplaat 118 van de eerste uitvoering nu worden beschreven met verwijzing naar fig. 10. Fig. 10a is een opstaand vooraanzicht van de 20 v-vormige groefplaat 118, en fig. 10b is een dwarsdoorsnede, genomen volgens de lijn A-B van fig. 10a. Een V-vormige groef 232 wordt gevormd onder een hoek ©4 ten opzichte van een zijoppervlak 231 van de plaat, en de hoek tussen een oppervlak 108a van de V-vormige groef en het derde gehelde 25 oppervlak 105c is ingesteld op Θ3. Een plaatbindings- oppervlak 223 van een plaatslijpmal 220 is ingesteld op een hoek ©3 ten opzichte van het vooroppervlak 216 van het komvormige slijpwiel, en de V-vormige groefplaat 118 is vastgemaakt op het bindoppervlak 223 van de plaatslijpmal 30 220 met behulp van was 224 op een zodanige wijze, dat de hoek tussen het zijoppervlak 231 van de plaat en een z-as richting van een microslijpplaat-slijpmalbevestigings-standaard 226 (hierna aangeduid louter als "malstandaard") is ingesteld op ©4. De malstandaard 226 wordt verplaatst in 35 x-as, y-as en z-as richtingen (fig. 10c). De malstandaard 226 wordt bijgesteld tot de positie van een slijppunt 227 van de plaat in de y-as, en het komvormige slijpwiel 210 wordt geroteerd bij een hoge snelheid, en de malstandaard 226 wordt bewogen in de x-as richting en de z-as richting '1 0 0 1 3 4 3 29 voor het slijpen van de plaat, waardoor de V-vormige groef gevormd wordt. De maaswijdte van het komvormige slijpwiel 210 bedroeg #2500~#4000, en er werd een oppervlakteruwheid van Rmax 0,02 μ bereikt.

5 De methode van vervaardigen van de optische funktie-elementen, gevormd op de drie platen en de V-vormige groefplaat 118, welke gezamenlijk het assembleringsblok vormen voor het vormen van het optische geleidingsorgaan van deze uitvoering, zal nu worden beschreven met verwijzing 10 naar de fig. 11 tot 18. De optische pick-up, gebruikt in deze uitvoering, zal eerst worden beschreven met verwijzing naar fig. 11.

Het diffraktierooster van reflectief type 107 en een eerste bindingspositie-registratiemerker 244a worden gevormd. 15 op een eerste oppervlak 105a van de eerste plaat 241. Het diffusiehoekconversiehologram 106 van reflectief type, een eerste dieptemerker 246a, een eerste bundelsplitsfilm 108 en een bindingspositie-registratiemerker 244b worden gevormd op een tweede oppervlak 105b van de eerste plaat 241. De 20 reflecterende film 122, een tweede dieptemerker 246b, het astigmatisme-genererende hologram 124 van reflectief type en een derde bindingspositie-registratiemerker 244 zijn gevormd op een eerste oppervlak 105b van de tweede plaata 242. De tweede bundelsplitsfilm 116, de gepolariseerde 25 lichtsplitsfilm 121, de reflecterende film 125 en een vierde bindingspositie-registratiemerker 244d zijn gevormd op een tweede oppervlak 105c van de tweede plaat 242. Een vijfde bindingspositie-registratiemerker 244e, een eerste snijmerker 245a en een tweede snijmerker 245b zijn gevormd 30 op een eerste oppervlak 105d van de derde plaat 243. Een zesde bindingspositie-registratiemerker 244f is gevormd op een tweede oppervlak 105a van de derde plaat 243. Een zevende bindingspositie-registratiemerker 244g is gevormd op een eerste oppervlak 105c van de V-vormige groefplaat 118, 35 en een achtste bindingspositieregistratiemerker 244h is gevormd op een tweede oppervlak 105d van de V-vormige groefplaat 118. Een, een fase-bijstelling-reflecterende film 248 is gevormd op een schuin oppervlak 108a van de V-vormige groef. De methode van het vormen van elk van de optische 1001343 30 funktie-elementen, die moeten worden aangebracht op de respectievelijke platen, zal nu worden beschreven. De vorming van de eerste bindingspositie-registratiemerker 244a zal worden beschreven met verwijzing naar fig. 12. Een 5 eerste merker-vormmateriaal 251a voor de eerste bindings -positie-registratiemerker 244a wordt gevormd op het eerste oppervlak 105a door een vacuumfilmvormingsinrichting. Het eerste merker-vormmateriaal 251a voor de eerste bindings -positie-registratiemerker 244a bestaat uit metaal zoals Ti, 10 Cr, Cu, Au, Ag, Ta, Al. Het verdient in het bijzonder de voorkeur, gezien vanuit het gezichtspunt van kosten, tijd en arbeid, dat het eerste merker-vormmateriaal 251a een materiaal is, dat nat geëtst kan worden. Hier is een Ti film gebruikt. Een patroon 252 voor de eerste bindingspositie-15 registratiemerker 244a wordt gevormd door middel van fotolithografie, en vervolgens wordt het zijetsen van het patroon onderdrukt door natetsen (sproei-etsen), en dat gedeelte met uitzondering van het patroon, wordt verwijderd, en het patroon 252 wordt verwijderd, waardoor de eerste 20 bindingspositie-registratiemerker 244a wordt gevormd.

Vervolgens zal een methode worden beschreven voor het vormen van de tweede bindingspositie-registratiemerker 244b met verwijzing naar fig. 13. Een tweede merker-vormmateriaal 251b voor de tweede bindingspositie-registratiemerker 244b 25 wordt gevormd op het tweede oppervlak 105b door een vacuum-filmvormingsinrichting. Bij voorkeur is het merker-vormmateriaal 251b geschikt voor etsen, en is gemaakt van Ti,

Cr, Cu, Au, Ag, Ta of Al. Bij voorkeur is het tweede merker-vormmateriaal 251 gemaakt van een materiaal, dat kan worden 30 geëtst zonder het eerste merker-vormmateriaal 251 aan te tasten. Hier is een Cr film gebruikt. Een etsmiddel voor de Cr film, hier gebruikt, is samengesteld uit 17 g cerium-ammoniumnitraat, 5 ml perchloorzuur en 100 ml zuiver water. Het Cr etsmiddel kan de Cr film etsen zonder dat de Ti film 35 geëtst wordt, en daardoor kan het proces worden voortgezet zonder de eerste bindingspositie-registratiemerker 244a te beschadigen. De tweede bindingspositie-registratiemerker 244b moet worden gevormd onder gebruikmaking van de eerste bindingspositie-registratiemerker 244a als referentie. Met 1001343 31 patroonheiichting wordt een patroon 252 voor de tweede bindingspositie-registratiemerker 244b gevormd door fotolithografie onder gebruikmaking van een dubbelzijdige maskermarkering. Dat gedeelte, met uitzondering van het 5 patroon, wordt verwijderd door natetsen (sproei-etsen) en vervolgens wordt het patroon 252 verwijderd, waardoor de tweede bindingspositie-registratiemerker 244b wordt gevormd. Hoewel het natetsen hier wordt toegepast, kan het proces ook worden uitgevoerd onder gebruikmaking van een droge 10 etstechniek, die minder ontvankelijk is om zijetsen te veroorzaken, bijvoorbeeld ionenfrees-etsen en reactief etsen. Ook kan het patroon worden gevormd door een aflichtingsproces.

De methode voor het vormen van de derde, vijfde en 15 zevende bindingspositie-registratiemerkers 244c, 244e en 244g (fig. 11), zijn dezelfde als de methode voor het vormen van de eerste bindingspositie-registratiemerker 244a. De methode voor het vormen van de vierde en zesde bindingspositie-registratiemerkers 244d en 244f (fig. 11) is 20 dezelfde als de methode voor het vormen van de tweede bindingspositie-registratiemerker 244b.

Een methode voor het vormen het diffraktierooster 107 van het reflectieve type op het eerste oppervlak 105a van de eerste plaat 241 zal worden beschreven met verwijzing naar 25 fig. 14. Onder gebruikmaking van de eerste bindingspositie-registratiemerker 244a als een referentiemerker, wordt een diffraktieroosterpatroon 253 voor het diffraktierooster 107 van reflectief type gevormd op een voorbepaald gedeelte van het eerste oppervlak 105a door fotolithografie. Het etsen 30 vindt plaats tot een voorbepaalde diepte onder gebruikmaking van een reactief etsproces of een ionenfrees-etsproces.

Nadat het etsen voltooid is, wordt het diffraktieroosterpatroon 253 verwijderd door behandeling met zuurstofplasma of een organisch oplosmiddel, waardoor een diffraktierooster 35 254 wordt gevormd op het eerste oppervlak 105a van de eerste plaat 241. Verder wordt een diffraktierooster-reflecterend filmpatroon 256 gevormd, teneinde een reflecterende film 255 te vormen op het diffraktierooster 254 door een aflichtproces. Een negatief type fotoresist wordt gebruikt 1001343 32 voor het diffraktierooster-reflecterende filmpatroon 256, zodat het patroon een omgekeerd taps verlopende configuratie kan hebben teneinde het aflichten te vergemakkelijken. Alternatief wordt het patroon gevormd onder gebruikmaking 5 van een fotoresist van het negatieve-positieve geïnverteerde type, waarvan een kenmerkend voorbeeld AZ-5218E van Hoechst is. Hier wordt het diffraktierooster-reflecterende filmpatroon 256 gevormd onder gebruikmaking van AZ-5218E van Hoechst. Nadat het diffraktierooster-reflecterende 10 filmpatroon 256 gevormd is, wordt de reflecterende film 255 voor het reflectieve type diffraktierooster 107 gevormd door een vacuumfilm-vormingsinrichting. Hier is deze film gevormd door vacuumdampafzetting. De reflecterende film 255 is gemaakt van metaal met een hoge reflectantie zoals Ag, Al, 15 Cu of Au, zodat het reflectieve type diffraktierooster 107 een hoog rendement kan bereiken. In het bijzonder zilver is van voordeel vanuit het gezichtspunt van de kosten, en bezit een hoge reflectantie, terwijl het een absorptiecoëfficiënt heeft van ongeveer 5,1 ten opzichte van een golflengte A0 20 (790 nm) (hetgeen de centrale golflengte in het ontwerp is). Daarom kan Ag een hoge reflectantie bereiken bij een zeer geringe dikte, en het aflichten kan gemakkelijk worden uitgevoerd in het aflichtproces. Nadat het reflecterende filmmateriaal gevormd is, vindt het aflichten plaats onder 25 gebruikmaking van een organisch oplosmiddel of een remover-oplosmiddel, waardoor het reflectieve type diffraktierooster 107 wordt gevormd. Hoewel het patroon voor de reflecterende film 255 gevormd is door het aflichtproces, kan zij worden gevormd door een patroonformatiemethode en een natetsen 30 (sproei-etsen) zoals bij de vorming van de eerste bindingspositie-registratiemerker 244a. Met betrekking tot de etsmethode kan ook droogetsen worden gebruikt.

Vervolgens zal een methode worden beschreven voor het vormen van het diffusiehoekconversiehologram 106 van het 35 reflectieve type met verwijzing naar de fig. 15a tot 15d. In deze uitvoering wordt, teneinde het diffraktierendement van het diffusiehoekconversiehologram 106 te vergroten, een vierstaps hologram gevormd. Fig. 15a is een optstaand vooraanzicht van het vierstaps hologram, en fig. 15b is een 1001343 33 dwarsdoorsnee, genomen volgens de lijn X-X' van fig. 15a. De vierstaps configuratie wordt gevormd door twee hologram-patroonvormingsstappen uit te voeren en twee hologram-patroonetsingsstappen. Fig. 15c toont een procesflow voor de 5 vorming van het vierstaps hologram. In de eerste patroonvorming wordt een eerste staps hologrampatroon 261 gevormd, met een belastingsverhouding van 50/50 ten opzichte van een vierstaps hologramsteek P (hierna aan te duiden uitsluitend als "hologramsteek"). Het eerste etsen vindt 10 plaats over een hoeveelheid van ongeveer 2/3 van een eindetshoeveelheid D. Het etsen wordt uitgevoerd door een methode zoals beschreven voor het reflectieve type diffraktierooster 107. Nadat het etsen is voltooid, wordt het eerste staps hologrampatroon 261 verwijderd door 15 zuurstofplasmabehandeling of een organisch oplosmiddel, waardoor een eerste staps hologram 262 gevormd wordt, in de tweede patroonvorming wordt een tweede staps hologrampatroon 263 gevormd op het eerste staps hologram 262. Het tweede staps hologrampatroon 263 is zodanig, dat de belastings-20 verhouding van een eerste staps hologramlijngedeelte 264 van het eerste staps hologram 262 tot een eerste stapsafstands -gedeelte 265 daarvan 50/50 bedraagt. Het tweede etsen wordt uitgevoerd in een hoeveelheid van ongeveer 1/3 van de uiteindelijke etshoeveelheid D. Het etsen wordt uitgevoerd 25 door een methode zoals beschreven voor het reflectieve type diffraktierooster 107. Nadat het etsen is voltooid, wordt het tweede staps hologrampatroon 263 verwijderd door zuurstofplasmabehandeling of een organisch oplosmiddel, waardoor een tweede staps hologram 266 wordt gevormd. Verder 30 wordt een reflecterende film 267 gevormd, waardoor het reflectieve type diffusiehoekconversiehologram 106 gevormd wordt in de vorm van het vierstaps hologram. Voor de hierboven beschreven reden voor het reflectieve type diffraktierooster 107, is de reflecterende film 267 gemaakt 35 van zilver. De reflecterende film 267, gemaakt van zilver, wordt gevormd door een aflichtproces zoals boven beschreven voor de reflecterende film 255 van het reflectieve type diffraktierooster 107. Fig. 15d toont het reflectieve type diffusiehoekconversiehologram 106, gevormd op het tweede 1001343 34 oppervlak 105b van de eerste plaat 241.

Het reflectieve type astigmatisme-genererende hologram 124 (fig. 11) is het reflectieve type, vierstaps hologram, en wordt gevormd door een methode zoals boven beschreven 5 voor het reflectieve type diffusiehoekconversiehologram 106, hoewel het hologram 124 verschilt in patroonconfiguratie van het hologram 106.

Vervolgens wordt een methode beschreven voor het vormen van de eerste dieptemerker 246a en de tweede dieptemerker 10 246b met verwijzing naar de fig. 16a tot 16d. Het doel van de eerste dieptemerker 246a is om nauwkeurig de afstand Ll te bepalen tussen het oppervlak 104c en het reflectieve type diffusiehoekconversiehologram 106 bij de eindstap van het proces, teneinde nauwkeurig de afstand te bepalen tussen de 15 halfgeleiderlaserchip 103 (fig. 16a) en het diffusiehoekconversiehologram 106. Bij voorkeur worden de eerste dieptemerker 246a en het reflectieve type diffusiehoekconversiehologram 106 tegelijk gevormd op hetzelfde oppervlak, en is de eerste dieptemerker 246a gemaakt van een 20 materiaal, dat aanzienlijk verschilt in brekingsindex van de eerste plaat 241, en de mate van behandeling kan duidelijk worden beoordeeld tijdens het behandelen. Hier is de eerste plaat 241 gevormd van BK-7, dat een brekingsindex heeft van ongeveer 1,511, en bijgevolg wordt de eerste dieptemerker 25 246a gevormd onder gebruikmaking van het zilvermateriaal, gebruikt voor het vormen van de reflecterende film 267 van het reflectieve type diffusiehoekconversiehologram tegelijk, wanneer de reflecterende film 267 wordt gevormd. Daardoor wordt een eerste dieptemerkerpatroon 271 gevormd op het 30 masker, waarop het reflecterende filmpatroon 268 van het reflectieve type diffusiehoekconversiehologram gevormd is, en de eerste dieptemerker 246 wordt gevormd tegelijk met de vorming van de reflecterende film 267. Fig. 16b is een aanzicht, waarin een toestand getoond wordt, waarin het 35 eerste dieptemerkerpatroon 271 en het reflectieve filmpatroon 268 van het reflectieve type diffusiehoekconversiehologram worden gevormd, en de reflecterende film 267 van het reflectieve type diffusiehoekconversiehologram is gevormd. Fig. 16c is een opstaand zijaanzicht van de 1001343 35 eerste plaat 241 met de eerste dieptemerker 246a daarop gevormd. Om overeenkomstige redenen is de tweede dieptemerker 246b gevormd tegelijk met de vorming van een reflecterende film 248 van het reflectieve type 5 astigmatisme-genererende hologram 124 (fig. 11). De tweede dieptemerker 246b is aangebracht om de afstand L2 tussen het reflectieve type astigmatisme-genererende hologram 124 en het oppervlak 104d van de sensorbasisplaat 119 te begrenzen. Bij de eindstap van het proces wordt de afstand tot aan het 10 oppervlak 104a begrensd door de tweede dieptemerker 246b, en de uiteindelijke hoogte h van het optische geleidingsorgaan 104 wordt bepaald onder gebruikmaking van het oppervlak 104a als referentie. Zodoende wordt een tweede dieptemerker-patroon 249 gevormd op het masker, waarop een reflecterend 15 filmpatroon 129 voor het reflectieve type astigmatisme-genererende hologram is gevormd, en de tweede dieptemerker 246b wordt gevormd simultaan met de vorming van de reflecterende film 248 van het reflectieve type astigmatisme-genererende hologram. Fig. 16d is een aanzicht 20 waarin een toestand getoond is, waarin het tweede dieptemerkerpatroon 249 en het reflecterende filmpatroon 129 voor het reflectieve type astigmatisme-genererende hologram gevormd worden, en de reflectieve film 248 van het astigmatisme-genererende hologram gevormd wordt.

25 De eerste en tweede snijmerkers 245a en 245b en de reflecterende films 122 en 125 (fig. 11) kunnen worden gevormd door een methode zoals boven beschreven voor de reflecterende film 255.

Vervolgens zal de vorming van de eerste bundelsplitsfilm 30 108 op het tweede oppervlak 105b van de eerste plaat 241 worden beschreven. In deze uitvoering is de eerste bundelsplitsfilm 108 van het S gepolariseerd licht invalstype, en heeft nagenoeg 100 % transmittantie voor het P gepolariseerde licht en een voorbepaalde transmittantie 35 voor het S gepolariseerde licht, en een relatief faseverschil tussen het S gepolariseerde licht en P gepolariseerde licht van het getransmitteerde licht moet nagenoeg nul zijn. Bijgevolg wordt algemeen een bundelsplitsfilm met polarisatieselectiviteit gevormd van '10 0 13 4 3 36 een diëlektrische multilaagfilm. De diëlektrische multilaagfilm is gemaakt van dergelijke filmmaterialen, dat inwendige spanningen, die zich ontwikkelen tijdens de vorming van de afzonderlijke films door de materialen, 5 strek- en drukspanningen vertonen en dat de inwendige spanningen van deze film elkaar neutraliseren gedurende de vorming van de multilaags film. Bij voorkeur ligt de uitzettingscoêfficiënt van de plaat, waarop de multilaags film gevormd wordt, algemeen in het midden van het traject 10 van de uitzettingscoêfficiënten van de filmmaterialen, die met elkaar moeten worden gecombineerd. Met het oog hierop is het noodzakelijk om scheiding, het verlagen van de nauwkeurigheid van de plaats en scheuren tijdens de vorming van de multilaags film te voorkomen. Met het oog hierop zijn 15 kenmerkende voorbeelden van de combinatie TiC>2/Si02,

Ta2°5/S;*-02' Al203/SiC>2 en ZnS/MgF2. Bij het ontwerp van de bundelsplitsfilm wordt een geschikte combinatie gekozen in overeenstemming met de beoogde brekingsindexwaarde. In het bijzonder in deze uitvoering, waarbij de invalshoek 45° is 20 en de brekingsindex ng van het invalslicht BK-7 is, kan aan de Brewster condities worden voldaan door de combinatie van Al2C>3/Si02/ en reflectie voor het P gepolariseerde licht kan tot nagenoeg nul worden gereduceerd, zodat nagenoeg 100 % transmittantie kan worden verkregen.

25 Een formule voor de Brewster condities is als volgt: (ng)2 = 2 x (nh)2 x (nl)2/((nh)2 + (nl)2) ... (4)

Indien ng = 1,511, nh (brekingsindex van AI2O3) = 1,580, en nl (brekingsindex van S1O2) = 1,450 genomen worden, is voldaan aan formule (4). Aan de andere kant wordt de dikte 30 van de optische film ten opzichte van de centrale golflengte Λ0 van het ontwerp als volgt bepaald: nH,L x d = λ0/ (4 x cos0t) 0t representeert de brekingshoek voor elke dunne film.

De brekingshoek kan worden bepaald door de volgende formule 35 volgens de wet van Snellius: ng x sinöO = nH,L x sin0t Θ0 representeert de invalshoek. Deze filmdiktebepalingen variëren evenwel in afhankelijkheid van de gekozen reflectantie van het S gepolariseerde licht en worden tevens 1001343 37 bijgesteld teneinde het relatieve faseverschil tussen S gepolariseerde licht en het P gepolariseerde licht tot nagenoeg 0 te brengen. Met deze combinaties kan de bundel -splitsfilm worden gevormd zonder reflectie te veroorzaken 5 van het P gepolariseerde licht als gevolg van de filmdikte-nauwkeurigheid bij de filmvormstap.

Het ontwerp kan evenwel worden gemaakt onder gebruikmaking van de bovengenoemde combinaties van de samenstellende materialen. In het bijzonder is er de methode 10 van Thelen, welke een dergelijk ontwerp mogelijk maakt. Verder is bij de constructie van deze uitvoering de lichtbundel, die invalt op de eerste polarisatiebundel-splitsfilm 108 de begrensde lichtbundel, die geconverteerd wordt door het reflectieve type diffusiehoekconversie-15 hologram 106, en bijgevolg is het ontwerp zo gemaakt, dat spectrale karakteristieken van het S gepolariseerde licht en het P gepolariseerde licht door deze begrensde lichtbundel kunnen worden verkregen, en dat het faseverschil, dat wordt voortgebracht, kan worden gereduceerd tot een minimum. De 20 eerste bundelsplitsfilm 108 wordt gevormd door een aflichtproces zoals boven beschreven voor de reflecterende film 255 van het reflectieve type diffraktierooster 107.

Vervolgens zal uitleg worden gegeven van de vorming van de tweede bundelsplitsfilm 116 op het tweede oppervlak 105c 25 van de tweede plaat 242. De tweede bundelsplitsfilm 116 wordt gevormd onder gebruikmaking van een constructiemethode en een patroonvormingsmethode zoals boven beschreven voor de eerste bundelsplitsfilm 108. De tweede bundelsplitsfilm 116 wordt gevormd door een methode zoals boven beschreven voor 30 de eerste bundelsplitsfilm 108.

Vervolgens zal een methode voor het vormen van de gepolariseerde lichtsplitsfilm 121 worden beschreven. De gepolariseerde lichtflitsfilm 121 van deze uitvoering heeft genoeg 100 % reflectantie voor het S gepolariseerde licht 35 met een centrale golflengte λ0 van het ontwerp, en heeft tevens nagenoeg 100 % transmittantie voor het P gepolariseerde licht. Bijgevolg is de gepolariseerd lichtsplitsfilm 121 algemeen samengesteld uit een diëlektrische multilaagsfilm. De samengestelde materialen 1001343 38 van de gepolariseerd lichtsplitsfilm 121 worden bepaald voor dezelfde redenen als gegeven voor de eerste bundelsplitsfilm 106. De invalshoek op de gepolariseerd lichtsplitsfilm 121 bij deze uitvoering is 53°, en een 5 combinatie van TiC>2/Si02 wordt gebruikt. Aangezien de gepolariseerd lichtsplitsfilm nagenoeg 100 % van het P gepolariseerde licht daar doorheen transmitteert, dient een optische admittantie Yep van de gepolariseerd lichtsplitsfilm 121 gelijk te zijn aan de optische 10 admittantie YO van het invalslichtbundelmedium. Daarom wordt de constructie gemaakt onder gebruikmaking van de methode van Thelen. De methode van Thelen zal kort worden beschreven. Bij de methode van Thelen wordt de optische admittantie Ym van een multilaagsfilm (uitgedrukt door de 15 volgende formule, welke een basisfilmconstructie vormt in het ontwerp van een lange golflengte-transmissiefilter, veranderd door een optische admittantie Yn van een andere basismultilaagsfilm, teneinde de optische admittantie van de totale multilaagsfilm (hier de optische admittantie Yep van 20 de gepolariseerd lichtsplitsfilm 121) gelijk te maken aan de optische admittantie YO van het invalslichtbundelmedium.

(0,5H x L x 0,5H)m ... (5) H en L representeren optische filmdiktes van materialen van respectievelijk hoge en lage brekingsindex, en m 25 representeert het aantal herhalingen. Opdat de optische admittantie Ym van de multilaagsfilm, uitgedrukt door formule (5) gelijk gemaakt kan worden aan YO bij de centrale golflengte X0 van het ontwerp, is voorzien in een justeringslaag, voorgesteld door de volgende formule (6).

30 Multilaagsfilmen, welke de adjusteringslaag van de basisfilmconstructie (H’, L')n hebben, worden aangebracht respectievelijk aan de invalslichtbundelmediumzijde en de uitgangslichtbundelmediumzijde, en de filmdiktes h, l, H' en L' zijn zo bepaald, dat de transmittantie voor het P 35 gepolariseerde licht nagenoeg 100 % kan zijn.

(0,5H’ x L' x 0,5H')n x (0,5H x L x 0,5H)m x (0,5H’xL'x0,5H')n ...(6)

De gepolariseerd lichtsplitsfilm 121 wordt gevormd door een methode zoals boven beschreven voor de vorming van de 1001343 39 eerste polarisatiebundelsplitsfilm 108.

Vervolgens wordt een reflecterende film 118b gevormd op de v-vormige groeiplaat 118 en het v-vormige groefoppervlak 118 zal worden beschreven met verwijzing naar fig. 17. De 5 reflecterende film 118b moet een hoge reflectantie vertonen voor het S gepolariseerde licht en het P gepolariseerde licht, en moet tevens het relatieve faseverschil tussen het S gepolariseerde licht en het P gepolariseerde licht tot nagenoeg 0 reduceren. In deze uitvoering is de hoek van 10 inval op het V-vormige groefoppervlak 118a 45°. Het is mogelijk, dat de reflecterende film 118b bestaat uit een diëlektrische multilaagsfilm zoals in het geval van de eerste polarisatiebundelsplitsfilm 108 en de gepolariseerd lichtsplitsfilm 121. In een dergelijk geval moet echter het 15 aantal gelamineerde lagen worden verhoogd, teneinde een hoge reflectantie te bereiken, en de vorming van het patroon wordt moeilijk. Hier is metaal met hoge reflectantie, zoals Ag, Al, Cu en Au, gebruikt als materiaal voor de reflecterende film 118b. In het bijzonder zilver is 20 voordelig vanuit van kosten, en vertoont hoge reflectantie, en heeft daarnaast een absorptiecoëfficiënt van ongeveer 5,1 voor de centrale golflengte A0 (760 nm) van het ontwerp. Bijgevolg kan een hoge reflectantie worden verkregen met een zeer kleine filmdikte, en het aflichten kan gemakkelijk 25 worden uitgevoerd in een aflichtproces. Ag heeft evenwel een brekingsindex van 0,09 tot 5,45i bij de centrale golflengte λ0 van het ontwerp, en het relatieve faseverschil tussen het S gepolariseerde licht en het P gepolariseerde licht van het gereflecteerde licht 281 bedraagt 158,9° (21,1°), en 30 daardoor is het nodig om te zorgen voor een fase- adjusteringsfilm 118c, teneinde het faseverschil tot nul te reduceren. Hier is de fase-adjusteringsfilm 118c samengesteld uit een TiC>2 film met een voorbepaalde filmdikte. Andere hoog-reflecterende materialen zoals Al, 35 Cu, en Au kunnen er eveneens voor zorgen, dat het relatieve faseverschil zich ontwikkelt in het gereflecteerde licht 281, en de fase-adjusteringsfilm 118 voor het reduceren van het relatieve faseverschil tot nagenoeg nul wordt aangebracht, en een fase-adjusteringsreflecterende film 1001343 40 wordt gevormd door de reflecterende film 118b en de fase-adjusteringsfilm 118c. De fase-adjusteringsreflecterende film 248 wordt gevormd door een methode, zoals boven beschreven voor de vorming van de reflecterende film 255 van 5 het diffraktierooster 107.

Vervolgens zullen voorbeelden van de methode voor het vervaardigen van het optische geleidingsorgaan 104 van de uitvinding worden beschreven met verwijzing naar de fig. 18 tot 22. Fig. 18 is een opstaand zijaanzicht, waarin de 10 platen getoond zijn voordat het assembleringsblok van de optische pick-up van de eerste uitvoering gevormd is. Door de bovengenoemde optische funktie-elementvormingsmethoden zijn het reflectieve type diffraktierooster 107, de eerste dieptemerker 246a en de eerste bindingspositie-15 registratiemerker 244a gevormd op het eerste oppervlak 105a van de eerste plaat 241 van het eerste assembleringsblok.

Het reflectieve type diffusiehoekconversiehologram 106, de eerste gepolariseerde bundelsplitsfilm 108 en de tweede bindingspositie-registratiemerker 244b zijn gevormd op het 20 tweede oppervlak 105b van de eerste plaat 41. De reflecterende film 122, het reflectieve type astigmatisme-genererende hologram 124 en de derde bindingspositie-registratiemerker 244c zijn gevormd op het eerste oppervlak 105b van de tweede plaat 242. De tweede polarisatiebundel-25 splitsfilm 116, de gepolariseerd lichtsplitsfilm 121, de reflecterende film 125, de vierde bindingspositie-registratiemerker 244d en de tweede dieptemerker 246b zijn gevormd op het tweede oppervlak 105c van de tweede plaat 242. De vijfde bindingspositie-registratiemerker 144e, de 30 eerste snijmerker 245a en de tweede snijmerker 245b zijn gevormd op het eerste oppervlak 105d van de derde plaat 243. De zesde positie-registratiemerker 244f is gevormd op het tweede oppervlak 105a van de derde plaat 243. De zevende bindingspositie-registratiemerker 244g is gevormd op het 35 eerste oppervlak 105c van de V-vormige groeiplaat 118, en de achtste bindingspositie-registratiemerker 244h is gevormd op het tweede oppervlak 105d van de V-vormige groefplaat 118, en de fase-adjusteringsreflecterende film 248 is gevormd op het V-vormige groefoppervlak 108a.

1001343 41

De methode voor het vormen van het assembleringsblok zal worden beschreven met verwijzing naar fig. 19. De eerste plaat 42 en de tweede plaat 242 worden met elkaar in register gebracht onder gebruikmaking van de tweede en derde 5 bindingspositie-registratiemerkers 244b en 244c, en vervolgens met elkaar gebonden. Overeenkomstig worden de tweede plaat 242, gebonden aan de eerste plaat 241, en de V-vormige groefplaat 118 met elkaar in register gebracht onder gebruikmaking van de vierde en vijfde bindingspositie-10 registrataiemerkers 244d en 244e, en vervolgens aaneengebonden. Verder wordt onder gebruikmaking van de zesde bindingspositie-registratiemerker 244f de derde plaat 243 gebonden aan de V-vormige groefplaat 118, gebonden aan de eerste en tweede platen 241 en 242, waardoor het eerste 15 assembleringsblok gevormd wordt. Een hechtmiddel, gebruikt voor het binden van de platen is een epoxyhars met een brekingsindex zeer dicht gelegen bij de brekingsindexen van de eerste tot derde platen 241, 242 en 243 en de V-vormige groefplaat 118. Door zodoende de adhesieve hars met een 20 brekingsindex die zeer dicht ligt bij die van de eerste tot derde platen 241, 242 en 243 en de V-vormige groefplaat 118 te gebruiken, wordt voorkomen, dat er zich een relatief faseverschil ontwikkelt tussen het S gepolariseerde licht en P gepolariseerde licht aan het grensvlak.

25 Vervolgens zal een methode worden beschreven voor het vormen van een assembleringsstruktuur met verwijzing naar de fig. 20a tot 20b. Fig. 20a is een aanzicht, waarin een methode getoond is, waarbij een aantal (n) eerste assembleringsblokken, bovengenoemd, worden gemaakt, en 30 waarbij de eerste bindingspositie-registratiemerker 244a van één assembleringsblok en de bindingspositie-registratiemerker 244f van een ander assembleringsblok worden gebruikt, en de twee assembleringsblokken aaneen gebonden worden. Op deze wijze worden het aantal (n) 35 assembleringsblokken aaneen gebonden. Als gevolg worden de optische funktie-elementen op het eerste oppervlak 105a van de eerste plaat 241 van het assembleringsblok gehouden tegen de derde plaat 243 van het aangrenzende assembleringsblok.

De derde plaat 243 wordt gebonden met het buitenste (n-de) 1001343 42 assembleringsblok onder gebruikmaking van de eerste bindingspositie-registratiemerkers 244a van dit assembleringsblok en de bindingspositie-registratiemerker 244f van deze derde plat 243, waardoor de assemblerings-5 constructie wordt gevormd. Fig. 20b is een opstaand zijaanzicht van de assembleringsconstructie.

Een methode voor het vormen van het planaire blok zal worden beschreven met verwijzing naar de fig. 20a tot 20e.

De assembleringsblokken van de assembleringsconstructie van 10 fig. 20b worden aan elkaar gebonden op een zodanige wijze, dat zij verschoven zijn over een mate L ten opzichte van elkaar. De reden hiervan is, dat het planaire blok wordt gevormd tot een gemeenschappelijke planaire plaat. De verschuivingsmate L is kleiner dan de dikte d van het 15 assembleringsblok en wordt bepaald door de volgende formule: L = d/ tan0

De hellingshoek Θ is de hoek tussen de as van het invallende licht en de bindingsoppervlakken in het optische geleidingsorgaan van de uitvinding, en bedraagt bij deze 20 uitvoering ongeveer 45°. Een richting over X' representeert een richting geheld onder de hoek Θ ten opzichte van de bindingsoppervlakken, en het planaire blok wordt gesneden uit de assembleringsconstructie in een vlak X'-Y’. Het snijden wordt uitgevoerd onder gebruikmaking van de eerste 25 snijmerker 245a, gevormd op de derde plaat 243, gebonden aan het buitenste assembleringsblok als referentie. Fig. 21a is een opstaand vooraanzicht van het planaire blok, gesneden uit de assembleringsconstructie en fig. 21b is een opstaand zijaanzicht daarvan. De optische funktie-elementen, verpakt 30 in de assembleringsblokken, zijn gerangschikt in de richting X', en het aantal optische geleidingsorganen van de uitvinding zijn gerangschikt in het planaire blok. Fig. 21c is een vergroot aanzicht van een gedeelte (c) in fig. 21a, en fig. 21 is een vergroot aanzicht van een gedeelte (d) in 35 fig. 21b. De tweede dieptemerker 246b is blootgesteld aan een eerste oppervlak 285a van het planaire blok, wanneer het planaire blok wordt gesneden van de assembleringsstruktuur. De tweede dieptemerker 246b dient voor het controleren van de afstand tussen het reflectieve type astigmatisme* '10 0 13 4 3 43 genererende hologram 124 en het eerste oppervlak 285 van het planaire blok, en het eerste oppervlak 285a wordt behandeld of bewerkt, totdat een dieptemerkerwaarde DL een voorvastgestelde waarde bereikt. Vervolgens, onder 5 gebruikmaking van het eerste oppervlak 285a als referentie, wordt een tweede oppervlak 285b behandeld of bewerkt, totdat een voorbepaalde inrichtingshoogte h van het optische geleidingsorgaan van de uitvinding is verkregen. Nadat de eerste en tweede oppervlakken 285a en 285b aldus bewerkt 10 zijn, wordt een antireflectiefilm 286 voor de centrale golflengte λ0 van het ontwerp gevormd op elk van de eerste en tweede oppervlakken 285a en 285b. De antireflectiefilm 286 is samengesteld uit een diëletrisch materiaal. Hier is een harde bekleding van TiC>2Si02 gevormd als 15 antireflectiefilm 286, zodat de film niet beschadigd zal worden bij een latere slijpstap. De antireflectiefilm 286 wordt gevormd door een vacuumfilmvorminrichting.

Vervolgens zal het proces voor het vormen van de staafblokken, gesneden van het planaire blok, beschreven 20 worden met verwijzing naar de fig. 22a tot 22d. Fig. 22a toont een opstaand vooraanzicht van het planaire blok, waarbij een methode getoond is, waarin het planaire blok wordt gesneden in een y-as richting, voor het vormen van de staafblokken. De fig. 22b en 22c zijn een opstaand 25 vooraanzicht en een opstaand zijaanzicht van het staafblok respectievelijk. De eerste dieptemerker 246a is blootgesteld aan een eerste oppervlak 288a van het staafblok, wanneer het staafblok wordt gesneden van het planaire blok. De eerste dieptemerker 246a dient voor het controleren van de afstand 30 tussen het reflectieve type diffusiehoekconversieorgaan 106 en het eerste oppervlak 288a van het staafblok, en het eerste oppervlak 288 wordt behandeld of bewerkt, totdat een dieptemerkerwaarde DL2 een voorvastgestelde waarde bereikt. Vervolgens wordt, onder gebruikmaking van het eerste 35 oppervlak 288a als referentie, een tweede oppervlak 288 behandeld of bewerkt, totdat een voorbepaalde inrichtingsdiepte L van het optische geleidingsorgaan van de uitvinding is verkregen. Nadat de eerste en tweede oppervlakken aldus bewerkt zijn, wordt een antireflectiefilm 1001343 44 289 voor de centrale golflengte λΟ van het ontwerp gevormd op het eerste oppervlak 288a. De antireflectiefilm 289 is samengesteld uit een diëlektrische film. Hier wordt een harde bekleding van TiC>2Si02 gevormd als antiref lectief ilm 5 289, zodat de film niet zal worden beschadigd bij de latere slijpstap. De antireflectiefilm 289 wordt gevormd door een vacuumverdampingsmethode.

Onder gebruikmaking van de eerste snijmerkers 245 als referentie wordt het staafblok gesneden voor het leveren van 10 de optische geleidingsorganen 104 van de uitvinding. Fig.

22d toont de chip, verkregen door het snijden.

Een tweede uitvoering van de onderhavige uitvinding zal nu beschreven worden met verwijzing naar de tekeningen. Fig. 23 is een opstaand zijaanzicht van de tweede uitvoering van 15 de optische pick-up van de uitvinding, en fig. 24 is een vlak aanzicht van deze optische pick-up.

Bij de optische pick-up van deze uitvoering zijn een basisplaat 301, een hulpmontage 302, een halfgeleider-laserchip 303, een diffusiehoekconversiehologram 306, een 20 diffraktierooster 307, een objectieflens 309, een eerste bundelsplitsfilm 308, een tweede bundelsplitsfilm 316, een sensorbasisplaat 319 enz., aangebracht op dezelfde wijze als beschreven bij de eerste uitvoering, maar deze tweede uitvoering verschilt van de eerste uitvoering daarin, dat in 25 plaats van de V-vormige groeiplaat, gebruikt in de eerste uitvoering, een halfgolflengteplaat 318 gevormd is op het vierde geheld oppervlak 305d parallel aan de eerste, tweede en derde gehelde oppervlakken.

Bij deze uitvoering is een optische weg van de 30 halfgeleiderlaserchip 303 naar een optische schijf 310, alsook een optische weg van de optische schijf 310 naar de tweede bundelsplitsfilm 316 dezelfde als die in de eerste uitvoering. Fig. 25 is een verklarend aanzicht van de inrichting van lichtontvangende sensoren en een signaal-35 verwerkingsketen in de tweede uitvoering van de uitvinding. Getransmitteerd licht 317 van de tweede bundelsplitsfilm 316 valt in op de halfgolflengteplaat 318, gevormd op het vierde gehelde oppervlak 305d. Het polarisatievlak van het getransmitteerde licht 317 wordt gedraaid over 45° door de 1001343 45 halfgolflengteplaat 318 en valt in op een gepolariseerde lichtsplitsfilm 321 (gevormd op een vijfde geheld oppervlak 305e parallel aan de eerste tot vierde gehelde oppervlakken) als lineair gepolariseerd licht onder een hoek van 45° ten 5 opzichte van het invalsoppervlak van deze film 321, zodat een P polarisatiecomponent van het lineair gepolariseerde licht doorgaat door de gepolariseerd lichtsplitsfilm 321, terwijl een S polarisatiecomponent ervan wordt gereflecteerd door de gepolariseerd lichtsplitsfilm 321. De P 10 polarisatiecomponent, getransmitteerd door de gepolariseerd lichtsplitsfilm 321, bereikt een lichtontvangende sensor 370. Aan de andere kant wordt de S polarisatiecomponent, gereflecteerd door de gepolariseerd lichtsplitsfilm 321, gereflecteerd door een relecterende film 327 aan het derde 15 gehelde oppervlak 305c, en bereikt, na door de halfgolflengteplaat 318 te zijn gegaan, een lichtontvangende sensor 371.

Fig. 26 is een aanzicht, dat de polarisatietoestand toelicht in de gepolariseerd lichtsplitsfilm 321 van de 20 tweede uitvoering. In fig. 26 geeft pijl 350 de richting van polarisatie aan van het lineair gepolariseerde licht, dat invalt op de gepolariseerd lichtsplitsfilm 321, wanneer er geen enkele informatie wordt geregistreerd in een informatieregistratieoppervlak 311 van de optische schijf 25 310. De lichtbundel, die invalt op de gepolariseerd lichtsplitsfilm 321 is reeds vergroot in Kerr rotatiehoek van ek tot ek' door de eerste en tweede bundelsplitsfilms 308 en 316 net zoals bij de eerste uitvoering, en in overeenstemming met de richting van de magnetisatie van de 30 optische schijf 310 wordt de gepolariseerde richting gemoduleerd van lineair gepolariseerd licht 355 tot lineair gepolariseerd licht 356. Zodoende wordt, door het vinden van het verschil tussen een signaal, gedetecteerd door de lichtontvangende sensor 370 en een signaal gedetecteerd door 35 de lichtontvangende sensor 371, een optomagnetisch reproduktiesignaal verkregen met de volgende formule evenals bij de eerste uitvoering: R. F. = 1370 - 1371

Gereflecteerd licht 320 van de tweede bundelsplitsfilm 1001343 46 316 wordt geleid naar een astigmatisme-genererend hologram 324 volgens dezelfde weg als bij de eerste uitvoering, en brengt astigmatisme voort, wordt verder gereflecteerd door de reflecterende filmen 325 en 326, en bereikt een 5 1ichtontvangende sensor 372 en de lichtontvangende sensoren 376 en 377. Een focusfoutsignaal wordt verkregen door een astigmatismemethode zoals bij de eerste uitvoering.

Meer in het bijzonder wordt, indien foto-elektrische stroom, uitgevoerd respectievelijk van de lichtontvangende sensoren 10 372a, 372b, 372c en 372d, gerepresenteerd worden door 1372a, 1372b, 1372c en I372d respectievelijk, het focusfoutsignaal uitgedrukt door de volgende formule, zoals duidelijk zal zijn uit het schakelschema van fig. 25: F. E. = (1372a + 1372c) - (1372b + I372d) 15 Een spoorfoutsignaal wordt verkregen door een driebundelmethode of een push-pull methode zoals bij de eerste uitvoering. Indien foto-elektrische stromen, uitgevoerd respectievelijk van de lichtontvangende sensoren 376 en 377, voorgesteld worden door 1376 en 1377 20 respectievelijk, wordt het spoorfoutsignaal verkregen door de driebundelmethode zoals duidelijk zal zijn uit het schakelschema van fig. 25. Ook kan het spoorfoutsignaal worden verkregen door de push-pull methode onder gebruikmaking van de lichtontvangende sensoren 1372a, 1372b, 25 1372c en I372d, zoals aangegeven in onderstaande formule (11) .

Bij deze uitvoering kunnen, hoewel reflectieve type hologrammen gebruikt zijn als het diffusiehoekconversie-hologram 306 en het astigmatisme-genererende hologram 324 30 respectievelijk, lenzen van het reflectieve type of dergelijke, welke overeenkomstige funkties uitvoeren, worden gebruikt in plaats van de hologrammen.

In deze uitvoering kan, hoewel het focusfoutsignaal verkregen wordt door de astigmatismemethode, onder 35 gebruikmaking van het astigmatisme-genererende hologram 324, in plaats van het astigmatische-genererende hologram 324 een reflectief type hologram of een reflectief type lens gebruikt worden met één of meer patronen, door welke gereflecteerd licht 328 van de tweede bundelsplitsfilm 316 1001343 47 ertoe wordt gebracht om een beeld te vormen op de sensorbasisplaat 319, waarbij het focusfoutsignaal verkregen wordt door een mesrandmethode of een Foucaultse methode.

Bij deze tweede uitvoering worden voor het vormen van een 5 optisch geleidingsorgaan 304 drie parallelle platte platen en een kwart plaat aan elkaar gebonden met behulp van hechtlagen voor het vormen van een assembleringsblok. Vervolgens worden de assembleringsblokken aaneen gebonden door hechtlagen voor het vormen van een samengesteld blok.

10 Vervolgens wordt het samengestelde blok schuin gesneden ten opzichte van de bindoppervlakken van de blokken voor het verschaffen van planaire blokken. Vervolgens worden de optische geleidingsorganen (minimumeenheidblokken) 304 gesneden uit het planaire blok als een minimum-15 constitutioneel element.

Bij deze uitvoering wordt het licht, geëmitteerd van de halfgeleiderlaserchip 303, eenmaal gereflecteerd door het diffusiehoekconversiehologram 306, gevormd op het tweede gehelde oppervlak 305b, en wordt verder eenmaal 20 gereflecteerd door het diffraktierooster 307, gevormd op het eerste gehelde oppervlak 305a. Zodoende wordt dit geëmitteerde licht tweemaal gereflecteerd, en wordt dan geleid naar de eerste bundelsplitsfilm 308. Dit geëmitteerde licht kan evenwel ook een aantal maal worden gereflecteerd 25 door het eerste gehelde oppervlak 305a en het tweede gehelde oppervlak 305b. In een dergelijk geval kunnen het diffusiehoekconversiehologram en het diffraktierooster 107 zijn gevormd op elk van de eerste en tweede gehelde oppervlakken.

30 In deze uitvoering kan het astigmatisme-genererend hologram zijn gevormd aan elk van de posities van de reflecterende films 325 en 326, in welk geval overeenkomstige effekten kunnen worden bereikt en de servosignalen kunnen worden verkregen. Verder kan het 35 gebruik van de reflecterende film 325 of de reflecterende film 326 worden overgeslagen, in welk geval het licht kan transmitteren door het derde gehelde oppervlak 305c, en wordt geleid naar de lichtontvangende sensor 372, 376 of 377.

ί 0 0 1 3 4 3 48

Bij deze uitvoering kan, hoewel de S polarisatie-component, gereflecteerd door de gepolariseerd lichtsplitsfilm 321, verder worden gereflecteerd door de reflecterende film 325 op het derde gehelde oppervlak 305c, 5 zodat het licht wordt geleid naar de lichtontvangende sensor, de voorziening van de reflecterende film 325 worden overgeslagen, in welk geval een andere reflecterende film wordt gevormd op het tweede gehelde oppervlak 305b, en de S polarisatiecomponent wordt gereflecteerd door deze 10 reflecterende film om te worden geleid naar de lichtontvangende sensor 371.

Een derde uitvoering van de onderhavige uitvinding zal nu worden beschreven met verwijzing naar de tekening.

Fig. 27 is een opstaand zijaanzicht van de derde uitvoering 15 van een optische pick-up van de uitvinding, en fig. 28 is een vlak aanzicht van deze optische pick-up.

In de optische pick-up van deze uitvoering zijn een basisplaat 401, een hulpmontage 402, een halfgeleiderlaser-chip 403, een optisch geleiderorgaan 404 met een aantal 20 parallelle gehelde oppervlakken, een diffraktierooster 407, een objectieflens 409, een eerste bundelsplitsfilm 408, een tweede bundelsplitsfilm 416, een V-vormige groeiplaat 418, een gepolariseerd lichtsplitsfilm 421, een sensorbasisplaat 419, lichtontvangende sensoren 470, 471, 472, 476 en 477, 25 enz., gerangschikt op een overeenkomstige wijze als beschreven in de eerste uitvoering.

Een laserbundel, horizontaal geëmitteerd van de halfgeleiderlaserchip 403, gemonteerd horizontaal op de basisplaat 401 met behulp van de hulpmontage 402, valt in op 30 een zij oppervlak 404c van het optische geleiderorgaan 404 met het aantal parallel gehelde oppervlakken, en treedt het optische geleiderorgaan 404 binnen. Vervolgens is deze geëmitteerde laserbundel invallend op een diffusiehoek-conversiehologram 406, gevormd op het tweede gehelde 35 oppervlak 405 van het optische geleiderorgaan 404, en wordt geconverteerd in parallelle lichtstralen, terwijl gecorrigeerd wordt in fase. De lichtbundel, geconverteerd tot algemeen parallelle stralen en gereflecteerd door het diffusiehoekconversiehologram 406, wordt verdeeld door het 1001343 49 reflectieve type diffraktierooster 407 (gevormd op het eerste gehelde oppervlak 405a) in nulde orde diffraktielicht (hierna aan te duiden als "hoofdbundel") en ± eerste orde diffraktielicht (hierna aangeduid als een 5 zijbundel), en wordt daardoor gereflecteerd. Het gereflecteerde licht van het diffraktierooster 407 valt in op de eerste bundelsplitsfilm 408. Gereflecteerd licht van de eerste bundelsplitsfilm 408 valt in op een plan-concave lens 490, gebonden aan een bovenoppervlak 404a van het 10 optische geleiderorgaan 404. De lichtbundel, die invalt op de plan-concave lens 490 wordt wederom geconverteerd in gediffuseerd licht, en valt vervolgens in op de objectieflens 409, en vormt een beeld op een optische schijf 410. Op dit tijdstip wordt het licht, dat moet worden 15 getransmitteerd door de plan-concave lens 490 en moet invallen op de objectieflens 409, in fase gecorrigeerd door het diffusiehoekconversiehologram 406, teneinde een ideale sferische golf 415 te hebben, zoals in de eerste uitvoering. Gereflecteerd licht van de optische schijf 410 transmitteert 20 wederom door de objectieflens 409, en transmitteert door de planconcave lens 490, en wordt geconverteerd in algemeen parallelle lichtstralen door de plan-concave lens 490. Langs overeenkomstige lichtwegen als beschreven boven voor de eerst uitvoering, wordt een P polarisatiecomponent van het 25 licht (parallelle stralen), getransmitteerd door de plan-concave lens 490, geleid naar de eerste lichtontvangende sensor 407, terwijl een S polarisatiecomponent daarvan wordt geleid naar de tweede lichtontvangende sensor 471, en een optomagnetisch signaal wordt verkregen van een 30 verschilsignaal daarvan.

Servosignalen worden gedetecteerd door het terugkeerlicht (algemeen parallelle stralen) van de optische schijf 410 te geleiden naar een astimatismedetectiehologram 424 langs overeenkomstige lichtwegen als boven beschreven 35 voor de eerste uitvoering. Een focusfoutsignaal wordt gedetecteerd door een astigmatismemethode zoals in de eerste uitvoering. Een spoorfoutsignaal wordt gedetecteerd door een driebundelmethode of een push-pull methode zoals in de eerste uitvoering.

1001343 50

Bij deze uitvoering kan, evenals bij de eerste en tweede uitvoering, in plaats van het astigmatisme-genererende hologram 24 een reflectief type hologram worden gebruikt of een reflectief type lens met één of meer patronen, door 5 welke gereflecteerd licht 428 van de eerste bundelsplitsfilm 408 ertoe gebracht wordt een beeld te vormen op de sensorbasisplaat 419, waarbij het focusfoutsignaal verkregen wordt door een mesrandmethode of een Foucaultse methode.

Een vierde uitvoering van de onderhavige uitvinding zal 10 nu worden beschreven met verwijzing naar de tekeningen. Fig. 29 is een opstaand zijaanzicht van de vierde uitvoering van de optische pick-up van de uitvinding, en fig. 30 is een vlak aanzicht van deze optische pick-up.

In de optische pick-up van deze uitvoering zijn een 15 basisplaat 501, een hulpmontage 502, een halfgeleiderlaser-chip 503, een optisch geleiderorgaan 504 met een aantal parallel gehelde oppervlakken, een diffraktierooster 407, een objectieflens 509, een eerste bundelsplitsfilm 508, een tweede bundelsplitsfilm 516, V-vormige groeiplaat 518, een 20 gepolariseerd lichtsplitsfilm 521, een sensorbasisplaat 519, een astigmatisme-genererend hologram 524, lichtontvangende sensoren 570, 571, 572, 576 en 577, enz., gerangschikt op een overeenkomstige wijze als beschreven in de eerste uitvoering.

25 Een laserbundel horizontaal geëmitteerd van de halfgeleiderlaserchip 503, gemonteerd horizontaal op de basisplaat 501 door middel van de hulpmontage 502, valt in op een zijoppervlak 504c van het optische geleiderorgaan 504, dat het aantal parallel gehelde oppervlakken heeft, en 30 treedt dit optische geleiderorgaan 504 binnen. Vervolgens valt deze geëmitteerde laserbundel in op een eerste diffusiehoekconversiehologram 506, gevormd op het tweede gehelde oppervlak 505b van het optische geleiderorgaan 504. Hier is een richting parallel aan de richting van de 35 oscillatie van het geëmitteerde licht van de halfgeleiderlaserchip 503 weergegeven door een x-richting, en een richting loodrecht op deze oscillatierichting is gerepresenteerd door een y-richting. Met betrekking tot een diffusiehoek van die lichtbundel van geëmitteerde licht 1001343 51 (geëmitteerd van de halfgeleiderlaserchip 503), welke kan invallen op het eerste diffusiehoekconversiehologram 506), kan het eerste diffusiehoekconversiehologram 506 een x-richting diffusiehoek en een y-richting diffusiehoek daarvan 5 converteren bij verschillende conversieverhoudingen respectievelijk (hierna aangeduid als "om de diffusiehoek te converteren"). Het licht, dat is ingevallen op het eerste diffusiehoekconversiehologram (reflectief type hologram) 506, zodat de x-richting diffusiehoek en de y-richting 10 diffusiehoek zijn geconverteerd met verschillende conversieverhoudingen respectievelijk, valt in op een tweede diffusiehoekconversiehologram (reflectief type hologram) 507, en wordt daardoor gereflecteerd op een zodanige wijze dat x-richting en y-richting diffusiehoeken worden 15 geconverteerd bij respectievelijk verschillende conversieverhoudingen. Het licht, dat geconverteerd is in de diffusiehoek en gereflecteerd door het tweede diffusiehoekconversiehologram 507, valt in op de eerste bundelsplitsfilm 508, Het licht, gereflecteerd door de eerste 20 bundelsplitsfilm 508, treedt uit het optische geleiderorgaan 504 via een bovenoppervlak 504a daarvan, en valt in op objectieflens 509. Het licht, dat invalt op de objectieflens 509, is onderworpen aan bundelrectificatie door de eerste en tweede diffusiehoekhologrammen, teneinde een ideale 25 sferische golf te hebben.

Het principe van de bundelrectificatie door de eerste en tweede diffusiehoekconversiehologrammen zal nu in detail worden beschreven met verwijzing naar de fig. 31 tot 34.

Fig. 31a is een dwarsdoorsnede van de bundel in de x-30 richting zonder de eerste en tweede diffusiehoekconversiehologrammen. Fig. 31b is een dwarsdoorsnede van de bundel in de y-richting zonder de eerste en tweede diffusiehoek-conversieholograxnmen. Fig. 32a toont een beeldstip op een optische schijf 510 zonder de eerste en tweede diffusie-35 hoekconversiehologrammen, wanneer de objectieflens 509 is opgesteld aan een positie 509a. Fig. 32b toont een beeldstip op de optische schijf 510 zonder de eerste en tweede diffusiehoekconversiehologrammen, wanneer de objectieflens 509 is opgesteld aan een positie 509b. Fig. 33a is een 1001343 52 dwarsdoorsnede van de bundel in de x-richting met de eerste en tweede diffusiehoekconversiehologrammen. Fig. 33b is een dwarsdoorsnede van de bundel in de y-richting met de eerste en tweede diffusiehoekconversiehologrammen. Fig. 34 toont 5 een beeldstip op de optische schijf 510 met de eerste en tweede diffusiehoekconversiehologrammen. Hoewel de eenvoudige dwarsdoorsnedevormen, getoond in de fig. 31a, 31b, 33a en 33b niet worden verkregen, aangezien het licht wordt gereflecteerd door de gehelde oppervlakken 505a en 10 505b, enz., zijn deze getoond op een vereenvoudigde wijze voor illustratieve doeleinden. In de fig. 33a en 33b geeft gemakshalve een vlak Zl-Zl' de positie aan, waar het eerste diffusiehoekconversiehologram 506 aanwezig is, en een vlak Z2-Z2' geeft de positie aan, waar het tweede diffusie-15 hoekconversiehologram 507 aanwezig is. Wanneer de eerste en tweede diffusiehoekconversiehologrammen niet aanwezig zijn, en de objectieflens 509 is geplaatst op de positie 509a zoals getoond in de fig. 31a en 31b, wordt de beeldstip 513 vergroot ten opzichte van een rij 595 van putten in een 20 richting loodrecht op de richting van het spoor, zodat de lichtstip valt op de aangrenzende rij pitten, zoals getoond in fig. 32a. Als gevolg is de aangrenzende pitinformatie mede opgenomen, zodat de signaal/ruisverhouding van het optomagnetische reproduktiesignaal wordt verslechterd. Dit 25 geschiedt, aangezien de totale halfbreedte Wx van het licht (dat invalt op de objectieflens 509) in de x-richting ongeveer de helft is van de effektieve diameter D van de objectieflens 509. Wanneer de objectief 509 is geplaatst aan de positie 509b, is de totale halfbreedte Wx van het licht 30 (dat invalt op de objectieflens 509) in de x-richting niet minder dan de effektieve diameter D van de objectieflens 509, zodat de beeldstip 513 wordt verkregen met een lage ellipticiteit, en daardoor het licht niet zal vallen op de aangrenzende putrijen, zoals getoond in fig. 32b; evenwel is 35 het rendement van het gebruik van het licht (de verhouding van het beeldvormende licht tot het totale licht, geëmitteerd door de halfgeleiderlaserchip 503) verlaagd. Aldus bedraagt de lichtdiffusiehoekverhouding ©y/θχ ("aspectverhouding" genoemd) van het licht, geëmitteerd door '1 0 0 1 3 4 3 53 de halfgeleiderlaserchip 503, ongeveer 2 tot 3,5, en de diffusiehoeken in de x-richting en de y-richting zijn geheel verschillend van elkaar, en daardoor is de ellipticiteit van de beeldstip 513 op de optische schijf 510 hoog. Daarom 5 wordt algemeen een bundelrectificatiemethode gebruikt teneinde er voor te zorgen, dat de diffusiehoekverhouding θγ/θχ zo dicht mogelijk bij "1" kan komen. Bij deze uitvoering wordt de bundelrectificatie uitgevoerd in twee stappen, d.w.z. aan de eerste en tweede diffusiehoek-10 conversiehologrammen. Indien de diffusiehoek van de lichtbundel wordt geconverteerd in de x-richting en de y-richting door het eerste diffusiehoekconversiehologram 506 zoals getoond in de fig. 33a en 33b, wordt de diffusiehoekverhouding θ’γ/θ'χ van het licht, dat invalt op het tweede 15 diffusiehoekconversiehologram 507, verminderd tot een zekere graad ten opzichte van de aspectverhouding θγ/θχ van het licht, geëmitteerd van de halfgeleiderlaserchip 503. Indien evenwel uitsluitend het eerste diffusiehoekconversiehologram 506 aanwezig is, zijn de schijnbare licht-emitterende punten 20 (zoals bij 595b en 595c in de fig. 33a en 33b) in de x-richting en de y-richting verschillend van elkaar, zelfs, wanneer de conversieverhoudingen van de diffusiehoeken juist worden gekozen, en als gevolg wordt astigmatisme geproduceerd. Doordat de geschikte conversieverhoudingen van 25 de diffusiehoeken worden gekozen door het tweede diffusie-hoekconversiehologram 507, wordt de schijnbare licht -emitterende punt (zoals bij 595d in fig. 33) in de x-richting en de y-richting geplaatst op algemeen dezelfde positie na de conversie. Daarnaast heeft het tweede 30 diffusiehoekconversiehologram 507 de funktie om de fase van het licht, dat invalt op de objectieflens, te corrigeren, zodat het licht dat invalt op de objectieflens 509, een ideale sferische golf 515 heeft. Bijgevolg zijn met betrekking tot het licht, dat invalt op de objectieflens 35 509, de totale halfbreedte Wx in de x-richting en de totale breedte in de y-richting algemeen gelijk aan de effektieve diameter D van de objectieflens 509, en de beeldstip 513 met een lage ellipticiteit zal niet vallen op de aangrenzende putrijen, zodat de signaal/ruisverhouding niet wordt 1001343 54 verslechterd. Daarnaast wordt, aangezien de schijbare licht-emitterende punten (zoals bij 595d in fig. 33) van het licht (dat invalt op de objectieflens 509) in de x-richting en de y-richting geplaatst zijn algemeen op dezelfde 5 positie, er de ideale sferische golf worden geleverd zonder astigmatisme, en daardoor wordt de beeldstip 513 op de optische schijf 510 gecondenseerd nagenoeg tot een diffraktiegrens, en heeft bijgevolg een ideale grootte, waardoor het registreren en weergeven van de informatie 10 wordt vergemakkelijkt.

Langs overeenkomstige wegen als beschreven voor de eerste uitvoering wordt een P polarisatiecomponent van het terugkeerlicht van de optische schijf 510 geleid naar de eerste lichtontvangende sensor 570, terwijl een s 15 polarisatiecomponent daarvan wordt geleid naar de tweede lichtontvangende sensor 571, en een optomagnetisch signaal wordt verkregen van een verschilsignaal daarvan.

Servosignalen worden gedetecteerd door het terugkeer-licht van de optische schijf 510 te geleiden naar een 20 astigmatismedetectie-element langs een overeenkomstige weg als beschreven voor de eerste uitvoering. Een focusfoutsignaal wordt gedetecteerd door een astigmatisme-methode, een mesrandmethode of een Foucaultse methode zoals bij de eerste uitvoering. Een spoorfoutsignaal wordt niet 25 gedetecteerd door een driebundelmethode, aangezien er geen diffraktierooster aanwezig is (zoals beschreven in de eerste uitvoering) voor het produceren van drie bundels. Het spoorfoutsignaal kan worden gedetecteerd door een push-pull methode zoals in de eerste uitvoering.

30 In deze uitvoering kan, hoewel het licht, dat invalt op de gepolariseerd-lichtsplitsfilm 521, wordt geconverteerd tot lineair gepolariseerd licht van 45° door de V-vormige groeiplaat 518, gevormd op het derde gehelde oppervlak 505c, waardoor het optomagnetische signaal verkregen wordt, in 35 plaats van de V-vormige groeiplaat 518 de halfgolfplaat 318 worden gebruikt zoals in de tweede uitvoering, teneinde het optomagnetische signaal te verkrijgen, in deze uitvoering zijn de eerste en tweede diffusiehoekconversiehologrammen en het astigmatisme-genererende hologram van het reflectieve 100 1 343 55 type, maar reflectieve type lenzen, die een overeenkomstig effekt bereiken, kunnen worden genomen in plaats van deze hologrammen.

Bij deze uitvoering wordt het licht, geëmitteerd van de 5 halfgeleiderlaserchip 503, eenmaal gereflecteerd door het eerste diffusiehoekconversiehologram 506, gevormd op het tweede gehelde oppervlak 505b, en wordt eenmaal gereflecteerd door het tweede diffusiehoekconversiehologram 507, gevormd op het eerste gehelde oppervlak 505a. Derhalve 10 wordt het geëmitteerde licht tweemaal in totaal gereflecteerd, en wordt geleid naar de eerste bundelsplitsfilm 508; het geëmitteerde licht kan evenwel ook een aantal malen worden gereflecteerd door het eerste gehelde oppervlak 505a en het tweede gehelde oppervlak 505b. 15 In een dergelijk geval kunnen het eerste diffusiehoekconversiehologram 506 en het tweede diffusiehoekconversiehologram 507 zijn gevormd aan elk van de eerste en tweede gehelde oppervlakken 505a en 505b.

Zoals duidelijk is uit de hiervoor gegeven beschrijving 20 is bij de onderhavige uitvinding het terugkerende licht van de optische schijf, dat invalt op de analysator, het lineair gepolariseerde licht van ongeveer 45°, en de verhouding van de P polarisatiecomponent tot de S polarisatiecomponent bedraagt ongeveer 50 % tot 50 %, en de twee componenten 25 worden toegevoerd aan de respectievelijke lichtontvangende sensor in verhouding van 50 % tot 50 % en de ruiscomponenten van dezelfde fase, met uitzondering voor het optomagnetische signaal, worden verwijderd door de versterking van het verschil tussen de twee lichtontvangende sensoren. De 30 lichtontvangende sensoren voor het detecteren van het RF signaal ontvangen uitsluitend een RF signaal, en zodoende behoeven de twee lichtontvangende sensoren niet van het gedeelde type te zijn, en een lichte hoeveelheid verlies als gevolg van een dode zone wordt geëlimineerd. De bundel-35 splitsfilm met polarisatieselectiviteit wordt gebruikt voor het separeren van het licht van het licht-emitterende element van het terugkerende licht van de optische schijf, en door de schijnbare Kerr rotatiehoek te vergroten, kan een RF signaal met hoge signaal/ruisverhouding worden verkregen.

10013 43 56

Het terugkeer1icht van de optische schijf wordt geleid naar het focusfoutdetectie-element, dat de funktie van het focusdetectieorgaan uitvoert zonder de P polarisatie-component te scheiden van de S polarisatiecomponent, en het 5 focusfoutsignaal wordt gedetecteerd. Zelfs, wanneer de lichte hoeveelheidverhouding van het P gepolariseerde licht van het terugkeerlicht van de optische schijf tot het S gepolariseerde licht van dit terugkeerlicht wordt gevarieerd als gevolg van dubbele breking van de Kerr rotatiehoek, zal 10 daarom geen verschuiving ontwikkeld worden in het focusfoutsignaal. Wanneer het spoorfoutsignaal moet worden gedetecteerd door de driebundelmethode, kan de stipafmeting op de sensor worden gereduceerd, en de overspraak tussen de hoofdbundel en de zijbundels kan worden onderdrukt. Het 15 licht kan worden geconverteerd door het diffusiehoek- conversieorgaan in het licht met een kleine diffusiehoek of in het algemeen licht met parallelle stralen, en daardoor zijn variaties in de invalshoek van het licht op de polarisatiebundelsplitser, de analysator, enz., klein, en de 20 optische fase kan gemakkelijk worden gecontroleerd. Het licht, dat invalt op het condenseringsorgaan, heeft een ideale sferische golf, en daardoor wordt de beeldstip op de optische schijf gecondenseerd tot de diffraktiegrens, en bijgevolg gevormd tot de ideale grootte, zodat de 25 registratie en weergave van de informatie gemakkelijk kan worden geêffektueerd. Het diffusiehoekconversieorgaan is aangebracht op de tweestapswijze, en met dit arrangement is de aspectverhouding van het licht, dat invalt op het condenseringsorgaan, verschillend gemaakt van de aspect-30 verhouding van het licht, geëmitteerd van het lichtend t terende element. Daardoor is de ellipticiteit van de beeldstip op de optische schijf gereduceerd, waardoor verslechtering van de signaal/ruisverhouding als gevolg van lek van het optomagnetische signaal van de aangrenzende 35 putrijen wordt onderdrukt.

Aangezien het licht kan worden geconverteerd door het diffusiehoekconversieorgaan in het licht met een kleine diffusiehoek of licht met algemeen parallelle stralen, is het hoge lichtgebruiksrendement, nodig voor het uitwissen 1001343 57 van de registratie, gewaarborgd, en de optische fase kan gemakkelijk worden gecontroleerd, terwijl verslechtering van de signaal/ruisverhouding is voorkomen. Verder kan het optische systeem van een compacte constructie zijn.

5 Bovendien zijn, aangezien het licht kan worden geconverteerd door het diffusiehoekconversieorgaan in het licht met een kleine diffusiehoek of algemeen licht met parallelle stralen, variaties in de invalshoek van het licht op de polarisatiebundelsplitser, de analysator, enz., klein, en de 10 optische fase kan gemakkelijk worden gecontroleerd.

Aangezien het licht, dat invalt op het condenseringsorgaan, de ideale sferische golf heeft, wordt de beeldstip op de optische schijf gecondenseerd tot de diffraktiegrens, en daardoor gevormd tot de ideale grootte, zodat de registratie 15 en weergave van de informatie gemakkelijk kan worden uitgevoerd. Aangezien het licht, dat invalt op het condenseringsorgaan de ideale sferische golf is, wordt de beeldstip op de optische schijf gecondenseerd in de diffratiegrens, en bijgevolg gevormd tot de ideale grootte, 20 zodat registratie en reproduktie van informatie gemakkelijk kan worden uitgevoerd. Het diffusiehoekconversieorgaan is verschaft op de tweetrapswijze, en met dit arrangement is de aspectverhouding van het licht, dat invalt op het condenseringsorgaan verschillend gemaakt van de aspect -25 verhouding van de licht, geëmitteerd door het lichtend, tterende element. Zodoende wordt de ellipticiteit van de beeldstip op de optische schijf gereduceerd, waardoor verslechtering van de signaal/ruisverhouding als gevolg van lek van het optomagnetisch signaal van de aangrenzende 30 putrijen wordt onderdrukt.

Een struktureel orgaan dat de optische dunne gevormd heeft op de platen, is gevormd, en een aantal van de Strukturele organen wordt vervaardigd en aan elkaar gebonden voor het vormen van de assembleringsstruktuur met 35 de optische dunne films gehouden tussen de platen. Deze assembleringsstruktuur wordt schuin gesneden ten opzichte van de bindingsoppervlakken. Met deze methode worden de tijd en de arbeid nodig voor de vervaardiging van de optische pick-up gereduceerd, en het rendement van de produktie wordt 1001343 58 verhoogd.

- conclusies - 1 0 0 13 4 3

Claims

1. Optische pick-up, omvattende een licht-emitterend element, een diffusiehoekconversieorgaan voor het converteren van een diffusiehoek van uitgaand licht ten 5 opzichte van een diffusiehoek van invallend licht (hierna aan te duiden als "conversie van de diffusiehoek"), een bundelsplitsfilm met polarisatieselectiviteit, en een condensororgaan voor het condenseren van het licht op een informatieregistratieoppervlak van een optische schijf, 10 waarbij licht, geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element, wordt geconverteerd in diffusiehoek door genoemd diffusiehoekconversieorgaan, en het licht, geconverteerd in diffusiehoek door genoemd diffusiehoekconversieorgaan, wordt gereflecteerd of getransmitteerd door genoemde 15 bundelsplitsfilm, teneinde te worden geleid naar genoemd condensororgaan, en waarbij genoemd diffusiehoekconversieorgaan zo is geconstrueerd, dat beantwoord wordt aan de volgende formule, en genoemd diffusiehoekconversieorgaan de fase corrigeert 20 van een sferische golf, gezonden van genoemde bundelsplitser naar genoemd consensororgaan; 0,18 < sin01 < 0,30 0,06 < sin02 <0,17 waarin Θ1 de diffusiehoek voorstelt van dat gedeelte van 25 het licht (geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element), dat invalt op genoemd diffusiehoekconversieorgaan, en Θ2 de diffusiehoek voorstelt van het licht, dat uittreedt uit genoemd diffusiehoekconversieorgaan.

2. Optische pick-up volgens conclusie 1, m e t het 30. e n m e r k, dat een hologram gebruikt wordt als genoemd diffusiehoekconversieorgaan.

3. Optische pick-up volgens conclusie 2, m e t het kenmerk, dat genoemd hologram, gebruikt als genoemd diffusiehoekconversieorgaan, van het reflectieve type is.

4. Optische pick-up volgens conclusie 1, m e t het 1001343 kenmerk, dat een lens wordt gebruikt als genoemd diffusiehoekconversieorgaan.

5. Optische pick-up volgens conclusie 4, m e t het kenmerk, dat genoemde lens, gebruikt als 5 diffusiehoekconversieorgaan, van het reflectieve type is.

6. Optische pick-up, omvattende een licht-emitterend element, een aantal lichtontvangende elementen, parallelle eerste, tweede, en derde gehelde oppervlakken, geheld ten opzichte van licht, dat geëmitteerd wordt door genoemd 10 licht-emitterend element, een diffusiehoekconversieorgaan, gevormd op één van de genoemde eerste en tweede gehelde oppervlakken, voor het converteren van een diffusiehoek van dat gedeelte van het licht (geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element), dat invalt op genoemd 15 diffusiehoekconversieorgaan, een eerste bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak, en met polarisatieselectiviteit voor het verdelen van het licht van genoemd diffusiehoekconversieorgaan in transmitterend licht en reflecterend licht, een condensororgaan voor het 20 condenseren van het gereflecteerde licht van genoemde eerste bundelsplitsfilm op een informatieregistratieoppervlak van een optische schijf, een tweede bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak, en met een polarisatieselectiviteit voor het verdelen van het licht, dat 25 terugkeert van genoemde optische schijf en wordt getransmitterd door genoemde eerste bundelsplitsfilm, in transmitterend licht en reflecterend licht, een gegroefde plaat, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak, afgekeerd van genoemd tweede gehelde oppervlak, welke gegroefde plaat 30 een reflecterend oppervlak, gevormd in de groef ervan, voor het reflecteren van het getransmitteerde licht van genoemde tweede bundelsplitsfilm, een analysator, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak voor het transmitteren van een P polarisatiecomponent van het licht, gereflecteerd door 35 genoemde gegroefde plaat, waardoor genoemde P polarisatiecomponent wordt geleid naar het eerste lichtontvangende element en voor het reflecteren van een S polarisatie- 1 0 0 1 3 U component van genoemd gereflecteerd licht, teneinde dit te geleiden naar het tweede lichtontvangende element; en een focusfoutdetectie-element, gevormd op één van genoemde tweede en derde gehelde oppervlakken voor het geleiden van 5 het gereflecteerde licht van genoemde tweede bundelsplitsfilm naar genoemd lichtontvangend element; waarbij het genoemde diffusiehoekconversieorgaan de funktie heeft van het corrigeren van de fase van een sferische golf, gereflecteerd door genoemde eerste bundel-10 splitsfilm, teneinde in te vallen op genoemd condensororgaan; en genoemd reflecterend oppervlak van de genoemde gegroefde plaat de funktie heeft van het converteren van een gepolariseerde toestand van het invallende licht op genoemde analysator in lineair 15 gepolariseerd licht van ongeveer 45°.

7. Optische pick-up, omvattende een licht-emitterend element; lichtontvangende elementen; parallelle eerste, tweede, derde, vierde en vijfe gehelde oppervlakken, geheld ten opzichte van licht, geëmitteerd door genoemd licht -20 emitterend element; een diffusiehoekconversieorgaan, gevormd op één van genoemde eerste en tweede gehelde oppervlakken voor het converteren van een diffusiehoek van dat gedeelde van het licht (geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element), dat invalt op genoemd diffusiehoekconversieorgaan; 25 een eerste bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd tweede geheld oppervlak en met polarisatieselectiviteit voor het verdelen van het licht van genoemd diffusiehoekconversieorgaan in transmitterend licht en reflecterend licht; een condensororgaan voor het condenseren van het 30 gereflecteerde licht van genoemde eerste bundelsplitsfilm op een informatieregistratieoppervlak van een optische schijf; een tweede bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak en met polarisatieselectiviteit voor het verdelen van het licht, dat terugkeert van genoemde optische 35 schijf en wordt getransmitteerd door genoemde eerste bundelsplitsfilm, in transmitterend licht en reflecterend licht; een optisch rotatie-element, gevormd op genoemd vierde gehelde oppervlak, afgekeerd van genoemd derde 1001343 gehelde oppervlak, voor het roteren van een polarisatievlak van het getransmitteerde licht van genoemde tweede bundelsplitsfilm over een hoek van 45°, een analysator, gevormd op genoemde vijfde gehelde oppervlak, voor het 5 transmitteren van een P polarisatiecomponent van het licht, geroteerd in polarisatievlak door genoemd optisch rotatie-element, om daardoor genoemde P polarisatiecomponent te geleiden naar het eerste lichtontvangende element en om een S polarisatiecomponent van genoemd licht te reflecteren, 10 teneinde dit te geleiden naar het tweede lichtontvangende element; en een focusfoutdetectie-element, gevormd op één van genoemde tweede en derde gehelde oppervlakken, voor het geleiden van het gereflecteerde licht van genoemde tweede bundelsplitsfilm naar het derde lichtontvangende element; 15 waarbij genoemd diffusiehoekconversieorgaan de funktie heeft van het corrigeren van de fase van een sferische golf, gereflecteerd door genoemde eerste bundelsplitsfilm, teneinde in te vallen op genoemd condensorgaan.

8. Optische pick-up volgens conclusie 6 of 7,met het 20 k e n m e r k, dat een diffraktierooster van het reflectieve type gevormd is op één van genoemde eerste en tweede gehelde oppervlakken voor het verdelen van het licht van genoemd diffusiehoekconversieorgaan in drie bundels, dat wil zeggen, nulde orde diffraktielicht en ± eerste orde diffraktielicht 25 en voor het geleiden van de drie bundels naar genoemde eerste bundelsplitsfilm.

9. Optische pick-up, omvattende een licht-emitterend element; een aantal lichtontvangende elementen; parallelle eerste, tweede, en derde gehelde oppervlakken, geheld ten 30 opzichte van licht, geëmitteerd door genoemd licht - emitterend element; een diffusiehoekconversieorgaan, gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak, voor het converteren van een diffusiehoek van dat gedeelte van het licht (geëmitteerd van genoemd licht-emitterend element), dat 35 invalt op genoemd diffusiehoekconversieorgaan; een reflectief type diffraktierooster, gevormd op genoemd eerste gehelde oppervlak, voor het verdelen van het licht in drie 1001343 bundels, d.w.z., nulde orde diffraktielicht en ± eerste orde diffraktielicht; een eerste bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd tweede geheld oppervlak en met polarisatie* selectiviteit voor het verdelen van genoemde drie bundels, 5 voortgebracht door genoemd reflectief type diffraktierooster, in transmitterend licht en reflecterend licht; condensormiddelen voor het condenseren van het gereflecteerde licht van genoemde eerste bundelsplitsfilm op een informatieregistratieoppervlak van een optische schijf; 10 een tweede bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak en met polarisatieselectiviteit voor het verdelen van het licht, dat terugkeert van genoemde optische schijf en wordt getransmitteerd door genoemde eerste bundelsplitsfilm, in transmitterend licht en reflecterend 15 licht; een gegroefde plaat, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak, afgekeerd van genoemd tweede geheld oppervlak, welke gegroefde plaat een reflecterend oppervlak heeft, gevormd in de groef ervan, voor het reflecteren van het getransmitteerde licht van genoemde tweede bundelsplitsfilm; 20 een analysator, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak, voor het transmitteren van een P polarisatiecomponent van het licht, gereflecteerd door genoemde gegroefde plaat, daar doorheen en voor het reflecteren van een S polarisatiecomponent van genoemd gereflecteerd licht voor het geleiden 25 ervan naar het eerste lichtontvangende element; een eerste relecterende film, gevormd op genoemd tweede geheld oppervlak, voor het reflecteren van de P polarisatiecomponent, getransmitteerd door genoemde analysator, teneinde dit te geleiden naar het tweede lichtontvangende 30 element; een focusfoutdetectie-element, gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak, voor het reflecteren van het gereflecteerde licht van genoemde tweede bundelsplitsfilm; een tweede reflecterende film, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak, voor het reflecteren van het 35 gereflecteerde licht van genoemd focusfoutdetectie-element; en een derde reflecterende film, gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak, voor het reflecteren van het gereflecteerde licht van genoemde tweede reflecterende film, teneinde dit te geleiden naar het derde lichtontvangende 1001343 element; waarbij genoemd diffusiehoekconversieorgaan de funktie heeft van het corrigeren van de fase van een sferische golf, gereflecteerd door genoemde eerste bundelsplitsfilm, 5 teneinde in te vallen op genoemd condensororgaan; en genoemd reflecterend oppervlak van genoemde gegroefde plaat de funktie heeft van het converteren van een gepolariseerde toestand van het op genoemde analysator invallende licht in lineair gepolariseerd licht van ongeveer 45°.

10. Optische pick-up, omvattende een licht-emitterend element; een aantal lichtontvangende elementen; parallelle eerste, tweede, en derde gehelde oppervlakken, geheld ten opzichte van licht, geëmitteerd door genoemd lichtend tterend element; een diffusiehoekconversieorgaan, 15 gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak, voor het converteren van een diffusiehoek van dat gedeelte van het licht (geëmitteerd van genoemd licht-emitterend element), dat invalt op genoemd diffusiehoekconversieorgaan; een vierde reflecterende film, gevormd op genoemd eerste gehelde 20 oppervlak, voor het reflecteren van het gereflecteerde licht van genoemd diffusiehoekconversieorgaan; een eerste bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak en met polarisatieselectiviteit voor het verdelen van het gereflecteerde van genoemde vierde reflecterende 25 film in transmitterend licht en reflecterend licht; een condensororgaan voor het condenseren van het gereflecteerde licht van genoemde eerste bundelsplitsfilm op een informatieregistratieoppervlak van de optische schijf; een tweede bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd 30 derde gehelde oppervlak en met polarisatieselectiviteit voor het verdelen van het licht, dat terugkeert van genoemde optische schijf en wordt getransmitteerd door genoemde eerste bundelsplitsfilm, in transmitterend licht en reflecterend licht; een gegroefde plaat, gevormd op genoemd 35 derde gehelde oppervlak, afgekeerd van genoemd tweede geheld oppervlak, welke gegroefde plaat een reflecterend oppervlak heeft, gevormd in de groef ervan, voor het reflecteren van het getransmitteerde licht van genoemde tweede 1001343 bundelsplitsfilm; een analysator, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak, voor het transmitteren van een P polarisatiecomponent van het licht, gereflecteerd door genoemde gegroefde plaat, daar doorheen en voor het 5 reflecteren van een S polarisatie-component van genoemd gereflecteerd licht voor het geleiden ervan naar het eerste lichtontvangende element; een eerste reflecterende film, gevormd op genoemd tweede geheld oppervlak, voor het reflecteren van de P polarisatie-component, getransmitteerd 10 door genoemde analysator, teneinde dit te geleiden naar genoemd tweede lichtontvangende element; een focusfoutdetectie-element, gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak, voor het reflecteren van het gereflecteerde licht van genoemde tweede bundelsplitsfilm; een tweede 15 reflecterende film, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak, voor het reflecteren van het gereflecteerde licht van genoemd focusfoutdetectie-element; en een derde reflecterende film, gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak, voor het reflecteren van het gereflecteerde licht 20 van genoemde tweede reflecterende film, teneinde dit te geleiden naar het derde lichtontvangende element; waarbij genoemd diffusiehoekconversieorgaan de funktie heeft van het corrigeren van de fase van een sferische golf, gereflecteerd door genoemde eerste bundelsplitsfilm, 25 teneinde in te vallen op genoemd condensororgaan; en genoemd reflecterend oppervlak van genoemde gegroefde plaat de funktie heeft van het converteren van een gepolariseerde toestand van het op genoemde analysator invallende licht in lineair gepolariseerd licht van ongeveer 45°.

11. Optisch pick-up, omvattende een licht-emitterend element; een aantal lichtontvangende elementen; parallelle eerste, tweede, derde, vierde en vijfde gehelde oppervlakken, geheld ten opzichte van licht, geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element; een diffusiehoek-35 conversieorgaan, gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak, voor het converteren van een diffusiehoek van dat gedeelte van het licht (geëmitteerd door genoemd lichtend tterend element) dat invalt op genoemd 1001343 diffusiehoekconversieorgaan; een reflectief type diffraktierooster, gevormd op genoemd eerste gehelde oppervlak, voor het verdelen van het licht in drie bundels, d.w.z., nulde orde diffraktielicht en ± eerste orde 5 diffraktielicht; een eerste bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd tweede geheld oppervlak en met polarisatie-selectiviteit voor het verdelen van genoemde drie bundels, voortgebracht door genoemd reflectief type diffraktierooster, in transmitterend licht en reflecterend 10 licht; een condensororgaan voor het condenseren van het gereflecteerde licht van genoemde eerste bundelsplitsfilm op een informatieregistratieoppervlak van een optische schijf; een tweede bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak en met polarisatieselectiviteit voor het 15 verdelen van het licht, dat terugkeert van genoemde optische schijf en wordt getransmitteerd door genoemde eerste bundelsplitsfilm, in transmitterend licht en reflecterend licht; een optisch rotatie-element, gevormd op genoemd vierde gehelde oppervlak, afgekeerd van genoemd derde 20 gehelde oppervlak, voor het roteren van een polarisatievlak van het getransmitteerde licht van genoemde tweede bundelsplitsfilm over een hoek van 45°; een analysator, gevormd op genoemd vijfde gehelde oppervlak, voor het transmitteren van een P polarisatiecomponent van het licht, 25 geroteerd in polarisatievlak door genoemd optisch rotatie-element, daar doorheen voor het geleiden van genoemde P polarisatiecomponent naar het eerste lichtontvangende element en voor het reflecteren van een s polarisatiecomponent van genoemd licht; een eerste reflecterende film, 30 gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak voor het reflecteren van de S polarisatiecomponent, gereflecteerd door genoemde analysator, teneinde dit te geleiden naar het tweede lichtontvangende element; een focusfoutdetectie-element, gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak, voor 35 het reflecteren van het gereflecteerde licht van genoemde tweede bundelsplitsfilm; een tweede reflecterende film, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak, voor het reflecteren van het gereflecteerde licht van genoemd focusfoutdetectie-element; en een derde reflecterende film, 1001343 gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak, voor het reflecteren van het gereflecteerde licht van genoemde tweede reflecterende film, teneinde dit te geleiden naar het derde lichtontvangende element; 5 waarbij genoemd diffusiehoekconversieorgaan de funktie heeft van het corrigeren van de fase van een sferische golf, gereflecteerd door genoemde eerste bundelsplitsfilm, teneinde in te vallen op genoemd condensororgaan.

12. Optisch pick-up, omvattende een licht-emitterend 10 element; een aantal lichtontvangende elementen; parallelle eerste, tweede, derde, vierde en vijfde gehelde oppervlakken, geheld ten opzichte van licht, geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element; een diffusiehoekconversieorgaan, gevormd op genoemd tweede gehelde 15 oppervlak, voor het converteren van een diffusiehoek van dat gedeelte van het licht (geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element) dat invalt op genoemd diffusiehoekconversieorgaan; een vierde reflecterende film, gevormd op genoemd eerste gehelde oppervlak, voor het 20 reflecteren van het gereflecteerde licht van genoemd diffusiehoekconversieorgaan; een eerste bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd tweede geheld oppervlak en met polarisatie-selectiviteit voor het verdelen van het licht, gereflecteerd door genoemde vierde reflecterende film, in 25 transmitterend licht en reflecterend licht; een condensororgaan voor het condenseren van het gereflecteerde licht van genoemde eerste bundelsplitsfilm op een informatieregistratieoppervlak van een optische schijf; een tweede bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd derde gehelde 30 oppervlak en met polarisatieselectiviteit voor het verdelen van het licht, dat terugkeert van genoemde optische schijf en wordt getransmitteerd door genoemde eerste bundelsplitsfilm, in transmitterend licht en reflecterend licht; een optisch rotatie-element, gevormd op genoemd 35 vierde gehelde oppervlak, afgekeerd van genoemd derde gehelde oppervlak, voor het roteren van een polarisatievlak van het getransmitteerde licht van genoemde tweede bundelsplitsfilm over een hoek van 45°; een analysator, 1001343 gevormd op genoemd vijfde gehelde oppervlak, voor het transmitteren van een P polarisatiecomponent van het licht, geroteerd in polarisatievlak door genoemd optisch rotatie-element, daar doorheen voor het geleiden van genoemde P 5 polarisatiecomponent naar het eerste lichtontvangende element en voor het reflecteren van een S polarisatiecomponent van genoemd licht; een eerste reflecterende film, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak voor het reflecteren van de S polarisatiecomponent, gereflecteerd 10 door genoemde analysator, teneinde dit te geleiden naar het tweede lichtontvangende element; een focusfoutdetectie-element, gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak, voor het reflecteren van het gereflecteerde licht van genoemde tweede bundelsplitsfilm; een tweede reflecterende film, 15 gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak, voor het reflecteren van het gereflecteerde licht van genoemd focusfoutdetectie-element; en een derde reflecterende film, gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak, voor het reflecteren van het gereflecteerde licht van genoemde tweede 20 reflecterende film, teneinde dit te geleiden naar het derde lichtontvangende element; waarbij genoemd diffusiehoekconversieorgaan de funktie heeft van het corrigeren van de fase van een sferische golf, gereflecteerd door genoemde eerste bundelsplitsfilm, 25 teneinde in te vallen op genoemd condensororgaan.

13. Optische pick-up volgens één der conclusies 6, 7, 9, 10, 11 en 12,met het kenmerk, dat genoemd diffusiehoekconversieorgaan zo is ontworpen, dat dit voldoet aan de volgende formule: 30 0,18 < sinel < 0,30 0,06 < sin62 < 0,17 waarin Θ1 de diffusiehoek is van dat gedeelte van het licht (geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element) dat invalt op genoemd diffusiehoekconversieorgaan, en Θ2 de 35 diffusiehoek voorstelt van het licht, dat uittreedt uit genoemd di f fusiehoekconversieorgaan.

14. Optische pick-up volgens één der conclusies 6, 7, 9, 10, 100 1 3 A3 11 en 12,met het kenmerk, dat het licht, geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element, wordt geconverteerd door genoemd diffusiehoekconversieorgaan in licht van algemeen parallelle stralen, en dat er voorzien is 5 in een lens voor het converteren van het gereflecteerde licht van genoemde eerste bundelsplitsfilm van licht met algemeen parallelle stralen in gediffuseerd licht.

15. Optische pick-up volgens één der conclusies 6, 7, 9, 10, 11 en 12, met het kenmerk, dat een hologram 10 gebruikt wordt als genoemd diffusiehoekconversieorgaan.

16. Optische pick-up volgens conclusie 15, met het kenmerk, dat genoemd hologram, gebruikt als diffusie-hoekconversieorgaan, van het reflectieve type is.

17. Optische pick-up volgens één der conclusies 6, 7, 9, 10, 15 11 en 12, m e t het kenmerk, dat een lens gebruikt wordt als genoemd diffusiehoekconversieorgaan.

18. Optische pick-up volgens conclusie 17, m e t het kenmerk, dat genoemde lens, gebruikt als diffusiehoekconversieorgaan, van het reflectieve type is.

19. Optische pick-up, omvattende een licht-emitterend element, eerste en tweede diffusiehoekconversieorganen voor het converteren van diffusiehoeken bij verschillende conversieverhoudingen respectievelijk in twee richtingen, die parallel zijn aan, en loodrecht op een richting van 25 trilling van het licht, geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element respectievelijk, zodat een aspectverhouding (verhouding van de diffusiehoek in de richting parallel aan de richting van trilling van het licht, geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element, 30 tot de diffusiehoek in de richting loodrecht op genoemde trillingsrichting) kan worden geconverteerd; een bundelsplitsfilm met polarisatieselectiviteit; en een condensororgaan voor het condenseren van licht op een informatieregistratieoppervlak van een optische schijf; 1 0 0 t 3 4 3 waarbij het licht, geëmitteerd door genoemd lichtend tterend element, wordt geconverteerd in aspectverhouding door genoemd eerste diffusiehoekconversieorgaan; het licht, geconverteerd in aspectverhouding door genoemd eerste 5 diffusiehoekconversieorgaan, verder wordt geconverteerd in aspectverhouding door genoemd tweede diffusiehoekconversie-orgaan; het licht, geconverteerd in aspectverhouding door genoemd tweede diffusiehoekconversieorgaan wordt gereflecteerd door of getransmitteerd door genoemde 10 bundelsplitsfilm, teneinde te worden geleid door genoemd condensororgaan; en genoemd tweede diffusiehoekconversieorgaan de aspectverhouding converteert, teneinde daardoor astigmatisme van het licht, dat invalt op genoemd condensororgaan te elimineren, waardoor de fase van een 15 sferische golf wordt gecorrigeerd.

20. Optische pick-up, omvattende een licht-emitterend element, een aantal lichtontvangende elementen, parallelle eerste, tweede en derde gehelde oppervlakken, geheld ten opzichte van licht, geëmitteerd door genoemd licht-20 emitterend element; een eerste diffusiehoekconversieorgaan, gevormd op één van genoemde eerste en tweede gehelde oppervlakken, voor het converteren van een aspectverhouding van het licht, geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element; een tweede diffusiehoekconversieorgaan, gevormd op 25 één van genoemde eerste en tweede gehelde oppervlakken, voor het verder converteren van de aspectverhouding van het licht, gezonden vanaf genoemd eerste diffusiehoekconversieorgaan; een eerste bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak en met polarisatieselectiviteit 30 voor het verdelen van het licht van genoemd diffusiehoekconversieorgaan in transmitterend licht en reflecterend licht; een condensororgaan voor het condenseren van het gereflecteerde licht van genoemde eerste bundelsplitsfilm op een informatieregistratieoppervlak van een optische schijf; 35 een tweede bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak en met polarisatieselectiviteit voor het verdelen van het licht, dat terugkeert van genoemde optische schijf en wordt getransmitteerd door genoemde eerste 1001343 bundelsplitsfilm, in transmitterend licht en reflecterend licht; een gegroefde plaat, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak, afgekeerd van genoemd tweede gehelde oppervlak, welke gegroefde plaat een reflecterend oppervlak heeft, 5 gevormd in de groef ervan, voor het reflecteren van het getransmitteerde licht van genoemde tweede bundelsplitsfilm; een analysator, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak, voor het transmitteren van een P polarisatiecomponent van het licht, gereflecteerd door genoemde gegroefde plaat, 10 daar doorheen, voor het geleiden van genoemde P polarisatiecomponent naar het eerste lichtontvangende element en voor het reflecteren van een S polarisatiecomponent van genoemd gereflecteerd licht voor het geleiden daarvan naar het tweede lichtontvangende element; en een focusfoutdetectie-15 element, gevormd op één van genoemde tweede en derde gehelde oppervlakken, voor het geleiden van het gereflecteerde licht van genoemde tweede bundelsplitsfilm naar genoemd licht-ontvangend element; waarbij genoemd tweede diffusiehoekconversieorgaan de 20 aspectverhouding verandert van het licht, gezonden van genoemd eerste diffusiehoekconversieorgaan, teneinde daardoor astigmatisme te elimineren van het licht, dat moet worden gereflecteerd door genoemde eerste bundelsplitsfilm, teneinde in te vallen op genoemd condensororgaan, waardoor 25 de fase gecorrigeerd wordt een sferische golf; en genoemd reflecterend oppervlak van genoemde gegroefde plaat de funktie heeft van het converteren van een gepolariseerde toestand van het licht, dat invalt op genoemde analysator, in lineair gepolariseerd licht van ongeveer 45°.

21. Optische pick-up, omvattende een licht-emitterend element, lichtontvangende elementen; parallelle eerste, tweede, derde, vierde en vijfde gehelde oppervlakken, geheld ten opzichte van licht, geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element; een eerste diffusiehoekconversieorgaan, 35 gevormd op één van genoemde eerste en tweede gehelde oppervlakken, voor het converteren van een aspectverhouding van het licht, geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element; een tweede diffusiehoekconversieorgaan, gevormd op 1001343 één van genoemde eerste en tweede gehelde oppervlakken, voor het verder converteren van de aspectverhouding van het licht, gezonden vanaf genoemd eerste diffusiehoekconversie-orgaan; een eerste bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd 5 tweede gehelde oppervlak en met polarisatieselectiviteit voor het verdelen van het licht van genoemd diffusiehoek-conversieorgaan in transmitterend licht en reflecterend licht; een condensororgaan voor het condenseren van het gereflecteerde licht van genoemde eerste bundelsplitsfilm op 10 een informatieregistratieoppervlak van een optische schijf; een tweede bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd derde gëhelde oppervlak en met polarisatieselectiviteit voor het verdelen van het licht, dat terugkeert van genoemde optische schijf en wordt getransmitteerd door genoemde eerste 15 bundelsplitsfilm, in transmitterend licht en reflecterend licht; een optisch rotatie-element, gevormd op genoemd vierde gehelde oppervlak, afgekeerd van genoemd derde gehelde oppervlak, voor het roteren van een polarisatievlak van het getransmitteerde licht van genoemde tweede 20 bundelsplitsfilm over een hoek 45°; een analysator, gevormd op genoemd vijfde gehelde oppervlak, voor het transmitteren van een P polarisatiecomponent van het licht, geroteerd in polarisatievlak door genoemd optisch rotatie-element, daar doorheen, voor het geleiden van genoemde P polarisatie-25 component naar het eerste lichtontvangende element en voor het reflecteren van een S polarisatiecomponent van genoemd licht voor het geleiden daarvan naar het tweede lichtontvangende element; en een focusfoutdetectie-element, gevormd op één van genoemde tweede en derde gehelde 30 oppervlakken, voor het geleiden van het gereflecteerde licht van genoemde tweede bundelsplitsfilm naar het derde licht-ontvangend element; waarbij genoemd tweede diffusiehoekconversieorgaan de aspectverhouding verandert van het licht, gezonden van 35 genoemd eerste diffusiehoekconversieorgaan, teneinde daardoor astigmatisme te elimineren van het licht, dat moet worden gereflecteerd door genoemde eerste bundelsplitsfilm, teneinde in te vallen op genoemd condensororgaan, waarbij de fase van een sferische golf wordt gecorrigeerd. 1001343

22. Optische pick-up, omvattende een licht-emitterend element, een aantal lichtontvangende elementen; parallelle eerste, tweede, derde, vierde en vijfde gehelde oppervlakken, geheld ten opzichte van licht, geëmitteerd 5 door genoemd licht-emitterend element; een eerste diffusiehoekconversieorgaan, gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak, voor het converteren van een aspectverhouding van het licht, geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element; een tweede diffusiehoek-10 conversieorgaan, gevormd op genoemd eerste gehelde oppervlak, voor het verder converteren van de aspectverhouding van het licht, gezonden vanaf genoemd eerste diffusiehoekconversieorgaan; een eerste bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd tweede gehelde 15 oppervlak en met polarisatieselectiviteit voor het verdelen van het licht van genoemd diffusiehoekconversieorgaan in transmitterend licht en reflecterend licht; een condensororgaan voor het condenseren van het gereflecteerde licht van genoemde eerste bundelsplitsfilm op een 20 informatieregistratieoppervlak van een optische schijf; een tweede bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak en met polarisatieselectiviteit voor het verdelen van het licht, dat terugkeert van genoemde optische schijf en wordt getransmitteerd door genoemde eerste 25 bundelsplitsfilm, in transmitterend licht en reflecterend licht; een optisch rotatie-element, gevormd op genoemd vierde gehelde oppervlak, afgekeerd van genoemd derde gehelde oppervlak, voor het roteren van een polarisatievlak van het getransmitteerde licht van genoemde tweede 30 bundelsplitsfilm over een hoek 45°; een analysator, gevormd op genoemd vijfde gehelde oppervlak, voor het transmitteren van een P polarisatiecomponent van het licht, geroteerd in polarisatievlak door genoemd optisch rotatie-element, daar doorheen, voor het geleiden van genoemde P polarisatie-35 component naar het eerste lichtontvangende element en voor het reflecteren van een S polarisatiecomponent van genoemd licht; een eerste reflecterende film, gevormd op genoemde derde gehelde oppervlak, voor het reflecteren van de S polarisatiecomponent, gereflecteerd door genoemde 1001343 analysator, voor het geleiden daarvan naar het tweede lichtontvangende element; een focusfoutdetectie-element, gevormd op genoemde tweede gehelde oppervlak, voor het geleiden van het gereflecteerde licht van genoemde tweede 5 bundelsplitsfilm, een tweede reflecterende film, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak, voor het reflecteren van het gereflecteerde licht van genoemd focusfoutdetectie-element; en een derde reflecterende film, gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak voor het reflecteren van het 10 gereflecteerde licht van genoemde tweede reflecterende film, voor het geleiden ervan naar het derde lichtontvangende element; waarbij genoemd tweede diffusiehoekconversieorgaan de aspectverhouding verandert van het licht, gezonden van 15 genoemd eerste diffusiehoekconversieorgaan, teneinde daardoor astigmatisme te elimineren van het licht, dat moet worden gereflecteerd door genoemde eerste bundelsplitsfilm, teneinde in te vallen op genoemd condensororgaan, waardoor de fase gecorrigeerd wordt van een sferische golf.

23. Optische pick-up, omvattende een licht-emitterend element, een aantal lichtontvangende elementen; parallelle eerste, tweede, derde, vierde en vijfde gehelde oppervlakken, geheld ten opzichte van licht, geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element; een eerste 25 diffusiehoekconversieorgaan, gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak, voor het converteren van een aspectverhouding van het licht, geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element; een tweede diffusiehoekconversieorgaan, gevormd op genoemd eerste gehelde 30 oppervlak, voor het verder converteren van de aspectverhouding van het licht, gezonden vanaf genoemd eerste diffusiehoekconversieorgaan; een eerste bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak en met polarisatieselectiviteit voor het verdelen 35 van het licht van genoemd tweede diffusiehoekconversieorgaan in transmitterend licht en reflecterend licht; een condensororgaan voor het condenseren van het gereflecteerde licht van genoemde eerste bundelsplitsfilm op een 1001343 informatieregistratieoppervlak van een optische schijf; een tweede bundelsplitsfilm, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak en met polarisatieselectiviteit voor het verdelen van het licht, dat terugkeert van genoemde optische schijf 5 en wordt getransmitteerd door genoemde eerste bundelsplitsfilm, in transmitterend licht en reflecterend licht; een optisch rotatie-element, gevormd op genoemd vierde gehelde oppervlak, afgekeerd van genoemd derde gehelde oppervlak, voor het roteren van een polarisatievlak 10 van het getransmitteerde licht van genoemde tweede bundelsplitsfilm over een hoek 45°; een analysator, gevormd op genoemd vijfde gehelde oppervlak, voor het transmitteren van een P polarisatiecomponent van het licht, geroteerd in polarisatievlak door genoemd optisch rotatie-element, 15 daar doorheen, voor het geleiden van genoemde P polarisatiecomponent naar het eerste lichtontvangende element en voor het reflecteren van een S polarisatiecomponent van genoemd licht; een eerste reflecterende film, gevormd op genoemde derde gehelde oppervlak, voor het reflecteren van de S 20 polarisatiecomponent, gereflecteerd door genoemde analysator, voor het geleiden daarvan naar het tweede lichtontvangende element; een focusfoutdetectie-element, gevormd op genoemde tweede gehelde oppervlak, voor het geleiden van het gereflecteerde licht van genoemde tweede 25 bundelsplitsfilm, een tweede reflecterende film, gevormd op genoemd derde gehelde oppervlak, voor het reflecteren van het gereflecteerde licht van genoemd focusfoutdetectie-element; en een derde reflecterende film, gevormd op genoemd tweede gehelde oppervlak voor het reflecteren van het 30 gereflecteerde licht van genoemde tweede reflecterende film, voor het geleiden ervan naar het derde lichtontvangende element; waarbij genoemd tweede diffusiehoekconversieorgaan de aspectverhouding verandert van het licht, gezonden van 35 genoemd eerste diffusiehoekconversieorgaan, teneinde daardoor astigmatisme te elimineren van het licht, dat moet worden gereflecteerd door genoemde eerste bundelsplitsfilm, teneinde in te vallen op genoemd condensororgaan, waardoor de fase gecorrigeerd wordt van een sferische golf. 1001 343

24. Optische pick-up volgens één der conclusies 19, 20, 21, 22 en 23, met het kenmerk, dat een hologram gebruikt wordt als één of elk van genoemde eerste en tweede diffusiehoekconversieorganen.

25. Optische pick-up volgens conclusie 24, m e t het kenmerk, dat genoemd hologram, gebruikt als één of elk van genoemde eerste en tweede diffusiehoekconversieorganen, van het reflectieve type is.

26. Optische pick-up volgens één der conclusies 19, 20, 21, 10 22 en 23, met het kenmerk, dat een lens gebruikt wordt als één of elk van genoemde eerste en tweede diffusiehoekconversieorganen.

27. Optische pick-up volgens conclusie 26, m e t het kenmerk, dat genoemde lens, gebruikt als één of elk 15 van genoemde eerste en tweede diffusiehoekconversie-organen, van het reflectieve type is.

28. Optische pick-up volgens één van de conclusies 6, 7, 9, 10, 11, 12, 19, 20, 21, 22 en 23, met het 20. e n m e r k, dat een gepolariseerd lichtsplitsfilm gebruikt wordt als genoemde analysator.

29. Optische pick-up volgens één van de conclusies 6, 7, 9, 10, 11, 12, 19, 20, 21, 22 en 23, m e t het kenmerk, dat een halfgolfplaat gebruikt wordt als 25 genoemd optisch rotatie-element.

30. Optische pick-up volgens één van de conclusies 6, 7, 9, 10, 11, 12, 19, 20, 21, 22 en 23, m e t het k e n m e r k, dat een hologram gebruikt wordt als genoemd focusfoutdetectie-element, en een focusfoutsignaal wordt 30 gedetecteerd onder gebruikmaking van één van een astigmatismemethode, een Foucaultse methode en een mesrand-methode.

31. Optische pick-up volgens conclusie 30, m e t het 1001343 kenmerk, dat genoemd hologram, gebruikt als genoemd focusfoutdetectieorgaan, van het reflectieve type is.

32. Optische pick-up volgens één van de conclusies 6, 7, 9, 10, 11, 12, 19, 20, 21, 22 en 23, met het 5kenmerk, dat een lens gebruikt wordt als genoemd focusfoutdetectie-element, en een focusfoutsignaal wordt gedetecteerd onder gebruikmaking van één van een astigmatismemethode, een Foucaultse methode en een mesrandmethode.

33. Optische pick-up volgens conclusie 32, m e t het kenmerk, dat genoemde lens, gebruikt als focusfoutdetectie- element, van het reflectieve type is.

34. Methode voor het voortbrengen van een optische pick-up, omvattende de stappen van het vormen van optische dunne 15 films op een plaat; het binden van een andere plaat op genoemde optische dunne films voor het vormen van een gebonden blok; en het snijden van genoemd gebonden blok schuin ten opzichte van gebonden oppervlakken van genoemde platen.

35. Methode voor het voortbrengen van een optische pick-up, omvattende de stappen van het vormen van optische dunne films en transparante organen op een plaat op een gelamineerde wijze; het vervolgens binden van een andere plaat op genoemde optische dunne films voor het vormen van 25 een gebonden blok; en het snijden van genoemd gebonden blok schuin ten opzichte van gebonden oppervlakken van genoemde platen.

36. Methode voor het voortbrengen van een optische pick-up, omvattende de stappen van het vormen van een reflectief type 30 diffraktierooster of een eerste reflecterende film op één oppervlak van een plaat, en het vormen van een diffusiehoek-conversieorgaan en een eerste bundelsplitsfilm met polarisatieselectiviteit op het andere oppervlak van genoemde plaat onafhankelijk van elkaar; het vormen van een 1001343 eerste transparant orgaan op genoemde plaat op een gelamineerde wijze; het vormen van een focusfoutdetectie-element en een tweede reflecterende film op één oppervlak van genoemd transparant orgaan, terwijl een gepolariseerd-5 lichtsplitsfilm en een tweede bundelsplitsfilm met polarisatieselectiviteit gevormd worden op het andere oppervlak van genoemd transparant orgaan; het vormen van een V-vormige groefplaat op genoemd eerste transparante orgaan op gelamineerde wijze, welke V-vormige groefplaat een V-10 vormige groef heeft met een reflecterend oppervlak; het vormen van een derde transparant orgaan op genoemde V-vormige groefplaat op gelamineerde wijze; het binden van een andere plaat aan genoemd derde transparant orgaan voor het vormen van een gebonden blok; en het snijden van genoemd 15 gebonden blok schuin ten opzichte van gebonden oppervlakken van genoemde platen.

37. Methode voor het voortbrengen van een optische pick-up, omvattende de stappen van het vormen van een reflectief type diffraktierooster of een eerste reflecterende film op één 20 oppervlak van een plaat, en het vormen van een diffusiehoek-conversieorgaan en een eerste bundelsplitsfilm met polarisatieselectiviteit op het andere oppervlak van genoemde plaat onafhankelijk van elkaar; het vormen van een eerste transparant orgaan op genoemde plaat op een 25 gelamineerde wijze; het vormen van een focusfoutdetectie-element en een tweede reflecterende film op één oppervlak van genoemd transparant orgaan, en het vormen van een tweede bundelsplitsfilm met polarisatieselectiviteit en een derde reflecterende film op het andere oppervlak van genoemd 30 transparant orgaan; het vormen van een tweede transparant orgaan op genoemde eerste transparant orgaan op gelamineerde wijze; het vormen van een vierde reflecterende film op één oppervlak van genoemd tweede transparant orgaan; het vormen van een kwartsplaat op genoemde tweede transparant orgaan op 35 gelamineerde wijze; het vormen van een derde transparant orgaan op genoemde kwartsplaat op een gelamineerde wijze; het vormen van een gepolariseerd-lichtsplitsfilm op één oppervlak van genoemde derde transparant orgaan; het vormen ï 0 0 13 A 3 van een vierde transparant orgaan op genoemd derde transparant orgaan; het binden van een andere plaat voor het vormen van een gebonden blok; en het snijden van genoemd gebonden blok schuin ten opzichte van gebonden oppervlakken 5 van genoemde platen.

38. Methode voor het voortbrengen van een optische pick-up, omvattende de stappen van het vormen van een aantal strukturele organen, die elk een plaat omvatten met optische dunne films daarop gevormd, het binden van een genoemd 10 aantal strukturele organen aan elkaar voor het vormen van een assembleringsstruktuur, waarbij genoemde optische dunne films worden gehouden tussen de aangrenzende platen; en het snijden van genoemde assembleringsstruktuur schuin ten opzichte van gebonden oppervlakken van genoemde platen.

39. Methode volgens conclusie 38, met het kenmerk, dat het genoemd aantal strukturele organen dezelfde lengte heeft in een lengterichting loodrecht op de richting van laminatie van genoemde strukturele organen.

40. Methode volgens conclusie 38, m e t het 20. e n m e r k, dat genoemde strukturele organen aan elkaar gebonden worden op een zodanige wijze, dat de eindoppervlakken van genoemd aantal strukturele organen niet geplaatst zijn in een gemeenschappelijk vlak.

41. Methode voor het voortbrengen van een optische pick-up, 25 omvattende de stappen van het vormen van een eerste bundel- splitsfilm op een plaat, het vormen van een eerste transparant orgaan op genoemde plaat op gelamineerde wijze; het vormen van een focusdetectie-element en een reflecterende film op genoemd transparant orgaan; het binden 30 van een andere plaat op genoemd eerste transparant orgaan voor het vormen van een gebonden blok; en het snijden van het gebonden blok schuin ten opzichte van gebonden oppervlakken van genoemde platen.

42. Optische pick-up, omvattende een licht-emitterend 1 0 0 1 3 4 3 element; een optisch geleideorgaan met een diffusiehoek-conversieorgaan en een bundelsplitsfilm gevormd integraal daarop; en een condensororgaan voor het condenseren van licht; 5 waarbij licht, geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element, wordt geconverteerd in diffusiehoek door genoemd diffusiehoekconversieorgaan; en het licht, geconverteerd in diffusiehoek door genoemd diffusiehoekconversieorgaan, gereflecteerd wordt door of getransmitteerd door genoemde 10 bundelsplitsfilm, teneinde te worden geleid naar genoemd condens o ro rgaan; en waarbij genoemd diffusiehoekconversieorgaan zodanig is ontworpen, dat voldaan wordt aan de volgende formule: 0,18 < sinel < 0,30 15 0,06 < sin©2 <0,17 waarin Θ1 de diffusiehoek voorstelt van dat gedeelte van het licht (geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element), dat invalt op genoemd diffusiehoekconversieorgaan, en Θ2 de diffusiehoek voorstelt van het licht, dat uittreedt uit 20 genoemd diffusiehoekconversieorgaan.

43. Optische pick-up volgens conclusie 42, m e t het k e n m e r k, dat genoemd diffusiehoekconversieorgaan en genoemde bundelsplitsfilm geheld zijn ten opzichte van de richting van de emissie van het licht van genoemd licht-25 emitterend element.

44. optische pick-up volgens conclusie 42 of 43, m e t het kenmerk, dat de richting van de emissie van het licht van genoemd licht-emitterend element naar genoemd optische geleideorgaan algemeen loodrecht is op de richting 30 van het zenden van het licht van genoemd optisch geleideorgaan naar genoemd condensororgaan.

45. Optische pick-up volgens conclusie 43, m e t het kenmerk, dat genoemd diffusiehoekconversieorgaan en genoemde bundelsplitsfilm zijn opgesteld algemeen parallel 35 ten opzichte van elkaar. 1001343

46. Optische pick-up, omvattende een licht-emitterend element; lichtontvangende elementen; een optisch geleideorgaan met een diffusiehoekconversieorgaan, gepolariseerd-lichtsplitsorgaan en een bundelsplitsfilm 5 gevormd integraal daarop; en een condensororgaan voor het condenseren van licht; waarbij licht, geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element wordt geconverteerd in diffusiehoek door genoemd diffusiehoekconversieorgaan; het licht, geconverteerd in 10 diffusiehoek door genoemd diffusiehoekconversie wordt gereflecteerd door of transmitteerd door genoemde bundel-splitsfilm, teneinde te worden geleid naar genoemd condensororgaan, zodat het licht, gecondenseerd door genoemd condensororgaan, wordt toegevoerd naar een optisch medium; 15 het licht, dat terugkeert van genoemd optisch medium, wordt verdeeld door genoemd gepolariseerd-lichtsplitsorgaan in een P polarisatiecomponent en een S polarisatiecomponent; en het aldus verdeelde licht wordt ontvangen door genoemde lichtontvangende elementen; en 20 waarbij genoemd diffusiehoekconversieorgaan zo is ontworpen, dat voldaan wordt aan de volgende formule: 0,18 < sin©l < 0,30 0,06 < sine2 <0,17 waarin ©1 de diffusiehoek voorstelt van dat gedeelte van het 25 licht (geëmitteerd door genoemd licht-emitterend element), dat invalt op genoemd diffusiehoekconversieorgaan, en Θ2 de diffusiehoek voorstelt van het licht, dat uittreedt uit genoemd diffusiehoekconversieorgaan.

47. Optische pick-up volgens conclusie 46, m e t het 30kenmerk, dat genoemde licht-ontvangende elementen zijn aangebracht aangrenzend aan één zijoppervlak van genoemd optisch geleideorgaan, en genoemd condensororgaan is gericht naar dat zijoppervlak van genoemd optisch geleideorgaan, dat afgekeerd is van genoemd ene zijoppervlak, en genoemd licht-35 emitterend element is aangebracht in naar elkaar toegekeerde betrekking tot dat zijoppervlak van genoemd optisch geleideorgaan, geplaatst loodrecht op genoemd ene zijoppervlak. 1001343

48. Optische pick-up volgens conclusie 46, m e t het kenmerk, dat genoemd diffusiehoekconversieorgaan en genoemde bundelsplitsfilm zijn geheld ten opzichte van de richting van emissie van het licht van genoemd licht-5 emitterend element. 1001343