KR970072017A - 하전 입자 빔 노광 장치용 투과 마스크 및 투과 마스크를 이용하는 노광 장치 - Google Patents

하전 입자 빔 노광 장치용 투과 마스크 및 투과 마스크를 이용하는 노광 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명의 하전 입자 빔 노광 장치용 투과 마스크는 : 매트릭스 형태로 제공된 복수의 개루를 갖고 하나의 표면상에 각 개구에 제공된 한쌍의 편향 전극을 갖는 마스크 기판과; 상기 마스크 기판의 다른 표면상에 제공되어 상기 마스크 기판보다 큰 빔의 투과율을 갖는 빔 차단층을 구비한다. 상기 투과 마스크는 상기 빔 차단층이 상기 빔 조사에 기인하여 온도의 증가를 방지하도록 빔총(beam gun)을 향하게 하기 위해 상기 장치에 설치된다.

Description

하전 압자 빔 노광 장치용 투과 마스크 및 투과 마스크를 이용하는 노광 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명의 제1실시예에 따르는 BAA방식의 투과 마스크의 제조 공정의 단면도, 제4도는 본 발명의 제1실시예에 따르는 BAA 방식의 투과 마스크의 제조 공정의 단면도, 제5도는 본 발명의 제1실시예에 따르는 BAA 방식의 투과 마스크의 제조 공정의 단면도, 제6도는 본 발명의 제1실시예에 따르는 BAA 방식의 투과 마스크의 제조 공정의 단면도, 제7도는 본 발명의 제1실시예에 따르는 BAA 방식의 투과 마스크의 제조 공정의 단면도, 제8도는 본 발명의 제1실시예에 따르는 BAA 방식의 투과 마스크의 제조 공정의 단면도, 제9도는 본 발명의 제1실시예에 따르는 BAA 방식의 투과 마스크의 제조 공정의 단면도, 제10도는 본 발명의 제2실시예에 따르는 BAA 방식의 투과 마스크의 제조 공정의 단면도, 제11도는 본 발명의 제3실시예에 따르는 제조 공정의 단면도, 제12도는 본 발명의 제3실시예에 따르는 투과 마스크의 구조의 단면도, 제13도는 본 발명의 제3실시예에 따르는 투과 마스크의 구조의 변형의 단면도, 제14도는 BAA 방식의 투과 마스크가 노광 장치에내에 설치될 때의 상태를 설명하기 위해 경통(mirror barrel)을 도시한 개략도, 제15도는 종래의 투과 마스크의 단면도.

Claims (14)

  1. 하전 입자 빔 노광 장치용 투과 마스크에 있어서, 매트릭스 형태로 제공되는 복수의 개구와 마스크 기판의 하나의 표면상의 각각의 개구에 제공되는 한쌍의 편향 전극을 갖는 마스크 기판을 포함하는데, 상기 하전 입자 빔은 상기 복수의 개구에 조사되고 상기 편향 전극에 의해 제어되며; 상기 마스크 기판의 다른 표면에 제공되어 상기 마스크 기판보다 큰 빔 반사율을 갖는 빔 차단층을 포함하는 것을 특징으로 하는 투과 마스크.
  2. 제1항에 있어서, 상기 빔 차단층은 금, 탄타륨 및 텅스텐을 포함하는 중금속 물질의 그룹중 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 투과 마스크.
  3. 제1항에 있어서, 상기 편향 전극은 금, 탄타륨 및 텅스텐을 포함하는 중금속 물질의 그룹중 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 투과 마스크.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 한쌍의 편향 전극중 하나의 전극은 접지 전극이고 상기 빔 차단층은 상기 접지 전극에 전기 접속되는 것을 특징으로 하는 투과 마스크.
  5. 하전 입자 빔 노광 장치용 투과 마스크에 있어서, 매트릭스 형태로 제공되는 복수의 개구와 하나의 표면상에 각 개구에 대해 제공되는 한쌍의 편향 전극을 갖는 투과 마스크 기판과; 상기 투과 마스크 기판의 개구에 대응하는 위치에 제공되는 복수의 개구를 갖는 빔 차단 기판과 상기 빔 차단 기판의 하나의 표면에 제공되어 상기 투과 마스크 기판보다 큰 하전 입자 빔 반사율을 갖는 빔 차단층을 포함하며, 상기 빔 차단 기판의 다른 표면이 상기 투과 마스크 기판에 접합되는 것을 특징으로 하는 투과 마스크.
  6. 제5항에 있어서, 상기 빔 차단 기판의 상기 다른 표면이 상기 투과 마스크 기판의 다른 표면에 접합되는 것을 특징으로 하는 투과 마스크.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 빔 차단층은 금, 탄타륨 및 텅스텐을 포함하는 중금속 물질의 그룹중 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 투과 마스크.
  8. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 편향 전극은 금, 탄타륨 및 텅스텐을 포함하는 중금속 물질의 그룹 중 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 투과 마스크.
  9. 제5항 또는 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 한쌍의 편향 전극중 하나의 전극은 접지 전극이고 상기 빔 차단층은 상기 접지 전극에 전기 접속되는 것을 특징으로 하는 투과 마스크.
  10. 제7항에 있어서, 상기 한쌍의 편향 전극중 하나의 전극은 접지 전극이고 상기 빔 차단층은 상기 접지 전극에 전기 접속되는 것을 특징으로 하는 투과 마스크.
  11. 제8항에 있어서, 상기 한쌍의 편향 전극중 하나의 전극은 접지 전극이고 상기 빔 차단층은 상기 접지전극에 전기 접속되는 것을 특징으로 하는 투과 마스크.
  12. 소정의 형태로 형성된 하전 입자 빔을 샘플의 소정의 위치에 조사하는 하전 입자 빔 노광장치에 있어서, 상기 하전 입자 빔을 발생하는 빔 발생 수단과; 상기 하전 입자 빔을 편향시키는 빔 편향 수단과; 상기 빔편향 수단으로부터 상기 빔의 다운스트림에 제공되어 상기 샘플이 장착되는샘플 스테이지와; 상기 빔 발생수단과 상기 빔 편향 수단 사이에 설치되는 투과 마스크를 포함하고, 상기 투과 마스크는 매트릭스 형태로제공되는 복수의 개구와 각 개구에 제공되는 한쌍의 편향 전극을 포함하는데, 상기 편향 전극은 금, 탄타름및 텅스텐을 포함하는 중금속 물질의 그룹중 적어도 하나를 포함하며, 상기 투과 마스크의 형성된 상기 편향전극을 갖는 표면이 상기 빔 발생 수단을 향하는 것을 특징으로 하는 하전 입자 빔 노광 장치.
  13. 소정의 형태로 형성된 하전 입자 빔을 샘플의 소정의 위치에 조사하는 하전 입자 빔 노광 장치에 있어서, 상기 하전 입자 빔을 발생하는 빔 발생 수단과; 상기 하전 입자 빔을 편향시키는 빔 편향 수단과; 상기 빔 편향 수단으로부터 상기 빔의 다운스트림에 제공되어 상기 샘플이 장착되는 샘플 스테이지와; 상기 빔 발생수단과 상기 빔 편향 수단 사이에 설치되는 투과 마스크를 포함하고, 상기 투과 마스크는 매트릭스 형태로 제공되는 복수의 개구와 상기 마스크 기판의 하나의 표면상의 각 개구에 제공되는 한쌍의 편향 전극을 갖는 마스크 기판과, 상기 마스크 기판의 상기 개구에 대응하는 위치에 제공되는 복수의 개구와 하나의 표면상에 제공되어 금, 탄타륨 및 텅스텐을 포함하는 중금속 물질의 그룹중 적어도 하나를 포함하는 빔 차단 기판을 포함하는데, 상기 빔 차단 기판의 다른 표면은 상기 투과 마스크 기판에 접합되고, 상기 투과 마스크의 중금속층을 갖는 표면은 상기 빔 발생 수단을 향하는 것을 특징으로 하는 하전 입자 빔 노광 장치.
  14. 제13항에 있어서, 상기 편향 전극은 금, 탄타륨 및 텅스텐을 포함하는 중금속 물질의 그룹중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 하전 입자 빔 노광 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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