KR970018061A - 산소의 확산을 방지하는 금속 전극 제조 방법 - Google Patents

산소의 확산을 방지하는 금속 전극 제조 방법 Download PDF

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KR970018061A
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조학주
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김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 금속전극 제조 방법에 관한 것으로서, 특히 반도체 장치 제조에 있어서 산소의 확산을 방지하는 금속 전극 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 산소의 확산을 방지하는 금속 전극 제조 방법에 있어서, 실리콘기판에 절연층을 형성하는 제1공정; 통상의 사진공정 및 식각공정으로 금속전극을 형성하고자 하는 상기 절연층의 일정부위에 폴리실리콘 기둥을 형성하는 제2공정; 상기 폴리실리콘 기둥상에 금속전극과 폴리실리콘과의 반응을 막는 확산 방지막을 형성하는 제3공정; 상기 결과물 전면에 제1금속전극층을 형성하는 제4공정; 상기 제1금속전극층상에 산소의 통과를 차단하는 층간 절연막을 형성하는 제5공정; 상기 층간 절연막상에 제2금속전극층을 형성하는 제6공정 및 통상의 사진공정 및 식각공정으로 상기 실리콘 기둥상의 금속전극층 이외의 부분을 상기 절연층까지 식각하는 제7공정을 포함함을 특징으로 한다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 산소의 확산을 방지하는 금속 전극 제조 방법은 산소가 확산되어 발생하는 필링등의 문제를 유발하지 않고 화학적으로 안정되고 전기적으로 특성이 뛰어난 금속을 전극으로 사용하는 방법을 제공한다.

Description

산소의 확산을 방지하는 금속 전극 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1D도는 본 발명에 따른 산소 확산을 방지하는 금속전극의 형성 방법을 설명하기 위한 단면도이다.

Claims (5)

  1. 산소의 확산을 방지하는 금속 전극 제조 방법에 있어서, 실리콘기판에 절연층을 형성하는 제1공정; 통상의 사진공정 및 식각공정으로 금속전극을 형성하고자 하는 상기 절연층의 일정부위에 폴리실리콘 기둥을 형성하는 제2공정; 상기 폴리실리콘 기둥상에 금속전극과 폴리실리콘과의 반응을 막는 확산 방지막을 형성하는 제3공정; 상기 결과물 전면에 제1금속전극층을 형성하는 제4공정; 상기 제1금속전극층상에 산소의 통과를 차단하는 층간 절연막을 형성하는 제5공정; 상기 층간 절연막상에 제2금속전극층을 형성하는 제6공정 및 통상의 사진공정 및 식각공정으로 상기 실리콘 기둥상의 금속전극층 이외의 부분을 상기 절연층까지 식각하는 제7공정을 포함함을 특징으로 하는 산소의 확산을 방지하는 금속 전극 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1금속전극층이 Pt 또는 Ir, Ru인 것을 특징으로 하는 산소의 확산을 방지하는 금속 전극 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 층간 절연막이 SiN 또는 SiO2, TiC2, TaO인 것을 특징으로 하는 산소의 확산을 방지하는 금속 전극 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제2금속전극층이 Pt, Ir, Ru인 것을 특징으로 하는 산소의 확산을 방지하는 금속 전극 제조 방법.
  5. 제3항에 있어서, 상기 층간 절연막의 두께가 50Å 이하임을 특징으로 하는 산소의 확산을 방지하는 금속 전극 제조 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950032901A 1995-09-29 1995-09-29 산소의 확산을 방지하는 금속 전극 제조 방법 KR970018061A (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100457747B1 (ko) * 1997-12-27 2005-02-23 주식회사 하이닉스반도체 반도체소자의전하저장전극형성방법

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KR100457747B1 (ko) * 1997-12-27 2005-02-23 주식회사 하이닉스반도체 반도체소자의전하저장전극형성방법

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