KR960704805A - 순수 또는 초순수의 제조방법 및 제조장치(deionized water or high purity water producing method and apparatus) - Google Patents
순수 또는 초순수의 제조방법 및 제조장치(deionized water or high purity water producing method and apparatus)Info
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Abstract
본 발명은 순수 또는 초순수의 제조방법 및 제조장치에 관한 것으로, 반도체 장치의 제조 등에 적절하게 사용되는 붕소 농도를 저감시킨 순수 또는 초순수를 제조하고, 막처리수단 등을 구비하고 전처리장치(1)의 처리수에서 순수를 얻는 1차 순수처리계와, 이 1차 순수를 저장하는 탱크(9)와, 이온교환수단, 막처리수단 등을 구비하여 상기 탱크(9)를 경유한 1차 순수에서 초순수를 얻는 2차 순수 처리계로 구성되어 있으며, 상기 붕소 선택성 이온교환수지를 1차 순수처리계 중 2상 3팁식 이온교환장치(3)의 K탑내에 강산성 양이온교환수지의 상류에 위치하도록 적층하여 설치하며, 이 붕소선택성 이온교환수지의 존재에 의해 처리수 중의 붕소 농도를 장기간 안정되게 저감시킬 수 있는 것을 특징으로 한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시예 1의 초순수 제조장치의 구성개요를 나타낸 블럭도.
Claims (9)
- 원수에 포함되는 현탁물질을 제거하는 전처리에 이어서, 상기 전처리가 끝난 이온 및 비이온성 물질을 제거하는 순수처리를 실시하여 순수 또는 초순수를 제조하는 방법에 있어서, 상기 전처리가 끝난 처리수단에 포함되는 붕소 제거를 위해서 상기 순수처리를 하는 공정 중 어느 단계에서 상기 전처리가 끝난 처리수를 붕소 선택성 이온교환수지에 접촉시키는 것을 특징으로 하는 순수 또는 초순수의 제조방법.
- 원수중에 포함되는 현탁물질제거단을 위한 제탁수단를 갖는 전처리장치와, 이 전처리장치에 나오는 처리수 중에 포함되는 이온 및 비이온성 물질을 제거하기 위한 탈염수단 및 막처리수단을 갖는 순수처리장치를 구비한 순수 또는 초순수의 제조장치에 있어서, 상기 전처리장치로부터 처리수 유출로와 상기 순수처리장치로 부터의 처리수 유출로 사이의 통수계 중 적어도 어느 한 위치에 붕소 이온제거 수단으로서 붕소 선택성 이온교환수지를 단독으로 갖거나 또는 다른 이온 교환수지와 적층 또는 혼합하여 갖는 이온교환탑을 설치한 것을 특징으로 하는 순수 또는 초순수의 제조장치.
- 제2항에 있어서, 상기 순수처리장치는 막처리수단 등을 구비하고 전처리장치의 처리수에서 순수를 얻는 1차 순수처리계와, 이 1차 순수를 저장하는 탱크와, 이온교환수지, 막처리수단 등을 구비하여 상기 탱크를 거친 1차 순수에서 초순수를 얻는 2차 순수처리계로 이루어지고, 상기 붕소 선택성 이온교환수지를 갖는 이온 교환탑을 이 1차 순수처리계의 도중, 2차 순수처리계의 도중, 또는 1차 순수처리계와 2차 순수처리계 사이중 적어도 어느 한 위치에 설치한 것을 특징으로 하는 순수 또는 초순수의 제조장치.
- 제2항에 또는 제3항에 있어서, 상기 부소 선택성 이온교환수지를 갖는 이온교환탑이 재생제로서 산 수용액 또는 알칼리 수용액 또는 그 쌍방을 통약하는 재생설비를 갖는 재생형 이온교환탑인 것을 특징으로 하는 순수 도는 초순수의 제조장치.
- 제4항에 있어서, 재생형 이온교환탑이 양이온교환수지를 상기 붕소 선택성 이온교환수지의 하류측에 적층 시킨 일탑형 이온교환탑으로, 재생설비가 재생제로서 산 수용액을 통약하는 것인 것을 특징으로 하는 순수 또는 초순수의 제조장치.
- 제4항에 있어서, 재생형 이온교환탑이 음이온 교환수지를 상기 붕소선택성 이온교환수지의 상류측에 적측 시킨 일탑형 이온교환탑이고, 재생설비가 재생제로서 알칼리 수용액을 통약하는 것을 특징으로 하는 순수 또는 초순수의 제조장치.
- 제4항에 있어서, 재생형 이온교환탑이 상기 붕소 선택성 이온교환수지, 양이온교환수지 및 음이온교환수지를 혼합하여 갖는 이온교환탑인 것을 특징으로 하는 순수 또는 초순수의 제조장치.
- 제3항에 있어서, 상기 붕소 선택성 이온교환수지를 갖는 비재생형 이온교환탑을 1차 순수를 저장하는 탱크에서 2차 순수처리계와 다른 경로에 배관을 분기접속한 배관분기로의 2차 순수처리계측의 하류에 설치한 것을 특징으로 하는 순수 또는 초순수의 제조장치.
- 제2항 내지 제8항 중 어는 한 항에 있어서, 붕소 선택성 이온교환수지를 갖는 이온교환탑의 하류에 자외선 산화장치 및 역침투막장치 중 적어도 어느 한쪽을 설치한 것을 특징으로 하는 순수 또는 초순수의 제조장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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US20020153319A1 (en) * | 1997-08-12 | 2002-10-24 | Debasish Mukhopadhyay | Method and apparatus for high efficiency reverse osmosis operation |
US8758720B2 (en) | 1996-08-12 | 2014-06-24 | Debasish Mukhopadhyay | High purity water produced by reverse osmosis |
US6780328B1 (en) * | 1997-06-20 | 2004-08-24 | Li Zhang | Fluid purification devices and methods employing deionization followed by ionization followed by deionization |
JP3370576B2 (ja) * | 1997-10-09 | 2003-01-27 | シャープ株式会社 | 超純水製造装置 |
JP3951200B2 (ja) * | 1997-10-31 | 2007-08-01 | 栗田工業株式会社 | 純水製造装置 |
JP3890708B2 (ja) * | 1997-11-11 | 2007-03-07 | 栗田工業株式会社 | ホウ素含有水の処理方法 |
JP3826546B2 (ja) * | 1998-03-03 | 2006-09-27 | 栗田工業株式会社 | ホウ素含有水の処理装置 |
JP2003527950A (ja) * | 2000-01-03 | 2003-09-24 | ジャングバーワラ、ジュザー | イオン交換による金属の除去方法およびその装置 |
JP3727212B2 (ja) * | 2000-01-31 | 2005-12-14 | 日本電工株式会社 | ホウ素を含む排水の処理装置及び処理方法 |
JP2002035743A (ja) * | 2000-07-21 | 2002-02-05 | Kurita Water Ind Ltd | 軟水装置 |
KR100689693B1 (ko) * | 2000-12-19 | 2007-03-08 | 삼성전자주식회사 | 초순수의 제조방법 |
US6579445B2 (en) * | 2001-06-01 | 2003-06-17 | Sartorius Ag | System for the production of laboratory grade ultrapure water |
US8177981B2 (en) | 2002-04-12 | 2012-05-15 | General Electric Company | Ion exchange regeneration method |
CN100369844C (zh) * | 2002-04-15 | 2008-02-20 | 翠光特普铼股份有限公司 | 玻璃用水溶性防热辐射涂料,防热辐射玻璃,和防止热辐射的方法 |
WO2003106348A1 (en) * | 2002-06-01 | 2003-12-24 | Hydranautics | Methods for reducing boron concentration in high salinity liquid |
US20030230531A1 (en) * | 2002-06-13 | 2003-12-18 | Hydranautics And Nitto Denko Corporation | Method for reducing boron concentration in high salinity liquid |
JP3864934B2 (ja) | 2003-06-12 | 2007-01-10 | 栗田工業株式会社 | 純水製造装置 |
WO2005056166A1 (en) * | 2003-12-02 | 2005-06-23 | Hydranautics | Methods for reducing boron concentration in high salinity liquid using combined reverse osmosis and ion exchange |
CN100391859C (zh) * | 2004-02-09 | 2008-06-04 | 日立麦克赛尔株式会社 | 离子交换水生成装置及其离子交换树脂的再生方法 |
US20080067069A1 (en) | 2006-06-22 | 2008-03-20 | Siemens Water Technologies Corp. | Low scale potential water treatment |
US20080290033A1 (en) * | 2007-05-25 | 2008-11-27 | Camp Dresser & Mckee, Inc. | Method and apparatus for recovery of water containing silica |
TWI356734B (en) * | 2007-11-05 | 2012-01-21 | Au Optronics Corp | Ion exchange resin tower and detection method of l |
JP5320723B2 (ja) * | 2007-11-06 | 2013-10-23 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造方法及び装置並びに電子部品部材類の洗浄方法及び装置 |
CN101939262A (zh) * | 2007-11-06 | 2011-01-05 | 栗田工业株式会社 | 超纯水制造方法和装置以及电子部件构件类的清洗方法和装置 |
EP2222899A2 (en) * | 2007-11-30 | 2010-09-01 | Siemens Water Technologies Corp. | Systems and methods for water treatment |
JP5081690B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2012-11-28 | オルガノ株式会社 | 超純水の製造方法 |
JP5277995B2 (ja) * | 2009-01-28 | 2013-08-28 | 三浦工業株式会社 | 純水製造システム |
US8646493B2 (en) * | 2009-03-02 | 2014-02-11 | Envirotower Inc. | Method and apparatus for changeover of container in a fluid dispenser |
JP5564817B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2014-08-06 | 栗田工業株式会社 | イオン交換樹脂の再生方法及び超純水製造装置 |
AU2010328630B2 (en) | 2009-12-07 | 2014-05-15 | Fresenius Medical Care Holdings, Inc. | Water purification cartridge using zirconium ion-exchange sorbents |
JP5717997B2 (ja) * | 2010-08-03 | 2015-05-13 | 株式会社トクヤマ | テトラアルキルアンモニウム塩水溶液の製造方法 |
TWI434725B (zh) * | 2011-03-08 | 2014-04-21 | Asia Union Electronical Chemical Corp | 利用氫氧基化合物和離子交換樹脂吸附以純化氟酸系蝕刻液的處理方法 |
JP2012239965A (ja) * | 2011-05-18 | 2012-12-10 | Japan Organo Co Ltd | 電気式脱イオン水製造装置 |
US11156041B2 (en) * | 2012-02-22 | 2021-10-26 | Richard Paul Posa | System and method for treating water |
JP6228471B2 (ja) * | 2014-01-24 | 2017-11-08 | 三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社 | 被処理水の処理装置、純水の製造装置および被処理水の処理方法 |
CL2014000579A1 (es) * | 2014-03-10 | 2014-06-20 | Fundacion Chile | Sistema de tratamiento continuo y modular para remocion de boro, compuesto por sistema de boro junto a uno de regeneracion de resina, que comprende 3 columnas que operan en forma alternada, dos de las columnas estan en operacion, en remocion de boro, mientras la tercera columna se encuentra en regeneracion |
JP6310819B2 (ja) * | 2014-08-27 | 2018-04-11 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 純水製造装置、超純水製造システム及び純水製造方法 |
JP6228531B2 (ja) * | 2014-12-19 | 2017-11-08 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
JP6105005B2 (ja) * | 2015-08-12 | 2017-03-29 | オルガノ株式会社 | 電気式脱イオン水製造装置及び脱イオン水の製造方法 |
CN105585188B (zh) * | 2016-02-23 | 2019-04-02 | 江苏达诺尔科技股份有限公司 | 一种无硼超纯水的制备方法 |
US10683223B1 (en) * | 2016-04-01 | 2020-06-16 | Paul C. Wegner | Process to remove transition metals from waste water |
CN105621453A (zh) * | 2016-04-07 | 2016-06-01 | 江苏达诺尔科技股份有限公司 | 一种超纯无硼氨水的制备方法 |
US10252921B1 (en) * | 2016-06-09 | 2019-04-09 | Paul Charles Wegner | Process and apparatus for enhancing boron removal from water |
JP6907514B2 (ja) * | 2016-11-28 | 2021-07-21 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造システム及び超純水製造方法 |
JP7213006B2 (ja) * | 2017-02-09 | 2023-01-26 | 栗田工業株式会社 | 導電性水溶液の製造装置及び導電性水溶液の製造方法 |
JP2018167145A (ja) * | 2017-03-29 | 2018-11-01 | オルガノ株式会社 | テトラフルオロホウ酸含有廃水の処理方法 |
JP2018183761A (ja) * | 2017-04-27 | 2018-11-22 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 超純水製造システム及び超純水製造方法 |
CN107651782A (zh) * | 2017-10-17 | 2018-02-02 | 广州雅津水处理设备有限公司 | 一种高纯水处理*** |
JP7225544B2 (ja) | 2018-02-20 | 2023-02-21 | 栗田工業株式会社 | 純水又は超純水の製造方法 |
JP2018086657A (ja) * | 2018-02-21 | 2018-06-07 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 純水製造装置、超純水製造システム及び純水製造方法 |
JP7454330B2 (ja) * | 2018-06-20 | 2024-03-22 | オルガノ株式会社 | 被処理水中のホウ素除去方法、ホウ素除去システム、超純水製造システム及びホウ素濃度の測定方法 |
US11066317B1 (en) | 2018-10-26 | 2021-07-20 | Paul Charles Wegner | System for removal of nitrate and chrome from water |
KR102426660B1 (ko) | 2020-04-23 | 2022-07-29 | 주식회사에스에이치이 | 전기자동차용 이동형 충전시스템 |
JP2022053969A (ja) * | 2020-09-25 | 2022-04-06 | オルガノ株式会社 | 純水製造装置及び純水製造方法 |
CN112167625A (zh) * | 2020-09-29 | 2021-01-05 | 厦门市燕之屋丝浓食品有限公司 | 一种改善即食燕窝产品感官品质的方法与应用 |
CN112591850A (zh) * | 2020-12-04 | 2021-04-02 | 阿拉山口海关技术中心 | 一种x荧光光谱仪内循环水纯化剂、制备方法及应用 |
KR102498578B1 (ko) * | 2022-02-22 | 2023-02-13 | 삼성전자주식회사 | 초순수 제조 시스템의 관리 방법 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL98762C (ko) * | 1955-02-07 | |||
US3567369A (en) * | 1968-01-12 | 1971-03-02 | Stauffer Chemical Co | Ion exchange process for recovering borates from brine |
US3870033A (en) * | 1973-11-30 | 1975-03-11 | Aqua Media | Ultra pure water process and apparatus |
JPS6048150A (ja) * | 1983-08-25 | 1985-03-15 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ホウ素の吸着処理方法 |
GB2145709B (en) * | 1983-09-01 | 1986-08-28 | Ionics | Membrane system for water purification |
JPH0790219B2 (ja) * | 1990-08-01 | 1995-10-04 | 日本錬水株式会社 | 純水製造装置及び製造方法 |
IT1243991B (it) * | 1990-10-30 | 1994-06-28 | Ionics Italba Spa | Procedimento per la depurazione dell'acqua mediante una combinazione di unita' di separazione a membrane e relativo impianto |
JPH0596279A (ja) * | 1991-10-08 | 1993-04-20 | Japan Organo Co Ltd | 超純水の製造方法 |
US5250185A (en) * | 1992-05-01 | 1993-10-05 | Texaco Inc. | Reducing aqueous boron concentrations with reverse osmosis membranes operating at a high pH |
-
1994
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