JP4085987B2 - フォトレジスト現像廃液の再生処理方法 - Google Patents
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Description
2 陽極
3 陽イオン交換膜(カチオン交換膜)
4 陰イオン交換膜(アニオン交換膜)
5 電気透析装置
6 廃液槽
7 脱塩液槽
8 濃縮液槽
9、10、11 ポンプ
12 電気伝導度計
13−1 第1電気透析装置
13−2 第2電気透析装置
13−3 第3電気透析装置
14 廃液槽
15、16、17、18 ポンプ
21 陰極
22 陽極
23 陽イオン交換膜
Claims (9)
- フォトレジスト及びテトラアルキルアンモニウムイオンを主として含有するフォトレジスト現像廃液を処理するに当たって、テトラアルキルアンモニウムイオン形(TAA形)の陽イオン交換樹脂、または陰イオン交換樹脂及びTAA形の陽イオン交換樹脂と接触させて不純物を吸着除去する工程と、前記工程を経て得られる処理液を電気透析及び電解の少なくとも一方の方法で処理して濃縮分離する工程とを少なくとも含む、フォトレジスト現像廃液からフォトレジスト現像液として再利用できる高純度の水酸化テトラアルキルアンモニウムの溶液を再生回収することを特徴とするフォトレジスト現像廃液の再生処理方法。
- 前記フォトレジスト現像廃液を中和し、不溶性となったフォトレジストを分離除去する工程と、前記工程を経て得られる中和処理液をTAA形の陽イオン交換樹脂、または陰イオン交換樹脂及びTAA形の陽イオン交換樹脂と接触させて不純物を吸着除去する工程と、前記の2工程を経て得られる処理液を電気透析及び電解により又は電解により濃縮分離する工程とを少なくとも含むことを特徴とする請求項1に記載のフォトレジスト現像廃液の再生処理方法。
- 前記の電気透析及び/又は電解工程の少なくとも前に、前記フォトレジスト現像廃液またはその処理液(又はその中和処理液)を蒸発及び/又は逆浸透膜処理して濃縮する工程を更に含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のフォトレジスト現像廃液の再生処理方法。
- 前記陰イオン交換樹脂及び前記陽イオン交換樹脂を混合イオン交換樹脂として用いることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のフォトレジスト現像廃液の再生処理方法。
- 前記陰イオン交換樹脂を上流側に、前記陽イオン交換樹脂を下流側に積層する積層イオン交換樹脂として用いることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のフォトレジスト現像廃液の再生処理方法。
- 前記陰イオン交換樹脂の層(カラム、塔)を前記陽イオン交換樹脂の層(カラム、塔)よりも上流側に配設することを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のフォトレジスト現像廃液の再生処理方法。
- 前記陰イオン交換樹脂が、水酸化物イオン形(OH形、即ち、ヒドロオキシド形)強塩基性陰イオン交換樹脂であることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載のフォトレジスト現像廃液の再生処理方法。
- 電気透析と電解から選ばれる少なくとも一方を循環方式又は多段方式で行うことを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載のフォトレジスト現像廃液の処理方法。
- 末端又はその近辺に膜処理装置を配設し、高純度の水酸化テトラアルキルアンモニウムの溶液から微粒子を除去することを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載のフォトレジスト現像廃液の再生処理方法。
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