KR960009047A - 벽의 부식에 대해 표면보호 수단을 가진 플라즈마 에칭 반응기 - Google Patents

벽의 부식에 대해 표면보호 수단을 가진 플라즈마 에칭 반응기 Download PDF

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Abstract

전기 도전물질로 만들어진 얇은 가요성 차폐물은 반응 플라즈마 가스로부터 처리챔버 벽의 부식을 막기 위해서 개구된 처리챔버의 내부력에 힘을 가한다. 차폐물 및 벽은 벽에 대해 삽입의 위치를 안정시키는 삽입물과 함께, 차폐물의 일부 표면에 중복되며 차폐물을 통해 통과하며 챔버의 개구부를 채우는 슬리브와 같은 도전 삽입물과 전기적으로 상호 연결된다. 차폐물의 남은 노출표면은 보호되기 위해 양극처리된다. 도전 도체는 바람직하게 챔버벽과 동일한 전위에서 다른 내부 챔버구조에 삽입물을 연결시킨다.

Description

벽의 부식에 대해 표면보호 수단을 가진 플라즈마 에칭 반응기
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 플라즈마 처리챔버의 내부에 대한 측단면도.
제2도는 챔버 윈도우 및 슬릿 밸브 개구부에 대한 절개부분을 도시한 본 발명의 차폐물에 대한 도면.
제3도는 노출된 알루미늄을 가진 윈도우 삽입물에 대한 정면도.

Claims (33)

  1. 플라즈마 처리 챔버의 내부벽을 보호하며, 상기 내부벽이 전위를 가지는 징치에 있어서, 전기 도전 물절을 포함하며 내부벽의 외부에 탄력있게 맞물리는 가요성 차폐물; 상기 차폐물의 표면에 한정된 전기 도전영역; 및 챔버의 내부벽에 대한 전위에 매칭되는 전위에 상기 차폐물을 전기적으로 접속하기 위해 상기 도전영역과 맞물리는 적어도 하나의 전기 도전부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 가요성 차폐물이 내부벽의 원주 크기보다 큰 원주 크기를 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 전기 도전부재가 내부벽에 대해 차폐물을 지지하도록 차폐물에 힘을 가하는 전기도전 삽입부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 삽입부재가 상기 도전영역 및 상기 챔버의 일부 내부벽과 맞물려서, 벽 및 차폐물이 동일 전위에 유지되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 내부벽이 제1개구부을 한정하며, 상기 차폐물이 제2개구부를 한정하며, 상기 벽에 대향하는 위치에 상기 차폐물을 고정시키는 동안 상기 삽입부재가 상기 개구부를 통해 상기 차폐물을 상기 벽에 맞물리게 하여 전기적으로 접속하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 차폐물에 의해 맞물리는 내부벽으로부터 일정한 간격을 유지하는 상기 삽입물 및 내부챔버 구조사이로 뻗는 전기 도전부재를 더 포함하여, 챔버 및 차폐물이 동일 전위에 유지되도록 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치.
  7. 제3항에 있어서, 내부벽의 상기 전위위에 매칭되는 전위에서 전기 도전 삽입부재 및 차폐물사이에 전기브리지를 형성하기 위해서 전기 도전 삽입부재에 부착된 이동가능한 전기 도전부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 내부벽이 접지전위인 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치.
  9. 제1항에 있어서, 싱기 차폐물은 비반응성 코팅된 상기 챔버의 내부와 접하는 표면을 한정하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 코팅이 양극처리되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치.
  11. 제1항에 있어서, 상기 차폐물은 차폐물이 압축될때 불연속부에 인접한 차폐물의 단부가 중복되게 하는 불연속부를 한정하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치.
  12. 제11항에 있어서, 차폐물이 상기 내부벽에 힘을 가할때, 불연속부가 심에 인접한 단부사이에 최소 간격을 가진 심을 형성하도록 상기 불연속부가 폭을 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치.
  13. 내부벽의 전위에 매칭되는 전위에서 전기접속 장치를 포함하는 구조를 처리챔버내에 가지는 플라즈마처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치에 있어서, 상기 장치가, 내부벽의 외부에 힘을 가하는 전기 도전물질을 포함하며 처리챔버의 내부에 접하는 적어도 하나의 전기 도전영역을 포함하는 가요성 차폐물을 포함하며; 가요성 차폐물의 상기 적어도 하나의 전기 도전영역에 힘을 가하는 적어도 하나의 이동가능한 전기 도전삽입물을 포함하며, 상기 삽입물이 내무벽에 대향하는 위치에서 차폐물을 지지하며 상기 삽입물 및 상기 차폐물사이에 전기 접속을 형성하며, 상기 전기 접속장치에 전기적으로 접속된 확장부를 포함해서, 상기 삽입물, 차폐물 및 벽이 플라즈마 아크를 막기 위해서 매칭 전기전위에서 전기적으로 결합 빛 유지되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치.
  14. 제13항에 있어서, 상기 내부벽이 제l개구부를 한정하며, 상기 차폐물이 제2개구부를 한정하며, 내부벽에 대향하는 위치에 상기 차폐물을 접속하는 동안 상기 차폐물이 상기 제1 및 제2개구부를 통해 상기 차폐물을 내부벽에 맞물리게 하여 전기적으로 접속하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치.
  15. 플라즈마 반응기 챔버의 내부벽을 보호하기 위한 방법에 있어서, 플라즈마 처리챔버내에 내부벽의 직경보다 큰 직경의 이동가능한 전기 도전 및 가요성 차폐물을 배치시키는 단계; 차폐물이 내부벽의 외부와 일직선으로 놓이도록 차폐물을 회전시키는 단계; 차폐물에 부착된 전기 전도삽입물을 통해 차폐물을 챔버에 연결시키는 단계; 전기 전도경로의 제1단부를 형성하기 위해 상기 삽입물에 일부분의 전기 도전물질의 제1단부를 부착시키는 단계; 및 차폐물 및 플라즈마 처리챔버의 전기 접지영역사이에 전기 도전경로를 형성하기 위해 플라즈마 처리챔버의 전기 접지영역에 상기 일부분의 전기 도전물질의 제2단부를 부착시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 반응기 챔버의 내부벽을 보호하기 위한 방법.
  16. 적어도 하나의 개구를 한정하는 아치형 내부벽을 가지는 플라즈마 처리챔버용 챔버 라이너 장치에 있어서, 상기 챔버 라이너 장치가, 탄력있는 접촉부에서 상기 벽에 대향하여 힘을 가하며 상기 챔버 개구부와 일반적으로 매칭되는 개구부를 한정하도록 삽입시에 변형되며, 상기 아치형 벽의 적어도 일부 영역상부 및 주위에 삽입하기 위한 크기를 가지는 도진물질인 얇고 탄력있는 밴드; 상기 챔버 개구부의 형태와 매칭되는 외부 구조의 슬리브형 부분 및 일부분의 상기 밴드와 중복 및 맞물리기에 적합한 연장부분의 한단부에서 연장부분을 한정하는 삽입물; 및 챔버내에서 처리에 노출된 상기 밴드의 표면에 대한 영역위의 보호층을 포함하며, 동일전위로 양쪽을 유지시키기 위해 상기 밴드 및 챔버벽사이에 양의 전기 접속을 제공하는 동안, 상기 밴드가 상기 개구부를 정렬시키기 위해서 상기 챔버내로 삽입할 수 있으며, 상기 삽입물이 상기 밴드, 챔버 및 삽입물을 연결하며 상기 벽에 상기 밴드의 위치를 유지시키기 위해 상기 개구부를 통해 상기 챔버벽으로 삽입할 수 있어서, 플라즈마 처리동안 아크를 최소화시키며 상기 챔버벽을 보호하며, 상기 밴드 및 삽입물이 필요에 따라 용이하게 분해 및 교활될 수 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버용 챔버 라이너 장치.
  17. 제16항에 있어서, 상기 밴드의 내부적으로 접한 표면이 상기 밴드 개구부에 인접한 작은 영역을 제외하고 모든 부분에 상기 보호층을 포함하며, 상기 확장된 부분이 상기 작은 영역과 맞물리고 전체적으로 중복하는 슬리브를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버용 챔버 라이너 장치.
  18. 제17항에 있어서, 상기 보호층이 양극 처리되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버용 챔버 라이너 장치.
  19. 제16항에 있어서, 삽입물 및 쳄버벽 양쪽 모두가 챔버벽 및 삽입물을 통해 접지전위에서 유지되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버용 챔버 라이너 장치.
  20. 제16항에 있어서, 삽입물 장치가 챔버벽과 동일한 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버용 챔버 라이너 장치.
  21. 제16항에 있어서, 상기 챔버가 상기 챔버내에서 처리될 소자를 지지하기 위한 중앙 페데스탈 지지 장치를 포함하며, 상기 지지 장치가 접지된 주변부재를 포함하며, 상기 라이너 장치가 상기 삽입물의 상기 확장부분 및 상기 접지된 주변부재사이에 적어도 하나의 보조 전기접속부를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버용 챔버 라이너 장치.
  22. 제16항에 있어서, 삽입물사이에 전기적인 확장 커넥터를 더 포함하며, 일부분의 챔버가 상기 밴드에 의해 덮혀지지 않는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버용 챔버 라이너 장치.
  23. 제16항에 있어서, 상기 밴드가 적어도 상기 챔버벽의 원주와 적어도 동일한 연속적인 한부분의 원주인 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버용 챔버 라이너 장치.
  24. 제16항에 있어서, 상기 밴드가 불연속적이며 적어도 상기 챔버벽의 원주만큼 큰 길이를 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버용 챔버 라이너 장치.
  25. 제24항에 있어서, 상기 불연속 밴드가 각각의 단부에서 매칭 절개부분을 한정하며, 싱기 챔버로 상기 밴드를 삽입하는 상기 단부 및 절개부분이 상기 챔버 개구부에 매칭되는 상기 밴드내에 상기 개구부를 한정하기 위해 인접하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리챔버용 챔버 라이너 장치.
  26. 처리챔버의 리드에 대한 내부를 보호하며, 상기 리드가 가스분배를 위한 평판을 가지는 장치에 있어서, 상기 판에 의해 덮혀지지 않은 리드의 내부에 대한 전체 영역이 플랜지 확장에 의해 덮혀지도록 하는 상기판의 플랜지 확장부를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리챔버의 리드에 대한 내부를 보호하기 위한 장치.
  27. 제26항에 있어서, 상기 플랜지 확장부가 싱기 판과 동일한 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 처리챔버의 리드에 대한 내부를 보호하기 위한 장치.
  28. 제26항에 있어서, 상기 판 및 상기 플랜지 확장부가 전기 도전물질로 만들어지는 것을 특징으로 하는 처리챔버의 리드에 대한 내부를 보호하기 위한 장치.
  29. 제26항에 있어서, 상기 판 및 상기 플랜지 확장부의 표면이 양극으로 처리되는 것을 특징으로 하는 처리챔버의 리드에 대한 내부를 보호하기 위한 장치.
  30. 리세스를 한정하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치에 있어서, 전기 도전물질로 구성되며, 내부벽의 외부에 힘을 가하며, 처리챔버의 내부와 맞선 전기 도전영역을 포함하며 상기 도전영역에 인접한 개구부를 한정하는 가요성 차폐물; 및 상기 개구부 및 리세스를 통해 가요성 차폐물의 상기 전기 도전영역및 내부벽과 맞물리는 적어도 하나의 이동가능한 전기 도전 삽입물을 포함하며, 상기 삽입물이 발생한 플라즈마 아크를 상기 차폐물을 사용하여 막도록, 내부벽에 대해 상기 차폐물을 적절하게 지지하며, 상기 차폐물, 삽입물 및 벽과 전기적으로 접속하며 매칭전위와 동일한 전위를 유지하는 것을 특징으로 하는 리세스를 한정하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치.
  31. 제30항에 있어서, 상기 삽입물은 상기 차폐물 및 벽이 매칭 전위에서 유지하도록, 상기 벽과 동일한 전위에서 상기 리세스로부터 일정하게 위치한 내부구조에 도달하는 확장부가 제공되는 것을 특징으로 하는 리세스를 한정하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치.
  32. 제30항에 있어서, 상기 리세스가 개구부이며 상기 삽입물이 상기 개구부의 노출 표면을 보호하기 위해 중공 슬리브 같은 구조를 한정하는 것을 특징으로 하는 리세스를 한정하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치.
  33. 제30항에 있어서, 상기 도전영역의 일부분이 아닌 처리챔버의 내부와 맞선 차폐물 표면의 부분에 형성된 보호 코팅부를 포함하는 것을 특징으로 하는 리세스를 한정하는 플라즈마 처리챔버의 내부벽을 보호하기 위한 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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