KR940005958B1 - 글루타르산 유도체 및 이의 제조방법 - Google Patents

글루타르산 유도체 및 이의 제조방법 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

글루타르산 유도체 및 이의 제조방법
본 발명은 글루타르산 유도체 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
보다 특히, 본 발명은 2-아미노메틸-3-(1-카복시 사이클로펜틸)프로파노산 유도체의 2(S)-입체이성체 및 이의 중간체, 및 이들의 제조방법에 관한 것이다.
유럽 특허원 제89308740.3호에는 고혈압과 심장병을 포함하는 각종 심장 혈관 질환의 치료시 유용한 고혈압 치료제인 일련의 사이클로알킬 치환된 글루타르아미드 유도체, 특히 바람직하게는 분자의 글루타르아미드 분획에 있어서 2(S)-입체화학을 지니는 양태에 대해 기술되어 있다. 이러한 화합물은 상응하는 특성 라세미체(즉, 2(R, S)-)중간체를 분별결정화하여 수득할 수 있는 목적하는 2(S)-입체화학을 지니는 순수한 광학적 전구체로부터 제조한다.
본 발명의 하나의 양태에 제공되는 신규한 화합물은 유럽 특허원 제89308740.3호에 기술되어 있는 특성의 바람직한 화합물을 제조하기 위한 중간체로서 유용하게 사용할 수 있다. 이러한 화합물에 대한 신규한 합성경로는 기존의 다른 방법에 비해 조작하기가 쉽고 유용하게 사용할 수 있다. 이러한 화합물에 대한 신규한 합성경로는 기존의 다른 방법에 비해 조작하기가 쉽고 비용이 저렴한 점 등에서 상업적으로 중요한 진보를 나타내는 유용한 결과를 가져왔다.
본 발명의 신규한 화합물은 목적하는 2(S)-글루타르산 분획을 비대칭 합성법을 이용함으로써 전체 공정의 비교적 초기 단계에서 생성할 수 있는 예기치 못한 발견에 의해 제조할 수 있게 되었다. 따라서, 실질적으로 순수한 2(S)-입체이성체 중간체가 상기 공정 단계에서 생성되고, 분별결정화 단계에 대한 기존의 필요성을 제거함으로써 이에 상응하는 목적하지 않는 2(R)-입체이성체를 제거한다.
따라서, 본 발명은 a) 사실상 광학적으로 순수한 2(S)-입체이성체 형태인 일반식(I)의 화합물 및 이의 산 부가염과 염기염, b) 사실상 광학적으로 순수한 2(S)-입체이성체 형태인 일반식(II)의 화합물 및 이의 산 부가염과 염기염, c) i) 일반식(III)의 화합물을 -10℃이하의 온도에서 비양자성 유기용매내에서 일반식(IV)의 염과 반응시키고, ii) 반응혼합물을 -10℃이하의 온도에서 산성화시켜 일반식(I)의 화합물을 수득하고 임의로 일반식(I)의 생성물을 이의 산 부가염 또는 염기염으로 전환시키는 단계를 포함하여, 사실상 광학적으로 순수한 2(S)-입체이성체 형태인 일반식(I)의 화합물 또는 이의 산 부가염 또는 염기염을 제조하는 공정 및 d) 사실상 광학적으로 순수한 2(S)-입체이성체 형태인 일반식(I)의 화합물, 또는 이의 산 부가염 또는 염기염을 촉매적으로 수소화반응시켜 일반식(III)의 화합물을 수득하고 임의로 일반식(II)의 생성물을 이의 산부가염 또는 염기염으로 전환시킴을 포함하며, 사실상 광학적으로 순수한 2(S)-입체이성체 형태인 일반식(II)의 화합물, 또는 이의 산 부가염 또는 염기염을 제조하는 공정을 제공한다 :
상기식에서, R은 C1-C4알킬 또는 -CH2CH2Si(CH3)3이고, *은 (S) -입체화학을 갖는 비대칭 중심이며, M1및 M2는 동일하거나 상이할 수 있으며, Li, Na및 K으로부터 선택된다.
상기한 일반식(I) 및 (II)에서, 치환체 "C6H5"는 페닐이다.
탄소수가 3 또는 4인 알킬 그룹은 직쇄 또는 측쇄일 수 있다.
"사실상 광학적으로 순수한 "이라는 용어는 일반식(I)과 (II)의 화합물, 및 이의 산 부가염 및 염기염이 10%미만, 바람직하게는 5% 미만의 2(R)-입체이성체를 포함함을 뜻한다.
일반식(I) 및 (II)의 화합물의 적절한 산 부가염의 예에는 하이드로클로라이드, 브롬화수소, 요오드화수소, 황산염 또는 중환산염, 인산염 또는 인산수소염, 아세테이트, 말리에이트, 푸마레이트, 락테이트, 타르트레이트, 시트레이트, 글루코네이트, 벤조에이트, 메탄설포네이트, 벤젠설포네이트 및 p-톨루엔설포네이트이다.
일반식(I) 및 (II)의 화합물의 적절한 염기염의 예에는 알칼리금속염, 알칼리토금속염, 트리알킬암모늄염 및 N-알킬모폴리늄염이다.
일반식(I), (II) 및 (III)의 화합물에 대한 상기한 정의에 있어서, R은 C1-C4알킬인 것이 바람직하다.
가장 바람직하게는, R은 메틸, 에틸 또는 t-부틸이다.
일반식(I) 및 (II)의 화합물의 바람직한 염기염은 나트륨염이다.
일반식(IV)의 화합물의 정의에 있어서, M1및 M2는 모두 Li인 것이 바람직하다.
본 발명의 하나의 양태로 제공된 화합물은 다음과 같이 제조할 수 있다 :
1. 사실상 광학적으로 순수한 2(S)-입체이성체 형태인 일반식(I)의 화합물은, 전형적으로, 염(IV)을 적어도 2당량의 적절한 강염기를 사용하여 동일계내에서 사이클로펜탄카복실산을 양성자-제거시키거나, 적어도 1당량의 적절한 강염기를 사용하여 사이클로펜탄카복실산의 적절한 염기염[예 ; 리튬, 나트륨 또는 칼륨 사이클로펜탄카복실레이트]을 양성자-제거반응시킴으로써 생성할 수 있는 비대칭 합성법으로 제조한다.
이러한 목적에 적합한 강염기의 예에는 칼륨 디이소프로필아미드, 리튬 헥사메틸디실라자이드 및 바람직하게는 리튬 디이소프로필아미드이다.
바람직한 방법에 있어서, 염(IV)은 적어도 2당량의 리튬 디이소프로필아미드를 사용하여 동일계 내에서 사이클로펜탄카복실산을 양성자-제거반응시킴으로써 생성한다. 양성자-제거반응은 불활성 대기하에 -70℃ 내지 실온에서 적절한 비양성자 유기 용매[예 : 테트라하이드로푸란]내에서 수행한다. 이후에, 아크릴레이트(III)는 -80℃ 내지 -10℃, 바람직하게는 -70℃ 내지 -15℃의 초기 온도에서 염(IV)과 반응시키고, 약 -15℃에서 잠시 교반한 후에, 반응물을 산성화시킴으로써 급냉시킨다.
산성화 반응은 바람직하게는 반응 혼합물을 약 -15℃의 온도에서 적절한 산의 빙냉 수용액에 쏟아부음으로써 수행한다.
염산, 황산, 시트르산 또는 아세트산 등의 적절한 무기산 또는 유기산은 산성화 단계에서 사용할 수 있다. 가장 바람직하게는 염산을 사용한다.
이후에, 일반식(I)의 생성물은 통상적인 기술[예, 추출 후처리 및/또는 크로마토그래피]을 사용하여 분리시킨 다음 정제할 수 있다.
예기치 못하게도 당해 방법은 당해 방법은 광학적 순도가 높고, 전형적으로 상응하는 2(R)-입체이성체를 5% 이하 함유하는 2(S)-일체이성체 형태인 일반식(I)의 생성물을 제공한다.
일반식(I)의 화합물을 제조하는데 필요한 일반식(III)의 출발물질은 반응도식(1)에 나타낸 바와 같은 통상적인 순서로 제조할 수 있다 :
[반 응 도 식 1]
상기식에서, R은 일반식(I)에 대해 상기에서 정의한 바와 같다.
통상의 방법에 있어서, (S, S)-α,α'-디메틸디벤질아민(VI)을 아세토니트릴내의 2-브로모메틸프로페노에이트(V)와 탄산칼륨의 냉각 혼합물에 가한다. 혼합물을 약 60℃에서 약 18시간 동안 가열한 다음, 아크릴레이트(III)를 통상적인 기술로 분리시킨다.
일반식(V)의 2-브로모메틸프로페노에이트는 시판되는 것을 구입하거나 표준 기술을 사용하여 제조한다.
일반식(VI)의 키랄 보조물은 하기 문헌의 방법으로 제조할 수 있다[참조 : C. G. Overberger, N.P.Marullo 및 R.G.Hiskey, J.A.C.S., 83, 1374(1961)].
2. 사실상 광학적으로 순수한 2(S)-입체이성체 형태인 일반식(II)와 화합물은 상응하는 사실상 광학적으로 순수한 2(S)-입체이성체 형태인 일반식(I)의 화합물 또는 이의 산 부가염 또는 염기염을 촉매적으로 수소화반응시킴으로써 제조할 수 있다. 이것은 키랄 보조물을 경유하여 도입시킨 메틸벤질 그룹을 제거하여 보다 휘발성이 큰 합성 중간체(II)를 생성시킴으로써 아미노 치환체를 탈보호시킨 결과이다.
촉매적 수소화반응은 일반식(I)의 화합물의 적절한 염기염상에서 수행하여 아미노 작용기의 탈보호반응 후에 동반되는 락탐 형성의 가능성을 최소화하거나 방지하는 것이 가장 바람직하다. 이러한 이유 때문에, 화합물(II)를 또한 바람직하게 분리시키고 적절한 염기염의 형태로 저장한다.
통상의 방법에 있어서, 화합물(I)은 먼저 적절한 염기염[예 ; 알칼리금속염, 알칼리토금속염, 트리알킬 암모늄염 또는 N-알킬모르폴리늄염]으로 전환시킨 다음, 적절한 용매[예 : C1-C4알칸올 또는 이의 수용액]내에서 촉매적으로 수소화반응시킴으로써 환원시킨다.
촉매적 수소화반응은 실온하에 에탄올내에서 목탄상의 수산화팔라듐을 이용하여 화합물(I)의 나트륨염에 대하여 수행하는 것이 바람직하다.
이후에, 일반식(II)의 생성물의 염기염은 통상적인 기술을 사용하여 분리하고 정제할 수 있다.
일반식(I) 또는 (II)의 화합물은, 경우에 따라, 동몰량의 적절한 화합물 및 적절한 산 또는 염기를 포함하는 용액을 함께 혼합시킴으로써 이의 산 부가염 또는 염기염으로 전환시킬 수 있다. 염은 용액으로부터 침전시킬 수 있고 여과시킴으로써 회수하거나 용매를 증발시킴으로써 회수할 수 있다.
본 발명의 일반식(I) 및 (II)의 화합물 및 이의 산 부가염 및 염기염은, 예를 들면, (i) 일반식(I)의 화합물 또는 이의 산 부가염 또는 염기염을 적절한 글루타르아미드 유도체로 전환시키고, 촉매적으로 수소화반응시킴으로써 아미노 작용기를 탈보호시킨 다음, 수득한 1급 아미노 그룹을 적절한 라이신 유도체와 반응시키고 (ii) 일반식(II)의 화합물의 염기염의 아미노 작용기를 적절한 라이신 유도체와 반응시킨 다음, 적절한 글루타르아미드 유도체를 형성시킴으로써, 유럽 특허원 제89308740.3호에 기술되어 있는 특정의 바람직한 화합물을 제조하는데 사용할 수 있다.
다음 실시에는 본 발명을 예시하기 위한 것이다 :
[실시예 1]
2(S)-아미노메틸-3-(1-카복시사이클로펜틸)프로파노산 t-부틸 에스테르, 나트륨염, 반수화물
(a) 2-[(S, S)-α,α'-디메틸디벤질]아미노메틸프로페노산 t-부틸 에스테르
아세토니트릴(150ml)중의 2-(브로모메틸)프로페노산 t-부틸 에스테르(29.4g, 0.133mol)의 교반시킨 빙냉 용액에 무수탄산칼륨(22.9g, 0.166mol)을 가한 다음, 아세토니트릴(150ml)중의 (S,S)-α,α'-디메틸디벤질아민(34.3g, 0.152mol)[참조 : C.G.Overberger et al., J.A.C.S., 83, 1374(1961)]용액을 적가한다. 수득한 혼합물을 60℃에서 18시간 동안 교반한 다음, 진공하에서 증발시킨다. 잔사를 디에틸 에테르(200ml)와 물(100ml)에 분배시킨 다음, 에테르 상을 분리하고, 디에틸 에테르(3×200ml)를 사용하여 추가로 추출한다.
합한 에테르 추출물을 물(5×100ml)로 세척하고, 건조(무수 황산마그네슘) 및 여과하고 진공하에서 증발시켜 담황색 오일을 수득한다. 당해 수득물을 헥산 용출 구배하에서 0 내지 2% 에틸 아세테이트를 사용하여 실리카겔상에서 크로마토그래피하여 정제한다. 적절한 분획을 합하고 진공하에서 증발시켜 목적하는 생성물을 수득한다(40.5g, 83%), [α]589-59.3°(C=1, 메탄올).
C24H31NO2에 대한 원소분석
계산치(%) : C ; 78.63, H ; 8.58, N ; 3.59
실측치(%) : C ; 78.86, H ; 8.55, N ; 3.83
(b) 2(S)-[(S, S)-α,α'-디메틸디벤질]아미노메틸-3-(1-카복시사이클로펜틸)프로파노산 t-부틸 에스테르, 일수화물
헥산중의 n-부틸리튬(2.5M, 34.4ml, 0.086mol) 용액을 무수 질소하에 -30℃에서 무수 테트라하이드로푸란(200ml)중의 디이소프로필아민(8.70g, 0.086mol)의 교반액에 적가한다. 수득한 용액을 15분 동안 0℃로 승온시킨 다음, 무수 테트라하이드로푸란(65ml)중의 사이클로펜탄카복실산(4.68g, 0.041mol)의 용액을 적가하기 전에 -40℃로 재냉각시킨다. 반응 혼합물을 실온에서 2시간 동안 교반한 다음, -70℃로 냉각시킨다. 무수 테트라하이드로푸란(35ml)중의 (a)생성물(15.0g, 0.041mol)의 용액을 이음이온을 함유하는 혼합물에 적가하고, 반응 온도를 추가로 30분 동안 -70℃로 유지시킨 다음, -15℃까지 승온시키고, 당해 온도로 2시간 동안 유지시킨다. 수득한 담황색 용액을 1M 염산(200ml)과 디에틸 에테르(200ml)의 교반된 빙냉 혼합물에 쏟아붓는다. 에테르상을 분리하고, 디에틸 에테르(3×200ml)를 사용하여 수성상을 추가로 추출한다. 합한 에테르 추출물을 중탄산나트륨 포화수용액(5×100ml), 물(2×200m1) 및 포화 염수(2×200ml)로 차례로 세척한 다음, 건조(무수 황산마그네슘)시킨다. 유기 추출물을 진공하에서 여과 및 증발시켜, 황색 오일을 수득하고, 헥산 용출 구배하에서 0 내지 25% 에틸 아세테이트를 사용하여 실리카겔상에서 크로마토그래피하여 정제한다. 적절한 분획을 진공하에서 증발시켜 목적하는 생성물을 수득한다(16.3g, 80%), [α]589-19.9°(c=1, 메탄올).
C30H41NO4,·H2O에 대한 원소분석
계산치 (%) : C ; 72.62, H ; 8 48, N ; 2.79
실측치(%) : C ; 72.40, H ; 8.71, N : 2.81
1H-NMR(300MHz) 분광법에 의해, 생성물은 목적하는 2(S)-입체이성체에 대하여 대략 95%가 광학적으로 순수한 것으로 밝혀졌다.
(c) 2(S)-아미노메틸-3-(1-카복시사이클로펜틸)프로파노산 t-부틸 에스테르, 나트륨염, 반수화물
에탄올(100ml)중의 (b)생성물(10.0g, 0.020mol)용액을 수산화나트륨 수용액(1M,19.9ml)을 사용하여 처리한 다음, 수득한 용액을 진공하에 실온에서 증발시킨다. 에탄올(150ml)에 용해시키고, 60p.s.i.(414kPa) 및 실온에서 18시간 동안 목탄상의 20% 수산화팔라듐(1.0g)으로 수소화시켜 고무를 수득한다. 셀룰로오스계 필터 보조장치로 이루어진 패드를 통해 촉매를 여과하여 제거하고, 고진공하에 실온에서 여과물을 증발시킨다. 잔여 용매를 디클로로메탄(3×50ml)을 사용하여 공비제거하여 목적하는 생성물을 왁스상의 백색 고체로서 수득한다(5.79g, 95%), [α]589-3.0(c=1, 메탄올).
C14H24NO4Na·0.5H5O에 대한 원소분석
계산치(%) : C ; 55.81, H ; 8.28, N ; 4.34
실측치(%) : C ; 55.61, H ; 8.33, N ; 4.63
[실시예 2]
2(S)-[(S, S)-α, α'-디메틸디벤질]아미노메틸-3-(1-카복시사이클로펜틸)프로파노산 에틸 에스테르
(a) 2-[(S,S)-α,α'-디메틸디벤질]아미노프로페노산 에틸 에스테르
합성은 아세토니트릴(60ml)중의 2-(브로모메틸)프로페노산 에틸 에스테르(10.0g, 0.052mol)용액, 무수 탄산칼륨(8.9g, 0.065mol) 및 아세토니트릴(40ml)중의 (S, S)-α,α'-디메틸디벤질아민(12.8g, 0.057mol), 용액을 사용하여 실시예 1(a)에서와 같이 수행한다.
수득한 조 오일을 헥산 용출 구배하에서 0 내지 10% 에틸 아세테이트를 사용하여 실리카겔상에서 크로마토그래피하여 정제하고, 적절한 분획을 합한 다음, 증발시켜 목적하는 생성물을 수득한다(16.8g, 96%), [α]589-62.5°(c=1, 메탄올).
C22H27NO2에 대한 원소분석
계산치(%) : C ; 78.25, H ; 8.10, N ; 4.29
실측치(%) : C ; 78.30, H : 8.07, N ; 4.15
(b) 2(S)-[(S,S)-α,α'-디메틸디벤질]아미노메틸-3-(1-카복시사이클로펜틸)프로파노산 에틸 에스테르
합성은 헥산중의 n-부틸리튬(2.5M, 17.4ml, 0.0435mol)용액, 무수 테트라하이드로푸란(100ml)중의 디이소프로필아민(4.4g, 0.0435mol)용액, 무수 테트라하이드로푸란(35ml)중의 사이클로펜탄카복실산(2.41g, 0.021mol)용액 및 무수 테트라하이드로푸란(15ml)중의 (a) 생성물(7.0g, 0.021mol)용액을 사용하여 실시예 1(b)에서와 같이 수행한다.
수득한 조 고무를 헥산 용출 구매하에서 0 내지 10% 에틸 아세테이트를 사용하여 실리카겔상에서 크로마토그래피하여 정제하고, 적절한 분획을 합한 다음, 증발시켜 목적하는 생성물을 수득한다(4.9g, 52%), [α]589-13.2°(c=1, 메탄올).
C28H37NO4에 대한 원소분석
계산치(%) : C ; 74.16, H ; 8.18, N; 3.27
실측치(%) : C ; 74.47, H ; 8.26, N ; 3.10
1H-NMR(300MHz) 분광법에 의해, 생성물은 목적하는 2(S)-입체이성체에 대하여 대략 95%가 광학적으로 순수한 것으로 밝혀졌다.
[실시예 3]
2(S)-[(S,S)-α,α'-디메틸디벤질]아미노메틸-3-(1-카복시사이클로펜틸)프로파노산 메틸 에스테르
(a) 2-[(S, S)-α,α'-디메틸디벤질]아미노메틸프로페노산 메틸 에스테르
합성은 아세토니트릴(40ml)중의 2-(브로모메틸)프로페노산 메틸 에스테르(5.8g, 0.032mol)용액, 무수 탄산칼륨(5.52g, 0.040mol) 및 아세토니트릴(40ml)중의 (S, S)-α,α'-디메틸디벤질아민(8.1g, 0.036mol)용액을 사용하여 실시예 1(a)에서와 같이 수행한다.
수득한 조 오일을 헥산 용출 구배하에서 0 내지 10% 에틸 아세테이트를 사용하여 실리카겔상에서 크로마토그래피하여 정제하고, 적절한 분획을 합한 다음, 증발시켜 목적하는 생성물을 수득한다(9.7g, 94%), [α]589-69.7°(c=1, 메탄올).
C21H25NO2에 대한 원소분석
계산치(%) : C ; 78.19, H ; 8.00, N ; 4.45
실측치(%) : C ; 77.99, H ; 7.91, N ; 4.33
(b) 2(S)-[(S, S)-α,α'-디메틸디벤질]아미노페닐-3-(1-카복시사이클로펜틸)프로파노산 메틸 에스테르
합성은 헥산 중의 n-부틸리튬(2.5M, 17.4ml, 0.0435mol)용액, 무수 테트라하이드로푸란(100ml)중의 디이소프로필아민(4.4g, 0.0435mol)용액, 무수 테트라하이드로푸란(35ml)중의 사이클로펜탄카복실산(2.41g, 0.021mol)용액 및 무수 테트라하이드로푸란(15ml)중의 (a) 생성물(6.79g, 0.021mol)용액을 사용하여 실시예 1(b)에서와 같이 수행한다. 수득한 소오일을 헥산 용출 구배하에서 0 내지 30% 에틸 아세테이트를 사용하여, 실리카겔상에서 크로마토그래피하여 정제하고, 적절한 분획을 합한 다음, 증발시켜 목적하는 생성물을 수득한다(7.77g, 84%), [α]589-10.8°(c=1, 메탄올).
C27H35NO4에 대한 원소분석
계산치(%) : C ; 73.61, H ; 8.01, N ; 3.21
실측치(%) : C ; 74.12, H ; 8.06, N ; 3.20
1H-NMR(300MHz) 분광법에 의해, 생성물은 2(S)-입체이성체에 대하여 대략 95%가 광학적으로 순수한 것으로 밝혀졌다.

Claims (25)

  1. 사실상 광학적으로 순수한 2(S)-입체 이성체 형태인 일반식(I)의 화합물 또는 이의 염.
    상기식에서, R은 C1내지 C4알킬 또는 -CH2CH2Si(CH3)3이고, *은 (S) 입체화학을 갖는 비대칭 중심이다.
  2. 사실상 광학적으로 순수한 2(S)-입체 이성체 형태인 일반식(II)의 화합물 또는 이의 염.
    상기식에서, R은 C1내지 C4알킬 또는 -CH2CH2Si(CH3)3이고, *은 (S) 입체화학을 갖는 비대칭 중심이다.
  3. 일반식(III)의 화합물을 -10℃이하의 온도하에 비양자성 유기용매중에서 일반식(IV)의 화합물의 염과 반응시킨 다음, -10℃이하의 온도에서 반응 혼합물을 산성화시키고, 임의로 생성물을 이의 염으로 전환시킴을 포함함을 특징으로 하여, 사실상 광학적으로 순수한 2(S)-입체이성체 형태인 일반식(I)의 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법.
    상기식에서, R은 C1-C4알킬 또는 -CH2CH2Si(CH3)3이고, *은 (S)-입체화학을 갖는 비대칭 중심이고, M1및 M2은, 동일하거나 상이할 수 있고, Li , Na 및 K 로부터 선택된다.
  4. (a) 일반식(III)의 화합물을 -10℃이하의 온도하에 비양자성 유기용매 중에서 일반식(IV)의 화합물의 염과 반응시키고, 임의로 생성물을 이의 염으로 전환시켜, 사실상 광학적으로 순수한 2(S)-입체이성체 형태인 일반식(I)의 화합물 또는 이의 염을 수득한 다음, (b) (a)의 생성물을 촉매 수소화반응시키고, 임의로 (b)의 생성물을 이의 염으로 전환시켜 사실상 광학적으로 순수한 2(S)-입체이성체 형태인 일반식(II)의 화합물 또는 이의 염을 수득함을 포함함을 특징으로 하여, 일반식(II)의 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법.
    상기식에서, R은 C1-C4알킬 또는 -CH2CH2Si(CH3)3이고, *은 (S)-입체화학을 갖는 비대칭 중심이고, M1및 M2은 동일하거나 상이할 수 있고, Li, Na 및 K로부터 선택된다.
  5. 제4항에서 정의한 바와같은 사실상 광학적으로 순수한 2(S)-입체이성체 형태인 일반식(I)의 화합물 또는 이의 염을 촉매 수소화 반응시키고, 임의로 생성물을 이의 염으로 전환시킴을 특징으로 하여, 제4항에서 정의한 바와 같은 사실상 광학적으로 순수한 2(S)-입체이성체 형태인 일반식(II)의 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법.
  6. 제3항에 있어서, M1및 M2가 모두 Li 인 방법.
  7. 제6항에 있어서, 일반식(IV)의 화합물의 염을 리튬 디이소프로필아미드를 사용하여 사이클로펜탄카복실산을 양성자 제거반응시킴으로써 수득하고, 비양자성 유기용매가 테트라하이드로푸란인 방법.
  8. 제4항에 있어서, 촉매 수소화 반응을 일반식(I)의 화합물의 염기염을 사용하여 수행하는 방법.
  9. 제4항에 있어서, 촉매 수소화 반응을 촉매로서 목탄상의 수산화팔라듐을 사용하여 수행하는 방법.
  10. 제3항 또는 제4항에서 정의한 바와 같은 일반식(III)의 화합물.
  11. 제1항에 있어서, R이 C1내지 C4알킬인 화합물.
  12. 제1항에 있어서, R이 C1내지 C4알킬인 방법.
  13. 제1항에 있어서, 일반식(I)의 화합물의 염이 산 부가염 또는, 바람직하게는, 염기염인 화합물.
  14. 제3항에 있어서, 일반식(I)의 화합물의 염이 산 부가염 또는, 바람직하게는, 염기염인 방법.
  15. 제4항에 있어서, M1및 M2가 모두 Li인 방법.
  16. 제15항에 있어서, 일반식(IV)의 화합물의 염을 리튬 디이소프로필아미드를 사용하여 사이클로펜탄카복실산을 양성자 제거반응시킴으로써 수득하고, 비양자성 유기용매가 테트라하이드로푸란인 방법.
  17. 제5항에 있어서, 촉매 수소화 반응을 일반식(I)의 화합물의 염기염을 사용하여 수행하는 방법.
  18. 제5항에 있어서, 촉매 수소화 반응을 촉매로서 목탄상의 수산화팔라듐을 사용하여 수행하는 방법.
  19. 제2항에 있어서, R이 C1내지 C4알킬인 화합물.
  20. 제10항에 있어서, R이 C1내지 C4알킬인 화합물.
  21. 제4항에 있어서, R이 C1내지 C4알킬인 방법.
  22. 제5항에 있어서, R이 C1내지 C4알킬인 방법.
  23. 제2항에 있어서, 일반식(II)의 화합물의 염이 산 부가염 또는, 바람직하게는, 염기염인 화합물.
  24. 제4항에 있어서, 일반식(II)의 화합물의 염이 산 부가염 또는, 바람직하게는, 염기염인 방법.
  25. 제5항에 있어서, 일반식(II)의 화합물의 염이 산 부가염 또는, 바람직하게는, 염기염인 방법.
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