KR930003275A - 반도체 장치의 제조방법 - Google Patents
반도체 장치의 제조방법 Download PDFInfo
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Abstract
내용 없음.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 반도체기판 표면세정방법을 나타낸 흐름도.
Claims (4)
- 반도체 제조공정중의 습식식각공정에 있어서, 습식식각후에 반도체 기판을 오존이 함유된 순수로 린스처리하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 습식식각공정은 HF 또는 BOE를 사용하여 산화막을 식각하는 공정인 것을 특징으로 하는 반도체장치의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 오존이 함유된 순수는 오존을 순수내로 버블링 주입하여 제조된 것을 특징으로 하는 반도체장치의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 오존이 함유된 순수에 의한 최종린스처리는 상기 오존이 함유된 순수를 가열하여 사용하는 것을 특징으로 하는 반도체장치의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019910011921A KR930003275A (ko) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | 반도체 장치의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019910011921A KR930003275A (ko) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | 반도체 장치의 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR930003275A true KR930003275A (ko) | 1993-02-24 |
Family
ID=67440927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019910011921A KR930003275A (ko) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | 반도체 장치의 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR930003275A (ko) |
-
1991
- 1991-07-12 KR KR1019910011921A patent/KR930003275A/ko not_active Application Discontinuation
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