KR20230154894A - 화합물, 화합물의 제조 방법 및 표면 처리제의 제조 방법 - Google Patents
화합물, 화합물의 제조 방법 및 표면 처리제의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20230154894A KR20230154894A KR1020237033001A KR20237033001A KR20230154894A KR 20230154894 A KR20230154894 A KR 20230154894A KR 1020237033001 A KR1020237033001 A KR 1020237033001A KR 20237033001 A KR20237033001 A KR 20237033001A KR 20230154894 A KR20230154894 A KR 20230154894A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- group
- formula
- compound
- chain
- producing
- Prior art date
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 182
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 57
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 37
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 27
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 25
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 25
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 25
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 23
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 18
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 10
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 10
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 11
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 22
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000002585 base Substances 0.000 description 12
- -1 perfluoroalkyl bromide Chemical compound 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 7
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 6
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 5
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 5
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004043 oxo group Chemical group O=* 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SAHIZENKTPRYSN-UHFFFAOYSA-N [2-[3-(phenoxymethyl)phenoxy]-6-(trifluoromethyl)pyridin-4-yl]methanamine Chemical compound O(C1=CC=CC=C1)CC=1C=C(OC2=NC(=CC(=C2)CN)C(F)(F)F)C=CC=1 SAHIZENKTPRYSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- CYPYTURSJDMMMP-WVCUSYJESA-N (1e,4e)-1,5-diphenylpenta-1,4-dien-3-one;palladium Chemical compound [Pd].[Pd].C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 CYPYTURSJDMMMP-WVCUSYJESA-N 0.000 description 2
- UJIGKESMIPTWJH-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-1,1,2,2,3-pentafluoropropane Chemical compound FC(Cl)C(F)(F)C(F)(F)Cl UJIGKESMIPTWJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RCEJCSULJQNRQQ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)C#N RCEJCSULJQNRQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 2
- ZEEBGORNQSEQBE-UHFFFAOYSA-N [2-(3-phenylphenoxy)-6-(trifluoromethyl)pyridin-4-yl]methanamine Chemical compound C1(=CC(=CC=C1)OC1=NC(=CC(=C1)CN)C(F)(F)F)C1=CC=CC=C1 ZEEBGORNQSEQBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N [C].[C] Chemical group [C].[C] IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 2
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 2
- ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 229910001623 magnesium bromide Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000575 pesticide Substances 0.000 description 2
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 2
- PTZXFWOVYMHBEK-OWOJBTEDSA-N (E)-1-chloro-2,3,3,4,4,5,5-heptafluoropent-1-ene Chemical compound Cl\C=C(/C(C(C(F)F)(F)F)(F)F)\F PTZXFWOVYMHBEK-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- USCSECLOSDIOTA-UPHRSURJSA-N (Z)-1-chloro-2,3,3-trifluoroprop-1-ene Chemical compound Cl\C=C(\C(F)F)/F USCSECLOSDIOTA-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- USCSECLOSDIOTA-OWOJBTEDSA-N (e)-1-chloro-2,3,3-trifluoroprop-1-ene Chemical compound FC(F)C(\F)=C/Cl USCSECLOSDIOTA-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- PTZXFWOVYMHBEK-UPHRSURJSA-N (z)-1-chloro-2,3,3,4,4,5,5-heptafluoropent-1-ene Chemical compound FC(F)C(F)(F)C(F)(F)C(\F)=C\Cl PTZXFWOVYMHBEK-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- XJSRKJAHJGCPGC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-tridecafluorohexane Chemical compound FC(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F XJSRKJAHJGCPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIYQFLILPKULA-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-methoxybutane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F OKIYQFLILPKULA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIQRGMUSBYGDBL-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-decafluoropentane Chemical compound FC(F)(F)C(F)C(F)C(F)(F)C(F)(F)F RIQRGMUSBYGDBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZLFPVPRZGTCKP-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3-pentafluorobutane Chemical compound CC(F)(F)CC(F)(F)F WZLFPVPRZGTCKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKLFXAVIFCLZQS-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutane Chemical compound FC(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)F LKLFXAVIFCLZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDBYQQQHBYGLEQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane Chemical compound FC1CC(F)(F)C(F)(F)C1(F)F IDBYQQQHBYGLEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWIFAKBLLXGZIC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-(2,2,2-trifluoroethoxy)ethane Chemical compound FC(F)C(F)(F)OCC(F)(F)F CWIFAKBLLXGZIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDCBZHHORLHNCZ-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(C(F)(F)F)C=C1 PDCBZHHORLHNCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane Chemical compound CCOC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 3,3-dichloro-1,1,1,2,2-pentafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(Cl)Cl COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZSAMHOCTRNOIZ-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(aminomethyl)-6-(trifluoromethyl)pyridin-2-yl]oxy-N-phenylaniline Chemical compound NCC1=CC(=NC(=C1)C(F)(F)F)OC=1C=C(NC2=CC=CC=C2)C=CC=1 MZSAMHOCTRNOIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 6-[3-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-3-oxopropyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)C(CCC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)=O DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002879 Lewis base Substances 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 1
- OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N Triiodomethane Natural products IC(I)I OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVTLBBWTUPQRAY-BUHFOSPRSA-N V-59 Substances CCC(C)(C#N)\N=N\C(C)(CC)C#N AVTLBBWTUPQRAY-BUHFOSPRSA-N 0.000 description 1
- ABRVLXLNVJHDRQ-UHFFFAOYSA-N [2-pyridin-3-yl-6-(trifluoromethyl)pyridin-4-yl]methanamine Chemical compound FC(C1=CC(=CC(=N1)C=1C=NC=CC=1)CN)(F)F ABRVLXLNVJHDRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007869 azo polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 239000012039 electrophile Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007527 lewis bases Chemical class 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- ANYSGBYRTLOUPO-UHFFFAOYSA-N lithium tetramethylpiperidide Chemical compound [Li]N1C(C)(C)CCCC1(C)C ANYSGBYRTLOUPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N n-[2-(2-hydroxyethylamino)ethyl]-2-[[1-[2-(2-hydroxyethylamino)ethylamino]-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound OCCNCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCNCCO QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- IUBQJLUDMLPAGT-UHFFFAOYSA-N potassium bis(trimethylsilyl)amide Chemical compound C[Si](C)(C)N([K])[Si](C)(C)C IUBQJLUDMLPAGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- XNRNJIIJLOFJEK-UHFFFAOYSA-N sodium;1-oxidopyridine-2-thione Chemical compound [Na+].[O-]N1C=CC=CC1=S XNRNJIIJLOFJEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N tricyclohexylphosphine Chemical compound C1CCCCC1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
- C07F5/02—Boron compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/35—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions not affecting the number of carbon or of halogen atoms in the reaction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C21/00—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms
- C07C21/02—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds
- C07C21/18—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/01—Preparation of ethers
- C07C41/18—Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/02—Ethers
- C07C43/03—Ethers having all ether-oxygen atoms bound to acyclic carbon atoms
- C07C43/14—Unsaturated ethers
- C07C43/17—Unsaturated ethers containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
신규 화합물 및 그 제조 방법, 그리고 당해 신규 화합물을 원료로 하는 표면 처리제의 제조 방법을 제공하는 것. 하기 식 (A1) 또는 식 (A2) 로 나타내는 화합물이다.
G1-(CH2)m1-CHX1-(CH2)n1-M 식 (A1)
M-(CH2)n2-CHX1-(CH2)m2-G2-(CH2)m3-CHX1-(CH2)n3-M 식 (A2)
다만, 식 중의 각 부호는 명세서에 기재된 바와 같다.
G1-(CH2)m1-CHX1-(CH2)n1-M 식 (A1)
M-(CH2)n2-CHX1-(CH2)m2-G2-(CH2)m3-CHX1-(CH2)n3-M 식 (A2)
다만, 식 중의 각 부호는 명세서에 기재된 바와 같다.
Description
본 발명은, 화합물, 화합물의 제조 방법 및 표면 처리제의 제조 방법에 관한 것이다.
함불소 화합물은, 농약, 의약, 기능성 재료 등 다양한 분야에서 사용되고 있다. 다양한 구조를 더 간이한 방법으로 합성하는 것이 요구되고 있다. 예를 들어, 플루오로알킬기나 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 화합물에 각종 기능을 부여하기 위해서, 각종의 치환기를 도입하기 위한 합성 방법이 검토되고 있다.
플루오로알킬기에 알킬기가 결합된 구조를 갖는 화합물의 합성 방법에 관해서, 여러 가지 검토가 이루어지고 있다.
예를 들어 특허문헌 1 에는, 올레핀 화합물에 퍼플루오로알킬브로마이드를 라디칼 반응으로 부가하는, 함불소 화합물의 제조 방법이 개시되어 있다.
상기 특허문헌 1 의 수법은, 올레핀이 반응하기 때문에, 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 화합물의 합성에는 부적합하고, 또한, 친전자체의 종류가 한정된다. 또한 생성물이 추가로 라디칼 반응하여 텔로메리제이션할 수 있기 때문에, 다종의 부생물이 생성된다는 과제가 있었다.
본 발명은, 신규 화합물 및 그 제조 방법, 그리고 당해 신규 화합물을 원료로 하는 다른 화합물의 제조 방법 및 표면 처리제의 제조 방법의 제공을 목적으로 한다.
본 발명은, 하기 [1] ∼ [7] 의 구성을 갖는 화합물 및 그 제조 방법, 그리고 표면 처리제의 제조 방법을 제공한다.
[1] 하기 식 (A1) 또는 식 (A2) 로 나타내는 화합물.
G1-(CH2)m1-CHX1-(CH2)n1-M 식 (A1)
M-(CH2)n2-CHX1-(CH2)m2-G2-(CH2)m3-CHX1-(CH2)n3-M 식 (A2)
다만, 식 중,
G1 은, 플루오로알킬기, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 1 가의 기이고,
G2 는, 플루오로알킬렌기, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 2 가의 기이고,
X1 은, 할로겐 원자로서, X1 이 복수 있는 경우, 당해 X1 은 동일하거나 상이해도 되고,
M 은, BR1R2 로서, R1 및 R2 는 각각 독립적으로 -OH, -R11, -OR11, -O-C(O)-R11, 또는 -NR11R12 로 나타내는 기이고, R11 은, 치환기를 갖고 있어도 되며 탄소 사슬 중에 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기이고, 2 개의 R11 이 연결되어 고리 구조를 형성하고 있어도 되고, R12 는, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기이고, M 이 복수 있는 경우, 당해 M 은 동일하거나 상이해도 되고,
n1, n2 및 n3 은 각각 독립적으로 0 ∼ 20 의 정수이고,
m1, m2 및 m3 은 각각 독립적으로 1 또는 2 이다.
[2] [1] 의 화합물의 M 을 수소 또는 탄화수소기로 변환하는, 하기 식 (B1) 또는 식 (B2) 로 나타내는 화합물의 제조 방법.
G1-(CH2)m1-CHX1-(CH2)n1-R3 식 (B1)
R3-(CH2)n2-CHX1-(CH2)m2-G2-(CH2)m3-CHX1-(CH2)n3-R3 식 (B2)
다만, 식 중,
G1 은, 플루오로알킬기, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 1 가의 기이고,
G2 는, 플루오로알킬렌기, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 2 가의 기이고,
X1 은, 할로겐 원자로서, X1 이 복수 있는 경우, 당해 X1 은 동일하거나 상이해도 되고,
R3 은, 수소 원자, 또는 치환기를 갖고 있어도 되며 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기로서, R3 이 복수 있는 경우, 당해 R3 은 동일하거나 상이해도 되고, n1, n2 및 n3 은 각각 독립적으로 0 ∼ 20 의 정수이고,
m1, m2 및 m3 은 각각 독립적으로 1 또는 2 이다.
[3] [2] 의 제조 방법으로서,
[1] 에 기재된 화합물과, 하기 식 (C1) 로 나타내는 화합물을 반응시키는 것을 포함하는, 상기 식 (B1) 또는 식 (B2) 로 나타내는 화합물의 제조 방법.
R3-X2 식 (C1)
다만, 식 중
R3 은, 치환기를 갖고 있어도 되며 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기이고, X2 는, 할로겐 원자이다.
[4] [1] 에 기재된 화합물의 X1 을 수소 또는 탄화수소기로 변환하는, 하기 식 (B3) 또는 식 (B4) 로 나타내는 화합물의 제조 방법.
G1-(CH2)m1-CHR3-(CH2)n1-M 식 (B3)
M-(CH2)n2-CHR3-(CH2)m2-G2-(CH2)m3-CHR3-(CH2)n3-M 식 (B4)
다만, 식 중,
G1 은, 플루오로알킬기, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 1 가의 기이고,
G2 는, 플루오로알킬렌기, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 2 가의 기이고,
M 은, BR1R2 로서, R1 및 R2 는 각각 독립적으로 -OH, -R11, -OR11, -O-C(O)-R11, 또는 -NR11R12 로 나타내는 기이고, R11 은, 치환기를 갖고 있어도 되며 탄소 사슬 중에 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기이고, 2 개의 R11 이 연결되어 고리 구조를 형성하고 있어도 되고, R12 는, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기이고, M 이 복수 있는 경우, 당해 M 은 동일하거나 상이해도 되고,
R3 은, 수소 원자, 또는 치환기를 갖고 있어도 되며 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기로서, R3 이 복수 있는 경우, 당해 R3 은 동일하거나 상이해도 되고, n1, n2 및 n3 은 각각 독립적으로 0 ∼ 20 의 정수이고,
m1, m2 및 m3 은 각각 독립적으로 1 또는 2 이다.
[5] [4] 의 제조 방법으로서,
[1] 에 기재된 화합물과, 하기 식 (C2) 로 나타내는 화합물을 반응시키는 것을 포함하는, 상기 식 (B3) 또는 식 (B4) 로 나타내는 화합물의 제조 방법.
R3-MgR4 식 (C2)
다만, 식 중,
R3 은, 치환기를 갖고 있어도 되며 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기이고, R4 는, 할로겐 원자, 또는 치환기를 갖고 있어도 되며 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기이다.
[6] 하기 식 (E1) 또는 식 (E2) 로 나타내는 화합물과, 하기 식 (H1) 로 나타내는 화합물을 반응시키는 것을 포함하는, [1] 의 화합물의 제조 방법.
G1-(CH2)m4-X1 식 (E1)
X1-(CH2)m5-G2-(CH2)m6-X1 식 (E2)
CH2＝CH-(CH2)n-M 식 (H1)
다만, 식 중,
G1 은, 플루오로알킬기, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 1 가의 기이고,
G2 는, 플루오로알킬렌기, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 2 가의 기이고,
X1 은, 할로겐 원자로서, X1 이 복수 있는 경우, 당해 X1 은 동일하거나 상이해도 되고,
M 은, BR1R2 로서, R1 및 R2 는 각각 독립적으로 -OH, -R11, -OR11, -O-C(O)-R11, 또는 -NR11R12 로 나타내는 기이고, R11 은, 치환기를 갖고 있어도 되며 탄소 사슬 중에 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기이고, 2 개의 R11 이 연결되어 고리 구조를 형성하고 있어도 되고, R12 는, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기이고, M 이 복수 있는 경우, 당해 M 은 동일하거나 상이해도 되고,
n 은 0 ∼ 20 의 정수이고,
m4, m5 및 m6 은 각각 독립적으로 0 또는 1 이다.
[7] [2] ∼ [5] 중 어느 하나의 제조 방법에 의해, 상기 식 (B1), 식 (B2), 식 (B3) 또는 식 (B4) 로 나타내는 화합물을 얻고, 당해 화합물에 반응성 실릴기를 도입하는, 표면 처리제의 제조 방법.
본 발명에 따라, 신규 화합물 및 그 제조 방법, 그리고 당해 신규 화합물을 원료로 하는 다른 화합물의 제조 방법 및 표면 처리제의 제조 방법이 제공된다.
본 명세서에 있어서, 식 (A1) 로 나타내는 화합물을 화합물 (A1) 로 기재한다. 다른 식으로 나타내는 화합물 등도 이것들에 준한다.
「(폴리)옥시플루오로알킬렌」이란, 옥시플루오로알킬렌과 폴리옥시플루오로알킬렌의 총칭이다.
플루오로알킬기란, 퍼플루오로알킬기와 부분 플루오로알킬기를 합친 총칭이다. 퍼플루오로알킬기란, 알킬기의 수소 원자가 전부 불소 원자로 치환된 기를 의미한다. 또한 부분 플루오로알킬기란, 수소 원자의 1 개 이상이 불소 원자로 치환되고, 또한, 수소 원자를 1 개 이상 갖는 알킬기이다.
즉 플루오로알킬기는 1 개 이상의 불소 원자를 갖는 알킬기이다.
「반응성 실릴기」란, 가수 분해성 실릴기 및 실라놀기 (Si-OH) 의 총칭이며, 「가수 분해성 실릴기」란, 가수 분해 반응하여 실라놀기를 형성할 수 있는 기를 의미한다.
「표면층」이란, 기재의 표면에 형성되는 층을 의미한다.
수치 범위를 나타내는 「∼」는, 그 전후에 기재된 수치를 하한치 및 상한치로서 포함하는 것을 의미한다.
[화합물 (A1), 화합물 (A2)]
본 발명에 관련된 화합물 (이하, 본 화합물이라고도 기재한다) 은, 하기 식 (A1) 또는 식 (A2) 로 나타내는 화합물이다.
G1-(CH2)m1-CHX1-(CH2)n1-M 식 (A1)
M-(CH2)n2-CHX1-(CH2)m2-G2-(CH2)m3-CHX1-(CH2)n3-M 식 (A2)
다만, 식 중,
G1 은, 플루오로알킬기, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 1 가의 기이고,
G2 는, 플루오로알킬렌기, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 2 가의 기이고,
X1 은, 할로겐 원자로서, X1 이 복수 있는 경우, 당해 X1 은 동일하거나 상이해도 되고,
M 은, BR1R2 로서, R1 및 R2 는 각각 독립적으로 -OH, -R11, -OR11, -O-C(O)-R11, -NH-R11 로 나타내는 기이고, 치환기를 갖고 있어도 되며, 탄소 사슬 중에 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기이고, 2 개의 R11 이 연결되어 고리 구조를 형성하고 있어도 되고, M 이 복수 있는 경우, 당해 M 은 동일하거나 상이해도 되고,
n 은 0 ∼ 20 의 정수이고,
m1, m2 및 m3 은 각각 독립적으로 1 또는 2 이다.
본 화합물은, 플루오로알킬 사슬 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬과 알킬 사슬이, 에스테르 결합이나 아미드 결합 등의 각종 결합을 통하지 않고, 탄소-탄소 결합, 또는 산소-탄소 결합에 의해 연결된 구조를 가지며, 상기 알킬 사슬이 치환기로서 할로겐 원자 (X1) 과 붕소계의 치환기 (M) 을 갖는다.
본 화합물은 상기 서술한 바와 같이, 플루오로알킬 사슬 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬과 알킬 사슬이 각종 결합을 통하지 않고 연결되어 있기 때문에, 화학적 안정성이 우수하다. 또한, 본 화합물은 알킬 사슬이 반응성이 다른 2 종의 치환기 (X1 및 M) 을 갖고 있다. 이와 같은 구조를 갖는 본 화합물은, 1 단계, 또는 다단계의 반응에 의해, 당해 X1 또는 M 의 위치에 치환기를 도입하기 쉽고, 다양한 기능성을 부여한 플루오로알킬 사슬 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 얻기 위한 원료로서 바람직한 화합물이다. 본 화합물은, 표면 처리제 외에, 의약품, 농약, 수지, 코팅제 등의 중간체로서 사용할 수 있다.
G1 에 있어서의 플루오로알킬기는, 직사슬 플루오로알킬기이거나, 분기 또는 고리 구조를 갖는 플루오로알킬기여도 된다. 당해 플루오로알킬기의 탄소수는, 본 화합물의 용도에 따라 적절히 조정하면 된다. 본 화합물의 제조 용이성이나, 본 화합물을 원료로 하는 다른 화합물의 제조에 있어서의 고수율화 등의 관점에서, 1 ∼ 30 이 바람직하고, 1 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 1 ∼ 10 이 더욱 바람직하고, 1 ∼ 6 이 특히 바람직하다.
플루오로알킬기의 구체예로서는, CF3-, CHF2-, CF3CF2-, CF3CHF-, CF3CF2CF2-, CF3CHFCF2-, CF3CHFCHF-, CF3CF(CF3)-, CF3CF2CF2CF2-, CF3CHFCF2CF2-, CF3CF(CF3)-CF2-, CF3C(CF3)2-CF2-, CF3CF2CF2CF2CF2-, CF3CF2CF2CF2CF2CF2-, 플루오로시클로부틸기, 플루오로시클로펜틸기, 플루오로시클로헥실기 등을 들 수 있다.
G1 에 있어서의 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 1 가의 기는, 식 (A1) 중의, CH2 에 결합되는 말단에 -O- 를 갖거나, 탄소수 2 이상의 탄소 사슬의 탄소-탄소 원자 사이에 -O- 를 갖거나, 또는 이들 양방을 포함하는 플루오로알킬기이다. 제조 용이성 등의 관점에서, G1 은 하기 식 (G1-1) 로 나타내는 구조가 바람직하다.
Rf0O-[(Rf1O)m11(Rf2O)m12(Rf3O)m13(Rf4O)m14(Rf5O)m15(Rf6O)m16]-(Rf7)m17- 식 (G1-1)
다만,
Rf0 은, 탄소수 1 ∼ 20 의 플루오로알킬기이고,
Rf1 은, 탄소수 1 의 플루오로알킬렌기이고,
Rf2 는, 탄소수 2 의 플루오로알킬렌기이고,
Rf3 은, 탄소수 3 의 플루오로알킬렌기이고,
Rf4 는, 탄소수 4 의 플루오로알킬렌기이고,
Rf5 는, 탄소수 5 의 플루오로알킬렌기이고,
Rf6 은, 탄소수 6 의 플루오로알킬렌기이고,
Rf7 은, 탄소수 1 ∼ 6 의 플루오로알킬렌기이고,
m11, m12, m13, m14, m15, m16 은, 각각 독립적으로 0 또는 1 이상의 정수를 나타내고, m17 은 0 또는 1 의 정수이고, m11＋m12＋m13＋m14＋m15＋m16＋m17 은 0 ∼ 200 의 정수이다.
또, 식 (G1-1) 에 있어서의 (Rf1O) ∼ (Rf6O) 의 결합 순서는 임의적이다.
식 (G1-1) 의 m11 ∼ m16 은, 각각 (Rf1O) ∼ (Rf6O) 의 개수를 나타내는 것이며, 배치를 나타내는 것은 아니다. 예를 들어, (Rf5O)m5 는, (Rf5O) 의 수가 m5 개인 것을 나타내며, (Rf5O)m5 의 블록 배치 구조를 나타내는 것은 아니다. 마찬가지로, (Rf1O) ∼ (Rf6O) 의 기재 순서는, 각각의 단위의 결합 순서를 나타내는 것은 아니다.
m17 이 0 일 때, G1 의 CH2 에 결합되는 말단은 -O- 이다. m17 이 1 일 때, G1 의 CH2 에 결합되는 말단은 탄소 원자 (Rf7 의 말단의 탄소 원자) 이다.
상기 탄소수 3 ∼ 6 의 플루오로알킬렌기는, 직사슬 플루오로알킬렌기여도 되고, 분기 또는 고리 구조를 갖는 플루오로알킬렌기여도 된다.
예를 들어 화합물 (A1) 을 표면 처리제의 원료로서 사용하는 경우에는, 발수 발유성이나 지문 제거성 등의 관점에서, m11＋m12＋m13＋m14＋m15＋m16 이 1 ∼ 200 의 정수, 즉, G1 이, 폴리옥시플루오로알킬렌 사슬인 것이 바람직하다.
또한, 예를 들어 화합물 (A1) 의 화학적 안정성의 관점에서는, m17 은 1 이 바람직하다.
Rf1 의 구체예로서는, -CF2-, -CHF- 를 들 수 있다.
Rf2 의 구체예로서는, -CF2CF2-, -CHFCF2-, -CHFCHF-, -CH2CF2-, -CH2CHF- 등을 들 수 있다.
Rf3 의 구체예로서는, -CF2CF2CF2-, -CF2CHFCF2-, -CF2CH2CF2-, -CHFCF2CF2-, -CHFCHFCF2-, -CHFCHFCHF-, -CHFCH2CF2-, -CHFCH2CF2-, -CH2CF2CF2-, -CH2CHFCF2-, -CH2CH2CF2-, -CH2CF2CHF-, -CH2CHFCHF-, -CH2CH2CHF-, -CF(CF3)-CF2-, -CF(CHF2)-CF2-, -CF(CH2F)-CF2-, -CF(CH3)-CF2-, -CF(CF3)-CHF-, -CF(CHF2)-CHF-, -CF(CH2F)-CHF-, -CF(CH3)-CHF-, -CF(CF3)-CH2-, -CF(CHF2)-CH2-, -CF(CH2F)-CH2-, -CF(CH3)-CH2-, -CH(CF3)-CF2-, -CH(CHF2)-CF2-, -CH(CH2F)-CF2-, -CH(CH3)-CF2-, -CH(CF3)-CHF-, -CH(CHF2)-CHF-, -CH(CH2F)-CHF-, -CH(CH3)-CHF-, -CH(CF3)-CH2-, -CH(CHF2)-CH2-, -CH(CH2F)-CH2- 등을 들 수 있다.
Rf4 의 구체예로서는, -CF2CF2CF2CF2-, -CHFCF2CF2CF2-, -CH2CF2CF2CF2-, -CF2CHFCF2CF2-, -CHFCHFCF2CF2-, -CH2CHFCF2CF2-, -CF2CH2CF2CF2-, -CHFCH2CF2CF2-, -CH2CH2CF2CF2-, -CHFCF2CHFCF2-, -CH2CF2CHFCF2-, -CF2CHFCHFCF2-, -CHFCHFCHFCF2-, -CH2CHFCHFCF2-, -CF2CH2CHFCF2-, -CHFCH2CHFCF2-, -CH2CH2CHFCF2-, -CF2CH2CH2CF2-, -CHFCH2CH2CF2-, -CH2CH2CH2CF2-, -CHFCH2CH2CHF-, -CH2CH2CH2CHF-, -cycloC4F6- 등을 들 수 있다.
Rf5 의 구체예로서는, -CF2CF2CF2CF2CF2-, -CHFCF2CF2CF2CF2-, -CH2CHFCF2CF2CF2-, -CF2CHFCF2CF2CF2-, -CHFCHFCF2CF2CF2-, -CH2CHFCF2CF2CF2-, -CF2CH2CF2CF2CF2-, -CHFCH2CF2CF2CF2-, -CH2CH2CF2CF2CF2-, -CF2CF2CHFCF2CF2-, -CHFCF2CHFCF2CF2-, -CH2CF2CHFCF2CF2-, -CF2CF2CHFCF2CF2-, -CHFCF2CHFCF2CF2-, -CH2CF2CHFCF2CF2-, -CH2CF2CF2CF2CH2-, -cycloC5F8- 등을 들 수 있다.
Rf6 의 구체예로서는, -CF2CF2CF2CF2CF2CF2-, -CF2CF2CHFCHFCF2CF2-, -CHFCF2CF2CF2CF2CF2-, -CHFCHFCHFCHFCHFCHF-, -CHFCF2CF2CF2CF2CH2-, -CH2CF2CF2CF2CF2CH2-, -cycloC6F10- 등을 들 수 있다.
또한, Rf0 및 Rf7 의 구체예로서는, 상기 Rf1 ∼ Rf6 에서 열거된 것과 동일한 것을 들 수 있고, Rf7 은 퍼플루오로알킬기가 바람직하다.
여기서, -cycloC4F6- 은, 퍼플루오로시클로부탄디일기를 의미하며, 그 구체예로서는, 퍼플루오로시클로부탄-1,2-디일기를 들 수 있다. -cycloC5F8- 은, 퍼플루오로시클로펜탄디일기를 의미하며, 그 구체예로서는, 퍼플루오로시클로펜탄-1,3-디일기를 들 수 있다. -cycloC6F10- 은, 퍼플루오로시클로헥산디일기를 의미하며, 그 구체예로서는, 퍼플루오로시클로헥산-1,4-디일기를 들 수 있다.
화합물 (A1) 을 표면 처리제의 원료로서 사용하는 경우에는, 발수 발유성, 내마찰성, 지문 오염 제거성이 더 우수하다는 점에서, G1 은 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 1 가의 기가 바람직하고, 폴리옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 1 가의 기가 보다 바람직하다. 그 중에서도, 하기 식 (F1) ∼ 하기 식 (F3) 으로 나타내는 구조를 갖는 것이 바람직하다.
(Rf1O)m11-(Rf2O)m12-(Rf7)m17 식 (F1)
(Rf2O)m12-(Rf4O)m14-(Rf7)m17 식 (F2)
(Rf3O)m13-(Rf7)m17 식 (F3)
다만, 식 (F1) ∼ 식 (F3) 의 각 부호는, 상기 식 (G1-1) 과 동일하다.
상기 식 (F1) 및 식 (F2) 에 있어서, (Rf1O) 와 (Rf2O), (Rf2O) 와 (Rf4O) 의 결합 순서는 각각 임의적이다. 예를 들어 (Rf1O) 와 (Rf2O) 가 교대로 배치되어도 되고, (Rf1O) 와 (Rf2O) 가 각각 블록으로 배치되어도 되고, 또한 랜덤이어도 된다. 식 (F3) 에 있어서도 마찬가지이다.
식 (F1) 에 있어서, m11 은 1 ∼ 30 이 바람직하고, 1 ∼ 20 이 보다 바람직하다. 또한 m12 는 1 ∼ 30 이 바람직하고, 1 ∼ 20 이 보다 바람직하다.
식 (F2) 에 있어서, m12 는 1 ∼ 30 이 바람직하고, 1 ∼ 20 이 보다 바람직하다. 또한 m14 는 1 ∼ 30 이 바람직하고, 1 ∼ 20 이 보다 바람직하다.
식 (F3) 에 있어서, m13 은 1 ∼ 30 이 바람직하고, 1 ∼ 20 이 보다 바람직하다.
G2 에 있어서의 플루오로알킬렌기는, 직사슬이거나, 분기 또는 고리 구조를 갖고 있어도 된다. 당해 플루오로알킬렌기의 탄소수는, 본 제조 방법의 고수율화 등의 관점에서, 1 ∼ 30 이 바람직하고, 1 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 1 ∼ 10 이 더욱 바람직하고, 1 ∼ 6 이 특히 바람직하다.
플루오로알킬렌기의 구체예로서는, 상기 Rf1 ∼ Rf6 에서 열거된 것과 동일한 것을 들 수 있다.
G2 에 있어서의 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 2 가의 기는, 식 (A2) 에 있어서, CH2 에 결합되는 2 개의 말단이 각각 독립적으로 -O- 를 갖거나, 탄소수 2 이상의 탄소 사슬의 탄소-탄소 원자 사이에 -O- 를 갖거나, 또는 이것들의 조합인 플루오로알킬렌기이다. 제조 용이성 등의 관점에서, G2 는 하기 식 (G2-1) 로 나타내는 구조가 바람직하다.
-(O)m10-[(Rf1O)m11(Rf2O)m12(Rf3O)m13(Rf4O)m14(Rf5O)m15(Rf6O)m16]-(Rf7)m17- 식 (G2-1)
다만, m10 은 0 또는 1 의 정수이고, Rf1, Rf2, Rf3, Rf4, Rf5, Rf6, Rf7, m11, m12, m13, m14, m15, m16, 및 m17 은, 상기 G1 에 있어서의 것과 동일하다. 또, 식 (G2-1) 에 있어서의 (Rf1O) ∼ (Rf6O) 의 결합 순서는 임의적이고, 상기 식 (G1-1) 에서 설명한 바와 같다.
m17 이 0 일 때, G2 의 CH2 에 결합되는 편측 말단은 -O- 이다. m17 이 1 일 때, G2 의 CH2 에 결합되는 편측 말단은 탄소 원자 (Rf7 의 말단의 탄소 원자) 이다. 또한, m10 이 1 일 때, G2 의 CH2 에 결합되는 편측 말단은 -O- 이다. m10 이 0 일 때, G2 의 CH2 에 결합되는 편측 말단은 탄소 원자 (Rf1 ∼ Rf7 중 어느 하나의 말단의 탄소 원자) 이다. 또, m10 과 m17 은 각각 독립적으로 0 또는 1 이다.
예를 들어, 화합물 (A2) 를 표면 처리제의 원료로서 사용하는 경우에는, 발수 발유성이나 지문 제거성 등의 관점에서, m10＋m11＋m12＋m13＋m14＋m15＋m16 이 2 ∼ 200 의 정수, 즉, G2 가, 폴리옥시플루오로알킬렌 사슬인 것이 바람직하다.
또한, 예를 들어 화합물 (A2) 의 화학적 안정성의 관점에서는, m10 이 0 이거나, 또는 m17 이 1 인 것이 바람직하고, m10 이 0 이며, 또한 m17 이 1 인 것이 보다 바람직하다.
얻어지는 화합물 (A2) 를 표면 처리제 또는 그 원료로서 사용하는 경우에는, G2 는, 발수 발유성, 내마찰성, 지문 오염 제거성이 더 우수하다는 점에서, 그 중에서도, 하기 식 (F4) ∼ 하기 식 (F6) 으로 나타내는 구조를 갖는 것이 바람직하다.
-(O)m10-(Rf1O)m11-(Rf2O)m12-(Rf7)m17 식 (F4)
-(O)m10-(Rf2O)m12-(Rf4O)m14-(Rf7)m17 식 (F5)
-(O)m10-(Rf3O)m13-(Rf7)m17 식 (F6)
다만, 식 (F4) ∼ 식 (F6) 의 각 부호는, 상기 식 (G2-1) 과 동일하다.
상기 식 (F4) 및 식 (F5) 에 있어서, (Rf1O) 와 (Rf2O), (Rf2O) 와 (Rf4O) 의 결합 순서는 각각 임의적이다. 예를 들어 (Rf1O) 와 (Rf2O) 가 교대로 배치되어도 되고, (Rf1O) 와 (Rf2O) 가 각각 블록으로 배치되어도 되고, 또한 랜덤이어도 된다.
식 (F4) 에 있어서, m11 은 1 ∼ 30 이 바람직하고, 1 ∼ 20 이 보다 바람직하다. 또한 m12 는 1 ∼ 30 이 바람직하고, 1 ∼ 20 이 보다 바람직하다.
식 (F5) 에 있어서, m12 는 1 ∼ 30 이 바람직하고, 1 ∼ 20 이 보다 바람직하다. 또한 m14 는 1 ∼ 30 이 바람직하고, 1 ∼ 20 이 보다 바람직하다.
식 (F6) 에 있어서, m13 은 1 ∼ 30 이 바람직하고, 1 ∼ 20 이 보다 바람직하다.
G1 및 G2 에 있어서의 플루오로알킬 사슬, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬 중의 불소 원자의 비율 [{불소 원자 수/(불소 원자 수＋수소 원자 수)}×100(％)] 은, 발수 발유성 및 지문 제거성이 우수하다는 점에서, 40 ％ 이상이 바람직하고, 50 ％ 이상이 보다 바람직하고, 60 ％ 이상이 더욱 바람직하다.
또한, (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬 부분의 분자량은, 내마모성의 관점에서, 200 ∼ 30,000 이 바람직하고, 600 ∼ 25,000 이 보다 바람직하고, 800 ∼ 20,000 이 더욱 바람직하고, 1,000 ∼ 8,000 이 특히 바람직하다.
X1 은 할로겐 원자이다. 할로겐 원자로서는, F, Cl, Br, I 등을 들 수 있다. 후술하는 제조 방법에 있어서, X1 에 치환기를 도입하는 경우에는, X1 은 Cl, Br 또는 I 가 바람직하고, Br 또는 I 가 보다 바람직하고, I 가 더욱 바람직하다.
M 은 붕소계의 치환기 BR1R2 를 나타내고, R1 및 R2 는 각각 독립적으로 -OH, -R11, -OR11, -O-C(O)-R11, 또는 -NR11R12 로 나타내는 기이고, R11 은, 치환기를 갖고 있어도 되며 탄소 사슬 중에 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기이고, 2 개의 R11 이 연결되어 고리 구조를 형성하고 있어도 되고, R12 는, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기이다.
R11 에 있어서의 탄화수소기로서는, 지방족 탄화수소기 (직사슬 알킬기, 분기를 갖는 알킬기, 시클로알킬기 등등을 들 수 있다. 상기 지방족 탄화수소기는 탄소 사슬 중에 이중 결합 또는 삼중 결합을 갖고 있어도 된다. 탄화수소기가 갖고 있어도 되는 치환기로서는, 할로겐 원자, 하이드록시기, 아미노기, 니트로기, 술포기, 옥소기 등을 들 수 있고, 본 제조 방법에 있어서의 화합물의 안정성의 관점에서, 할로겐 원자가 바람직하다. 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등을 들 수 있다.
헤테로 원자는, 단독으로, 또는 옥소기 등의 다른 치환기와의 조합으로 탄소 사슬 중에 포함되어 있어도 된다. 헤테로 원자를 포함하는 부분 구조의 구체예로서는, -C(O)NR25-, -C(O)O-, -C(O)-, -O-, -NR25-, -S-, -OC(O)O-, -NHC(O)O-, -NHC(O)NR25-, -SO2NR25-, -Si(R25)2-, -OSi(R25)2- 등을 들 수 있다. 다만, R25 는, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기 또는 페닐기이다.
2 개의 R11 이 연결되어 고리 구조를 형성한 구조로서는, 예를 들어, *-R11-*, *-O-R11-*, *-O-R11-O-*, *-O-C(O)-R11-C(O)-O-*, *-NR12-R11-NR12-* 등을 들 수 있다. 여기서 * 는 B 와 결합되는 연결기이고, B 를 포함하는 고리 구조가 형성되어 있다.
BR1R2 의 구체예로서는, 이하의 것 등을 들 수 있다.
[화학식 1]
화합물 (A1) 및 화합물 (A2) 의 구체예로서는, 이하의 것 등을 들 수 있다.
[화학식 2]
[화학식 3]
다만, X1 및 M 은 전술한 바와 같고, n11 ∼ n34 는 반복 단위 수를 나타내며, 각각 독립적으로 1 ∼ 200 의 정수이고, n41 및 n42 는 각각 독립적으로 1 ∼ 20 의 정수이고, n43 ∼ n54 는 각각 독립적으로 0 ∼ 20 의 정수이다.
[화합물 (A1) 또는 화합물 (A2) 의 제조 방법]
상기 본 화합물의 제조 방법은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 원료의 입수가 비교적 용이하며, 수율이 우수하다는 점에서, 하기의 제조 방법이 바람직하다.
즉, 본 발명에 관련된 화합물 (A1) 또는 화합물 (A2) 의 제조 방법은, 하기 식 (E1) 또는 식 (E2) 로 나타내는 화합물과, 하기 식 (H1) 로 나타내는 화합물을 반응시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 한다.
G1-(CH2)m4-X1 식 (E1)
X1-(CH2)m5-G2-(CH2)m6-X1 식 (E2)
CH2＝CH-(CH2)n-M 식 (H1)
다만, 식 중,
G1, G2, X1 및 M 은, 상기 식 (A1) 또는 식 (A2) 에 있어서의 것과 동일하며 바람직한 양태도 동일하다.
n 은 0 ∼ 20 의 정수이고, 상기 식 (A1) 또는 화합물 (A2) 에 있어서의 n1, n2, 또는 n3 에 대응된다.
또한, m4, m5 및 m6 은 각각 독립적으로 0 또는 1 이고, m4＋1, m5＋1, m6＋1 이, 상기 식 (A1) 또는 화합물 (A2) 에 있어서의 m1, m2, 또는 m3 에 대응된다.
예를 들어, 용매 중에 상기 화합물 (E1) 또는 화합물 (E2) 와, 화합물 (H1) 과, 필요에 따라 아조계 중합 개시제 등의 라디칼 중합 개시제를 첨가하고, 가열함으로써, 화합물 (H1) 이 갖는 올레핀에 화합물 (E1) 또는 화합물 (E2) 를 부가하고, 상기 화합물 (A1) 또는 화합물 (A2) 를 얻을 수 있다. 반응 온도는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 40 ∼ 120 ℃ 등으로 할 수 있다. 또한, 반응 시간은, 화합물의 양 등에 따라 적절히 조정하는 것이지만, 일례로서 1 ∼ 40 시간 등으로 할 수 있다.
화합물 (E1) 및 화합물 (E2) 의 구체예로서는, 이하의 것 등을 들 수 있다.
[화학식 4]
다만, X1 은 전술한 바와 같고, n11 ∼ n30 은 반복 단위 수를 나타내며, 각각 독립적으로 1 ∼ 200 의 정수이다.
화합물 (H1) 의 구체예로서는, 이하의 것 등을 들 수 있다.
CH2＝CH-BR1R2, CH2＝CH-CH2-BR1R2, CH2＝CH-CH2CH2-BR1R2, CH2＝CH-CH2CH2CH2-BR1R2, CH2＝CH-CH2CH2CH2CH2-BR1R2, CH2＝CH-CH2CH2CH2CH2CH2-BR1R2. 다만, BR1R2 는 전술한 바와 같다.
화합물 (E1) 및 화합물 (E2) 는, 예를 들어, 하기 식 (E1-2) 및 식 (E2-2) 로 나타내는 화합물을 트리페닐포스핀의 존재 하, 요오드메탄 등의 할로메탄과 반응시켜 할로겐화하는 방법이나, 트리페닐포스핀의 존재 하, 할로겐 분자와 반응시켜 할로겐화하는 방법 등에 의해 제조할 수 있다. 또한, 원하는 구조를 갖는 시판품을 사용해도 된다.
G1-OH 식 (E1-2)
HO-G2-OH 식 (E2-2)
다만, 식 중의 각 부호는 전술한 바와 같다.
또한, 화합물 (H1) 은 합성해도 되고, 시판품 등을 사용해도 된다.
[화합물 (B1) 또는 화합물 (B2) 의 제조 방법]
본 발명에 관련된 하기 식 (B1) 또는 식 (B2) 로 나타내는 화합물의 제조 방법은, 상기 화합물 (A1) 또는 화합물 (A2) 의 M 을 수소 또는 탄화수소기로 변환하는 것을 특징으로 한다.
G1-(CH2)m1-CHX1-(CH2)n1-R3 식 (B1)
R3-(CH2)n2-CHX1-(CH2)m2-G2-(CH2)m3-CHX1-(CH2)n3-R3 식 (B2)
다만, 식 중, G1, G2, X1, n1, n2, n3, m1, m2 및 m3 은 상기 화합물 (A1) 또는 화합물 (A2) 에 있어서의 것과 동일하며, 바람직한 양태도 동일하다.
R3 은, 수소 원자, 또는 치환기를 갖고 있어도 되며 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기이다.
R3 에 있어서의 탄화수소기로서는, 지방족 탄화수소기 (직사슬 알킬기, 분기를 갖는 알킬기, 시클로알킬기 등), 방향족 탄화수소기 (페닐기 등) 및 이것들의 조합으로 이루어지는 기 등을 들 수 있다. 상기 지방족 탄화수소기는 탄소 사슬 중에 이중 결합 또는 삼중 결합을 갖고 있어도 된다. 조합으로는, 예를 들어 알킬렌기와 아릴기가 직접, 또는 헤테로 원자를 개재하여 연결된 기 등을 들 수 있다.
탄화수소기가 갖고 있어도 되는 치환기로서는, 할로겐 원자, 하이드록시기, 아미노기, 니트로기, 술포기, 옥소기 등을 들 수 있고, 본 제조 방법에 있어서의 화합물의 안정성의 관점에서, 할로겐 원자가 바람직하다. 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등을 들 수 있다.
헤테로 원자는, 단독으로, 또는 옥소기 등의 다른 치환기와의 조합으로 탄소 사슬 중에 포함되어 있어도 된다. 헤테로 원자를 포함하는 부분 구조의 구체예로서는, -C(O)NR26-, -C(O)O-, -C(O)-, -O-, -NR26-, -S-, -OC(O)O-, -NHC(O)O-, -NHC(O)NR26-, -SO2NR26-, -Si(R26)2-, -OSi(R26)2-, -Si(CH3)2-Ph-Si(CH3)2-, 2 가의 오르가노폴리실록산 잔기 등을 들 수 있다. 다만, R26 은, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기 또는 페닐기이고, Ph 는, 페닐렌기이다. 본 화합물의 제조 용이성의 관점에서, R26 의 알킬기의 탄소수는, 1 ∼ 3 이 바람직하고, 1 ∼ 2 가 특히 바람직하다.
화합물 (B1) 또는 화합물 (B2) 에 추가로 다른 치환기를 도입하는 경우에는, R3 에 있어서의 탄화수소기는 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 것이 바람직하다. 화합물 (B1) 또는 화합물 (B2) 가 이중 결합을 가짐으로써, 부가 반응에 의해 다른 치환기를 용이하게 도입할 수 있다.
화합물 (B1) 또는 화합물 (B2) 의 제조 방법의 일례로서는, 상기 화합물 (A1) 또는 화합물 (A2) 와, 하기 식 (C1) 로 나타내는 화합물을 반응시키는 방법을 들 수 있다.
R3-X2 식 (C1)
다만, 식 중
R3 은, 전술한 바와 같고,
X2 는, 할로겐 원자이다.
X2 에 있어서의 할로겐 원자로서는, 반응성의 관점에서, 염소 원자, 브롬 원자 또는 요오드 원자가 바람직하고, 염소 원자 또는 브롬 원자가 보다 바람직하고, 브롬 원자가 더욱 바람직하다.
화합물 (C1) 의 바람직한 구체예로서는, 이하의 것 등을 들 수 있다. 또 X2 는 상기 서술한 바와 같다.
[화학식 5]
상기 화합물 (A1) 또는 화합물 (A2) 와, 하기 식 (C1) 로 나타내는 화합물은, 예를 들어, 용매 중, 촉매 및 염기 존재 하에서 가열함으로써 반응시킬 수 있다.
촉매로서는, 공지된 금속 촉매를 들 수 있고, 그 중에서도 천이 금속 화합물이 바람직하고, 그 중에서도, 8 족 ∼ 11 족 원소를 포함하는 화합물이 보다 바람직하고, 구리, 니켈, 팔라듐 및 코발트에서 선택되는 1 종 이상의 원소를 포함하는 화합물이 바람직하다.
구리를 포함하는 금속 촉매에 있어서, 당해 구리는 0 가, 1 가, 2 가, 3 가 중 어느 것이어도 되지만, 촉매능의 관점에서 그 중에서도 1 가 또는 2 가의 구리의 염 또는 착염 (錯鹽) 이 바람직하다. 또한 입수 용이성 등의 관점에서, 염화구리가 보다 바람직하다. 염화구리는, CuCl, CuCl2 모두 바람직하게 사용할 수 있다. 또, 염화구리는 무수물이거나 수화물이어도 되지만, 촉매능의 관점에서, 염화구리 무수물이 보다 바람직하다.
니켈을 포함하는 금속 촉매에 있어서, 당해 니켈은 0 가, 1 가, 2 가, 3 가 중 어느 것이어도 되지만, 촉매능의 관점에서 그 중에서도 0 가 또는 2 가의 니켈의 염 또는 착염이 바람직하다. 또한 입수 용이성 등의 관점에서, 염화니켈 (NiCl2) 이 보다 바람직하다. 또, 염화니켈은 무수물이거나 수화물이어도 되지만, 촉매능의 관점에서, 염화니켈 무수물이 보다 바람직하다.
팔라듐을 포함하는 금속 촉매에 있어서, 당해 팔라듐은 0 가, 1 가, 2 가, 3 가 중 어느 화합물이어도 되지만, 촉매능의 관점에서 그 중에서도 0 가 또는 2 가의 팔라듐의 염 또는 착염이 바람직하다. 또한 입수 용이성 등의 관점에서, 트리스(디벤질리덴아세톤)디팔라듐 (Pd2(dba)3) 및 아세트산팔라듐 (Pd(OAc)2) 이 보다 바람직하다. 또, 트리스(디벤질리덴아세톤)디팔라듐 및 아세트산팔라듐은 무수물이거나 수화물이어도 되지만, 촉매능의 관점에서, 트리스(디벤질리덴아세톤)디팔라듐 무수물 및 아세트산팔라듐 무수물이 보다 바람직하다.
본 제조 방법의 반응에 있어서는, 필요에 따라 금속 촉매에 배위자 (리간드) 를 조합하여 사용해도 되는 상기 배위자로서는, 예를 들어, 1,3-부타디엔, 트리시클로헥실포스핀, 1,1-비스(디페닐포스피노)페로센페닐프로핀, 테트라메틸에틸렌디아민 (TMEDA) 등을 들 수 있다.
염기로서는, 친핵성이 낮은 강염기가 바람직하고, 예를 들어, 칼륨 tert-부톡사이드, 리튬디이소프로필아미드, 칼륨헥사메틸디실라지드, 리튬-2,2,6,6-테트라메틸피페리다이드 등을 들 수 있다.
또한, 용매는, 본 반응에 불활성인 용매 중에서 적절히 선택하면 된다. 예를 들어, 디에틸에테르, 테트라하이드로푸란 (THF), 디옥산 등의 에테르계 용매 등을 들 수 있다. 또한, 화합물 (A1) 및 화합물 (A2) 가 비교적 불소 원자 함유량이 높은 화합물의 경우에는, 불소계 용매를 단독으로 또는 상기 용매와 조합하는 것이 바람직하다.
불소계 용매로서는, 예를 들어, 하이드로플루오로카본류 (1H,4H-퍼플루오로부탄, 1H-퍼플루오로헥산, 1,1,1,3,3-펜타플루오로부탄, 1,1,2,2,3,3,4-헵타플루오로시클로펜탄, 2H,3H-퍼플루오로펜탄 등), 하이드로클로로플루오로카본류 (3,3-디클로로-1,1,1,2,2-펜타플루오로프로판, 1,3-디클로로-1,1,2,2,3-펜타플루오로프로판 (HCFC-225cb) 등), 하이드로플루오로에테르류 (CF3CH2OCF2CF2H(AE-3000), (퍼플루오로부톡시)메탄, (퍼플루오로부톡시)에탄 등), 하이드로클로로플루오로올레핀류 ((Z)-1-클로로-2,3,3,4,4,5,5-헵타플루오로-1-펜텐 (HCFO-1437dycc (Z) 체), (E)-1-클로로-2,3,3,4,4,5,5-헵타플루오로-1-펜텐 (HCFO-1437dycc (E) 체), (Z)-1-클로로-2,3,3-트리플루오로-1-프로펜 (HCFO-1233yd (Z) 체), (E)-1-클로로-2,3,3-트리플루오로-1-프로펜 (HCFO-1233yd (E) 체) 등), 함불소 방향족 화합물류 (퍼플루오로벤젠, m-비스(트리플루오로메틸)벤젠 (SR-솔벤트), p-비스(트리플루오로메틸)벤젠 등) 등을 들 수 있다.
[화합물 (B3) 또는 화합물 (B4) 의 제조 방법]
본 발명에 관련된 하기 식 (B3) 또는 식 (B4) 로 나타내는 화합물의 제조 방법은, 상기 화합물 (A1) 또는 화합물 (A2) 의 X1 을 수소 또는 탄화수소기로 변환하는 것을 특징으로 한다.
G1-(CH2)m1-CHR3-(CH2)n1-M 식 (B3)
M-(CH2)n2-CHR3-CH2-G2-CH2-CHR3-(CH2)n3-M 식 (B4)
다만, 식 중, G1, G2, M, R3, n1, n2 및 n3 은, 전술한 바와 같으며, 바람직한 양태도 동일하다.
화합물 (B3) 또는 화합물 (B4) 의 제조 방법의 일례로서는, 상기 화합물 (A1) 또는 화합물 (A2) 와, 하기 식 (C2) 로 나타내는 화합물을 반응시키는 방법을 들 수 있다.
R3-MgR4 식 (C2)
다만, 식 중, R3 은, 전술한 바와 같고,
R4 는, 할로겐 원자, 또는 치환기를 갖고 있어도 되며 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기이다.
R4 에 있어서의 할로겐 원자로서는, 반응성의 관점에서, 염소 원자, 브롬 원자 또는 요오드 원자가 바람직하고, 염소 원자 또는 브롬 원자가 보다 바람직하고, 브롬 원자가 더욱 바람직하다.
R4 에 있어서의 탄화수소기는, 상기 R3 과 동일한 것을 들 수 있다. 또 R4 가 탄화수소기인 경우, 본 제조 방법에 있어서의 반응에 있어서, R3 대신에 R4 가 도입되는 경우가 있으며, 예를 들어, 하기 화합물 (B5) ∼ (B7) 등이 생성될 수 있다.
G1-(CH2)m1-CHR4-(CH2)n1-M 식 (B5)
M-(CH2)n2-CHR3-(CH2)m2-G2-(CH2)m3-CHR4-(CH2)n3-M 식 (B6)
M-(CH2)n2-CHR4-(CH2)m2-G2-(CH2)m3-CHR4-(CH2)n3-M 식 (B7)
다만, 식 중의 각 부호는, 전술한 바와 같다.
R3 과 R4 를 동일 구조의 치환기로 함으로써, 상기 부생물인 화합물 (B5) ∼ (B7) 은, 화합물 (B1) 또는 (B2) 와 동일 화합물이 된다.
R4 를 R3 보다 반응성이 낮은 치환기로 함으로써, 상기 부생물인 화합물 (B5) ∼ (B7) 의 생성을 억제할 수 있다.
또한, 화합물 (B5) ∼ (B7) 이 생성되는 경우에, 필요에 따라 컬럼 크로마토그래피 등에 의한 분리를 실시해도 되고, 또한 화합물 (B5) ∼ (B7) 의 용도에 따라 화합물 (B5) ∼ (B7) 을 포함하는 혼합물인 채로 사용해도 된다.
화합물 (C2) 의 바람직한 구체예로서는, 이하의 것 등을 들 수 있다. 또 R4 는 상기 서술한 바와 같다.
[화학식 6]
상기 상기 화합물 (A1) 또는 화합물 (A2) 와, 상기 식 (C2) 로 나타내는 화합물은, 예를 들어, 용매 중, 가열함으로써 반응시킬 수 있고, 필요에 따라 촉매나 염기를 첨가해도 된다. 용매, 촉매 및 염기는 전술한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
[표면 처리제의 제조 방법]
본 발명에 관련된 표면 처리제의 제조 방법은, 전술한 제조 방법에 의해 얻어진 화합물 (B1), 화합물 (B2), 화합물 (B3) 또는 화합물 (B4) 에 반응성 실릴기를 도입하는 것을 특징으로 한다. (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬과 가수 분해성 실릴기를 갖는 화합물은, 높은 윤활성, 발수 발유성 등을 나타내는 표면층을 기재의 표면에 형성할 수 있기 때문에, 표면 처리제에 바람직하게 사용된다.
화합물 (B1) ∼ 화합물 (B4) 에 반응성 실릴기를 도입하는 방법은, 화합물 (B1) ∼ 화합물 (B4) 가 갖는 치환기에 따라 적절히 선택하면 된다. 일례로서 화합물 (B1) ∼ 화합물 (B4) 가 이중 결합을 갖는 경우에는, 당해 이중 결합과, 하기 화합물 (J1) 또는 (J2) 와 하이드로실릴화 반응함으로써 도입할 수 있다.
HSi(R40)3-c(L)c 식 (J1)
HSi(R41)3-k[-(OSi(R42)2)p-O-Si(R40)3-c(L)c]k 식 (J2)
다만, 식 중,
R40 은 알킬기이고, R40 이 복수 있는 경우, 당해 R40 은 동일하거나 상이해도 되고,
L 은, 가수 분해성기 또는 수산기이고, 복수 있는 L 은 동일하거나 상이해도 되고,
R41 은, 알킬기이고, R41 이 복수 있는 경우, 당해 R41 은 동일하거나 상이해도 되고,
R42 는, 알킬기, 페닐기 또는 알콕시기이고, 2 개의 R42 는 동일하거나 상이해도 되고,
c 는, 2 또는 3 이고,
k 는, 2 또는 3 이고,
p 는, 0 ∼ 5 의 정수이고, p 가 2 이상인 경우, 2 이상의 (OSi(R42)2) 는 동일하거나 상이해도 된다.
또, 화합물 (J1) 은 합성해도 되고, 시판품을 사용해도 된다. 또한, 화합물 (J2) 는, 예를 들어, 일본 특허출원 제2018-085493호의 명세서에 기재된 방법에 의해 제조할 수 있다.
반응성 실릴기는, 가수 분해성기 및 수산기의 어느 일방 또는 양방이 규소 원자에 결합된 기이다. 가수 분해성기는, 가수 분해 반응에 의해 수산기가 되는 기이다. 즉, 가수 분해성 실릴기는, 가수 분해 반응에 의해 실라놀기 (Si-OH) 가 된다.
실라놀기는, 추가로 분자 사이에서 탈수 축합 반응하여 Si-O-Si 결합을 형성한다. 또한, 실라놀기는, 기재 표면의 수산기 (기재-OH) 와 탈수 축합 반응하여, 화학 결합 (기재-O-Si) 을 형성한다.
가수 분해성기로서는, 예를 들어, 알콕시기, 할로겐 원자, 아실기, 이소시아네이트기를 들 수 있다. 알콕시기로서는, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기가 바람직하다.
할로겐 원자로서는, 염소 원자가 바람직하다.
가수 분해성기로서는, 제조 용이성의 관점에서, 알콕시기 또는 할로겐 원자가 바람직하다. 가수 분해성기로서는, 도포 시의 아웃 가스가 적고, 본 화합물의 보존 안정성이 우수하다는 점에서, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기가 바람직하고, 본 화합물의 장기 보존 안정성이 필요한 경우에는 에톡시기가 특히 바람직하고, 기재에 대한 표면 처리제의 코팅 후의 반응 시간을 단시간으로 하는 경우에는 메톡시기가 특히 바람직하다.
상기 제조 방법에 따르면, 예를 들어, 하기 식으로 나타내는 표면 처리제 등이 얻어진다.
[화학식 7]
[화학식 8]
다만, X1 및 M 은 전술한 바와 같고, n11 ∼ n28 은 각각 독립적으로 1 ∼ 200 의 정수이고, n41 ∼ n46 은 각각 독립적으로 1 ∼ 20 의 정수이고, n61 ∼ n73 은 각각 독립적으로 1 또는 2 이다.
또, 상기 식 중의 M 은 표면 처리제의 용도 등에 따라 제거해도 된다. M 은 예를 들어 루이스 염기 존재 하에서 산을 작용시킴으로써 제거할 수 있다.
상기 표면 처리제를 적용하는 기재로서는, 발수 발유성의 부여가 요구되고 있는 기재를 들 수 있다. 예를 들어, 다른 물품 (예를 들어 스타일러스) 이나 사람의 손가락을 접촉시켜 사용하는 경우가 있는 기재, 조작 시에 사람의 손가락으로 잡는 경우가 있는 기재, 다른 물품 (예를 들어 재치대 (載置臺)) 위에 놓는 경우가 있는 기재를 들 수 있다.
기재의 재료로서는, 금속, 수지, 유리, 사파이어, 세라믹, 돌, 이것들의 복합 재료를 들 수 있다. 유리는 화학 강화되어 있어도 된다. 기재의 표면에는 SiO2 막 등의 하지막이 형성되어 있어도 된다.
기재로서는, 터치 패널용 기재, 디스플레이용 기재, 안경 렌즈가 바람직하고, 터치 패널용 기재가 특히 바람직하다. 터치 패널용 기재의 재료로서는, 유리 또는 투명 수지가 바람직하다.
또한, 기재로서는, 휴대 전화 (예를 들어 스마트 폰), 휴대 정보 단말 (예를 들어 태블릿 단말), 게임기, 리모콘 등의 기기에 있어서의 외장 부분 (표시부를 제외한다) 에 사용하는, 유리 또는 수지 필름도 바람직하다.
이와 같은 함불소 화합물을 포함하는 표면 처리제는, 표면층이 손가락으로 반복적으로 마찰되어도 발수 발유성이 저하되기 어려운 성능 (내마찰성) 및 닦아내기에 의해 표면층에 부착된 지문을 용이하게 제거할 수 있는 성능 (지문 오염 제거성) 이 장기간 유지되는 것이 요구되는 용도, 예를 들어, 터치 패널의 손가락이 닿는 면을 구성하는 부재, 안경 렌즈, 웨어러블 단말의 디스플레이의 표면 처리제로서 바람직하게 사용된다.
실시예
이하에 실시예를 사용하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또, 예 1-1, 예 1-2, 예 2-3 및 예 2-4 가 제조 방법의 실시예이다.
[예 1]
＜예 1-1＞
250 mL 의 가지형 플라스크에 도쿄 화성 (TCI) 사 제조의 화합물 1-1 의 50 g, 화합물 1-2 의 17 g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠의 150 g, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴) 의 2 g 을 첨가하고, 80 ℃ 에서 16 시간 교반하였다. 얻어진 미정제액을 농축한 후, 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여, 화합물 1-3 의 50 g 을 얻었다.
[화학식 9]
[화학식 10]
[화학식 11]
＜예 1-2＞
50 mL 의 가지형 플라스크에 화합물 1-3 의 4 g, 테트라하이드로푸란의 18 g 을 첨가하고, －78 ℃ 에서 교반하고 용해시킨 후, 부테닐-마그네슘브로마이드 (1.0 mol/L 테트라하이드로푸란 용액) 9 g 을 첨가하고, 완만하게 실온까지 승온 시키면서 18 시간 교반하였다. 그 후, 염산을 첨가하고, 염화메틸렌으로 추출, 유기층을 농축하고, 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피로 정제함으로써 화합물 1-4 의 2 g 을 얻었다.
[화학식 12]
＜예 1-3＞
50 mL 의 가지형 플라스크에 화합물 1-4 의 2 g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠의 10 g, 테트라하이드로푸란 6 g, 아세트산 0.5 g, 트리에틸아민 0.5 g 을 첨가하고, 30 ℃ 에서 16 시간 교반하였다. 얻어진 미정제액을 농축한 후, 컬럼 크로마토그래피로 정제함으로써 화합물 1-5 의 1.1 g 을 얻었다.
[화학식 13]
[예 2]
＜예 2-1＞
국제 공개 제2013/121984호의 실시예의 예 11-1 ∼ 11-3 에 기재된 방법에 따라서 하기 화합물 2-1 을 얻었다.
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)nCF2CF2O-CF2CF2CF2-CF2OC(O)CF(CF3)OCF2CF2CF3 식 2-1
단위 수 n 의 평균치 : 13
＜예 2-2＞
알루미늄 호일로 차광한 500 mL 의 가지형 플라스크에, 피리티온나트륨의 5.8 g, 1,3-비스트리플루오로메틸벤젠 (상품명 SR-솔벤트) 의 100 mL 를 넣고, 빙랭 하에서 교반하였다. 이어서, 화합물 2-1 의 50.0 g 을 천천히 넣고, 빙랭인 채로 2 시간 교반하였다. 이어서, 요오드의 12.0 g, 2,2-아조비스(2-메틸부티로니트릴) (상품명 V-59) 의 1.8 g 을 넣고, 차광하고 있던 알루미늄 호일을 제거하고, 85 ℃ 에서 하룻밤 교반하였다. 온도를 25 ℃ 로 되돌리고, 메탄올을 넣고 충분히 교반한 후, AC-6000 을 넣고 2 층 분리하고, 하층을 회수하여 농축하였다. 얻어진 미정제체를 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피로 정제하여, 하기 화합물 2-2 의 39.8 g 을 얻었다.
[화학식 14]
단위 수 n 의 평균치 : 13
＜예 2-3＞
200 mL 의 가지형 플라스크에 화합물 2-2 의 1 g, 상기 화합물 1-2 의 10 g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 69 g, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴) 0.5 g 을 첨가하고, 80 ℃ 에서 18 시간 교반하였다. 얻어진 미정제액을 농축한 후, 메탄올로 세정, 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하여, 화합물 2-3 의 10 g 을 얻었다.
[화학식 15]
＜예 2-4＞
50 mL 의 가지형 플라스크에 화합물 2-3 의 1 g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 10 g, 테트라하이드로푸란 6 g 을 첨가하고, －78 ℃ 에서 교반하고 용해시킨 후, 부테닐-마그네슘브로마이드 (1.0 mol/L THF 용액) 2.2 g 을 첨가하고, 완만하게 실온까지 승온시키면서 18 시간 교반하였다. 그 후, 염산을 첨가하고, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠으로 추출, 유기층을 농축하고, 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피로 정제함으로써 화합물 2-4 의 0.7 g 을 얻었다. 하기 식의 R 은 CH2CH2CH＝CH2 이다.
[화학식 16]
＜예 2-5＞
상기 예 1-3 에 있어서 화합물 1-4 를 화합물 2-4 로 변경한 것 이외에는, 예 1-3 과 동일한 방법으로 하기 화합물 2-5 를 얻었다. 하기 식의 R 은 CH2CH2CH＝CH2 이다.
[화학식 17]
본 제조 방법에 따르면, 플루오로알킬렌 사슬 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 화합물에, 입수 용이한 화합물을 사용하여, 비교적 온화한 반응 조건에서 임의의 치환기를 도입할 수 있다. 본 제조법에 의해 얻어지는 화합물은, 예를 들어, 기재 표면에 발수 발유성, 지문 닦아내기 제거성 등을 구비하는 표면층을 형성할 수 있는 표면 처리제 또는 그 원료로서 바람직하게 사용할 수 있다.
본 출원은, 2021년 3월 5일에 출원된 일본 특허출원 제2021-35095호를 기초로 하는 우선권을 주장하고, 그 개시 전부를 여기에 포함한다.
Claims (7)
- 하기 식 (A1) 또는 식 (A2) 로 나타내는 화합물.
G1-(CH2)m1-CHX1-(CH2)n1-M 식 (A1)
M-(CH2)n2-CHX1-(CH2)m2-G2-(CH2)m3-CHX1-(CH2)n3-M 식 (A2)
다만, 식 중,
G1 은, 플루오로알킬기, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 1 가의 기이고,
G2 는, 플루오로알킬렌기, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 2 가의 기이고,
X1 은, 할로겐 원자로서, X1 이 복수 있는 경우, 당해 X1 은 동일하거나 상이해도 되고,
M 은, BR1R2 로서, R1 및 R2 는 각각 독립적으로 -OH, -R11, -OR11, -O-C(O)-R11, 또는 -NR11R12 로 나타내는 기이고, R11 은, 치환기를 갖고 있어도 되며 탄소 사슬 중에 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기이고, 2 개의 R11 이 연결되어 고리 구조를 형성하고 있어도 되고, R12 는, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기이고, M 이 복수 있는 경우, 당해 M 은 동일하거나 상이해도 되고,
n1, n2 및 n3 은 각각 독립적으로 0 ∼ 20 의 정수이고,
m1, m2 및 m3 은 각각 독립적으로 1 또는 2 이다. - 제 1 항에 기재된 화합물의 M 을 수소 또는 탄화수소기로 변환하는, 하기 식 (B1) 또는 식 (B2) 로 나타내는 화합물의 제조 방법.
G1-(CH2)m1-CHX1-(CH2)n1-R3 식 (B1)
R3-(CH2)n2-CHX1-(CH2)m2-G2-(CH2)m3-CHX1-(CH2)n3-R3 식 (B2)
다만, 식 중,
G1 은, 플루오로알킬기, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 1 가의 기이고,
G2 는, 플루오로알킬렌기, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 2 가의 기이고,
X1 은, 할로겐 원자로서, X1 이 복수 있는 경우, 당해 X1 은 동일하거나 상이해도 되고,
R3 은, 수소 원자, 또는 치환기를 갖고 있어도 되며 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기로서, R3 이 복수 있는 경우, 당해 R3 은 동일하거나 상이해도 되고, n1, n2 및 n3 은 각각 독립적으로 0 ∼ 20 의 정수이고,
m1, m2 및 m3 은 각각 독립적으로 1 또는 2 이다. - 제 2 항에 있어서,
제 1 항에 기재된 화합물과, 하기 식 (C1) 로 나타내는 화합물을 반응시키는 것을 포함하는, 상기 식 (B1) 또는 식 (B2) 로 나타내는 화합물의 제조 방법.
R3-X2 식 (C1)
다만, 식 중
R3 은, 치환기를 갖고 있어도 되며 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기이고, X2 는, 할로겐 원자이다. - 제 1 항에 기재된 화합물의 X1 을 수소 또는 탄화수소기로 변환하는, 하기 식 (B3) 또는 식 (B4) 로 나타내는 화합물의 제조 방법.
G1-(CH2)m1-CHR3-(CH2)n1-M 식 (B3)
M-(CH2)n2-CHR3-(CH2)m2-G2-(CH2)m3-CHR3-(CH2)n3-M 식 (B4)
다만, 식 중,
G1 은, 플루오로알킬기, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 1 가의 기이고,
G2 는, 플루오로알킬렌기, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 2 가의 기이고,
M 은, BR1R2 로서, R1 및 R2 는 각각 독립적으로 -OH, -R11, -OR11, -O-C(O)-R11, 또는 -NR11R12 로 나타내는 기이고, R11 은, 치환기를 갖고 있어도 되며 탄소 사슬 중에 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기이고, 2 개의 R11 이 연결되어 고리 구조를 형성하고 있어도 되고, R12 는, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기이고, M 이 복수 있는 경우, 당해 M 은 동일하거나 상이해도 되고,
R3 은, 수소 원자, 또는 치환기를 갖고 있어도 되며 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기로서, R3 이 복수 있는 경우, 당해 R3 은 동일하거나 상이해도 되고, n1, n2 및 n3 은 각각 독립적으로 0 ∼ 20 의 정수이고,
m1, m2 및 m3 은 각각 독립적으로 1 또는 2 이다. - 제 4 항에 있어서,
제 1 항에 기재된 화합물과, 하기 식 (C2) 로 나타내는 화합물을 반응시키는 것을 포함하는, 상기 식 (B3) 또는 식 (B4) 로 나타내는 화합물의 제조 방법.
R3-MgR4 식 (C2)
다만, 식 중,
R3 은, 치환기를 갖고 있어도 되며 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기이고, R4 는, 할로겐 원자, 또는 치환기를 갖고 있어도 되며 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기이다. - 제 1 항에 있어서,
하기 식 (E1) 또는 식 (E2) 로 나타내는 화합물과, 하기 식 (H1) 로 나타내는 화합물을 반응시키는 것을 포함하는, 화합물의 제조 방법.
G1-(CH2)m4-X1 식 (E1)
X1-(CH2)m5-G2-(CH2)m6-X1 식 (E2)
CH2＝CH-(CH2)n-M 식 (H1)
다만, 식 중,
G1 은, 플루오로알킬기, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 1 가의 기이고,
G2 는, 플루오로알킬렌기, 또는 (폴리)옥시플루오로알킬렌 사슬을 갖는 2 가의 기이고,
X1 은, 할로겐 원자로서, X1 이 복수 있는 경우, 당해 X1 은 동일하거나 상이해도 되고,
M 은, BR1R2 로서, R1 및 R2 는 각각 독립적으로 -OH, -R11, -OR11, -O-C(O)-R11, 또는 -NR11R12 로 나타내는 기이고, R11 은, 치환기를 갖고 있어도 되며 탄소 사슬 중에 헤테로 원자를 갖고 있어도 되는 탄화수소기이고, 2 개의 R11 이 연결되어 고리 구조를 형성하고 있어도 되고, R12 는, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기이고, M 이 복수 있는 경우, 당해 M 은 동일하거나 상이해도 되고,
n 은 0 ∼ 20 의 정수이고,
m4, m5 및 m6 은 각각 독립적으로 0 또는 1 이다. - 제 2 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법에 의해, 상기 식 (B1), 식 (B2), 식 (B3) 또는 식 (B4) 로 나타내는 화합물을 얻고, 당해 화합물에 반응성 실릴기를 도입하는, 표면 처리제의 제조 방법.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021035095 | 2021-03-05 | ||
| JPJP-P-2021-035095 | 2021-03-05 | ||
| PCT/JP2022/008824 WO2022186265A1 (ja) | 2021-03-05 | 2022-03-02 | 化合物、化合物の製造方法及び表面処理剤の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20230154894A true KR20230154894A (ko) | 2023-11-09 |
Family
ID=83154624
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020237033001A KR20230154894A (ko) | 2021-03-05 | 2022-03-02 | 화합물, 화합물의 제조 방법 및 표면 처리제의 제조 방법 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20230406869A1 (ko) |
| JP (1) | JPWO2022186265A1 (ko) |
| KR (1) | KR20230154894A (ko) |
| CN (1) | CN116940580A (ko) |
| WO (1) | WO2022186265A1 (ko) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018043940A (ja) | 2016-09-13 | 2018-03-22 | 国立大学法人お茶の水女子大学 | 含フッ素化合物の製造方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012530115A (ja) * | 2009-06-19 | 2012-11-29 | レツク・フアーマシユーテイカルズ・デー・デー | 置換アルカ−１−インを経由するα−アミノボロン酸誘導体の調製のための新規な合成経路 |
| JP6553490B2 (ja) * | 2015-11-18 | 2019-07-31 | 国立大学法人北海道大学 | 新規トリフルオロメチル化剤及びそれを用いたトリフルオロメチル基含有化合物の製造方法 |
| JPWO2019208503A1 (ja) * | 2018-04-26 | 2021-04-30 | Ａｇｃ株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、それを含む組成物、コーティング液及び物品 |
-
2022
- 2022-03-02 JP JP2023503901A patent/JPWO2022186265A1/ja active Pending
- 2022-03-02 CN CN202280019173.0A patent/CN116940580A/zh active Pending
- 2022-03-02 WO PCT/JP2022/008824 patent/WO2022186265A1/ja active Application Filing
- 2022-03-02 KR KR1020237033001A patent/KR20230154894A/ko unknown
-
2023
- 2023-09-01 US US18/460,114 patent/US20230406869A1/en active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018043940A (ja) | 2016-09-13 | 2018-03-22 | 国立大学法人お茶の水女子大学 | 含フッ素化合物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20230406869A1 (en) | 2023-12-21 |
| WO2022186265A1 (ja) | 2022-09-09 |
| CN116940580A (zh) | 2023-10-24 |
| JPWO2022186265A1 (ko) | 2022-09-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102599697B1 (ko) | 함불소 에테르 화합물, 함불소 에테르 조성물, 코팅액, 물품 및 그 제조 방법 | |
| CN111032733A (zh) | 含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液、物品及其制造方法 | |
| KR20140124769A (ko) | 함불소에테르 화합물, 함불소에테르 조성물 및 코팅액, 그리고 표면 처리층을 갖는 기재 및 그 제조 방법 | |
| US20230399471A1 (en) | Method for producing fluorine-containing compound and method for producing surface treatment agent | |
| JP7180593B2 (ja) | 含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物 | |
| JP7156523B2 (ja) | フルオロポリエーテル基含有ポリマー及びその製造方法 | |
| CN113165345A (zh) | 含氟化合物、含有含氟化合物的组合物、涂布液、物品及其制造方法 | |
| JP6544570B2 (ja) | 表面改質剤、コーティング組成物及び物品 | |
| CN114867730A (zh) | 含氟醚化合物、表面处理剂、含氟醚组合物、涂布液、物品和物品的制造方法 | |
| US20230392039A1 (en) | Compound, method for producing compound, and method for producing surface treatment agent | |
| JP5110944B2 (ja) | 新規な架橋性のエーテル系含フッ素化合物およびその製造方法 | |
| KR20230154894A (ko) | 화합물, 화합물의 제조 방법 및 표면 처리제의 제조 방법 | |
| JP6044211B2 (ja) | フルオロオキシアルキレン基含有シラン化合物の製造方法 | |
| JP7238866B2 (ja) | 含フッ素エーテル化合物の製造方法 | |
| WO2022186272A1 (ja) | 含フッ素化合物の製造方法及び表面処理剤の製造方法 | |
| WO2021054413A1 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、表面処理剤、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、及び化合物 | |
| JP6705557B2 (ja) | 含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物 | |
| KR101945712B1 (ko) | 지문 방지용 플로오로실리콘 화합물 및 이의 제조 방법 | |
| CN116209710A (zh) | 分离方法 | |
| WO2022059623A1 (ja) | 組成物、表面層付き基材、表面層付き基材の製造方法、化合物および化合物の製造方法 | |
| CN118307391A (en) | Fluorine-containing ether compound, fluorine-containing ether composition, coating liquid, article, method for producing article, and method for producing fluorine-containing compound | |
| KR20180014678A (ko) | 지문 방지용 플로오로실리콘 화합물 및 이의 제조 방법 |