KR20180029952A - 촬상 렌즈 - Google Patents
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Abstract
식 (1) 및 식 (2) 를 하기 식의 비율로 함유하는 폴리카보네이트로 이루어지는 촬상 렌즈로서, 그 촬상 렌즈는, 특정한 굴절률, 아베수를 갖고, 저복굴절이면서 저흡수율의 물성을 갖는다.
50 mol％ ≤ (1) ＜ 70 mol％
30 mol％ ＜ (2) ≤ 50 mol％
50 mol％ ≤ (1) ＜ 70 mol％
30 mol％ ＜ (2) ≤ 50 mol％
Description
본 발명은, 특정한 폴리카보네이트 수지로 이루어지는 촬상 렌즈에 관한 것이다.
근래, 휴대 전화기의 대부분에 카메라 기능이 탑재되고, 최근에는 디지털 스틸 카메라에 필적하는 고해상도의 카메라 기능을 탑재한 휴대 전화기가 등장하고 있다. 촬상 소자의 화소 사이즈는 미세화되어, 화소 피치는 1.4 미크론을 하회하고 있다. 한편, 휴대 전화기의 소형화나 박형화에 대응하여, 촬상 렌즈의 소형화도 요구되고 있다. 따라서, 촬상 소자의 고해상도화와 촬상 렌즈의 소형화에 대응하기 위해, 촬상 렌즈의 저복굴절화나 수차 보정 능력의 향상이 강하게 요청되고 있다. 종래, 휴대 전화, 스마트폰 등의 휴대 기기용 촬상 렌즈는 비구면 플라스틱으로 제조되고, 수차 보정은 다른 광학 특성 (굴절률, 아베수) 의 렌즈의 조합과 렌즈 형상의 조합에 의해 이루어진다.
렌즈 용도로 실용화되어 있는 광학용 투명 수지 중에서 고굴절률, 저아베수의 것으로서, 비스페놀 A 를 원료로 하는 폴리카보네이트 수지 (nd = 1.584) 가 폭넓게 사용되어 왔다. 그러나, 비스페놀 A 를 원료로 하는 폴리카보네이트 수지는 복굴절이 크다는 약점을 갖기 때문에, 최근의 고해상도의 카메라에는 사용할 수 없게 되었다.
복굴절을 저감하는 방법으로서, 플루오렌기나 옥사스피로운데칸기를 함유하는 폴리카보네이트 공중합체가 개시되어 있다 (특허문헌 1, 2). 특허문헌 1 에서는 광 디스크 등의 정보 기록 매체, 특허문헌 2 에서는 광 디스크, 광학 필름, 광학 프리즘, 픽업 렌즈 (광 신호의 0 이나 1 을 식별할 뿐) 가 개시되어 있지만, 촬상 렌즈를 상정하고 있지 않기 때문에, 굴절률, 아베수, 배향 복굴절, 흡수율 등, 촬상 렌즈에 필요한 특성은 밝혀져 있지 않다. 또한, 폴리카보네이트 수지와 특정한 구조를 갖는 스티렌 수지로 이루어지는 카메라 렌즈가 개시되어 있다 (특허문헌 3). 그러나, 그 특허문헌은, 폴리스티렌 성분을 함유하고, 나아가 비상용 성분끼리의 혼합 때문에, 수지가 약하고, 내열성도 낮다는 과제가 있었다.
그래서 본 발명의 목적은, 특정한 폴리카보네이트 수지를 사용함으로써, 특정한 굴절률, 아베수를 갖고, 저복굴절이면서 저흡수율인 촬상 렌즈를 제공하는 것에 있다.
본 발명자는 상기 과제를 달성하고자 하여 신규 촬상 렌즈용 수지에 관해서 예의 연구를 거듭한 결과, 9,9-비스[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]플루오렌과 3,9-비스(1,1-디메틸-2-하이드록시에틸)2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸을 특정한 조성비로 공중합함으로써, 촬상 렌즈용 폴리카보네이트 수지를 얻고, 그 수지를 사용함으로써, 특정한 굴절률, 아베수를 갖고, 저복굴절이면서 저흡수율인 촬상 렌즈가 되는 것을 알아내었다.
즉, 본 발명에 의하면, 이하에 나타내는 폴리카보네이트 수지로 이루어지는 촬상 렌즈가 제공된다.
1. 식 (1) 및 식 (2) 를 하기 식의 비율로 함유하는 폴리카보네이트로 이루어지는 촬상 렌즈.
50 mol％ ≤ (1) ＜ 70 mol％
30 mol％ ＜ (2) ≤ 50 mol％
[화학식 1]
[화학식 2]
2. 폴리카보네이트 수지의 굴절률이 1.57 ∼ 1.60 이고 또한 아베수가 27 ∼ 31 인 상기 1 에 기재된 촬상 렌즈.
3. 폴리카보네이트 수지로 이루어지는 필름의 배향 복굴절이 2 × 10-3 이하인 상기 1 또는 2 에 기재된 촬상 렌즈.
4. 폴리카보네이트 수지의 굴절률이 1.58 ∼ 1.59 인 상기 1 ∼ 3 중 어느 하나에 기재된 촬상 렌즈.
5. 폴리카보네이트 수지의 아베수가 27.5 ∼ 29.5 인 상기 1 ∼ 4 중 어느 하나에 기재된 촬상 렌즈.
6. 폴리카보네이트 수지의 비점도가 0.12 ∼ 0.32 인 상기 1 ∼ 5 중 어느 하나에 기재된 촬상 렌즈.
7. 폴리카보네이트 수지의 흡수율이 0.2 ％ 이하인 상기 1 ∼ 6 중 어느 하나에 기재된 촬상 렌즈.
8. 휴대 전화, 스마트폰, 태블릿 단말, 퍼스널 컴퓨터, 디지털 카메라, 비디오 카메라, 차재 카메라, 감시 카메라 중 어느 것에 사용하는 상기 1 ∼ 7 중 어느 하나에 기재된 촬상 렌즈.
본 발명의 촬상 렌즈에 사용되는 수지는, 9,9-비스[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]플루오렌과 3,9-비스(1,1-디메틸-2-하이드록시에틸)2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸을 특정한 조성비로 공중합함으로써 촬상 렌즈용 폴리카보네이트 수지를 얻고, 그 수지를 사용함으로써, 특정한 굴절률, 아베수를 갖고, 저복굴절이면서 저흡수율을 갖는 촬상 렌즈가 되기 때문에, 그 나타내는 산업상 효과가 각별하다.
이하, 본 발명의 촬상 렌즈에 관해서, 순차적으로 구체적으로 설명한다.
<폴리카보네이트 수지>
본 발명의 촬상 렌즈에 사용되는 폴리카보네이트 수지는, 측정 온도 : 25 ℃, 측정 파장 : 589 ㎚ 에 있어서의 굴절률이 1.57 ∼ 1.60 이고, 1.58 ∼ 1.59 인 것이 보다 바람직하다.
본 발명의 촬상 렌즈에 사용되는 폴리카보네이트 수지는, 측정 온도 : 25 ℃ 에 있어서의 아베수가 27.0 ∼ 31.0 인 것이 바람직하고, 27.5 ∼ 29.5 인 것이 보다 바람직하다. 아베수는 측정 온도 : 25 ℃, 측정 파장 : 486 ㎚, 589 ㎚, 656 ㎚ 의 굴절률로부터 하기 식을 사용하여 산출한다.
ν = (nD－1)/(nF－nC)
nD : 파장 589 ㎚ 에 있어서의 굴절률
nC : 파장 656 ㎚ 에 있어서의 굴절률
nF : 파장 486 ㎚ 에 있어서의 굴절률
본 발명의 촬상 렌즈에 사용되는 폴리카보네이트 수지는, 식 (1) 및 식 (2) 를 함유한다.
[화학식 3]
[화학식 4]
본 발명의 촬상 렌즈에 사용되는 폴리카보네이트 수지는, 식 (1) 을 50 mol％ 이상 70 mol％ 미만 함유하고, 55 ∼ 65 mol％ 함유하는 것이 바람직하며, 57 ∼ 64 mol％ 함유하는 것이 더욱 바람직하다. 또, 식 (2) 를 30 mol％ 보다 크고 50 mol％ 이하로 함유하고, 35 ∼ 45 mol％ 함유하는 것이 바람직하며, 36 ∼ 43 mol％ 함유하는 것이 더욱 바람직하다.
본 발명의 촬상 렌즈에 사용되는 폴리카보네이트 수지는, 식 (1) 및 식 (2) 로 나타내는 반복 단위를 함유하지만, 본 발명의 특성을 손상시키지 않을 정도로 다른 디올 성분을 공중합해도 된다. 다른 디올 성분은, 전체 반복 단위 중 10 mol％ 이하가 바람직하다. 그 다른 디올 성분으로서, 에틸렌글리콜, 프로판디올, 부탄디올, 펜탄디올, 헥산디올, 헵탄디올, 옥탄디올, 노난디올, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸디메탄올, 시클로헥산-1,4-디메탄올, 데칼린-2,6-디메탄올, 노르보르난디메탄올, 펜타시클로펜타데칸디메탄올, 시클로펜탄-1,3-디메탄올, 이소소르비드, 하이드로퀴논, 레조르시놀, 2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로판, 2,2-비스(3-메틸-4-하이드록시페닐)프로판, 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-1-페닐에탄, 비스(4-하이드록시페닐)디페닐메탄, 1,3-비스(2-(4-하이드록시페닐)-2-프로필)벤젠, 비스(4-하이드록시페닐)술폰, 비스(4-하이드록시페닐)술파이드, 1,1-비스(4-하이드록시페닐)-3,3,5-트리메틸시클로헥산, 1,1-비스(4-하이드록시페닐)시클로헥산, 비페놀, 비스페놀플루오렌, 비스크레졸플루오렌 등을 들 수 있다.
본 발명의 촬상 렌즈에 사용되는 폴리카보네이트 수지는, 비점도가 0.12 ∼ 0.32 의 범위에 있는 것이 바람직하고, 0.18 ∼ 0.30 의 범위에 있는 것이 보다 바람직하다. 비점도가 0.12 ∼ 0.32 이면 성형성과 강도의 밸런스가 우수하다.
본 발명의 촬상 렌즈에 사용되는 폴리카보네이트 수지는, 배향 복굴절 (Δn) 의 절대값이, 바람직하게는 0 ∼ 6 × 10-3, 보다 바람직하게는 0 ∼ 4 × 10-3, 더욱 바람직하게는 0 ∼ 2 × 10-3 의 범위이다. 배향 복굴절 (Δn) 은, 그 폴리카보네이트 수지로부터 얻어지는 두께 100 ㎛ 의 캐스트 필름을 Tg ＋ 10 ℃ 에서 2 배 연신했을 때, 파장 589 ㎚ 에 있어서 측정한다.
본 발명의 촬상 렌즈에 사용되는 폴리카보네이트 수지는, 1 ㎜ 두께의 전광선 투과율이, 바람직하게는 80 ％ 이상, 보다 바람직하게는 85 ％ 이상, 더욱 바람직하게는 88 ％ 이상이다.
본 발명의 촬상 렌즈에 사용되는 폴리카보네이트 수지는, 23 ℃, 24 시간 침지 후의 흡수율이 0.20 ％ 이하이면 바람직하고, 0.17 ％ 이하이면 보다 바람직하다.
본 발명의 촬상 렌즈에 사용되는 폴리카보네이트 수지는, 유리 전이점이 120 ∼ 160 ℃ 이면 바람직하고, 125 ∼ 150 ℃ 이면 보다 바람직하다.
<폴리카보네이트 수지의 제조 방법>
본 발명의 촬상 렌즈에 사용되는 폴리카보네이트 수지는, 통상적인 폴리카보네이트 수지를 제조하는 그 자체가 공지된 반응 수단, 예를 들어 디올 성분에 탄산디에스테르 등의 카보네이트 전구 물질을 반응시키는 방법에 의해 제조된다. 다음으로 이들 제조 방법에 관해서 기본적인 수단을 간단히 설명한다.
카보네이트 전구 물질로서 탄산디에스테르를 사용하는 에스테르 교환 반응은, 불활성 가스 분위기하 소정 비율의 방향족 디하이드록시 성분을 탄산디에스테르와 가열하면서 교반하여, 생성되는 알코올 또는 페놀류를 증류 배출시키는 방법에 의해 실시된다. 반응 온도는 생성되는 알코올 또는 페놀류의 비점 등에 따라서 다르지만, 통상 120 ∼ 300 ℃ 의 범위이다. 반응은 그 초기에서부터 감압으로 하여 생성되는 알코올 또는 페놀류를 증류 배출시키면서 반응을 완결시킨다. 또한, 필요에 따라서 말단 정지제, 산화 방지제 등을 첨가해도 된다.
상기 에스테르 교환 반응에 사용되는 탄산디에스테르로는, 치환되어도 되는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기, 아르알킬기 등의 에스테르를 들 수 있다. 구체적으로는, 디페닐카보네이트, 디톨릴카보네이트, 비스(클로로페닐)카보네이트 및 m-크레실카보네이트 등이 예시된다. 그 중에서도 디페닐카보네이트가 특히 바람직하다. 디페닐카보네이트의 사용량은, 디하이드록시 화합물의 합계 1 몰에 대하여, 바람직하게는 0.95 ∼ 1.10 몰, 보다 바람직하게는 0.98 ∼ 1.04 몰이다. 또한 용융 중합법에 있어서는 중합 속도를 빠르게 하기 위해서 중합 촉매를 사용할 수 있고, 이러한 중합 촉매로는, 알칼리 금속 화합물, 알칼리 토금속 화합물, 염기성 인 화합물, 함질소 화합물, 금속 화합물 등을 들 수 있다. 이러한 화합물로는, 알칼리 금속이나 알칼리 토금속의, 유기산염, 무기염, 산화물, 수산화물, 수소 화물, 알콕사이드, 4 급 암모늄 하이드록사이드 등이 바람직하게 사용되고, 이들 화합물은 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다.
알칼리 금속 화합물로는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화세슘, 수산화리튬, 탄산수소나트륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산세슘, 탄산리튬, 아세트산나트륨, 아세트산칼륨, 아세트산세슘, 아세트산리튬, 스테아르산나트륨, 스테아르산칼륨, 스테아르산세슘, 스테아르산리튬, 수소화붕소나트륨, 벤조산나트륨, 벤조산칼륨, 벤조산세슘, 벤조산리튬, 인산수소2나트륨, 인산수소2칼륨, 인산수소2리튬, 페닐인산2나트륨, 비스페놀 A 의 2나트륨염, 2칼륨염, 2세슘염, 2리튬염, 페놀의 나트륨염, 칼륨염, 세슘염, 리튬염 등이 예시된다.
알칼리 토금속 화합물로는, 수산화마그네슘, 수산화칼슘, 수산화스트론튬, 수산화바륨, 탄산마그네슘, 탄산칼슘, 탄산스트론튬, 탄산바륨, 탄산수소칼슘, 탄산수소바륨, 탄산수소마그네슘, 탄산수소스트론튬, 이아세트산마그네슘, 이아세트산칼슘, 이아세트산스트론튬, 이아세트산바륨 등이 예시된다. 염기성 붕소 화합물로는, 예를 들어, 테트라메틸붕소, 테트라에틸붕소, 테트라프로필붕소, 테트라부틸붕소, 트리메틸에틸붕소, 트리메틸벤질붕소, 트리메틸페닐붕소, 트리에틸메틸붕소, 트리에틸벤질붕소, 트리에틸페닐붕소, 트리부틸벤질붕소, 트리부틸페닐붕소, 테트라페닐붕소, 벤질트리페닐붕소, 메틸트리페닐붕소, 부틸트리페닐붕소 등의 나트륨염, 칼륨염, 리튬염, 칼슘염, 바륨염, 마그네슘염, 또는 스트론튬염 등을 들 수 있다.
염기성 인 화합물로는, 예를 들어, 트리에틸포스핀, 트리-n-프로필포스핀, 트리이소프로필포스핀, 트리-n-부틸포스핀, 트리페닐포스핀, 트리부틸포스핀, 또는 4 급 포스포늄염 등을 들 수 있다.
함질소 화합물로는, 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라에틸암모늄하이드록사이드, 테트라프로필암모늄하이드록사이드, 테트라부틸암모늄하이드록사이드, 트리메틸벤질암모늄하이드록사이드 등의 알킬, 아릴기 등을 갖는 4 급 암모늄하이드록사이드류를 들 수 있다. 또한, 트리에틸아민, 디메틸벤질아민, 트리페닐아민 등의 3 급 아민류, 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 벤조이미다졸 등의 이미다졸류를 들 수 있다. 또한, 암모니아, 테트라메틸암모늄보로하이드라이드, 테트라부틸암모늄보로하이드라이드, 테트라부틸암모늄테트라페닐보레이트, 테트라페닐암모늄테트라페닐보레이트 등의 염기 또는 염기성 염 등이 예시된다.
금속 화합물로는 아연알루미늄 화합물, 게르마늄 화합물, 유기 주석 화합물, 안티몬 화합물, 망간 화합물, 티탄 화합물, 지르코늄 화합물 등이 예시된다. 이들 화합물은 1 종 또는 2 종 이상 병용해도 된다.
이들 중합 촉매의 사용량은, 디올 성분 1 몰에 대하여 바람직하게는 1 × 10-9 ∼ 1 × 10-2 당량, 바람직하게는 1 × 10-8 ∼ 1 × 10-3 당량, 보다 바람직하게는 1 × 10-7 ∼ 1 × 10-5 당량의 범위에서 선택된다.
또한, 필요에 따라서 반응 후기에 촉매 실활제를 첨가해도 된다. 사용하는 촉매 실활제로는 공지된 촉매 실활제가 유효하게 사용되지만, 이중에서도 술폰산의 암모늄염, 포스포늄염이 바람직하다. 나아가 도데실벤젠술폰산테트라부틸포스포늄염 등의 도데실벤젠술폰산의 염류, 파라톨루엔술폰산테트라부틸암모늄염 등의 파라톨루엔술폰산의 염류가 바람직하다.
또한 술폰산의 에스테르로서, 벤젠술폰산메틸, 벤젠술폰산에틸, 벤젠술폰산부틸, 벤젠술폰산옥틸, 벤젠술폰산페닐, 파라톨루엔술폰산메틸, 파라톨루엔술폰산에틸, 파라톨루엔술폰산부틸, 파라톨루엔술폰산옥틸, 파라톨루엔술폰산페닐 등이 바람직하게 사용된다. 그 중에서도, 도데실벤젠술폰산테트라부틸포스포늄염이 가장 바람직하게 사용된다.
이들 촉매 실활제의 사용량은 알칼리 금속 화합물 및/또는 알칼리 토금속 화합물에서 선택된 적어도 1 종의 중합 촉매를 사용한 경우, 그 촉매 1 몰당 바람직하게는 0.5 ∼ 50 몰의 비율로, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 10 몰의 비율로, 더욱 바람직하게는 0.8 ∼ 5 몰의 비율로 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 폴리카보네이트 수지는, 용도나 필요에 따라서 열 안정제, 가소제, 광 안정제, 중합 금속 불활성화제, 난연제, 활제, 대전 방지제, 계면 활성제, 항균제, 자외선 흡수제, 이형제 등의 첨가제를 배합할 수 있다.
그리고, 용도나 필요에 따라서 열 안정제, 가소제, 광 안정제, 중합 금속 불활성화제, 난연제, 활제, 대전 방지제, 계면 활성제, 항균제, 자외선 흡수제, 이형제 등의 첨가제를 배합할 수 있다.
<촬상 렌즈의 제조 방법>
본 발명의 촬상 렌즈는, 사출 성형, 압축 성형, 사출 압축 성형, 용융 압출 성형, 캐스팅 등의 임의의 방법에 의해 성형, 가공할 수 있는데, 사출 성형이 특히 바람직하다.
사출 성형의 성형 조건은 특별히 한정되지 않지만, 성형기의 실린더 온도는 180 ∼ 320 ℃ 가 바람직하고, 220 ∼ 300 ℃ 가 보다 바람직하고, 240 ∼ 280 ℃ 가 보다 더 바람직하다. 또한, 금형 온도는 70 ∼ 130 ℃ 가 바람직하고, 80 ∼ 125 ℃ 가 보다 바람직하고, 90 ∼ 120 ℃ 가 보다 더 바람직하다. 사출 압력은 50 ∼ 1,700 kgf/㎠ 가 바람직하고, 500 ∼ 1,600 kgf/㎠ 가 바람직하고, 1,000 ∼ 1,500 kgf/㎠ 보다 더 바람직하다.
본 발명의 촬상 렌즈는, 스마트폰, 디지털 카메라, 비디오 카메라 등의 촬상 렌즈에 사용할 수 있다.
실시예
이하에 실시예를 들어 본 발명을 추가로 설명한다.
실시예 1 ∼ 3, 비교예 1 ∼ 4
평가는 하기한 방법대로 실시하였다.
(1) 비점도 : 중합 종료 후에 얻어진 폴리카보네이트 수지를 충분히 건조시키고, 그 펠릿 0.7 g 을 염화메틸렌 100 ㎖ 에 용해한 용액으로부터, 그 용액의 20 ℃ 에 있어서의 비점도 (ηsp) 를 측정하였다.
(2) 공중합비 : 닛폰 전자사 제조 JNM-AL400 의 프로톤 NMR 을 사용하여 측정하였다. 7.6 ∼ 7.8 ppm 부근의 식 (1) 의 구조에서 기인하는 피크와 0.8 ∼ 1.1 ppm 부근의 식 (2) 의 구조에서 기인하는 피크의 적분비로부터 구하였다.
(3) 굴절률 (nD), 아베수 (ν) : 사출 성형에 의해 얻어진 두께 0.3 ㎜, φ5 ㎜ 의 원판 (圓板) 을 ATAGO 제조 DR-M2 의 아베 굴절계를 사용하여, 25 ℃ 에 있어서의 굴절률을 측정하였다. 아베수는 측정 파장 : 486 ㎚, 589 ㎚, 656 ㎚ 의 굴절률로부터 하기 식을 사용하여 산출하였다.
ν = (nD－1)/(nF－nC)
nD : 파장 589 ㎚ 에서의 굴절률
nC : 파장 656 ㎚ 에서의 굴절률
nF : 파장 486 ㎚ 에서의 굴절률
(4) 배향 복굴절 (Δn) : 폴리카보네이트 수지를 염화메틸렌에 용해한 후, 유리 샤알레 상에 캐스팅하고, 충분히 건조시킴으로써 두께 100 ㎛ 의 캐스트 필름을 제작하였다. 그 필름을 유리 전이점 (Tg) ＋ 10 ℃ 에서 2 배 연신하고, 닛폰 분광 (주) 제조 엘립소미터 M-220 을 사용하여 589 ㎚ 에 있어서의 위상차 (Re) 를 측정하여, 하기 식으로부터 배향 복굴절 (Δn) 을 구하였다. 또, 유리 전이점은, 시마즈 제작소 제조 DSC-60A 에 의해, 승온 속도 20 ℃/min 으로 측정하였다.
Δn = Re/d
Δn : 배향 복굴절
Re : 위상차
d : 두께
(5) 흡수율 : 사출 성형에 의해 얻어진 판상 성형편을 ISO62 에 준거하여 측정하였다.
(6) 렌즈의 광학 변형 평가 : 실린더 온도 280 ℃, 금형 온도 120 ℃ 에서, 스미토모 중기계 (주) 제조 SE30DU 사출 성형기를 사용하여 두께 0.2 ㎜, 볼록면 곡률 반경 5 ㎜, 오목면 곡률 반경 4 ㎜, Φ5 ㎜ 의 비구면 렌즈를 사출 성형하였다. 비구면 렌즈를 2 장의 편광판 사이에 끼우로 직교 니콜법으로 광 누설을 육안으로 관찰함으로써 광학 변형을 평가하였다. 평가는 이하의 기준으로 실시하였다.
◎ : 거의 광 누설이 없다.
○ : 약간 광 누설이 인정된다.
× : 광 누설이 현저하다.
(7) 렌즈의 성형성 평가 : (6) 과 동일한 방법에 의해 성형한 비구면 렌즈의 충전 불량, 성형 불량, 렌즈의 취약함, 금형 부착물의 유무 등을 육안으로 보아 확인하였다. 평가는, 500 장 성형했을 때에 결함품이 되는 확률이, 1 ％ 미만 (◎), 1 ∼ 5 ％ 미만 (○), 5 ∼ 10 ％ 미만 (△), 10 ％ 이상 (×) 으로 분류하였다.
[실시예 1]
9,9-비스(4-(2-하이드록시에톡시)페닐)플루오렌 (이하, BPEF 로 약기한다) 110.50 부, 3,9-비스(1,1-디메틸-2-하이드록시에틸)-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸 (이하, SPG 로 약기한다) 45.05 부, 디페닐카보네이트 87.40 부, 및 촉매로서 수산화나트륨 8.00 × 10-5 부, 테트라메틸암모늄하이드록사이드 3.65 × 10-3 부를 교반기 및 증류 배출 장치가 달린 반응 가마에 넣고, 질소 치환을 3 회 실시한 후, 재킷을 180 ℃ 로 가열하여, 원료를 용융시켰다. 완전 용해 후, 20분에 걸쳐 20 kPa 까지 감압함과 동시에, 60 ℃/hr 의 속도로 재킷을 260 ℃ 까지 승온하여, 에스테르 교환 반응을 실시하였다. 그 후, 재킷을 260 ℃ 로 유지한 채로, 80 분에 걸쳐 0.13 kPa 까지 감압하고, 260 ℃, 0.13 kPa 이하의 조건하에서 30 분 중합 반응을 실시하였다. 반응 종료 후, 생성된 폴리카보네이트 수지를 펠릿타이징하면서 발출 (拔出) 하여, 폴리카보네이트 수지 펠릿을 얻었다. 그 펠릿을 사용하여, 비점도, 공중합비, 배향 복굴절을 측정하고, 결과를 표 1 에 기재하였다. 또한, 그 펠릿을 110 ℃ 에서 4 시간 건조 후, 사출 성형으로 측정편을 성형하여, 굴절률 (nD), 아베수 (ν), 흡수율, 렌즈의 광학 변형 평가, 렌즈의 성형성의 측정 결과를 표 1 에 기재하였다.
[실시예 2]
BPEF 를 105.24 부, SPG 48.70 부로 하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 방법으로 폴리카보네이트 수지 펠릿을 얻었다. 그 펠릿을 사용하여, 실시예 1 과 동일하게 측정하고, 결과를 표 1 에 기재하였다.
[실시예 3]
BPEF 를 98.22 부, SPG 53.57 부로 하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 방법으로 폴리카보네이트 수지 펠릿을 얻었다. 그 펠릿을 사용하여, 실시예 1 과 동일하게 측정하고, 결과를 표 1 에 기재하였다.
[실시예 4]
BPEF 를 87.70 부, SPG 60.88 부로 하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 방법으로 폴리카보네이트 수지 펠릿을 얻었다. 그 펠릿을 사용하여, 실시예 1 과 동일하게 측정하고, 결과를 표 1 에 기재하였다.
[비교예 1]
일본 특허 제3160209호의 실시예 17 에 기재된 방법으로 폴리카보네이트 수지 펠릿을 얻었다. 그 펠릿을 사용하여, 실시예 1 과 동일하게 측정하고, 결과를 표 1 에 기재하였다. 렌즈 성형성 평가시, 렌즈 갈라짐이나 스프루 꺾임이 다발하여, 성형성이 나뻤다.
[비교예 2]
BPEF 를 52.62 부, SPG 85.23 부로 하는 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 방법으로 폴리카보네이트 수지 펠릿을 얻었다. 그 펠릿을 사용하여, 실시예 1 과 동일하게 측정하고, 결과를 표 1 에 기재하였다.
[비교예 3]
테이진 (주) 제조 폴리카보네이트 수지 AD-5503 을 사용하여, 실시예 1 과 동일하게 측정하고, 결과를 표 1 에 기재하였다.
[비교예 4]
일본 특허 제5217644호의 실시예 3 에 기재된 방법으로 폴리카보네이트 수지 펠릿을 얻었다. 즉, 폴리카보네이트 수지로서 상기 유피론 H-4000 (미츠비시 엔지니어링 플라스틱스 (주) 제조) 50.0 부와, 스티렌 수지로서 상기 다이라크 D-232 (노바 케미컬 (주) 제조) 50.0 부를 압출기로 255 ℃ 에서 섞어 반죽하고, 펠릿타이징하여 광학 렌즈용 수지 조성물의 펠릿을 얻었다.
그 펠릿을 사용하여, 실시예 1 과 동일하게 측정하고, 결과를 표 1 에 기재하였다.
산업상 이용가능성
본 발명의 촬상 렌즈는, 특정한 굴절률, 아베수를 갖고, 저복굴절이면서 저흡수율을 갖기 때문에, 휴대 전화, 스마트폰, 태블릿 단말, 퍼스널 컴퓨터, 디지털 카메라, 비디오 카메라, 차재 카메라, 감시 카메라 등의 촬상 렌즈에 사용할 수 있어 매우 유용하다.
Claims (8)
- 식 (1) 및 식 (2) 를 하기 식의 비율로 함유하는 폴리카보네이트로 이루어지는 촬상 렌즈.
50 mol％ ≤ (1) ＜ 70 mol％
30 mol％ ＜ (2) ≤ 50 mol％
[화학식 1]
[화학식 2]
- 제 1 항에 있어서,
폴리카보네이트 수지의 굴절률이 1.57 ∼ 1.60 이고 또한 아베수가 27 ∼ 31 인 촬상 렌즈. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
폴리카보네이트 수지로 이루어지는 필름의 배향 복굴절이 2 × 10-3 이하인 촬상 렌즈. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
폴리카보네이트 수지의 굴절률이 1.58 ∼ 1.59 인 촬상 렌즈. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
폴리카보네이트 수지의 아베수가 27.5 ∼ 29.5 인 촬상 렌즈. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
폴리카보네이트 수지의 비점도가 0.12 ∼ 0.32 인 촬상 렌즈. - 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
폴리카보네이트 수지의 흡수율이 0.2 ％ 이하인 촬상 렌즈. - 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
휴대 전화, 스마트폰, 태블릿 단말, 퍼스널 컴퓨터, 디지털 카메라, 비디오 카메라, 차재 카메라, 감시 카메라 중 어느 것에 사용하는 촬상 렌즈.
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