KR20160030840A - 보조광 투광 장치 및 이를 포함하는 촬상 장치 - Google Patents

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Abstract

위상차 방식의 자동 초점 조절 기능 및 콘트래스트 방식의 자동 초점 조절 기능을 모두 구비하는 촬상 장치를 제공한다. 또한, 상기 촬상 장치에 대해 적합한 패턴의 보조광을 투광할 수 있는 보조광 투광 장치를 제공한다. 본 개시의 일 실시예에 의한 보조광 투광 장치 및 보조광 투광 장치를 포함하는 촬상 장치는 피사체에 대한 자동 초점 조절 시간의 단축 및 자동 초점 기능의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.

Description

보조광 투광 장치 및 이를 포함하는 촬상 장치{AUXILIARY PROJECTION APPARATUS AND PHOTOGRAPHING APPARATUS COMPRISING THE SAME}
본 개시는 피사체를 촬영하는 촬상 장치의 자동 초점 조절 기능을 보조하는 보조광 투광 장치 및 이를 포함하는 촬상 장치에 관한 것이다.
촬상 장치, 예컨대 카메라를 이용하여 사진을 찍거나 영상을 촬영할 때, 사용자는 본인이 원하는 피사체에 초점을 맞추고자 하는 욕구를 가지고 있다. 최근 DSLR(Digital Single Lens Reflex) 카메라 또는 미러리스 카메라(mirrorless camera)와 같은 고성능 카메라의 대중화에 따라 초점 조절 기능(Auto Focus, AF)에 대한 요구가 증가되고 있다.
촬상 장치를 사용한 피사체 촬영 시, 피사체 휘도가 낮은 경우, 또는 피사체의 콘트래스트가 낮은 경우에 피사체에 대해 명암이 있는 패턴의 보조광을 투광하고, 피사체의 휘도 및 콘트래스트를 높인 후, 자동 초점 조절을 실시할 수 있다. 상기 자동 초점 조절 방식으로서, 한 쌍의 피사체 상의 간격을 검출하는 위상차 방식에 의한 자동 초점 조절과, 피사체 상의 콘트래스트를 검출하여 평가하는 콘트래스트 방식에 의한 자동 초점 조절이 알려져 있다.
본 개시는, 촬상 장치를 사용하여 피사체를 촬영할 시, 피사체의 휘도가 낮거나 또는 피사체의 콘트래스트가 낮은 경우 상기 피사체에 명암 패턴을 포함하는 보조광 투광 장치를 통해 자동 초점 조절 기능의 향상을 도모하는 것을 목적으로 한다.
상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 기술적 수단으로서, 본 개시의 제 1 측면은, 촬상 장치에 장착되고, 상기 촬상 장치의 자동 초점 조절을 보조하는 보조광을 피사체에 투과하는 발광부; 및 상기 보조광을 통과시켜 상기 피사체에 투광되게 하는 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 보조광을 상기 피사체에 도달하지 않도록 차단하는 복수 개의 암부 패턴 라인을 구비하는 보조광 패턴; 을 포함하고, 상기 복수 개의 명부 패턴 라인과 상기 복수 개의 암부 패턴 라인은 서로 교대로 반복하여 배열되고, 상기 복수 개의 암부 패턴 라인 중 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 명부 패턴 라인 중 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인은 상기 보조광 패턴의 중심 영역에 배치되는 것인, 자동 초점 조절 기능을 갖는 촬상 장치를 제공한다.
예를 들어, 상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인은 상기 보조광 패턴의 중앙에 배치되고, 상기 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인은 상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인의 양측에 각각 배치될 수 있다.
예를 들어, 상기 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인은 상기 보조광 패턴의 중앙에 배치되고, 상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인은 상기 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인의 양측에 각각 배치될 수 있다.
예를 들어, 상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인은 상기 보조광 패턴의 중앙에 배치되고, 상기 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 암부 패턴 라인은, 상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인을 중심으로 좌우 대칭되게 배열될 수 있다.
예를 들어, 상기 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인은 상기 보조광 패턴의 중앙에 배치되고, 상기 복수 개의 암부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 명부 패턴 라인은, 상기 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인을 중심으로 좌우 대칭되게 배열될 수 있다.
예를 들어, 상기 복수 개의 명부 패턴 라인의 폭의 크기는 각각 다르고, 상기 복수 개의 암부 패턴 라인의 폭의 크기는 각각 다를 수 있다.
예를 들어, 상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인의 폭의 크기는 상기 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인의 폭의 크기보다 클 수 있다.
예를 들어, 상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인의 폭의 크기는 상기 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인의 폭의 크기와 동일할 수 있다.
예를 들어, 상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인 및 상기 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인은 각각 복수 개로 구성되고, 복수 개의 상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인 및 복수 개의 상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인은 상기 보조광 패턴의 중심 영역 이외의 영역에도 배치될 수 있다.
예를 들어, 상기 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 암부 패턴 라인은 촬상 영역에서 제1 방향으로 연장되고, 상기 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 암부 패턴 라인은 상기 촬상 영역에서 상기 제1 방향과 수직인 제2 방향으로 교대로 반복하여 배열될 수 있다.
예를 들어, 상기 보조광 패턴은, 촬상 영역에서 제1 방향으로 연장되는 상기 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 암부 패턴 라인이 상기 제1 방향과 수직인 제2 방향으로 교대로 반복하여 배열되는 제1 패턴; 및 상기 촬상 영역에서 상기 제2 방향으로 연장되는 상기 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 암부 패턴 라인이 상기 제1 방향으로 교대로 반복하여 배열되는 제2 패턴; 을 포함하고, 상기 제1 패턴 및 상기 제2 패턴은 서로 수직으로 교차되는 패턴일 수 있다.
예를 들어, 상기 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 암부 패턴 라인은 촬상 영역에서 대각선 방향으로 연장되고, 상기 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 암부 패턴 라인이 교차하는 방향으로 교대로 반복 배열될 수 있다.
예를 들어, 상기 보조광 패턴은, 촬상 영역에서 제1 대각선 방향으로 연장되는 상기 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 암부 패턴 라인이 상기 제1 대각선 방향과 교차하는 제2 방향으로 교대로 반복하여 배열되는 제1 패턴; 및 상기 촬상 영역에서 상기 제2 대각선 방향으로 연장되는 상기 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 암부 패턴 라인이 상기 제1 대각선 방향으로 교대로 반복하여 배열되는 제2 패턴; 을 포함하고, 상기 제1 패턴 및 상기 제2 패턴은 서로 교차하여 반복 배열되는 패턴일 수 있다.
예를 들어, 상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인 및 상기 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인 각각을 투과하여 기설정된 피사체 거리 내의 조사 위치에 조사되는 보조광 조사 패턴의 폭의 크기는 상기 조사 위치에서 피사체의 일부 영역의 폭의 크기보다 작을 수 있다.
본 개시의 제2 측면은, 상기 촬상 장치의 촬영 대상인 피사체에 대한 초점을 조절하는 초점 조절부; 및 상기 초점 조절부에 의한 초점 조절을 보조하는 보조광을 투광하는 보조광 투광 장치; 를 포함하고, 상기 보조광 투광 장치는, 상기 보조광을 통과시켜 상기 피사체에 투광되게 하는 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 보조광을 상기 피사체에 도달하지 않도록 차단하는 복수 개의 암부 패턴 라인을 구비하는 보조광 패턴; 을 포함하고, 상기 복수 개의 명부 패턴 라인과 상기 복수 개의 암부 패턴 라인은 서로 교대로 반복하여 배열되고, 상기 복수 개의 암부 패턴 라인 중 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 명부 패턴 라인 중 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인은 상기 보조광 패턴의 중심 영역에 배치되는 것인, 자동 초점 조절 기능을 갖는 촬상 장치를 제공한다.
예를 들어, 상기 초점 조절부는, 위상차 방식으로 초점을 조절하는 제1 자동 초점 조절부 및 콘트래스트(contrast) 방식으로 초점을 조절하는 제2 자동 초점부를 포함하고, 상기 제1 자동 초점 조절부에 의해 초점을 조절하는 제1 초점 조절 모드 및 상기 제2 자동 초점 조절부에 의해 초점을 조절하는 제2 초점 조절 모드의 전환을 제어하는 모드 제어부; 를 더 포함할 수 있다.
예를 들어, 상기 제1 자동 초점 조절부는, 상기 보조광 패턴의 상기 중심 영역의 명암 패턴의 휘도 차이에 기초하여 초점을 조절하고, 상기 제2 자동 초점 조절부는, 상기 보조광 패턴 중 상기 중심 영역 이외의 영역의 휘도 차이에 기초하여 초점을 조절할 수 있다.
예를 들어, 상기 제1 자동 초점 조절부는, 상기 위상차 방식에 의한 초점 조절의 신뢰성 지표가 되는 평가치를 획득하고, 상기 평가치를 모드 제어부에 전송하고, 상기 모드 제어부는, 상기 평가치가 기설정된 기준값을 초과하지 않는 경우 상기 제2 자동 초점 모드로 전환할 수 있다.
본 개시의 제3 측면은, 보조광 투광 장치에 포함되는 보조광 패턴에 보조광을 투광하는 단계; 상기 보조광 패턴의 중심 영역인 제1 영역의 명암 패턴의 휘도 차이에 기초하는 제1 초점 조절 모드로 초점을 조절하는 단계; 상기 제1 초점 조절 모드에 의한 초점 조절의 신뢰성 평가값이 기설정된 기준값을 초과하는지 여부를 결정하는 단계; 및 상기 신뢰성 평가값이 기설정된 기준값을 초과하지 않는 경우 상기 보조광 패턴의 제2 영역의 휘도 차이에 기초하는 제2 초점 조절 모드로 초점을 조절하는 단계; 를 포함하고, 상기 보조광 패턴은, 서로 다른 크기의 폭을 갖고 상기 보조광을 통과시켜 상기 피사체에 투광되게 하는 복수의 명부 패턴 라인 및 서로 다른 크기의 폭을 갖고, 상기 보조광을 상기 피사체에 도달하지 않도록 차단하는 복수의 암부 패턴 라인을 구비하는 것인, 촬상 장치에 장착되는 보조광 투광 장치를 사용하여 자동 초점 조절을 수행하는 방법을 제공한다.
예를 들어, 상기 제1 초점 조절 모드는 위상차 방식으로 초점을 조절하는 초점 조절 모드이고, 상기 제2 초점 조절 모드는 콘트래스트 방식으로 초점을 조절하는 초점 조절 모드일 수 있다.
도 1은 본 개시의 일 실시예에 따른 보조광 투광 장치의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 2는 본 개시의 일 실시예에 따른 보조광 패턴을 나타내는 도면이다.
도 3(a) 및 도 3(b)는 본 개시의 일 실시예에 따른 보조광 패턴과 피사체와의 관계를 나타내는 개념도이다.
도 4 내지 도 8은 본 개시의 실시예에 따른 보조광 패턴을 각각 나타내는 도면들이다.
도 9는 본 개시의 일 실시예에 따른 보조광 투광 장치를 탑재하는 촬상 장치의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 10은 도 9에 도시된 촬상 장치에 의한 자동 초점 조절 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 개시가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 개시의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 개시는 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 개시를 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 "전기적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
설명의 명확화를 위해 이하의 기재 및 도면은 적절히 생략 및 간략화되어 표현될 수 있다. 이하 첨부된 도면을 참고하여 본 개시를 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 개시의 일 실시예에 따른 보조광 투광 장치(100)의 구성 요소를 도시한 블록도이다.
도 1을 참조하면, 보조광 투광 장치(100)는 발광부(110) 및 보조광 패턴(120)을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 보조광 투광 장치(100)는 촬상 장치에 장착될 수 있다. 보조광 투광 장치(100)가 장착되는 촬상 장치는 자동 초점 조절 기능을 구비하는 촬상 장치일 수 있다. 일 실시예에서, 촬상 장치는 위상차 방식 및/또는 콘트래스트 방식을 사용하여 초점을 조절할 수 있다. 예컨대, 촬상 장치는 렌즈 교환식 미러리스 카메라일 수 있다. 보조광 투광 장치(100)는 촬상 장치에서 수행되는 자동 초점 조절 기능을 보조하기 위해 보조광을 투광할 수 있다. 보조광 투광 장치(100)는 촬상 장치의 자동 초점 조절 기능을 보조하기 위해 미리 정해진 패턴의 보조광을 투광하는 투광부를 가질 수 있다.
발광부(110)는 예컨대, 발광 다이오드(Light Emitting Diode, LED)로 구성될 수 있다. 일 실시예에서, 발광부(110)는 촬상 장치의 제어부로부터 수신된 전기적 신호에 따라 발광할 수 있다.
보조광 패턴(120)은 발광부(110)에서 발생되는 광의 일부를 차단하는 불투명부 및 발광부(110)에서 발생되는 광을 투과하는 투명부를 포함할 수 있다. 보조광 패턴(120)의 불투명부 및 투명부의 형태에 따라 보조광의 형태가 정해질 수 있다.
이하에서, 본 개시의 일 실시예에 따른 보조광 투광 장치(100)의 보조광 패턴(120)에 대하여 상세하게 설명하도록 한다.
도 2는 본 개시의 일 실시예에 따른 보조광 투광 장치(100)에 포함되는 보조광 패턴(120)을 나타내는 도면이다.
도 2를 참조하면, 보조광 패턴(120)은 복수의 명부 패턴 라인(BL) 및 복수의 암부 패턴 라인(DL)을 포함할 수 있다. 도 2에서 복수의 명부 패턴 라인(BL)은 모든 패턴 라인들에 참조 번호가 표시되지 않았지만, 투명하게 해칭된 선의 형태로 도시될 수 있다. 마찬가지로, 복수의 암부 패턴 라인(DL)은 모든 패턴 라인들에 참조 번호가 표시되지 않았지만, 검게 칠해진 라인들로 도시될 수 있다. 복수의 명부 패턴 라인(BL)은 발광부(110, 도 1 참조)에서 발생되는 광이 조사되는 투명부이고, 복수의 암부 패턴 라인(DL)은 발광부(110)에서 발생되는 광이 차단되어 조사되지 않는 불투명부일 수 있다.
복수의 명부 패턴 라인(BL) 및 복수의 암부 패턴 라인(DL)은 촬상 영역에서 서로 교대로 반복하여 배열될 수 있다. 일 실시예에서, 복수의 명부 패턴 라인(BL) 및 복수의 암부 패턴 라인(DL)은 각각 제2 방향(Y 방향)으로 연장되고, 제2 방향(Y 방향)에 수직하는 제1 방향(X 방향)으로 교대로 반복하여 배열될 수 있다. 일 실시예에서, 제1 방향(X 방향) 및 제2 방향(Y 방향)은 각각 촬상 장치에 의한 촬상 영역에서의 횡방향 및 종방향에 해당될 수 있다.
복수의 명부 패턴 라인(BL) 및 복수의 암부 패턴 라인(DL)은 각각 서로 다른 크기의 폭을 가질 수 있다. 복수의 암부 패턴 라인(DL) 중 최대 크기의 폭을 갖는 제1 암부 패턴 라인(DL_1) 및 복수의 명부 패턴 라인(BL) 중 최대 크기의 폭을 갖는 제2 명부 패턴 라인(BL_2)은 보조광 패턴(120)의 중심 영역에 배치될 수 있다. 제1 암부 패턴 라인(DL_1)은 제1 폭(W1)의 크기로 형성될 수 있고, 제2 명부 패턴 라인(BL_2)은 제2 폭(W2)의 크기로 형성될 수 있다. 일 실시예에서, 제1 폭(W1)의 크기는 제2 폭(W2)의 크기보다 클 수 있다.
일 실시예에서, 제1 암부 패턴 라인(DL_1)은 보조광 패턴(120)의 중앙부를 지나도록 제2 방향(Y 방향)으로 연장되고, 제2 명부 패턴 라인(BL_2)은 제1 암부 패턴 라인(DL_1)의 제1 방향(X 방향)으로의 양측에 접하여 제2 방향(Y 방향)으로 연장될 수 있다. 보조광 패턴(120)의 중심 영역의 양측, 즉 외측에는 서로 다른 폭의 크기(W1_1~W1_n)(단, n은 자연수이고, W1_1~W1_n은 모두 W1 이하의 크기)를 갖는 복수의 암부 패턴 라인(DL)이 배열될 수 있다. 또한, 보조광 패턴(120)의 중심 영역의 외측에는 서로 다른 폭의 크기(W2_1~W2_m)(단, m은 자연수이고, W2_1~W2_m은 모두 W2 이하의 크기)를 갖는 복수의 명부 패턴 라인(BL)이 배열될 수 있다. 제1 폭(W1)의 크기 및 제2 폭(W2)의 크기는 나머지 복수의 암부 패턴 라인(DL) 각각의 폭의 크기(W1_1~W1_n) 및 나머지 복수의 명부 패턴 라인(BL)의 폭의 크기(W2_1~W2_m) 중 최소 폭의 크기의 2배 내지 10배일 수 있다. 일 실시예에서, 제1 폭(W1)의 크기 및 제2 폭(W2)의 크기는 나머지 복수의 암부 패턴 라인(DL) 각각의 폭의 크기(W1_1~W1_n) 및 나머지 복수의 명부 패턴 라인(BL)의 폭의 크기(W2_1~W2_m) 중 최소 폭의 크기의 6배일 수 있다.
복수의 암부 패턴 라인(DL) 중 제1 암부 패턴 라인(DL_1)을 제외한 나머지 암부 패턴 라인(DL)의 폭의 크기(W1_1~W1_n) 및 복수의 명부 패턴 라인(BL) 중 제2 명부 패턴 라인(BL_2)를 제외한 나머지 명부 패턴 라인(BL)의 폭의 크기(W2_1~W2_m)는 불균일할 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니고, 복수의 명부 패턴 라인(BL)의 폭의 크기는 균일 할 수 있다. 마찬가지로, 복수의 암부 패턴 라인(DL)의 폭의 크기는 균일할 수 있다. 일 실시예에서, 제1 폭(W1)의 크기와 제2 폭(W2)의 크기는 서로 동일할 수 있다. 일 실시예에서, 복수의 명부 패턴 라인(BL) 및 복수의 암부 패턴 라인(DL)은 제1 암부 패턴 라인(DL_1)을 중심으로 좌우 대칭으로 배열될 수 있다.
도 2에 도시되지는 않았으나, 일부 실시예에서 제2 명부 패턴 라인(BL_2)이 보조광 패턴(120)의 중앙부를 지나도록 배치되고, 제1 암부 패턴 라인(DL_1)이 제2 명부 패턴 라인(BL_2)의 양측에 접하여 배치될 수 있다. 상기 실시예에서, 제2 명부 패턴 라인(BL_2)의 폭의 크기(W2)는 제1 암부 패턴 라인(DL_1)의 폭의 크기(W1)보다 클 수 있다. 상기 실시예에서, 복수의 암부 패턴 라인(DL) 및 복수의 명부 패턴 라인(BL)은 제2 명부 패턴 라인(BL_2)을 중심으로 좌우 대칭으로 배열될 수 있다.
일반적으로, 콘트래스트 방식의 초점 조절에서는 명암 패턴의 명부 패턴 라인 및 암부 패턴 라인의 반복수가 많을수록 보다 정확하게 초점을 조절할 수 있다. 이는 명암 패턴의 명부 패턴 라인과 암부 패턴 라인의 반복수가 많을수록 검출되는 콘트래스트 값에 대한 데이터수가 많아져 화상 전체의 콘트래스트 평가치의 신뢰성이 높아지기 때문이다. 그러나, 명암 패턴의 명부 패턴 라인과 암부 패턴 라인의 반복수가 많을수록, 즉, 명부 패턴 라인과 암부 패턴 라인의 폭의 크기가 작아질수록 위상차 방식의 초점 조절에 있어서, 디포커싱시(초점 조절의 개시시)의 명암 패턴의 판별이 어려워진다. 반대로, 명암 패턴의 명부 패턴 라인과 암부 패턴 라인의 반복수가 줄어들수록 즉, 명부 패턴 라인과 암부 패턴 라인의 폭을 크게 할수록 검출되는 콘트래스트 값에 대한 데이터수가 감소하게 되어 콘트래스트 방식에 의한 정확한 초점 조절이 어려워진다.
도 2에 도시된 실시예에 있어서, 제1 폭(W1)의 크기를 갖는 제1 암부 패턴 라인(DL_1)이 보조광 패턴(120)의 중앙부를 지나도록 배치되고, 제2 폭(W2)의 크기를 갖는 2개의 명부 패턴 라인(BL_2)이 제1 암부 패턴 라인(DL_1)의 양측에 배열될 수 있다. 상술한 바와 같이, 보조광 패턴(120)의 중심 영역에는 하나의 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인(DL_1)과 상기 암부 패턴 라인보다는 작지만 명부 패턴 라인(BL) 중 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인(BL_2)이 그룹으로 형성되고, 상기 그룹의 양측에는 상기 패턴 라인들보다 작은 폭의 크기를 갖는 복수의 명부 패턴 라인(BL) 및 복수의 암부 패턴 라인(DL)이 교대로 배열될 수 있다. 이로 인해, 디포커스 상태인 경우라 하더라도 위상차 방식에 의한 초점 조절이 용이해질 수 있다. 또한, 촬영자는 피사체를 촬상 영역의 중앙에 위치하도록 촬상 장치를 구성하는 경우가 많기 때문에 촬영자가 의도한 촬영 대상에 대해 초점을 맞추기가 용이한 장점이 있다. 또한, 일반적으로 렌즈의 광학적인 특성 상, 촬상 영역의 중심 영역은 주변 영역에 비해 해상도가 높기 때문에, 촬상 영역의 중심 영역이 디포커싱 상태라 하더라도 촬상 영역의 주변 영역에 비해 위상차 방식의 초점 조절이 용이하다는 이점도 있을 수 있다.
도 2에 도시된 실시예에서, 보조광 패턴(120)의 중심 영역의 양측 영역, 즉 주변 영역에는 제1 암부 패턴 라인(DL_1) 및 제2 명부 패턴 라인(BL_2) 보다 작은 폭의 크기를 갖는 복수의 암부 패턴 라인(DL) 및 복수의 명부 패턴 라인(BL)이 배열되는바, 콘트래스트 방식의 초점 조절에 있어서, 검출되는 콘트래스트 값에 대한 데이터수를 확보할 수 있고, 초점 조절의 정밀도를 향상시킬 수 있다.
또한, 상술한 바와 같이 본 개시의 일 실시예에 따른 보조광 패턴(120)은, 보조광 패턴(120)의 중심 영역에는 제1 암부 패턴 라인(DL_1) 및 제2 명부 패턴 라인(BL_2)가 배치되고, 중심 영역 이외의 주변 영역에는 제1 암부 패턴 라인(DL_1) 및 제2 명부 패턴 라인(BL_2)의 폭의 크기보다 작은 폭을 갖는 복수의 암부 패턴 라인(DL) 및 복수의 명부 패턴 라인(BL)이 배열됨으로써, 망원 촬영시, 즉 촬상 영역이 보조광 패턴(120)의 중앙 부근에 한정되는 경우라 하더라도, 위상차 방식의 초점 조절에 적합한 명암부와 콘트래스트 방식의 초점 조절에 적합한 명암부를 촬상 영역 내에 확보할 수 있다. 또한, 일 실시예에서, 복수의 암부 패턴 라인(DL)의 폭의 크기(W1_1~W1_n) 및 복수의 명부 패턴 라인(BL)의 폭의 크기(W2_1~w2_m)가 각각 다른바, 초점 검출 에러를 억제할 수 있다.
도 2에 도시된 실시예에서, 보조광 패턴(120)은 필름을 이용하여 구현될 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니고, 보조광 패턴(120)은 다른 임의의 방법으로도 구현 가능하다.
도 3a 및 도 3b는 본 개시의 일 실시예에 따른 보조광 패턴(120)과 피사체(10)와의 관계를 나타내는 개념도이다. 도 3a 및 도 3b는 본 개시의 실시예를 설명하기 위해 보조광 투광 장치(100)에 의해 투광되는 보조광 패턴(120) 중 중앙부의 패턴에 대해서만 도시하고 있다.
도 3a를 참조하면, 촬상 장치(1000)는 보조광 투광 장치(100)를 포함하고, 보조광 투광 장치(100)는 발광부(110) 및 보조광 패턴(120)을 포함할 수 있다. 촬상 장치(1000)로부터 피사체(10)까지는 제1 피사체 거리(d1)만큼 떨어져 있을 수 있다. 제1 피사체 거리(d1)는, 보조광이 충분한 강도를 가지고 조사되는 거리에 따라 정해질 수도 있고, 인물 촬영시에 바람직한 최대 피사체 거리일 수도 있다. 일 실시예에서, 제1 피사체 거리(d1)는 기설정된 거리일 수 있다. 발광부(110)로부터 발생되는 광은 보조광 패턴(120)을 통하여 피사체(10)에 조사될 수 있다. 보조광 패턴(120)을 통과한 보조광 조사 패턴은 발광부(110)로부터 멀어짐에 따라 확산될 수 있다.
도 3a에 도시된 실시예에서, 제1 피사체 거리(d1) 에서의 보조광 조사 패턴의 폭의 크기(Wa, Wb)는 피사체(10)의 어깨 폭 이내의 크기일 수 있다. 구체적으로, 발광부(110)에서 발생되는 광 중 보조광 패턴(120)의 제1 암부 패턴 라인(DL_1)을 통과한 광은 Wa의 폭의 크기로 제1 피사체 거리(d1)만큼 이격된 피사체(10), 예컨대 사람에게 조사되고, 보조광 패턴(120)의 제2 명부 패턴 라인(BL_2)을 통과한 광은 Wb의 폭의 크기로 제1 피사체 거리(d1)만큼 이격된 피사체(10)에 조사될 수 있다. 상기 실시예에서, 보조광 패턴(120)의 제1 암부 패턴 라인(DL_1)을 통과한 광 조사 패턴은 Wa의 폭의 크기, 즉 피사체(10)의 어깨 폭보다 작은 폭으로 피사체(10)에 조사될 수 있고, 보조광 패턴(120)의 제2 명부 패턴 라인(BL_2)을 통과한 광 조사 패턴은 Wb의 폭의 크기로 피사체(10)의 어깨 및 팔 부위에 조사될 수 있다. 이에 따라, 제1 피사체 거리(d1) 이내에 위치하는 피사체(10)를 촬영하는 경우, 제1 암부 패턴 라인(DL_1)과 제2 명부 패턴 라인(BL_2)의 경계가 피사체(10) 상에 조사되게 되고, 위상차 방식에서의 초점 조절시, 피사체(10)에 대한 초점 조절이 용이해질 수 있다.
일 실시예에서, 제1 암부 패턴 라인(DL_1)을 통과한 광의 조사 패턴 폭의 크기(Wa)는 제2 명부 패턴 라인(BL_2)을 통과한 광의 조사 패턴 폭의 크기(Wb)와 동일할 수 있다.
도 3b를 참조하면, 촬상 장치(1000)로부터 피사체(10)까지는 제2 피사체 거리(d2)만큼 떨어져 있을 수 있다. 제2 피사체 거리(d2)는, 보조광이 충분한 강도를 가지고 조사되는 거리에 따라 정해질 수도 있고, 인물 촬영시에 바람직한 최대 피사체 거리일 수도 있다.
도 3b에 도시된 실시예에서, 제2 피사체 거리(d2) 에서의 보조광 조사 패턴의 폭의 크기(Wc, Wd)는 피사체(10)의 머리의 폭 이내의 크기일 수 있다. 즉, 발광부(110)에서 발생되는 광 중 보조광 패턴(120)의 제1 암부 패턴 라인(DL_1)을 통과한 광은 Wc의 폭의 크기로 제2 피사체 거리(d2)만큼 이격된 피사체(10)의 머리 부위에 조사되고, 보조광 패턴(120)의 제2 명부 패턴 라인(BL_2)을 통과한 광은 Wc의 폭의 크기로 제2 피사체 거리(d2)만큼 이격된 피사체(10)의 머리에서 어깨 사이에 조사될 수 있다. 이에 따라, 제2 피사체 거리(d2) 이내에 위치하는 피사체(10)를 촬영하는 경우, 제1 암부 패턴 라인(DL_1)과 제2 명부 패턴 라인(BL_2)의 경계가 피사체(10)의 머리 부위에 조사되게 되고, 위상차 방식에서의 초점 조절시, 피사체(10)에 대한 초점 조절이 용이해질 수 있다.
도 3a 및 도 3b은, 피사체(10)가 사람인 경우, 발광부(110)에서 발생된 광이 보조광 패턴(120)의 중심 영역에 배치되는 암부 패턴 라인 및 명부 패턴 라인(DL_1, BL_2)을 각각 통과하여 사람의 어깨 부위 또는 머리 부위에 상기 명부 패턴 라인과 암부 패턴 라인의 경계가 조사되는 실시예를 도시한 것이다. 촬상 장치(1000)로 피사체(10)인 사람을 촬영할 때, 촬영자는 보통 촬상 영역의 중심 영역에 사람을 배치하는 경우가 빈번한 바, 도 3a 및 도 3b에 도시된 실시예와 같이 보조광 패턴(120)을 구현하는 경우 암부 패턴 라인과 명부 패턴 라인의 경계가 사람의 어깨 또는 머리 부위에 조사될 수 있어 사람의 흉상을 촬영하거나 사람의 얼굴만 촬영하는 경우 위상차 방식의 초점 조절을 용이하게 할 수 있다.
도 4 내지 도 8은 본 개시의 실시예에 따른 보조광 패턴(120a 내지 120e)을 각각 나타내는 도면들이다. 도 4 내지 도 8에 도시된 실시예에 따른 보조광 패턴(120a 내지 120e)은 복수의 명부 패턴 라인(BL) 및 복수의 암부 패턴 라인(DL)의 배열된 방향, 형태 및 폭의 크기에서의 차이점을 제외하고는 도 2에 도시된 보조광 패턴(120)과 동일하다. 따라서, 이하에서는 도 4 내지 도 8에 도시된 보조광 패턴(120a 내지 120e)이 도 2에 도시된 보조광 패턴(120)과 비교하여 갖는 차이점 위주로 설명하고, 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 4를 참조하면, 보조광 패턴(120a)의 중심 영역에는 제1 암부 패턴 라인(DL_1) 및 제2 명부 패턴 라인(BL_2)이 배치되고, 중심 영역의 양측부, 즉 주변 영역에는 외측 암부 패턴 라인(DL_x) 및 외측 명부 패턴 라인(BL_y)이 배치될 수 있다. 제1 암부 패턴 라인(DL_1)은 제1 폭(W1)의 크기를 갖고, 제 2 명부 패턴 라인(BL_2)은 제2 폭(W2)의 크기를 가질 수 있다. 외측 암부 패턴 라인(DL_x)은 Wx의 폭의 크기를 가질 수 있고, 외측 명부 패턴 라인(BL_y)은 Wy의 폭의 크기를 가질 수 있다. 일 실시예에서, 제1 폭(W1)의 크기는 외측 암부 패턴 라인(DL_x)의 폭의 크기(Wx)보다 클 수 있고, 제2 폭(W2)의 크기는 외측 명부 패턴 라인(BL_y)의 폭의 크기(Wy)보다 클 수 있다. 또한, 제1 폭(W1)의 크기는 제2 폭(W2)의 크기보다 클 수 있고, 외측 암부 패턴 라인(DL_x)의 폭의 크기(Wx)는 외측 명부 패턴 라인(BL_y)의 폭의 크기(Wy) 보다 클 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니고, 외측 암부 패턴 라인(DL_x)의 폭의 크기(Wx)는 제1 폭(W1)의 크기와 동일할 수 있고, 외측 명부 패턴 라인(BL_y)의 폭의 크기(Wy)는 제2 폭(W2)의 크기와 동일할 수 있다.
외측 암부 패턴 라인(DL_x) 및 외측 명부 패턴 라인(BL_y)의 개수 및 배치 위치는, 도 4에 도시된 예로 한정되는 것은 아니다. 일 실시예에서, 보조광 패턴(120a)은 외측 암부 패턴 라인(DL_x)의 폭의 크기(Wx) 보다 큰 폭의 크기를 갖는 제1 암부 패턴 라인(DL_1)만을 포함하고, 외측 명부 패턴 라인(BL_y)의 폭의 크기(Wy) 보다 큰 폭의 크기를 갖는 제2 명부 패턴 라인(BL_2)을 포함하지 않을 수 있다. 마찬가지로, 일 실시예에서, 보조광 패턴(120a)은 외측 명부 패턴 라인(BL_y)의 폭의 크기(Wy) 보다 큰 폭의 크기를 갖는 제2 명부 패턴 라인(BL_2)만을 포함하고, 외측 암부 패턴 라인(DL_x)의 폭의 크기(Wx) 보다 큰 폭의 크기를 갖는 제1 암부 패턴 라인(DL_1)을 포함하지 않을 수 있다.
또한, 도 4에 도시된 실시예에서도, 도 3(a) 및 도 3(b)에 도시된 실시예와 마찬가지로, 기설정된 피사체 거리 이내에서 보조광 패턴(120a)의 중심 영역을 통과하는 보조광의 조사 패턴의 경계가 사람의 어깨 폭 또는 얼굴 폭에 해당하는 크기 이내가 되도록 설정할 수 있다.
도 4에 도시된 보조광 패턴(120a)은 소정의 폭의 크기를 갖는 암부 패턴 라인 및 명부 패턴 라인이 보조광 패턴(120a)의 중심 영역의 이외의 영역에도 산재되어 있다. 따라서, 촬영자가 초점을 맞추고자 하는 피사체가 촬상 영역의 중심 영역이 아니라, 중심 영역으로부터 어긋난 위치, 예컨대 촬상 영역의 외측부에 있는 경우, 또는 피사체가 중심 영역으로부터 움직인 경우, 또는 촬상 영역 중심 영역의 피사체의 광의 반사율이 충분하지 않은 경우, 본 실시예에 따른 보조광 패턴(120a)을 통해 초점 조절을 용이하게 할 수 있다.
도 5를 참조하면, 보조광 패턴(120b)은 촬상 영역에서 제1 방향(X 방향)으로 연장되고, 제2 방향(Y 방향)으로 교대로 배열되는 복수의 암부 패턴 라인(DL) 및 복수의 명부 패턴 라인(BL)를 포함할 수 있다. 제1 방향(X 방향)은 촬상 영역의 횡방향이고, 제2 방향(Y 방향)은 촬상 영역의 종방향일 수 있다. 도 5에 도시된 실시예에 따른 보조광 패턴(120b)은 도 2에 도시된 보조광 패턴(120)이 ±90°만큼 회전된 것을 제외하고는 보조광 패턴(120)과 동일하다.
일 실시예에서, 보조광 패턴(120b)의 중앙에는 제1 암부 패턴 라인'(DL_1')이 배치되고, 제1 암부 패턴 라인'(DL_1')의 양측에는 제2 명부 패턴 라인'(BL_2')이 배치될 수 있다. 제1 암부 패턴 라인'(DL_1')은 제2 방향(Y 방향)으로 제1 폭'(W1')의 크기로 형성될 수 있고, 제2 명부 패턴 라인'(BL_2')은 제2 방향(Y 방향)으로 제2 폭'(W2')의 크기로 형성될 수 있다. 보조광 패턴(120b)의 중심 영역을 제외한 주변 영역에는 서로 다른 폭의 크기를 갖는 복수의 암부 패턴 라인(DL) 및 복수의 명부 패턴 라인(BL)이 교대로 배열될 수 있다. 일 실시예에서, 제1 폭'(W1')의 크기는 제1 암부 패턴 라인'(DL_1')을 제외한 복수의 암부 패턴 라인(DL)의 폭의 크기보다 클 수 있다. 일 실시예에서, 제2 폭'(W2')의 크기는 제2 명부 패턴 라인'(BL_2')을 제외한 복수의 명부 패턴 라인(BL)의 폭의 크기보다 클 수 있다.
도 5에 도시된 실시예에 따른 보조광 패턴(120b)은, 피사체가 촬상 영역의 횡방향 단부에 있는 경우, 소정의 폭의 크기를 갖는 명암 패턴이 피사체에 조사될 수 있다. 따라서, 촬상 영역의 횡방향 단부의 휘도를 감지하여 위상차 방식의 초점 조절을 실시하는 경우에, 피사체에 대한 초점을 용이하게 조절할 수 있다.
도 6을 참조하면, 보조광 패턴(120c)은 도 2에 도시된 보조광 패턴(120)과 도 5에 도시된 보조광 패턴(120b)을 합성한 패턴일 수 있다. 구체적으로, 보조광 패턴(120c)은 촬상 영역에서 제2 방향(Y 방향)으로 연장되는 복수의 수직 명부 패턴 라인(BL_V) 및 복수의 수직 암부 패턴 라인(DL_V)이 제 1 방향(X 방향)으로 교대로 반복하여 배열되는 수직 패턴 라인 및 촬상 영역에서 제1 방향(X 방향)으로 연장되는 복수의 수평 명부 패턴 라인(BL_H) 및 복수의 수평 암부 패턴 라인(DL_H)이 제2 방향(Y 방향)으로 교대로 반복하여 배열되는 수평 패턴 라인을 포함할 수 있다. 여기에서, 제1 방향(X 방향)은 촬상 영역의 횡방향이고, 제2 방향(Y 방향)은 촬상 영역의 종방향일 수 있다.
수직 패턴 라인과 수평 패턴 라인은 서로 수직으로 교차할 수 있다. 일 실시예에서, 수직 패턴 라인과 수평 패턴 라인의 교차에 의해 명부 패턴 라인과 암부 패턴 라인이 오버랩되는 부분에 대해서는 암부 패턴 라인이 명부 패턴 라인에 대해 우선적으로 형성될 수 있다. 즉, 오버랩 되는 부분에 있어서는, 암부 패턴 라인이 명부 패턴 라인을 불투명한 패턴으로 형성할 수 있다.
일 실시예에서, 복수의 수직 암부 패턴 라인(DL_V) 중 최대 폭을 갖는 제1 수직 암부 패턴 라인(DL_V1)은 보조광 패턴(120c)의 중앙에 배치되고, 복수의 수직 명부 패턴 라인(BL_V) 중 최대 폭을 갖는 제2 수직 명부 패턴 라인(BL_V2)은 제1 수직 암부 패턴 라인(DL_V1)의 양측에 접하여 배치될 수 있다. 또한, 복수의 수평 암부 패턴 라인(DL_H) 중 최대 폭을 갖는 제1 수평 암부 패턴 라인(DL_H1)은 보조광 패턴(120c)의 중앙에 배치되고, 복수의 수평 명부 패턴 라인(BL_H) 중 최대 폭을 갖는 제2 수평 명부 패턴 라인(BL_H2)은 제1 수평 암부 패턴 라인(DL_H1)의 양측에 접하여 배치될 수 있다. 제2 수직 명부 패턴 라인(BL_V2)의 측면에는 각각 서로 다른 크기의 폭을 갖는 복수의 수직 암부 패턴 라인(DL_V) 및 복수의 수직 명부 패턴 라인(BL_V)이 교대로 반복하여 배열될 수 있다. 마찬가지로, 제2 수평 명부 패턴 라인(BL_H2)의 상/하면에는 각각 서로 다른 크기의 폭을 갖는 복수의 수평 암부 패턴 라인(DL_H) 및 복수의 수평 명부 패턴 라인(BL_H)이 교대로 반복하여 배열될 수 있다.
제1 수직 암부 패턴 라인(DL_V1)은 제1 방향(X 방향)으로 제1 수직 폭(W1_V)의 크기로 형성되고, 제2 수직 명부 패턴 라인(BL_V2)은 제1 방향(X 방향)으로 제2 수직 폭(W2_V)의 크기로 형성될 수 있다. 일 실시예에서, 제1 수직 폭(W1_V)의 크기는 제2 수직 폭(W2_V)의 크기보다 클 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 제2 수평 암부 패턴 라인(DL_H1)은 제2 방향(Y 방향)으로 제1 수평 폭(W1_H)의 크기로 형성되고, 제2 수평 명부 패턴 라인(BL_H2)은 제2 방향(Y 방향)으로 제2 수평 폭(W2_H)의 크기로 형성될 수 있다. 일 실시예에서, 제1 수평 폭(W1_H)의 크기는 제2 수평 폭(W2_H)의 크기보다 클 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다.
일 실시예에서, 기설정된 피사체 거리 이내에서 보조광 패턴(120c)의 중심 영역을 지나는 수직 명암 패턴 폭의 크기는 피사체인 사람의 어깨 폭 또는 얼굴 폭에 해당하는 크기 이내가 되도록 형성될 수 있다.
도 7을 참조하면, 보조광 패턴(120d)은 촬상 영역에서 대각선 방향으로 연장되는 복수의 명부 패턴 라인(BL_S) 및 복수의 암부 패턴 라인(DL_S)을 포함할 수 있다. 구체적으로, 복수의 명부 패턴 라인(BL_S) 및 복수의 암부 패턴 라인(DL_S)은 제1 방향(X 방향)과 제2 방향(Y 방향)의 사이의 소정의 각도를 갖는 대각선 방향으로 연장되고, 상기 대각선 방향과 교차하는 방향으로 서로 교대로 배열될 수 있다. 일 실시예에서, 복수의 명부 패턴 라인(BL_S) 및 복수의 암부 패턴 라인(DL_S)은 제1 방향(X 방향)을 기준으로 10° 내지 80°의 각도를 형성하는 방향으로 연장될 수 있다.
다른 실시예에서, 복수의 명부 패턴 라인(BL_S) 및 복수의 암부 패턴 라인(DL_S)은 도 7에 도시된 바와는 다른 각도의 대각선 방향으로 연장될 수 있다. 일 실시예에서, 복수의 명부 패턴 라인(BL_S) 및 복수의 암부 패턴 라인(DL_S)은 제1 방향(X 방향)을 기준으로 100° 내지 170°의 각도를 형성하는 방향으로 연장될 수 있다.
보조광 패턴(120d)은, 상기 보조광 패턴(120d)의 중심 영역을 대각선 방향으로 가로질러 연장되는 제1 암부 패턴 라인''(DL_1'')을 포함하고, 제1 암부 패턴 라인''(DL_1'')의 양 측면에서 상기 제1 암부 패턴 라인''(DL_1'')과 동일한 각도의 대각선 방향으로 연장되는 제2 명부 패턴 라인''(BL_2'')을 포함할 수 있다. 제1 암부 패턴 라인''(DL_1'')은 제1 폭''(W1'')의 크기를 갖도록 형성되고, 제2 명부 패턴 라인''(BL_2'')은 제2 폭''(W2'')의 크기를 갖도록 형성될 수 있다. 보조광 패턴(120d)의 중심 영역의 이외의 영역, 즉 주변 영역에는 서로 다른 크기의 폭을 갖는 복수의 암부 패턴 라인(DL_S) 및 복수의 명부 패턴 라인(BL_S)이 대각선 방향으로 연장될 수 있다. 제1 암부 패턴 라인''(DL_1'')의 폭의 크기(W1'')는 상기 제1 암부 패턴 라인''(DL_1'')을 제외한 복수의 암부 패턴 라인(DL_S) 각각의 폭의 크기보다 클 수 있다. 마찬가지로, 제2 명부 패턴 라인''(BL_2'')의 폭의 크기(W2'')는 상기 제2 명부 패턴 라인''(BL_2'')을 제외한 복수의 명부 패턴 라인(BL_S) 각각의 폭의 크기보다 클 수 있다. 제1 암부 패턴 라인''(DL_1'')의 폭의 크기(W1'')는 제2 명부 패턴 라인''(BL_2'')의 폭의 크기(W2'')보다 클 수 있지만 이에 한정되는 것은 아니다.
도 7에 도시된 실시예에 의한 보조광 패턴(120d)은, 피사체의 위치가 촬상 영역의 중심 영역으로부터 어긋나 있어도, 도 2에 도시한 보조광 패턴(120)에 비해, 소정의 폭의 크기의 명암 패턴이 피사체에 투영될 수 있다. 따라서, 촬상 영역의 중심 영역으로부터 어긋나 있는 피사체를 촬영하는 경우, 위상차 방식의 초점 조절에 있어서 용이할 수 있다.
도 8을 참조하면, 보조광 패턴(120e)은 도 7에 도시된 보조광 패턴(120d)과 상기 보조광 패턴(120d)의 좌우 대칭 패턴을 교차시켜 합성한 패턴일 수 있다. 구체적으로, 보조광 패턴(120e)은 촬상 영역에서 제1 방향(X 방향)과 제2 방향(Y 방향) 사이의 제1 대각선 방향으로 연장되고, 제1 대각선 방향과 교차되는 제2 대각선 방향으로 교대로 배열되는 복수의 제1 명부 패턴 라인(BL_S') 및 복수의 제1 암부 패턴 라인(DL_S')을 포함할 수 있다. 또한, 보조광 패턴(120e)은 촬상 영역에서 제2 대각선 방향으로 연장되고, 제1 대각선 방향으로 교대로 배열되는 복수의 제2 명부 패턴 라인(BL_S'') 및 복수의 제2 암부 패턴 라인(DL_S'')을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 제1 대각선 방향은 제1 방향(X 방향)을 기준으로 10° 내지 80°의 각도를 형성하는 방향이고, 제2 대각선 방향은 제1 방향(X 방향)을 기준으로 100° 내지 170°의 각도를 형성하는 방향일 수 있다.
복수의 제1 명부 패턴 라인(BL_S')과 복수의 제2 명부 패턴 라인(BL_S'')는 서로 교차되어 배열될 수 있다. 마찬가지로, 복수의 제1 암부 패턴 라인(DL_S')과 복수의 제2 암부 패턴 라인(DL_S'')은 서로 교차되어 배열될 수 있다. 일 실시예에서, 제1 대각선 방향으로 연장되는 복수의 제1 명부 패턴 라인(BL_S') 및 복수의 제1 암부 패턴 라인(DL_S')와 제2 대각선 방향으로 연장되는 복수의 제2 명부 패턴 라인(BL_S'') 및 복수의 제2 암부 패턴 라인(DL_S'')는 오버랩되는 부분이 발생될 수 있다. 상기 오버랩되는 부분에 대해서는 암부 패턴 라인이 명부 패턴 라인에 대해 우선적으로 형성될 수 있다. 즉, 오버랩 되는 부분에 있어서는, 암부 패턴 라인이 명부 패턴 라인을 불투명한 패턴으로 형성할 수 있다.
보조광 패턴(120e)의 중앙부에는, 복수의 제1 암부 패턴 라인(DL_S') 중 최대 크기의 폭을 갖는 제1 암부 패턴 라인'(DL_S1')이 배치될 수 있다. 또한, 제1 암부 패턴 라인'(DL_S1')의 양측에는 복수의 제1 명부 패턴 라인(BL_S') 중 최대 크기의 폭을 갖는 제2 명부 패턴 라인'(BL_S2')가 배열될 수 있다. 제1 암부 패턴 라인'(DL_S1')은 W1_S1'의 폭의 크기로 형성되고, 제2 명부 패턴 라인'(BL_S2')는 W2_S2'로 형성될 수 있다. 제2 명부 패턴 라인'(BL_S')의 측면에는 폭의 크기가 서로 다른 복수의 제1 암부 패턴 라인(DL_S') 및 복수의 제1 명부 패턴 라인(BL_S')이 교대로 반복하여 배열될 수 있다. 또한, 보조광 패턴(120e)의 중앙부에는 복수의 제2 암부 패턴 라인(DL_S'') 중 최대 크기의 폭을 갖는 제1 암부 패턴 라인''(DL_S1'')이 배치될 수 있다. 제1 암부 패턴 라인''(DL_S1'')의 양측에는 복수의 제2 명부 패턴 라인(BL_S'') 중 최대 크기의 폭을 갖는 제2 명부 패턴 라인''(BL_S2'')가 배열될 수 있다. 제1 암부 패턴 라인''(DL_S1'')은 W1_S1''의 폭의 크기로 형성되고, 제2 명부 패턴 라인''(BL_S2'')는 W2_S2''로 형성될 수 있다. 제2 명부 패턴 라인''(BL_S'')의 측면에는 폭의 크기가 서로 다른 복수의 제2 암부 패턴 라인(DL_S'') 및 복수의 제2 명부 패턴 라인(BL_S'')이 교대로 반복하여 배열될 수 있다.
도 8에 도시된 보조광 패턴(120e)은, 촬영되는 피사체의 위치가 촬상 영역의 제1 대각선 방향 또는 제2 대각선 방향의 중심 영역 중 어느 한 곳에 있으면, 소정의 폭의 크기를 갖는 명암 패턴이 그 피사체에 투영되게 된다. 따라서, 도 7에 도시한 보조광 패턴(120d)을 투과한 보조광을 조사하는 경우에 비해, 더욱 광범위한 위치의 피사체에 대해, 위상차 방식의 초점 조절을 용이하게 실시할 수 있다.
도 9는 본 개시의 일 실시예에 따른 보조광 투광 장치(120)를 탑재하는 촬상 장치(1000)의 구성 요소를 도시한 블록도이다.
도 9를 참조하면, 촬상 장치(1000)는 보조광 투광 장치(100), 카메라 본체(200) 및 렌즈부(300)를 포함할 수 있다. 촬상 장치(1000)는 예컨대, DSLR(Digital Single Lens Reflex) 카메라, 렌즈 교환식 카메라, 미러리스 카메라 중 어느 하나일 수 있다. 카메라 본체(200)에는 렌즈부(300)가 장착될 수 있다.
보조광 투광 장치(100)는 발광부(110) 및 보조광 패턴(120)을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 보조광 투광 장치(100)는 카메라 본체(200)의 상부에 탑재되거나 또는 내장되는 구성일 수 있다.
발광부(110)는 촬상 장치(1000)에서의 자동 초점 조절을 보조하기 위한 보조광을 피사체에 투광할 수 있다. 발광부(110)는, 예컨대 발광 다이오드(LED)로 구성될 수 있다. 발광부(110)는 촬상 장치(1000)의 제어부(220)로부터 수신된 전기적 신호에 따라 발광할 수 있다.
보조광 투광 장치(100)는 촬상 장치(1000)의 자동 초점 조절 기능을 보조하기 위한 미리 정해진 패턴의 보조광을 투광하는 보조광 패턴(120)을 포함할 수 있다. 도 9에서 보조광 패턴(120)은 120, 즉 도 2에 도시된 보조광 패턴(120)으로 도시되었으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 도 9에 도시된 보조광 투광 장치(100)는 도 2, 도 4 내지 도 8에 도시된 보조광 패턴(120, 120a 내지 120e) 중 어느 하나의 보조광 패턴을 포함할 수 있다.
카메라 본체(200)는 촬상 소자(210) 및 제어부(220)를 포함할 수 있다.
촬상 소자(210)는 화소에 대응하는 복수의 광전 변환 소자를 갖는 CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor) 이미지 센서 또는 CCD(Charge Coupled Device) 이미지 센서의 디바이스로 구성될 수 있다. 촬상 소자(210)는 촬상용 화소 및 초점 검출용 화소를 포함할 수 있다. 초점 검출용 화소는, 예컨대 라인상으로 배열되고, 위상차 방식의 초점 조절을 행하기 위한 신호를 출력할 수 있다. 즉, 후술하는 위상차 AF 제어부(221)는 상기 초점 검출용 화소로부터의 출력 신호를 이용하여 연산함으로써, 초점 조절 처리를 수행할 수 있다. 일 실시예에서, 촬상 장치(1000)는 상면 위상차 방식으로 초점을 자동 조절할 수 있다.
제어부(220)는 위상차 AF 제어부(221), 콘트래스트 AF 제어부(222), 모드 제어부(223), 투광 제어부(224)를 포함할 수 있다. 제어부(220)는 촬상 장치(1000)를 제어할 수 있다. 구체적으로, 제어부(220)는, 예컨대 CPU 및 메모리를 구비한 컴퓨터로서의 기능을 구비하고, 메모리에 기억된 프로그램을 실행함으로써, 촬상 장치(1000)를 제어할 수 있다. 또한 제어부(220)의 처리 중 일부 또는 전부가 전기 회로 등의 하드웨어에 의해 실현될 수 있다.
위상차 AF 제어부(221)는 공지된 위상차 방식에 의한 초점 조절을 실시할 수 있다. 즉, 위상차 AF 제어부(221)는 한 쌍의 피사체 상의 간격을 검출함으로써, 디포커스량을 산출하고, 산출된 디포커스량에 따라 렌즈부(300) 내의 포커스 렌즈(310)의 위치를 이동시키도록 렌즈 제어부(330)에 전기적 신호를 전송할 수 있다. 또한, 위상차 AF 제어부(221)는 위상차 방식에 의한 초점 조절의 신뢰성 지표, 즉 산출된 디포커스량의 신뢰성 지표가 되는 평가치를 모드 제어부(223)로 전송할 수 있다. 여기에서, 평가치는 디포커스량의 신뢰성 지표가 되는 값일 수 있다.
위상차 방식에서는 피사체로부터의 광속이 2방향으로 분리되어 라인상으로 배열된 초점 검출용 화소군에 조사된다. 이때, 초점 검출용 화소군으로부터의 출력값에 따라 광의 강도를 나타내는 2개의 출력 분포를 얻을 수 있다. 디포커스량의 산출은 이 2개의 출력 분포가 나타내는 2개의 파형의 상대적인 편차량을 검출함으로써 수행될 수 있다. 편차량을 검출하기 위해 양 파형의 상대적인 위치를 시프트시키면서, 시프트시킨 위치에서의 양 파형의 상관 정도를 산출한다. 이와 같이, 상관 정도의 산출을 실시하는 이유는 상관 정도가 가장 높아졌을 때의 시프트량이 편차량에 대응되기 때문이다. 일 실시예에서, 위상차 AF 제어부(221)는 상기 상관 정도를 평가치로서 이용할 수 있다. 상관 정도가 높을 수록 신뢰성이 높은 것을 의미할 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니고, 예컨대, 평가치로서 양 파형의 피크치의 크기가 이용될 수 있다. 피크치가 클수록 신뢰성이 높은 것을 의미할 수 있다.
콘트래스트 AF 제어부(222)는 피사체 상의 콘트래스트를 검출하여 초점 조절을 실시하는 방식인 공지된 콘트래스트 방식에 의한 초점 조절을 실시할 수 있다. 콘트래스트 AF 제어부(222)는 포커스 렌즈(310)를 이동하면서 촬상 소자(210)로부터 콘트래스트 값을 취득하고, 콘트래스트 값이 가장 높아지는 포커스 렌즈(310)의 위치를 검출하고, 그 때의 포커스 렌즈(310)의 위치를 포커싱 위치로 결정할 수 있다. 구체적으로, 콘트래스트 AF 제어부(222)는, 예컨대 촬상 소자(210) 전체를 분할한 복수의 부분 영역마다 그 부분 영역의 콘트래스트값을 산출하고, 부분 영역 각각의 콘트래스트값을 적산함으로써, 그 때의 포커스 렌즈(310)의 위치에서의 콘트래스트 평가치를 산출한다. 또한 콘트래스트 AF 제어부(222)는 촬상 영역의 전 화소 중 소정의 간격마다의 화소의 출력에 따라 콘트래스트 값을 취득할 수 있다. 상기 방법으로, 촬상 영역의 전 화소의 출력에 따라 콘트래스트 값을 취득하는 경우에 비해, 처리 부하를 저감할 수 있다. 또한 콘트래스트 AF 제어부(222)는 촬상 영역의 전 화소의 출력에 따라 콘트래스트 값을 취득할 수 있다. 콘트래스트 AF 제어부(222)는 콘트래스트 평가치가 최대가 되는 포커스 렌즈(310)의 위치를 포커싱 위치로 결정할 수 있다.
모드 제어부(223)는 위상차 AF 제어부(221)에 의한 초점 조절과 콘트래스트 AF 제어부(222)에 의한 초점 조절의 모드 전환을 제어할 수 있다. 모드 제어부(223)는 위상차 AF 제어부(221)에 의한 초점 조절의 신뢰성 지표가 되는 평가치가 기설정된 기준치를 충족하지 못하는 경우, 콘트래스트 AF 제어부(222)에 의한 초점 조절로 초점 조절 모드를 전환할 수 있다. 다만 이에 한정되는 것은 아니고, 다른 실시예에서 모드 제어부(223)는 상술한 평가치의 값에 관계없이, 위상차 AF 제어부(221)에 의한 초점 조절을 실시한 후, 콘트래스트 AF 제어부(222)에 의한 초점 조절을 실시하도록 제어할 수도 있다.
위상차 AF 제어부(221)는 보조광 투광 장치(100)에 의해 투광된 보조광의 중심 영역을 포함한 기설정된 영역의 명암 패턴의 휘도차에 따라 초점 조절을 실시하고, 콘트래스트 AF 제어부(222)는 중심 영역 이외의 외측, 즉 주변 영역의 명암 패턴의 휘도차에 따라 초점 조절을 실시할 수 있다. 일 실시예에서, 위상차 AF 제어부(221)는 보조광 투광 장치(100)에 의해 투광된 보조광의 중심 영역을 포함하는 기설정된 영역의 명암 패턴의 휘도차에 한정되지 않고, 다른 영역의 휘도차에 따라 초점 조절을 실시할 수도 있다. 일 실시예에서, 콘트래스트 AF 제어부(222)에 의한 초점 조절에서는 주변 영역의 명암 패턴의 휘도 뿐만 아니라, 중심 영역의 명암 패턴의 휘도차에 따라 초점 조절을 실시할 수도 있다.
투광 제어부(224)는 보조광 투광 장치(100)에 의한 투광을 제어할 수 있다. 구체적으로, 투광 제어부(224)는 발광부(110)에게, 발광을 지시하는 신호를 전송할 수 있다. 투광 제어부(224)는 위상차 AF 제어부(221)에 의한 초점 조절시 및 콘트래스트 AF 제어부(222)에 의한 초점 조절시 발광부(110)가 발광하도록 발광부(110)를 제어할 수 있다.
일 실시예에서, 투광 제어부(224)는 초점 조절시, 피사체의 휘도가 낮다고 판단되는 경우, 또는 피사체의 콘트래스트가 낮고 포커싱이 불가능하다고 판단되는 경우, 발광부(110)에 대해 발광을 지시하는 신호를 전송할 수 있다. 예컨대, 투광 제어부(224)는 촬상 소자(210)에 의해 검지된 피사체의 휘도가 미리 정해진 반응을 일으키는 최소의 물리량 미만인 경우에 피사체의 휘도가 낮다고 판단하고, 발광부(110)에 대해 발광을 지시하는 신호를 전송할 수 있다. 예컨대, 투광 제어부(224)는 피사체의 콘트래스트값이 미리 정해진 반응을 일으키는 최소의 물리량 미만인 경우에 콘트래스트가 낮다고 판단하고, 발광부(110)에 대해 발광을 지시하는 신호를 전송할 수 있다.
일 실시예에서, 제어부(220)는 렌즈부(300)의 렌즈 제어부(330)로부터 렌즈 정보를 수신하고, 렌즈 제어부(330)에 포커스 렌즈(310)의 이동량에 관한 정보를 전신할 수 있다. 제어부(220)는 촬상 소자(210)로부터의 화소 출력에 대해 필요에 따라 소정의 정보 처리를 실시함으로써 화상 정보를 생성하고, 생성한 화상 정보를 기록 매체(미도시)로 출력할 수 있다.
렌즈부(300)는 포커스 렌즈(310), 모터(320) 및 렌즈 제어부(330)를 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 포커스 렌즈(310)는 복수의 렌즈로 구성될 수 있고, 모터(320)는 포커스 렌즈(310)의 위치를 바꿀 수 있다. 렌즈 제어부(330)는 렌즈 내의 각부를 제어할 수 있다.
도 9에 도시된 촬상 장치(1000)는, 위상차 방식의 자동 초점 조절 기능 및 콘트래스트 방식의 자동 초점 조절 기능을 모두 구비할 수 있다. 촬상 장치(1000)는 보조광 패턴(120)을 포함하는 보조광 투광 장치(100)에 보조광을 투광함으로써, 상기 위상차 방식의 자동 초점 조절 기능 및 콘트래스트 방식의 자동 초점 기능을 보완하는 하이브리드 방식으로 초점을 제어할 수 있는바, 피사체에 대한 자동 초점 조절 시간의 단축 및 자동 초점 기능의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
도 10은 도 9에 도시된 촬상 장치(1000)에서 수행되는 자동 초점 조절 방법을 설명하기 위한 흐름도이다. 이하에서 각 구성 요소 및 구성 요소의 참조 번호는 도 9를 참조하도록 한다.
단계 S1010에서, 촬상 장치(1000)는 보조광 패턴(120)을 통해 피사체에 보조광을 투광한다. 구체적으로, 투광 제어부(224)에 의한 발광 지시에 따라 발광부(110)에 수신되면, 발광부(110)는 광을 발생시키고, 발생된 광은 보조광 패턴(120)을 통해 피사체에 조사될 수 있다. 도 2, 도 4 내지 도 8을 참조하면, 암부 패턴 라인은 발광부(110)에서 발생된 광을 차단하고, 명부 패턴 라인은 상기 광을 통과시킬 수 있다.
단계 S1020에서, 촬상 장치(1000)는 위상차 방식으로 초점을 조절한다. 일 실시예에서, 위상차 AF 제어부(221)는 보조광 투광 장치(100)에 의해 투광된 보조광의 중심 영역의 명암 패턴의 휘도차를 검출하여 초점을 조절할 수 있다. 도 2, 도 4 내지 도 8을 참조하면, 위상차 AF 제어부(221)는 복수의 명부 패턴 라인(BL) 및 복수의 암부 패턴 라인(DL)를 통과한 보조광에 의한 휘도차를 검출하여 초점을 조절할 수 있다. 위상차 AF 제어부(221)는 위상차 방식에 의한 초점 조절의 신뢰성 지표가 되는 평가치를 획득할 수 있다. 위상차 AF 제어부(221)는 상기 평가치를 모드 제어부(223)에 전송할 수 있다.
단계 S1030에서, 촬상 장치(1000)는 위상차 방식에 의한 초점 조절의 신뢰성 평가값이 기설정된 기준값을 초과하는지 결정한다. 일 실시예에서, 모드 제어부(223)는 단계 S1020에서 위상차 AF 제어부(221)로부터 수신된 평가치가 기설정된 기준치를 초과하는지 여부를 결정할 수 있다. 모드 제어부(223)는 평가치가 기설정된 기준치를 초과하는 경우(YES), 피사체에 대해 충분히 포커싱된 것으로 판단하여 초점 조절을 종료하고, 평가치가 기설정된 기준치 이하인 경우(NO), 피사체에 대해 충분히 포커싱되지 않은 것으로 판단하여 콘트래스트 AF 제어부(222)에 의한 초점 조절로 초점 조절 모드를 전환할 수 있다. 초점 조절 모드가 전환되는 경우, 포커스 렌즈(310)의 위치는 위상차 AF 제어부(221)에 의한 초점 조절에 의해 이동된 위치로 이동될 수 있다. 일 실시예에서, 포커스 렌즈(310)의 위치 조절은 모터(320)에 의해 수행될 수 있다.
단계 S1040에서, 촬상 장치(1000)는 콘트래스트 방식으로 초점을 조절한다. 일 실시예에서, 콘트래스트 AF 제어부(222)는 콘트래스트 방식에 의해 초점을 조절할 수 있다. 일 실시예에서, 콘트래스트 AF 제어부(222)는 보조광 조사 패턴의 주변 영역의 명암 패턴의 휘도차를 검출하여 초점 조절을 실시할 수 있다. 도 2, 도 4 내지 도 8을 참조하면, 콘트래스트 AF 제어부(222)는 복수의 명부 패턴 라인(BL) 및 복수의 암부 패턴 라인(DL)에 의해 조사되는 주변 영역의 명암 패턴의 휘도차를 검출하여 초점을 조절할 수 있다.
도 9 및 도 10을 참조하면, 촬상 장치(1000)는 먼저, 일반적으로 고속인 위상차 방식으로 초점을 조절하고, 이후 콘트래스트 방식으로 초점을 조절할 수 있다. 상기 실시예에서, 콘트래스트 방식의 초점 조절 전에 이미 어느 정도 위상차 방식의 초점 조절이 행해지는바, 초점 조절로 인해 소비되는 시간을 단축시킬 수 있다. 또한, 상기 실시예에서, 촬상 장치(1000)는 위상차 방식의 초점 조절 결과의 신뢰성이 기설정된 기준을 충족시키는 경우에는 콘트래스트 방식의 초점 조절을 실시하지 않는바, 초점 조절에 의해 소비되는 시간을 단축시킬 수 있다.
본 개시의 일 실시예는 컴퓨터에 의해 실행되는 프로그램 모듈과 같은 컴퓨터에 의해 실행가능한 명령어를 포함하는 기록 매체의 형태로도 구현될 수 있다. 컴퓨터 판독 가능 매체는 컴퓨터에 의해 액세스될 수 있는 임의의 가용 매체일 수 있고, 휘발성 및 비휘발성 매체, 분리형 및 비분리형 매체를 모두 포함한다. 또한, 컴퓨터 판독가능 매체는 컴퓨터 저장 매체 및 통신 매체를 모두 포함할 수 있다. 컴퓨터 저장 매체는 컴퓨터 판독가능 명령어, 데이터 구조, 프로그램 모듈 또는 기타 데이터와 같은 정보의 저장을 위한 임의의 방법 또는 기술로 구현된 휘발성 및 비휘발성, 분리형 및 비분리형 매체를 모두 포함한다. 통신 매체는 전형적으로 컴퓨터 판독가능 명령어, 데이터 구조, 프로그램 모듈, 또는 반송파와 같은 변조된 데이터 신호의 기타 데이터, 또는 기타 전송 메커니즘을 포함하며, 임의의 정보 전달 매체를 포함한다.
전술한 본 개시의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 개시가 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 개시의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.
본 개시의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 개시의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

Claims (20)

  1. 자동 초점 조절 기능을 갖는 촬상 장치에 있어서,
    상기 촬상 장치에 장착되고, 상기 촬상 장치의 자동 초점 조절을 보조하는 보조광을 피사체에 투과하는 발광부; 및
    상기 보조광을 통과시켜 상기 피사체에 투광되게 하는 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 보조광을 상기 피사체에 도달하지 않도록 차단하는 복수 개의 암부 패턴 라인을 구비하는 보조광 패턴;
    을 포함하고,
    상기 복수 개의 명부 패턴 라인과 상기 복수 개의 암부 패턴 라인은 서로 교대로 반복하여 배열되고,
    상기 복수 개의 암부 패턴 라인 중 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 명부 패턴 라인 중 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인은 상기 보조광 패턴의 중심 영역에 배치되는 것인, 촬상 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인은 상기 보조광 패턴의 중앙에 배치되고,
    상기 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인은 상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인의 양측에 각각 배치되는 것인, 촬상 장치.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인은 상기 보조광 패턴의 중앙에 배치되고,
    상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인은 상기 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인의 양측에 각각 배치되는 것인, 촬상 장치.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인은 상기 보조광 패턴의 중앙에 배치되고,
    상기 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 암부 패턴 라인은, 상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인을 중심으로 좌우 대칭되게 배열되는 것인, 촬상 장치.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인은 상기 보조광 패턴의 중앙에 배치되고,
    상기 복수 개의 암부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 명부 패턴 라인은, 상기 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인을 중심으로 좌우 대칭되게 배열되는 것인, 촬상 장치.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 복수 개의 명부 패턴 라인의 폭의 크기는 각각 다르고,
    상기 복수 개의 암부 패턴 라인의 폭의 크기는 각각 다른 것인, 촬상 장치.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인의 폭의 크기는 상기 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인의 폭의 크기보다 큰 것인, 촬상 장치.
  8. 제1 항에 있어서,
    상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인의 폭의 크기는 상기 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인의 폭의 크기와 동일한 것인, 촬상 장치.
  9. 제1 항에 있어서,
    상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인 및 상기 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인은 각각 복수 개로 구성되고,
    복수 개의 상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인 및 복수 개의 상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인은 상기 보조광 패턴의 중심 영역 이외의 영역에도 배치되는 것인, 촬상 장치.
  10. 제1 항에 있어서,
    상기 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 암부 패턴 라인은 촬상 영역에서 제1 방향으로 연장되고,
    상기 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 암부 패턴 라인은 상기 촬상 영역에서 상기 제1 방향과 수직인 제2 방향으로 교대로 반복하여 배열되는 것인, 촬상 장치.
  11. 제1 항에 있어서,
    상기 보조광 패턴은,
    촬상 영역에서 제1 방향으로 연장되는 상기 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 암부 패턴 라인이 상기 제1 방향과 수직인 제2 방향으로 교대로 반복하여 배열되는 제1 패턴; 및
    상기 촬상 영역에서 상기 제2 방향으로 연장되는 상기 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 암부 패턴 라인이 상기 제1 방향으로 교대로 반복하여 배열되는 제2 패턴; 을 포함하고,
    상기 제1 패턴 및 상기 제2 패턴은 서로 수직으로 교차되는 패턴인 것인, 촬상 장치.
  12. 제1 항에 있어서,
    상기 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 암부 패턴 라인은 촬상 영역에서 대각선 방향으로 연장되고, 상기 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 암부 패턴 라인이 교차하는 방향으로 교대로 반복 배열되는 것인, 촬상 장치.
  13. 제1 항에 있어서,
    상기 보조광 패턴은,
    촬상 영역에서 제1 대각선 방향으로 연장되는 상기 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 암부 패턴 라인이 상기 제1 대각선 방향과 교차하는 제2 방향으로 교대로 반복하여 배열되는 제1 패턴; 및
    상기 촬상 영역에서 상기 제2 대각선 방향으로 연장되는 상기 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 암부 패턴 라인이 상기 제1 대각선 방향으로 교대로 반복하여 배열되는 제2 패턴; 을 포함하고,
    상기 제1 패턴 및 상기 제2 패턴은 서로 교차하여 반복 배열되는 패턴인 것인, 촬상 장치.
  14. 제1 항에 있어서,
    상기 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인 및 상기 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인 각각을 투과하여 기설정된 피사체 거리 내의 조사 위치에 조사되는 보조광 조사 패턴의 폭의 크기는 상기 조사 위치에서 피사체의 일부 영역의 폭의 크기보다 작은 것인, 촬상 장치.
  15. 자동 초점 조절 기능을 갖는 촬상 장치에 있어서,
    상기 촬상 장치의 촬영 대상인 피사체에 대한 초점을 조절하는 초점 조절부; 및
    상기 초점 조절부에 의한 초점 조절을 보조하는 보조광을 투광하는 보조광 투광 장치; 를 포함하고,
    상기 보조광 투광 장치는,
    상기 보조광을 통과시켜 상기 피사체에 투광되게 하는 복수 개의 명부 패턴 라인 및 상기 보조광을 상기 피사체에 도달하지 않도록 차단하는 복수 개의 암부 패턴 라인을 구비하는 보조광 패턴; 을 포함하고,
    상기 복수 개의 명부 패턴 라인과 상기 복수 개의 암부 패턴 라인은 서로 교대로 반복하여 배열되고,
    상기 복수 개의 암부 패턴 라인 중 최대 폭을 갖는 암부 패턴 라인 및 상기 복수 개의 명부 패턴 라인 중 최대 폭을 갖는 명부 패턴 라인은 상기 보조광 패턴의 중심 영역에 배치되는 것인, 촬상 장치.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 초점 조절부는,
    위상차 방식으로 초점을 조절하는 제1 자동 초점 조절부 및 콘트래스트(contrast) 방식으로 초점을 조절하는 제2 자동 초점부를 포함하고,
    상기 제1 자동 초점 조절부에 의해 초점을 조절하는 제1 초점 조절 모드 및 상기 제2 자동 초점 조절부에 의해 초점을 조절하는 제2 초점 조절 모드의 전환을 제어하는 모드 제어부; 를 더 포함하는 것인, 촬상 장치.
  17. 제16 항에 있어서,
    상기 제1 자동 초점 조절부는, 상기 보조광 패턴의 상기 중심 영역의 명암 패턴의 휘도 차이에 기초하여 초점을 조절하고,
    상기 제2 자동 초점 조절부는, 상기 보조광 패턴 중 상기 중심 영역 이외의 영역의 휘도 차이에 기초하여 초점을 조절하는 것인, 촬상 장치.
  18. 제17 항에 있어서,
    상기 제1 자동 초점 조절부는, 상기 위상차 방식에 의한 초점 조절의 신뢰성 지표가 되는 평가치를 획득하고, 상기 평가치를 모드 제어부에 전송하고,
    상기 모드 제어부는, 상기 평가치가 기설정된 기준값을 초과하지 않는 경우 상기 제2 자동 초점 모드로 전환하는 것인, 촬상 장치.
  19. 촬상 장치에 장착되는 보조광 투광 장치를 사용하여 자동 초점 조절을 수행하는 방법에 있어서,
    상기 보조광 투광 장치에 포함되는 보조광 패턴에 보조광을 투광하는 단계;
    상기 보조광 패턴의 중심 영역인 제1 영역의 명암 패턴의 휘도 차이에 기초하는 제1 초점 조절 모드로 초점을 조절하는 단계;
    상기 제1 초점 조절 모드에 의한 초점 조절의 신뢰성 평가값이 기설정된 기준값을 초과하는지 여부를 결정하는 단계; 및
    상기 신뢰성 평가값이 기설정된 기준값을 초과하지 않는 경우 상기 보조광 패턴의 제2 영역의 휘도 차이에 기초하는 제2 초점 조절 모드로 초점을 조절하는 단계; 를 포함하고,
    상기 보조광 패턴은, 서로 다른 크기의 폭을 갖고 상기 보조광을 통과시켜 피사체에 투광되게 하는 복수의 명부 패턴 라인 및 서로 다른 크기의 폭을 갖고, 상기 보조광을 상기 피사체에 도달하지 않도록 차단하는 복수의 암부 패턴 라인을 구비하는 것인, 방법.
  20. 제19 항에 있어서,
    상기 제1 초점 조절 모드는 위상차 방식으로 초점을 조절하는 초점 조절 모드이고,
    상기 제2 초점 조절 모드는 콘트래스트 방식으로 초점을 조절하는 초점 조절 모드인 것인, 방법.
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