본 발명은, 하드 영역(hard area); 및 상기 하드 영역에 비하여 낮은 저장 탄성률을 가지는 소프트 영역(soft area)이 패턴화된 상태로 단일 평면 내에 포함되어 있는 점착제에 관한 것이다.
이하, 본 발명의 점착제를 보다 상세히 설명한다.
본 발명의 점착제는, 단일 평면 내에 하드 영역 및 소프트 영역이 패턴화된 상태로 포함되도록 설계된다. 본 발명에서 사용하는 용어 「단일 평면」은 단일의 점착제에 의해 형성된 연속적인 면을 의미하며, 따라서, 「단일 평면 내에 형성된 하드 영역 및 소프트 영역의 패턴」은 단일 점착제 내에 다른 영역(ex. 소프트 영 역)에 비하여 높은 저장 탄성률을 가지는 영역 및 낮은 저장 탄성률을 가지는 영역이 패턴을 이룬 상태로 포함되어 있는 경우를 의미한다. 따라서, 예를 들어, 전체적으로 균일한 저장 탄성률을 가지는 점착제를 2종 이상 조합하여, 소프트 및 하드 영역의 패턴을 형성한 경우는 본 발명의 「단일 평면 내에 형성된 패턴」에서 배제된다. 상기와 같이, 2종 이상의 점착제를 사용하여 패턴을 구현할 경우, 편광판 등의 광학 부재 생산성이 매우 떨어질뿐만 아니라, 패턴을 형성하는 각 점착제간의 상이한 물성으로 인해, 단일 평면과 같은 효과를 발휘할 수 없다. 예를 들면, 후술하는 바와 같이 점착제가 편광판 등의 광학 부재에 적용되었을 때에, 2종 이상의 점착제 접촉부(연결부)에서 불량이 발생하기 쉽고, 또한 각 점착제가 서로 다른 수축률 및 저장 탄성률을 가져 내구성에서 문제가 발생하기 쉽다. 또한, 2종 이상의 점착제를 사용할 경우, 그 접촉부(연결부)에서의 불균일성이 커지게 되고, 이에 따라 광투과 균일성 측면에서도 문제가 발생하기 쉽다..
한편, 본 발명에서 사용하는 용어 「하드 영역」은 점착제에서 다른 영역(ex. 소프트 영역)에 비하여 높은 저장 탄성률을 가지는 영역을 의미한다. 본 발명에서는, 예를 들면, 상기 하드 영역은, 30℃의 온도에서 1 MPa 내지 50 MPa, 바람직하게는 1 MPa 내지 40 MPa, 보다 바람직하게는 1 MPa 내지 20 MPa의 저장 탄성률(Storage modulus)을 가질 수 있다. 하드 영역의 저장 탄성률을 상기 범위로 설정함으로써, 편광판 연신에 의해 유발되는 치수 변화를 억제하면서, 점착력이나 내구성의 저하를 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에서 사용하는 용어 「소프트 영역」은 점착제에서 타 영 역(ex. 하드 영역)에 비하여 낮은 저장 탄성률을 가지는 영역을 의미하며, 예를 들면, 상기 소프트 영역은, 30℃의 온도에서 0.01 MPa 내지 5.0 MPa, 바람직하게는 0.01 MPa 내지 0.1 MPa, 더욱 바람직하게는 0.1 MPa 내지 1 MPa의 저장 탄성률(Storage modulus)을 가질 수 있다. 본 발명에서는, 소프트 영역의 저장 탄성률을 상기 범위로 설정함으로써, 점착제의 작업성 및 편광판의 수율을 우수하게 유지하면서도, 하드 영역을 소프트 영역이 효과적으로 지지하도록 하여, 편광판의 수축 및 팽창을 효과적으로 억제할 수 있다. 또한, 소프트 영역의 저장 탄성률을 상기 범위로 설정함으로써, 점착제의 전체적인 저장 탄성률이 지나치게 상승하여, 내구성 및 점착성 등이 저하되는 현상을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에서 사용하는 용어 「패턴화」는 전술한 하드 및 소프트 영역이 단일 점착제에서 소정의 형상을 이룬 상태로 포함되어 있는 경우를 의미하며, 이 때 상기 형상에는, 선, 사각형, 원 또는 타원 등의 형상은 물론, 무정형의 불규칙적인 형상의 패턴도 포함된다.
본 발명의 일 태양에서, 상기 하드 영역은, 선 형상으로 패턴화되어 있을 수 있고, 바람직하게는 연속적인 선 형상으로 패턴화되어 있을 수 있다. 구체적으로, 본 발명의 점착제(1)는, 도 1에 나타난 바와 같이, 연속적인 선 형상으로 패턴화되어 있는 하드 영역(1-1) 및 소프트 영역(1-2)을 포함할 수 있다.
점착제에 하드 및 소프트 영역이 선 형상으로 패턴화되는 경우, 상기 하드 영역은, 도 1에 나타난 바와 같이, 연속성을 가지는 것이 바람직하다. 이 때, 연속성을 가진다는 것은, 선 형상으로 패턴화된 하드 영역이 점착제의 전 면적에 걸 쳐서 끊어짐 없이 이어져 있는 상태를 의미할 수 있다. 이 경우, 예를 들면, 상기 하드 영역은, 상기 점착제가 적용되는 편광판의 연신축과 평행 또는 수직 방향으로 연속적으로 형성되는 것이 바람직하다. 즉, 고온 또는 고습 조건에 노출되었을 때, 편광판의 수축 또는 팽창은 편광판의 연신축을 따라 전면에서 존재하게 되는데, 점착제의 하드 영역이 연속성을 가지도록 구성할 경우, 상기와 같은 조건에서 편광판의 수축 또는 팽창에 의해 유발되는 빛샘을 효과적으로 억제할 수 있게 된다.
한편, 본 발명에서 하드 영역이 상기와 같은 선 형상의 패턴을 가질 경우, 그 선폭 및 간격은 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 제어될 수 있다. 본 발명에서는 예를 들면, 생산성 등을 고려하여, 상기 선 형상의 하드 영역이 90 ㎛ 내지 1,000 ㎛의 선폭을 가지고, 50 ㎛ 내지 1.0 cm의 간격을 가지도록 구성할 수 있다. 또한, 본 발명에서는, 상기 선 형상의 하드 영역의 패턴의 선폭 또는 간격을 동일하게 제어할 수도 있고, 필요에 따라서는 각각이 서로 상이하도록 제어할 수도 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명에서, 상기 하드 영역의 저장 탄성률(이하, 「G'hard」로 표시하는 경우가 있다.) 대비 소프트 영역의 저장 탄성률(이하, 「G'soft」로 표시하는 경우가 있다.)의 비율(G'hard/G'soft)은, 3 내지 100, 바람직하게는 3 내지 50, 보다 바람직하게는 3 내지 30의 범위 내에 있을 수 있다. 본 발명에서 상기 저장 탄성률의 비 율이 3 미만이면, 점착제를 상이한 저장 탄성률로 패턴화한 효과가 미미할 우려가 있고, 100을 초과하면, 하드 및 소프트 영역의 저장 탄성률의 차이가 지나치게 커져서, 물성이 불균일해지고, 내구성이 저하하거나, 혹은 굴절률의 차이로 인해 헤이즈가 발생할 우려가 있다.
본 발명에서는 또한, 상기 하드 영역이 점착제 전면적에 대하여 10% 내지 60%, 바람직하게는 15% 내지 50%의 면적 비율을 가지는 것이 바람직하다. 상기에서 「점착제 전면적」은 단일 점착제에 의해 형성되는 단일 평면의 전체 면적을 의미한다. 본 발명에서 하드 영역의 면적 비율이 10% 미만이면, 점착제의 전반적인 경도(hardness)가 저하되어, 작업성, 재단성 및 생산성이 악화되거나, 편광판의 연신축으로부터 유발되는 응력(strain)을 효과적으로 억제하지 못하여, 빛샘이 유발될 우려가 있다. 또한, 상기 하드 영역의 면적 비율이 60%를 초과하면, 점착제의 경도가 지나치게 높아져서, 점착력 및 내구성이 저하될 우려가 있다.
본 발명에서, 상기와 같이 하드 및 소프트 영역의 패턴을 포함하는 점착제는, 하기 일반식 1로 표시되는 겔(gel) 함량이 50% 내지 99%, 바람직하게는 80% 내지 99%, 보다 바람직하게는 90% 내지 99%일 수 있다.
[일반식 1]
겔(gel) 함량 = B/A × 100
상기 일반식 1에서, A는 상기 점착제의 질량을 나타내고, B는 상온에서 에틸 아세테이트에 72 시간 침적시킨 후의 상기 점착제의 불용해분의 건조 질량을 나타낸다.
본 발명에서 사용하는 용어 「건조 질량」은 전술한 침적 공정 후에, 침적물을 적절한 조건에서 건조시켜, 첨적물에 포함된 에틸 아세테이트 성분을 제거한 점착제 불용해분 자체의 질량을 의미한다. 이 때, 에틸 아세테이트를 제거하기 위한 건조 조건은, 침적물에 포함된 에틸 아세테이트가 제거될 수 있을 정도로 수행되는 한, 특별히 제한되지 않는다.
본 발명에서 점착제의 겔 함량이 50% 미만이면, 고온 또는 고습 조건에서 기포 등이 발생하는 등 내구신뢰성이 저하될 우려가 있고, 99%를 초과하면, 고온 또는 고습 조건에서 박리 또는 들뜸 현상 등이 유발될 우려가 있다.
본 발명에서, 전술한 바와 같이, 하드 및 소프트 영역이 패턴화된 상태로 포함되어 있는 점착제를 구성하는 성분은 특별히 제한되지 않는다. 본 발명에서는, 예를 들면, 아크릴계 수지, 다관능성 아크릴레이트 및 광개시제를 포함하는 점착제 조성물을 경화시켜, 전술한 바와 같은 점착제를 구성할 수 있다.
본 발명에서는 상기 점착제 조성물이 광경화형 점착제 조성물일 수 있다. 상기에서 광경화형 조성물은, 방사선 등의 조사에 의해 경화될 수 있는 조성물을 의미한다. 한편, 본 발명에서 사용하는 용어 「방사선」은 점착제 조성물에 포함된 중합성기 또는 중합 개시제 등에 영향을 주어 경화 반응을 유발할 수 있는 에너지선을 의미하며, 전자선 및 자외선 등을 포함하는 개념으로 사용될 수 있고, 이하 에서 사용하는 용어 「자외선」은 「방사선」과 동일한 의미로 사용될 수 있다.
본 발명에서 상기와 같은 아크릴계 수지의 조성은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 본 발명에서 상기 아크릴계 수지는, (메타)아크릴산 에스테르계 단량체의 중합체 또는 (메타)아크릴산 에스테르계 단량체를 포함하는 단량체 혼합물의 중합체일 수 있다.
본 발명에서 사용할 수 있는, 상기 (메타)아크릴산 에스테르계 단량체의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 알킬 (메타)아크릴레이트를 사용할 수 있다. 이 경우, 상기 단량체에 포함되는 알킬기가 지나치게 장쇄가 되면, 점착제의 응집력이 저하되거나, 유리전이온도(Tg) 또는 점착성의 조절이 어려워질 우려가 있으므로, 탄소수가 1 내지 14인 알킬기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하다. 이와 같은 단량체의 예로는 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, n-프로필 (메타)아크릴레이트, 이소프로필 (메타)아크릴레이트, n-부틸 (메타)아크릴레이트, t-부틸 (메타)아크릴레이트, sec-부틸 (메타)아크릴레이트, 펜틸 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 2-에틸부틸 (메타)아크릴레이트, n-옥틸 (메타)아크릴레이트, 이소옥틸 (메타)아크릴레이트, 이소노닐 (메타)아크릴레이트, 라우릴 (메타)아크릴레이트 및 테트라데실 (메타)아크릴레이트를 들 수 있으며, 본 발명에서는 상기 중 일종 또는 이종 이상의 혼합을 사용할 수 있다.
본 발명에서 아크릴계 수지에는 필요에 따라서 가교성 관능기가 부여되어 있 을 수 있으며, 이 경우, 중합체를 구성하는 상기 단량체 혼합물은, (메타)아크릴산 에스테르계 단량체 및 가교성 단량체를 포함할 수 있다. 이와 같은 가교성 단량체는, 후술하는 다관능성 가교제 또는 실란 커플링제 등과 반응하여, 점착제의 고온 또는 고습 조건 하에서의 내구성 및 응집력 등의 물성을 개선하는 역할을 할 수 있다.
본 발명에서 사용할 수 있는 가교성 단량체의 예로는 히드록시기 함유 단량체, 카복실기 함유 단량체 및 질소 함유 단량체 등을 들 수 있으며, 상기와 같은 단량체 중 조성물에 포함되는 가교제의 종류 등을 고려하여 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 본 발명에서는 특히 상기 가교성 단량체 중 히드록시기 함유 단량체를 사용하는 것이 바람직하지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기에서 히드록시기 함유 단량체의 구체적인 예로는, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실 (메타)아크릴레이트, 8-히드록시옥틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트 또는 2-히드록시프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 카복실기 함유 단량체의 예로는 (메타)아크릴산, 2-(메타)아크릴로일옥시 아세트산, 3-(메타)아크릴로일옥시 프로필산, 4-(메타)아크릴로일옥시 부틸산, 아크릴산 이중체, 이타콘산, 말레산 및 말레산 무수물 등을 들 수 있으며, 질소 함유 단량체의 예로는 (메타)아크릴아미드, N-비닐 피롤리돈 또는 N-비닐 카프로락탐 등을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 본 발명에서는 상기 중 일종 또는 이종 이상의 혼합을 사용할 수 있다.
본 발명에서, 상기 단량체 혼합물이 가교성 단량체를 포함할 경우, 상기 단량체 혼합물은, 예를 들면, 전술한 (메타)아크릴산 에스테르계 단량체 80 중량부 내지 99.8 중량부 및 상기 가교성 단량체 0.01 중량부 내지 3 중량부를 포함할 수 있다.
본 발명의 단량체 혼합물이 가교성 단량체를 포함할 경우, (메타)아크릴산 에스테르계 단량체의 함량이 80 중량부 미만이면, 점착제의 초기 접착력이 저하될 우려가 있고, 99.8 중량부를 초과하면, 응집력 저하로 인해 내구성에 문제가 발생할 우려가 있다.
또한, 상기 단량체 혼합물에서 가교성 단량체의 함량이 0.01 중량부 미만이면, 점착제의 내구신뢰성이 저하될 우려가 있고, 3 중량부를 초과하면, 가교제 및/또는 실란 커플링제와의 반응이 과도하게 진행되어 점착성 및/또는 박리력이 저하될 우려가 있다.
본 발명에서 아크릴계 수지에는 또한 또한, 필요에 따라서, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물이 추가로 공중합되어 있을 수도 있다. 하기 화학식 1의 화합물은 점착제의 유리전이온도 조절 및 기타 기능성 부여를 목적으로 부가될 수 있다.
[화학식 1]
상기 식에서, R1 내지 R3는 각각 독립적으로 수소 또는 알킬을 나타내고, R4는 시아노; 알킬로 치환 또는 비치환된 페닐; 아세틸옥시; 또는 COR5를 나타내며, 이 때 R5는 알킬 또는 알콕시알킬로 치환 또는 비치환된 아미노, 글리시딜옥시 또는 글리시딜알킬옥시를 나타낸다.
상기 식의 R1 내지 R5의 정의에서 알킬 또는 알콕시는 탄소수 1 내지 8의 알킬 또는 알콕시를 의미하며, 바람직하게는 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 프로폭시 또는 부톡시이다.
상기 화학식 1의 단량체의 구체적인 예로는 (메타)아크릴로니트릴, (메타)아크릴아미드, N-메틸 (메타)아크릴아미드 또는 N-부톡시 메틸 (메타)아크릴아미드와 같은 질소 함유 단량체; 스티렌 또는 메틸 스티렌과 같은 스티렌계 단량체; 글리시딜 (메타)아크릴레이트; 또는 비닐 아세테이트와 같은 카르본산 비닐 에스테르 등의 일종 또는 이종 이상을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 본 발명의 단량체 혼합물이 상기 화학식 1의 화합물을 포함할 경우, 그 함량은 전술한 (메타)아크릴산 에스테르계 단량체의 함량 대비 20 중량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 화합물의 함량이 20 중량부를 초과하면, 점착제의 유소프트 및/또는 박리력이 저하될 우려가 있다.
본 발명의 아크릴계 수지가 (메타)아크릴산 에스테르 단량체 및/또는 상기 기능성 단량체의 중합체일 경우, 상기 중합체는 중량평균분자량이 50만 이상인 것이 바람직하다. 전술한 조성의 아크릴계 수지에 있어서, 그 중량평균분자량이 50 만 미만이면, 응집력 저하로 인해 고온 또는 고습 조건 하에서 기포 또는 박리 현상이 발생하는 등 내구신뢰성이 저하될 우려가 있다.
한편, 본 발명에서 아크릴계 수지가 단량체 성분으로서 상기 가교성 단량체를 포함할 경우, 상기 수지의 중량평균분자량은 100만 이상인 것이 바람직하다. 상기 조성의 아크릴계 수지의 중량평균분자량이 100만 미만이면, 점착제의 내구신뢰성이 저하될 우려가 있다.
본 발명에서 아크릴계 수지의 중량평균분자량의 상한은 특별히 한정되지 않는다. 본 발명에서는, 예를 들면, 점착제의 내구 신뢰성 또는 코팅성 등을 고려하여, 아크릴계 수지의 중량평균분자량을 250만 이하의 범위에서 적절하게 제어할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명에서 상기 각각의 성분의 포함하는 아크릴계 수지를 제조하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 용액 중합, 광중합, 벌크 중합, 서스펜션 중합 또는 에멀션 중합과 같은 일반적인 중합법을 사용하여 제조할 수 있다. 본 발명에서는 특히 용액 중합법을 사용하여 아크릴계 수지를 제조할 수 있으며, 용액 중합은 각각의 단량체가 균일하게 혼합된 상태에서 개시제를 첨가하여, 50℃ 내지 140℃의 중합 온도로 수행하는 것이 바람직하다. 이 과정에서 사용될 수 있는 개시제의 예로는 아조비스이소부티로니트릴 또는 아조비스시클로헥산 카르보니트릴 등과 같은 아조계 개시제; 및/또는 과산화 벤조일 또는 과산화 아세틸 등과 같은 과산화물과 같은 통상의 개시제를 들 수 있고, 상기 중 일종 또는 이종 이상의 혼합을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명에서 점착제를 구성하는 상기 점착제 조성물은, 전술한 아크릴계 수지에 추가로 다관능성 아크릴레이트를 포함할 수 있다. 상기와 같은 다관능성 아크릴레이트는, 예를 들면, 후술하는 광개시제와의 반응을 통하여, 점착제의 저장 탄성률을 높이는 역할을 할 수 있다.
본 발명에서 사용될 수 있는 다관능성 아크릴레이트의 종류는 특별히 한정되지 않는다. 본 발명에서는, 예를 들면, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜아디페이트(neopentylglycol adipate) 디(메타)아크릴레이트, 히드록시피발산(hydroxyl puivalic acid) 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(dicyclopentanyl) 디(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디시클로펜테닐 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 디(메타)아크릴레이트, 디(메타)아크릴록시 에틸 이소시아누레이트, 알릴(allyl)화 시클로헥실 디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올(메타)아크릴레이트, 디메틸롤 디시클로펜탄 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 헥사히드로프탈산 디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸 디메탄올(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 변성 트리메틸프로판 디(메타)아크릴레이트, 아다만탄(adamantane) 디(메타)아크릴레이트 또는 9,9-비스[4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌(fluorine) 등과 같은 2관능성 아크릴레이트; 트리메틸롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 트리(메타)아크릴레이트, 프로피온산 변성 디펜타에리 쓰리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 트리(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥시드 변성 트리메틸롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 3 관능형 우레탄 (메타)아크릴레이트 또는 트리스(메타)아크릴록시에틸이소시아누레이트 등의 3관능형 아크릴레이트; 디글리세린 테트라(메타)아크릴레이트 또는 펜타에리쓰리톨 테트라(메타)아크릴레이트 등의 4관능형 아크릴레이트; 프로피온산 변성 디펜타에리쓰리톨 펜타(메타)아크릴레이트 등의 5관능형 아크릴레이트; 및 디펜타에리쓰리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리쓰리톨 헥사(메타)아크릴레이트 또는 우레탄 (메타)아크릴레이트(ex. 이소시아네이트 단량체 및 트리메틸롤프로판 트리(메타)아크릴레이트의 반응물 등의 6관능형 아크릴레이트(ex. UA-306I, UA-306T 등, Kyoeisha(제), 일본) 등을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명에서는 상기와 같은 다관능성 아크릴레이트 중 일종 또는 이종 이상을 혼합하여 사용할 수 있으며, 특히 분자량이 1,000 미만이며, 2관능성 이상, 바람직하게는 3관능 이상의 아크릴레이트를 사용함으로써, 보다 탁월한 내구성을 구현할 수 있으나, 본 발명의 범위가 상기에 제한되는 것은 아니다.
본 발명의 일 태양에서는 또한, 상기 다관능성 아크릴레이트로서, 골격 구조 중 고리 구조를 포함하는 것을 사용하는 것이 바람직하다. 이와 같은 아크릴레이트를 사용할 경우, 점착제를 보다 하드(hard)한 상태로 형성할 수 있고, 이에 따라 빛샘 억제 효과를 추가적으로 증진시킬 수 있다. 이 경우, 아크릴레이트에 포함되는 고리 구조는 탄소환식 구조 또는 복소환식 구조; 또는 단환식 또는 다환식 구조의 어느 것이어도 된다. 고리 구조를 포함하는 다관능성 아크릴레이트의 구체적인 예로는, 트리스(메타)아크릴록시 에틸 이소시아누레이트 등의 이소시아누레이트 구조를 갖는 단량체 및 이소시아네이트 변성 우레탄 (메타)아크릴레이트(ex. 이소시아네이트 단량체 및 트리메틸롤프로판 트리(메타)아크릴레이트의 반응물 등) 등의 6관능형 아크릴레이트 등을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명의 점착제 조성물에서 상기 다관능성 아크릴레이트는, 아크릴계 수지 100 중량부에 대하여, 5 중량부 내지 40 중량부의 양으로 포함될 수 있다. 다관능성 아크릴레이트의 함량이 5 중량부 미만이면, 고온 조건에서의 내구성이 저하되거나, 빛샘 억제 효과가 저하될 우려가 있고, 40 중량부를 초과하면, 고온 내구성이 저하될 우려가 있다.
본 발명에서 점착제를 구성하는 상기 조성물은 또한 광개시제를 추가로 포함할 수 있다.
본 발명에서 사용할 수 있는 상기 광개시제의 종류는, 자외선 등의 조사에 의해 점착제 조성물의 경화 반응을 유도할 수 있는 것이라면, 특별히 제한되지 않는다. 이와 같은 광개시제의 예로는, 벤조인, 벤조인 메틸에테르, 벤조인 에틸에테르, 벤조인 이소프로필에테르, 벤조인 n-부틸에테르, 벤조인 이소부틸에테르, 아세토페논, 디메틸아니노 아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-몰포리노-프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-2-(히드록시-2-프로필)케톤, 벤조페논, p-페닐벤조페논, 4,4'-디에틸아 미노벤조페논, 디클로로벤조페논, 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 2-아미노안트라퀴논, 2-메틸티오잔톤(thioxanthone), 2-에틸티오잔톤, 2-클로로티오잔톤, 2,4-디메틸티오잔톤, 2,4-디에틸티오잔톤, 벤질디메틸케탈, 아세토페논 디메틸케탈, p-디메틸아미노 안식향산 에스테르, 올리고[2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판논] 및 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥시드 등을 들 수 있다. 본 발명에서는 상기 중 일종 또는 이종 이상을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명의 점착제 조성물에서 상기 광개시제는 아크릴계 수지 100 중량부에 대하여, 0.01 중량부 내지 5 중량부의 양으로 포함되거나, 또는 전술한 다관능성 아크릴레이트 100 중량부에 대하여 0.2 중량부 내지 20 중량부이 양으로 포함될 수 있다. 광개시제의 함량이 전술한 범위로 제어함으로 해서, 조성물의 경화 반응을 원활하게 진행시키고, 반응 후 잔존 성분으로 인해 점착제 물성이 악화되는 것을 방지할 수 있다.
본 발명에서 점착제 조성물은, 또한, 필요에 따라서 다관능성 가교제를 추가로 포함할 수 있다. 이와 같이 다관능성 가교제가 추가로 포함됨으로써, 점착제가 상호침투 네트워크(IPN; Interpenetrating Polymer Network)를 가질 수 있다. 본 발명에서 사용하는 용어 「IPN 구조」는 점착제의 경화 시스템 내에서 두 개 또는 그 이상의 가교 구조가 병존하는 상태를 의미한다. 예를 들어, 본 발명에서 가교성 관능기를 포함하는 아크릴계 수지를 사용하고, 상기 다관능성 가교제를 추가로 포함시킬 경우, 경화된 점착제 내에는 아크릴계 수지 및 가교제 성분의 반응에 의해 형성된 가교 구조(이하, 「제 1 가교 구조」)와, 전술한 다관능성 아크릴레이트 및 광개시제에 의해 구현된 가교 구조(이하, 「제 2 가교 구조」)가 병존하여, IPN 구조가 구현될 수 있다. 이와 같이, 점착제에 IPN 구조를 구현함으로 해서, 빛샘 억제 특성 및 내구신뢰성과 같은, 광학부재용 점착제에 요구되는 제반 물성의 밸런스를 탁월하게 유지할 수 있다.
본 발명에서 사용될 수 있는 구체적인 가교제의 종류는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 이소시아네이트계 화합물, 에폭시계 화합물, 아지리딘계 화합물 및 금속 킬레이트계 화합물과 같은 일반적인 가교제를 사용할 수 있고, 이 중 이소시아네이트계 화합물을 사용하는 것이 다소 바람직하나, 이에 제한되는 것은 아니다. 즉, 본 발명에서는, 아크릴계 수지에 포함되는 가교성 관능기의 종류 등에 따라 이 분야에서 공지되어 있는 일반적인 가교제를 제한 없이 선택, 사용할 수 있다. 상기에서 이소시아네이트계 화합물의 구체적인 예로는 톨리렌 디이소시아네이트, 크실렌 디이소시아네이트, 디페닐메탄 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이소보론 디이소시아네이트, 테트라메틸크실렌 디이소시아네이트, 나프탈렌 디이소시아네이트 및 상기 중 어느 하나의 이소시아네이트와 폴리올(ex. 트리메틸롤 프로판)과의 반응물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 들 수 있고; 에폭시계 화합물의 구체적인 예로는 에틸렌글리콜 디글리시딜에테르, 트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판 트리글리시딜에테르, N,N,N',N'-테트라글리시딜 에틸렌디아민 및 글리세린 디글리시딜에테르로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이 상을 들 수 있으며; 아지리딘계 화합물의 구체적인 예로는 N,N'-톨루엔-2,4-비스(1-아지리딘카르복사미드), N,N'-디페닐메탄-4,4'-비스(1-아지리딘카르복사미드), 트리에틸렌 멜라민, 비스이소프로탈로일-1-(2-메틸아지리딘) 및 트리-1-아지리디닐포스핀옥시드로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 상기에서 금속 킬레이트계 화합물의 구체적인 예로는, 알루미늄, 철, 아연, 주석, 티탄, 안티몬, 마그네슘 및/또는 바나듐과 같은 다가 금속이 아세틸 아세톤 또는 아세토초산 에틸 등에 배위하고 있는 화합물 등을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명의 점착제 조성물에서 가교제는 아크릴계 수지 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부, 보다 바람직하게는 0.01 중량부 내지 5 중량부의 양으로 포함될 수 있다. 가교제의 함량이 0.01 중량부 미만이면, 점착제의 응집력이 떨어질 우려가 있고, 10 중량부를 초과하면, 층간 박리나 들뜸 현상이 발생하는 등 내구신뢰성이 저하될 우려가 있다.
본 발명의 점착제 조성물은 전술한 성분에 추가로 실란계 커플링제를 포함할 수 있다. 이와 같은 커플링제는 점착제와 유리 기판 사이의 밀착성 및 접착 안정성을 향상시켜, 내열성 및 내습성을 개선하고, 또한 고온 및/또는 고습 조건 하에서 점착제가 장기간 방치되었을 경우에 접착 신뢰성을 향상시키는 작용을 한다. 본 발명에서 사용될 수 있는 커플링제의 예로는, γ-글리시독시프로필 트리에톡시 실란, γ-글리시독시프로필 트리메톡시 실란, γ-글리시독시프로필 메틸디에톡시 실란, γ-글리시독시프로필 트리에톡시 실란, 3-머캅토프로필 트리메톡시 실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시 실란, γ-메타크릴록시프로필 트리메톡시 실란, γ-메타크릴록시 프로필 트리에톡시 실란, γ-아미노프로필 트리메톡시 실란, γ-아미노프로필 트리에톡시 실란, 3-이소시아네이토 프로필 트리에톡시 실란, γ-아세토아세테이트프로필 트리메톡시실란, γ-아세토아세테이트프로필 트리에톡시 실란, β-시아노아세틸 트리메톡시 실란, β-시아노아세틸 트리에톡시 실란, 아세톡시아세토 트리메톡시 실란을 들 수 있으며, 상기 중 일종 또는 이종 이상의 혼합을 사용할 수 있다. 본 발명에서는 아세토아세테이트기 또는 β-시아노아세틸기를 갖는 실란계 커플링제를 사용하는 것이 바람직하지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 본 발명의 조성물에서 실란계 커플링제는 아크릴계 수지 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 5 중량부, 바람직하게는 0.01 중량부 내지 1 중량부의 양으로 포함될 수 있다. 커플링제의 함량이 0.01 중량부 미만이면, 점착력 증가 효과가 미미할 우려가 있고, 5 중량부를 초과하면, 내구신뢰성이 저하될 우려가 있다.
본 발명의 점착제 조성물은 또한, 점착 성능의 조절의 관점에서, 아크릴계 수지 100 중량부에 대하여 1 중량부 내지 100 중량부의 점착성 부여 수지를 추가로 포함할 수 있다. 이와 같은 점착성 부여 수지의 종류는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 (수첨) 히드로카본계 수지, (수첨) 로진 수지, (수첨) 로진 에스테르 수지, (수첨) 테르펜 수지, (수첨) 테르펜 페놀 수지, 중합 로진 수지 또는 중합 로진 에스테르 수지 등의 일종 또는 이종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다. 상기 점착성 부여 수지의 함량이 1 중량부보다 작으면, 첨가 효과가 미미할 우려가 있고, 100 중량부를 초과하면, 상용성 및/또는 응집력 향상 효과가 저하될 우려가 있다.
본 발명의 점착제 조성물은 또한, 발명의 효과에 영향을 미치지 않는 범위에서, 에폭시 수지, 가교제, 자외선 안정제, 산화 방지제, 조색제, 보강제, 충진제, 소포제, 계면 활성제 및 가소제로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 첨가제를 추가로 추가로 포함할 수 있다.
본 발명에서, 전술한 바와 같은 성분을 포함하는 점착제 조성물을 사용하여, 본 발명에 따른 점착제를 제조하는 방법은 특별히 제한되지 않는다.
즉, 본 발명에서는, 점착제의 제조 시에 조사되는 자외선 등에 편차를 유발하여, 상기 하드 및 소프트 영역의 패턴을 형성할 수 있는 방법이라면, 어떠한 방법이라도 사용될 수 있다.
예를 들어, 본 발명의 점착제의 제조 방법은, 기재 상에 점착제를 형성할 코팅액(ex. 점착제 조성물)을 도포하는 제 1 단계; 및 제 1 단계에서 기재 상에 도포된 점착제 조성물을 경화시켜, 하드 영역 및 상기 하드 영역에 비하여 낮은 저장 탄성률을 가지는 소프트 영역의 패턴을 형성하는 제 2 단계를 포함할 수 있다.
본 발명에서 상기 제 1 단계에서 사용되는 코팅액을 제조하는 방법은 특별히 제한되지 않는다. 본 발명에서는, 예를 들면, 전술한 각 성분을 적절히 배합하여 코팅액을 제조하거나, 경우에 따라서는, 코팅성을 고려하여, 상기 각 성분 을 적절한 용제에 희석시킴으로써, 코팅액을 제조할 수 있다.
또한, 본 발명의 제 1 단계에서, 상기 코팅액이 도포되는 기재의 종류는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 본 발명의 점착제를 편광판에 형성하고자 할 경우, 상기 코팅액을 편광판(ex. 편광 필름, 편광 소자 또는 보호 필름)에 직접 도포하거나, 경우에 따라서는, 상기 코팅액을 적절한 박리성 기재에 도포할 수 있다. 본 발명에서 상기 코팅액을 박리성 기재에 도포하는 경우, 후술하는 경화 공정을 거쳐 패턴화된 점착제를 형성하고, 이와 같이 형성된 점착제를 편광판에 전사하는 공정이 추가로 수행될 수 있다.
한편, 본 발명의 제 1 단계에서, 상기와 같은 기재에 코팅액을 도포하는 방법은 특별히 제한되지 않으며, 바 코터(bar coater) 등의 통상의 수단을 사용하여 수행할 수 있다.
또한, 본 발명의 제 1 단계의 도포 공정 시에는, 균일한 코팅 공정 수행의 관점에서, 점착제 조성물 또는 코팅액에 포함된 다관능성 가교제의 작용기의 가교 반응이 진행되지 않도록 제어하는 것이 바람직하다. 이를 통해, 상기 다관능성 가교제가 코팅 작업 후, 경화 및 숙성 과정에서 가교 구조를 형성하여 점착제의 응집력을 향상시키고, 점착 물성 및 절단성(cuttability) 등을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명에서는, 상기 제 1 단계에서 도포된 코팅액을 후술하는 경화 공정에 적용하기 전에, 점착제 조성물 또는 코팅액에 포함된 휘발 성분이나 반응 잔류물 등의 기포 유발 성분을 충분히 제거하는 것이 바람직하다. 이와 같은 과정에 의해서, 경화 후 점착제의 가교 밀도 또는 분자량 등이 지나치게 낮아 탄성률이 떨어지고, 고온 상태에서 유리판 및 점착제층 사이에 존재하는 기포들이 커져 내부에서 산란체를 형성하는 문제점 등을 방지할 수 있다.
본 발명의 제 2 단계는, 제 1 단계에서 기재 상에 도포된 코팅액을 경화시켜, 하드 및 소프트 영역의 패턴을 형성하는 단계이다. 본 발명에서 상기 하드 및 소프트 영역의 패턴을 형성하는 방법은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 기재 상에 도포된 코팅액의 경화도를 형성하고자 하는 패턴을 고려하여 제어함으로써 형성할 수 있다. 즉, 경화 과정에서 코팅액의 경화도의 편차를 유발하게 되면, 경화가 다른 영역에 비해 많이 진행된 영역의 저장 탄성률은 높아져서 하드 영역을 형성하게 되고, 경화가 다른 영역에 비해 적게 진행된 영역은 저장 탄성률이 낮아져서 소프트 영역을 형성하게 된다.
또한, 본 발명에서 코팅액(점착제 조성물)의 경화도를 제어하는 방법 역시 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 본 발명에서 광경화형 점착제 조성물을 사용할 경우, 목적하는 하드 및 소프트 영역의 패턴에 따라, 코팅액의 각 개소에서의 방사선의 조사량 및/또는 조사 시간을 제어함으로써, 경화도의 제어가 가능하다. 즉, 코팅액에서 자외선의 조사량이 많거나 조사 시간이 길어지면, 점착제의 경도(hardness)가 증가하여 하드 영역이 형성되고, 반대로 자외선의 조사량이 적거나, 조사 시간이 짧아지면, 소프트 영역이 형성될 수 있다. 또한, 자외선 조사량이 0인 경우에는 점착제의 경도가 최소로 제어된다.
본 발명에서, 자외선 조사의 편차를 두어 경화도를 제어하는 방법은 특별히 제한되지 않는다.
본 발명에서는 예를 들면, 레이저 가공 장치 또는 스테퍼(노광 장치) 등을 이용하여, 자외선을 스팟(spot) 조사하는 방법; 자외선 차단 마스크를 사용하는 방법; 또는 자외선 차광 마스크를 사용하는 방법으로 자외선 조사의 편차를 유발할 수 있다.
상기에서 스팟 조사에 의한 방법은, 자외선을 스팟 조사하면서, 코팅액이 형성된 기재(ex. 편광판 또는 박리성 필름)를 이동시키거나, 또는 스팟 조사되는 자외선 자체를 코팅액의 평면상에서 이동시켜 경화도의 편차를 유발하는 방법이다. 이 과정에서, 스팟 조사되는 자외선의 직경, 기재 또는 자외선 조사 광원의 이동 경로, 자외선의 조사량 또는 조사 시간의 제어를 통해 경화도의 편차를 유발할 수 있다. 이 때 사용될 수 있는 자외선 조사 광원의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 고압 수은 램프, 저압 수은 램프, 수소(중수소) 램프, 희가스(ex. 크세논, 아르곤, 헬륨 또는 네온 등) 방전 램프, 질소 레이저, 엑시머 레이저(ex. XeCl, XeF, KrF 또는 KrCl 등), 수소 레이저 또는 할로겐 레이저 등을 들 수 있다. 또한, 본 발명에서 사용할 수 있는 광원의 종류는 전술한 종류에 국한되지 않고, 본 발명의 목적을 달성할 수 있는 것이라면 어떠한 종류도 사용될 수 있다. 한편, 상기와 같은 스팟 조사 시에 조사되는 자외선의 조건은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 400 nm 내지 10 nm의 파장을 가지는 자외선을 사용하여 수행할 수 있따다. 또한, 상기 단계에서 사용되는 자외선은 200 mW/cm2 내지 1,000 mW/cm2의 조도 를 가질 수 있다. 추가로, 상기 단계에서 사용되는 자외선은 50 mJ/cm2 내지 1,500 mJ/cm2의 광량을 가질 수 있다. 그러나, 상기 자외선의 조도 또는 광량 등의 조건은 특별히 제한되지 않으며, 목적하는 형성 패턴의 저장 탄성률 등을 고려하여 적절히 제어할 수 있다.
한편, 본 발명에서, 자외선 차단 마스크를 사용하여 소프트 및 하드 영역의 패턴을 구현하고자 할 경우, 상기 제 2 단계는, 기재 상에 도포된 코팅액 상에 자외선 차단 마스크를 매개로 자외선을 조사하는 단계를 포함할 수 있다.
첨부된 도 2는 본 발명의 일 태양에 따른 패턴 형성 방법을 나타내는 모식도로서, 기재(ex. 편광판 또는 박리성 필름)(a)상에 형성된 코팅액(b)상에 투명한 이형 필름(c)을 적층한 후, 자외선 차단 마스크(d)를 매개로 자외선을 조사하는 과정을 나타내는 도면이다.
상기에서 「자외선 차단 마스크」는 조사되는 자외선을 차단하여, 투과시키지 않을 수 있는 소재로 제조될 수 있다. 본 발명에서 상기와 같은 마스크를 구성하는 소재는 특별히 제한되지 않고, 예를 들면 이 분야에 공지되어 있는 일반적인 소재를 적절히 채용하여 사용할 수 있다. 본 발명의 단계 (1)에서는 상기 마스크에 목적하는 하드 영역을 고려하여, 자외선이 투과될 수 있도록 패턴을 형성한 후, 이를 매개로 자외선을 조사하게 된다. 이와 같은 과정을 거쳐, 기재(a)상에 형성된 코팅액(b) 상에는 마스크(d)에 형성된 패턴에 따라서 자외선이 조사되게 되고, 이에 따라 자외선이 조사된 영역의 코팅액에서 경도(hardness)가 증가하게 된다.
본 발명의 상기 단계에서 조사되는 자외선의 조건은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 400 nm 내지 10 nm의 파장을 가지는 자외선을 사용할 수 있다. 또한, 상기 단계에서 사용되는 자외선은 200 mW/cm2 내지 1,000 mW/cm2의 조도를 가질 수 있고, 100 mJ/cm2 내지 1,500 mJ/cm2의 광량을 가질 수 있다. 그러나, 상기 자외선의 조도 또는 광량 등의 조건은 특별히 제한되지 않으며, 목적하는 형성 패턴의 저장 탄성률 등을 고려하여 적절히 제어할 수 있다.
본 발명에서, 자외선 차단 마스크를 사용하여 패턴을 형성하는 경우, 전술한 단계(이하, 「단계 (1)」로 칭하는 경우가 있다.)에 이어서, 자외선 차단 마스크를 제거하고, 다시 코팅액에 자외선을 조사하는 단계(이하, 「단계 (2)」로 칭하는 경우가 있다.)를 추가로 수행할 수 있다.
본 발명에서는, 상기 단계 (2)에서 조사되는 자외선이 단계 (1)에서 조사되는 자외선에 비하여 약한 강도를 가지도록 제어하는 것이 패턴 형성 효율의 관점에서 바람직하다. 즉, 상기 단계 (2)에서 단계 (1)에 비하여 약한 자외선을 조사하게 되면, 단계 (1)의 조사에 의해 형성된 하드 영역의 패턴은, 단계 (2)에서 조사되는 자외선에 의하여도 그 경도(hardness)에 큰 영향을 받지 않는다. 이에 따라, 단계 (2)에서 마스크를 제거하고 자외선을 조사하더라도, 단계 (1)에서 형성된 하드 영역의 패턴은 유지될 수 있고, 단계 (1)에서 자외선이 조사되지 않은 영역(소프트 영역)은 약한 자외선 조사에 의해 경화되어 경화 정도에 따른 패턴이 형성되 게 된다.
본 발명의 상기 방법에서는 단계 (2)에서, 400 nm 내지 10 nm의 파장을 가지는 자외선을 사용할 수 있며, 그 조도는 200 mW/cm2 내지 1,000 mW/cm2의 범위 내에서, 그 광량은 400 mJ/cm2 이하의 범위 내에서 제어할 수 있다. 그러나, 상기 자외선의 조도 또는 광량 등의 조건은 특별히 제한되지 않으며, 목적하는 형성 패턴의 저장 탄성률 등을 고려하여 적절히 제어할 수 있다.
그러나, 전술한 자외선 조사의 조건은 본 발명의 일 예시에 불과하다. 즉, 본 발명에서는, 형성되는 패턴을 고려하여, 상기 자외선 조사 조건을 자유롭게 변경할 수 있으며, 필요에 따라서는, 전술한 방법에서 단계 (2)을 수행하지 않고, 단계 (1)만을 통하여, 패턴을 형성할 수 있다.
또한, 본 발명에서, 자외선 차광 마스크를 사용하여 소프트 및 하드 영역의 패턴을 구현하고자 할 경우, 상기 제 2 단계는, 기재 상에 도포된 코팅액 상에 자외선 차광 마스크를 매개로 자외선을 조사하는 단계를 포함할 수 있다.
첨부된 도 3은 본 발명의 일 태양에 따른 패턴 형성 방법을 나타내는 모식도로서, 기재(ex. 편광판 또는 박리성 필름)(a)상에 형성된 코팅액(b)상에 투명한 이형 필름(c)을 형성한 후, 자외선 차광 마스크(e)를 매개로 자외선을 조사하는 과정을 나타내는 도면이다.
한편, 본 발명에서 사용하는 용어 「자외선 차광 마스크」는 조사되는 자외 선에 대한 차광율이 약 40% 내지 95%, 바람직하게는 50% 내지 90%인 소재로 제조된 마스크를 의미한다. 본 발명에서 상기와 같은 마스크를 구성하는 소재는 특별히 제한되지 않고, 예를 들면 이 분야에 공지되어 있는 일반적인 소재를 적절히 채용하여 사용할 수 있다. 이와 같은, 자외선 차광 마스크에 소정의 패턴을 형성하고, 이를 매개로 자외선을 조사하게 되면, 도 3에 나타난 바와 같이, 동일한 자외선 조사 조건 하에서도, 패턴이 형성된 부분은 자외선이 투과하여 강한 자외선이 조사되고, 패턴이 형성되지 않은 부분은 조사되는 자외선의 일부만이 투과되어 약한 자외선이 조사되게 된다. 이에 따라, 강한 자외선이 조사된 영역은 경도가 증가하게 되고, 약한 자외선이 조사된 영역은 경도가 낮아지게 되어, 하드 및 소프트 영역의 패턴이 형성될 수 있다. 또한, 상기 단계에서 자외선의 조사 조건(조사량 및/또는 조사 시간)이나, 마스크의 차광율을 적절히 제어하게 되면, 목적하는 패턴을 효율적으로 형성할 수 있게 된다.
본 발명에서, 자외선 차광 마스크를 사용하여, 전술한 패턴을 형성할 경우, 400 nm 내지 10 nm의 파장을 가지는 자외선을 사용할 수 있다. 또한, 상기 단계에서 사용되는 자외선은 200 mW/cm2 내지 1,000 mW/cm2의 조도를 가질 수 있다. 또한, 상기 단계에서 사용되는 자외선은 200 mJ/cm2 내지 1,500 mJ/cm2의 광량을 가질 수 있다. 그러나, 상기 자외선의 조도 또는 광량 등의 조건은 특별히 제한되지 않으며, 목적하는 형성 패턴의 저장 탄성률 등을 고려하여 적절히 제어할 수 있다.
그러나, 전술한 자외선 조사 조건은 본 발명의 일 예시에 불과하다. 즉, 본 발명에서는, 목적하는 패턴이나, 마스크의 차광율 등을 고려하여, 상기 자외선 조사 조건을 자유롭게 변경할 수 있다.
본 발명에서는, 전술한 각 단계에 이어서, 필요에 따라 박리성 기재에 형성된 점착제를 편광판 등에 전사하는 등의 후공정을 적절히 수행할 수 있다.
본 발명은 또한, 편광 필름 또는 편광 소자의 일면 또는 양면에 형성된 전술한 본 발명에 따른 점착제을 포함하는 편광판에 관한 것이다.
본 발명에서 편광판을 구성하는 편광 필름 또는 편광 소자의 종류는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 본 발명에서는 폴리비닐알코올계 수지로 되는 필름에 요오드 또는 이색성 염료 등의 편광 성분을 함유시키고, 연신하여 제조되는 필름을 상기 편광 필름 또는 편광 소자로 사용할 수 있다. 상기에서 사용할 수 있는 폴리비닐알코올계 수지의 예로는 폴리비닐알코올, 폴리비닐포르말, 폴리비닐아세탈 또는 에틸렌 초산 비닐 공중합체의 검화물 등을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 본 발명에서 상기 편광 필름 또는 편광 소자의 두께는 특별히 제한되지 않으며, 통상적인 두께로 형성하면 된다.
본 발명의 편광판은 또한 상기 편광 필름 또는 편광 소자의 일면 또는 양면에 보호 필름이 형성된 다층 구조를 가질 수 있다. 상기에서 사용될 수 있는 보호 필름의 예로는, 트리아세틸셀룰로오스(TAC)와 같은 셀룰로오스계 필름; 폴리카보네이트 필름 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름과 같은 폴리에스테르계 필름; 폴리 에테르설폰계 필름; 및/또는 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름 또는 시클로계나 노르보르넨 구조를 갖는 폴리올레핀 필름 또는 에틸렌 프로필렌 공중합체와 같은 폴리올레핀계 필름 등으로 구성되는 보호 필름 등을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 상기에서 보호 필름의 두께 역시 특별히 제한되지 않으며, 통상적인 두께로 형성할 수 있다.
본 발명의 편광판은 또한, 전술한 편광 필름 또는 소자; 또는 보호 필름에 추가로 보호층, 반사층, 방현층, 위상차판, 광시야각 보상 필름 및 휘도 향상 필름으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기능성층을 추가로 포함할 수 있다.
본 발명에서 상기와 같은 편광판상에 전술한 점착제를 형성할 경우, 점착제의 하드 영역 및 소프트 영역의 형성 방향을 상기 편광 필름 또는 편광 소자의 연신 방향을 고려하여 설정하는 것이 바람직하다. 즉, 편광판에 포함되는 편광 필름 또는 편광 소자는, 편광 특성의 구현을 위해, 제조 과정에서 일방향으로 연신되게 되고, 이에 의해 편광판은 특히 연신 방향으로 치수 안정성이 떨어지게 된다.
따라서, 예를 들어, 도 4 및 5 등에 나타난 바와 같이, 점착제(4, 5)에 하드 영역(4-1, 5-1)을 연속적인 선 형상으로 형성하고, 상기 선 형상의 하드 영역(4-1, 5-1)을 편광 필름 또는 편광 소자의 연신 방향(A)과 평행하게 형성할 경우, 점착제(4, 5)에 형성된 선 형상의 하드 영역(4-1, 5-1)이 편광판의 수축 또는 팽창 등에 의해 유발되는 치수 변화를 효과적으로 억제할 수 있다.
즉, 본 발명에서 상기 편광판은, 편광 필름 또는 편광 소자; 및 상기 편광 필름 또는 편광 소자의 일면 또는 양면에 형성된 본 발명에 따른 점착제를 포함하고,
상기 점착제의 하드 영역은 선 형상, 바람직하게는 연속적인 선 형상으로 패턴화되어 있으며, 상기 선 형상의 하드 영역은 상기 편광 필름 또는 편광 소자의 연신 방향과 평행하게 형성되어 있을 수 있다.
또한, 본 발명에서는, 도 6 및 7에 나타난 바와 같이, 상기 편광판에 포함되는 점착제(6, 7)의 하드 영역(6-1', 7-1')은, 상기 편광 필름 또는 편광 소자의 연신 방향(A)에 대하여 수직 방향의 선 형상으로 패턴화되어 있을 수 있으며, 경우에 따라서는, 하드 영역의 패턴 형성의 효과를 극대화하기 위하여, 도 8 및 9에 나타난 바와 같이, 본 발명의 점착제(8, 9)는 편광 필름 또는 편광 소자의 연신 방향(A)과 평행한 방향으로 형성된 선 형상의 하드 영역(8-1, 9-1) 및 상기 연신 방향(A)에 대하여 수직 방향으로 형성된 선 형상의 하드 영역(8-1', 9-1')을 동시에 포함할 수 있다.
즉, 본 발명에서 상기 편광판은, 편광 필름 또는 편광 소자; 및 상기 편광 필름 또는 편광 소자의 일면 또는 양면에 형성된 본 발명에 따른 점착제를 포함하고,
상기 점착제의 하드 영역은 선 형상, 바람직하게는 연속적인 선 형상으로 패턴화되어 있으며, 상기 선 형상의 하드 영역은 상기 편광 필름 또는 편광 소자의 연신 방향에 대하여 수직 방향으로 형성되어 있을 수 있다.
본 발명은 또한, 전술한 본 발명에 따른 편광판이 액정셀의 일면 또는 양면에 접합되어 있는 액정 패널을 포함하는 액정표시장치에 관한 것이다.
상기와 같은, 본 발명의 액정표시장치에 포함되는 액정 패널의 종류는 특별히 한정되지 않는다. 본 발명에서는, 예를 들면, 그 종류에 제한되지 않고, TN(Twisted Neumatic)형, STN(Super Twisted Neumatic)형, F(ferroelectric)형 및 PD(polymer dispersed LCD)형 등을 포함한 F 각종 수동행렬 방식; 2단자형(two terminal) 및 3단자형(three terminal)을 포함한 각종 능동행렬 방식; 횡전계형(IPS mode) 패널 및 수직배향형(VA mode) 패널을 포함한 공지의 액정 패널이 모두 적용될 수 있다. 또한, 본 발명의 액정표시장치에 포함되는 그 외의 기타 구성의 종류 및 그 제조 방법도 특별히 한정되지 않으며, 이 분야의 일반적인 구성을 제한 없이 채용하여 사용할 수 있다.
이하, 본 발명에 따르는 실시예 및 본 발명에 따르지 않는 비교예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명하나, 본 발명의 범위가 하기 제시된 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.
제조예 1. 아크릴계 수지(A)의 제조
질소 가스가 환류되고, 온도 조절이 용이하도록 냉각 장치를 설치한 1L 반응 기에 n-부틸 아크릴레이트(n-BA) 100 중량부를 투여하였다. 이어서, 용제로서 에틸 아세테이트(EAc) 120 중량부를 투입하고, 산소를 제거하기 위하여 질소 가스를 60분 동안 퍼징(purging)하였다. 그 후, 반응기의 온도를 60℃로 유지하고, 반응 개시제로서 아조비스이소부티로니트릴(AIBN) 0.05 중량부를 투입한 후, 8 시간 동안 반응시켰다. 반응 종료 후, 에틸 아세테이트로 희석(고형분: 약 15 중량%)하여, 중량평균분자량이 185만이고, 분자량 분포(Mw/Mn)가 5.5인 아크릴계 수지(A)를 제조하였다.
제조예 2. 아크릴계 수지(B)의 제조
n-부틸 아크릴레이트 99 중량부 및 2-히드록시에틸 아크릴레이트 1 중량부를 포함하는 단량체 혼합물을 사용한 것을 제외하고는, 제조예 1과 동일한 과정을 통하여, 중량평균분자량이 191만이고, 분자량 분포(Mw/Mn)가 4.9인 아크릴계 수지(B)를 제조하였다.
제조예 3. 점착제 조성물(코팅액)(C)의 제조
아크릴계 수지(A) 100 중량부에 대하여, 다관능성 아크릴레이트로서, 트리스(아크릴록시에틸)이소시아누레이트(3관능형, M315) 15 중량부 및 광개시제로서 히드록시 시클로헥실 페닐 케톤(Irg 184, 스위스 시바 스페셜티 케미컬(제)) 1.0 중량부를 배합하여, 점착제 조성물(C)을 제조하였다.
제조예 4. 점착제 조성물(코팅액)(D)의 제조
아크릴계 수지(B) 100 중량부에 대하여, 다관능성 가교제로서 TDI계 이소시아네이트 가교제(Coronate L, 일본 니폰폴리우레탄(제)) 0.5 중량부, 다관능성 아크릴레이트로서, 트리스(아크릴록시에틸)이소시아누레이트(3관능형, M315) 15 중량부 및 광개시제로서 히드록시 시클로헥실 페닐 케톤(Irg 184, 스위스 시바 스페셜티 케미컬(제)) 1.0 중량부를 배합하여, 점착제 조성물(C)을 제조하였다.
실시예 1 내지 7, 비교예 1 및 2
제조예 3 또는 4에서 제조된 점착제 조성물을 사용하여, 하기 표 1에 나타난 바와 같이, 하드 및 소프트 영역이 패턴화된 점착제를 제조하였다. 이 때, 하드 및 소프트 영역의 패턴은 자외선 차단 마스크 또는 자외선 차광 마스크를 사용하여 형성하였으며, 그 각각의 방법은 구체적으로 하기와 같다. 한편, 비교예 2의 경우, 코팅액의 전면에 균일한 자외선을 조사하여, 저장 탄성률을 조절하였으며, 패턴을 형성하기 위한 별도의 조치는 수행하지 않았다.
자외선 차단 마스크를 사용한 경우(A 방식)
자외선 차단 마스크를 사용한 패턴 형성은, 도 2에 나타난 방식에 준하여 수행하였다. 구체적으로, 제조예에서 제조된 점착제 조성물을 두께 38 ㎛의 투명한 이형 필름(PET 필름, MRF-38, 미쯔비시(제))(c)상에 건조 후 두께가 23 ㎛가 되도 록 코팅하고, 110℃의 오븐에서 3분 동안 건조시켰다. 이어서, 건조된 코팅층(b)을 편광판(a)에 부착한 후, 패턴이 형성된 자외선 차단 마스크(d)를 매개로, 이형 필름(c)측에서 자외선을 조사하였다.
이 때, 자외선 차단 마스크(d)는 이형 필름(c)상에 최대한 밀착시켜, 이형 필름(c) 및 마스크(d)의 간격을 최소화하였다. 자외선 차단 마스크(d)에서 패턴은, 도 4에 나타난 바와 같이, 편광 필름의 연신 방향과 평행하게 일방향의 선형상으로 형성하거나, 또는 도 8에 나타난 바와 같이, 연신방향과 평행한 방향 및 수직한 방향으로 패턴화하였으며, 이 때 패턴의 선폭은 약 100 ㎛로 설정하였다.
또한, 자외선의 조사는 상기 자외선 차단 마스크(d)를 매개로 하여, 우선 조사(1차 조사)한 후, 이어서 마스크(d)를 제거한 후의 자외선을 조사(2차 조사)하는 두 단계로 수행하였으며, 조도를 600 mW/cm2으로 고정한 상태에서, 광량만을 하기와 같이 변화시켜 자외선 조사를 수행하였다.
1차 자외선 조사
자외선 조사기: 고압 수은 램프
조도: 600 mW/cm2
광량: 200 mJ/cm2, 400 mJ/cm2, 800 mJ/cm2, 1,200 mJ/cm2
2차 자외선 조사
자외선 조사기: 고압 수은 램프
조도: 600 mW/cm2
광량: 100 mJ/cm2, 200 mJ/cm2, 400 mJ/cm2
자외선 차광 마스크를 사용한 경우(B 방식)
자외선 차광 마스크를 사용한 패턴 형성은, 도 3에 나타난 방식에 준하여 수행하였다. 구체적으로, 제조예에서 제조된 점착제 조성물을 두께 38 ㎛의 투명한 이형 필름(PET 필름, MRF-38, 미쯔비시(제))(c)상에 건조 후 두께가 23 ㎛가 되도록 코팅하고, 110℃의 오븐에서 3분 동안 건조시켰다. 이어서, 건조된 코팅층(b)을 편광판(a)에 부착한 후, 패턴이 형성된 자외선 차광 마스크(e)를 매개로, 이형 필름(c)측에서 자외선을 조사하였다.
이 때, 자외선 차광 마스크(e)는 이형 필름(c)상에 최대한 밀착시켜, 이형 필름(c) 및 마스크(e)의 간격을 최소화하였다. 자외선 차광 마스크(e)에서 패턴은, 도 4에 나타난 바와 같이, 편광 필름의 연신 방향과 평행하게 일방향의 선형상으로 형성하거나, 또는 도 8에 나타난 바와 같이, 연신방향과 평행한 방향 및 수직한 방향으로 패턴화하였으며, 이 때 패턴의 선폭은 약 100 ㎛로 설정하였고, 패턴이 형성되지 않은 부분의 자외선 차광율은 약 87.5%로 설정하였다. 자외선 차광 마스크(e)의 사용 시에 자외선의 조사 조건은 하기와 같았다.
자외선 조사 조건
자외선 조사기: 고압 수은 램프
조도: 600 mW/cm2
광량: 800 mJ/cm2
[표 1]
|
실시예 |
비교예 |
1 |
2 |
3 |
4 |
5 |
6 |
7 |
1 |
2 |
점착제 조성물 |
C |
C |
C |
C |
C |
C |
D |
D |
C |
UV 조사 방식 |
A |
A |
A |
A |
A |
B |
A |
- |
- |
마스크 타입 |
도 4 |
도 4 |
도 4 |
도 4 |
도 8 |
도 4 |
도 4 |
- |
- |
UV 광량 |
1차 |
800 |
1,200 |
400 |
800 |
800 |
800 |
800 |
- |
800 |
2차 |
200 |
200 |
100 |
- |
200 |
200 |
200 |
- |
- |
실시예 및 비교예에서 제조된 점착제 또는 편광판에 대하여, 하기 제시된 방법으로 그 겔 분율, 점착력, 재박리성, 내구신뢰성, 광투과 균일성 및 저장 탄성률 등의 물성을 측정하였다.
1. 겔 분율의 측정
제조된 점착층을 약 7일간 항온항습실(23℃ 및 60% R.H.)에 방치한 후, 점착제 약 0.3 g을 채취하여, 스테인리스 200 메쉬 철망에 넣었다. 이어서, 상기 점착제를 에틸 아세테이트에 침적시키고, 상온의 암실에서 3일(72 시간) 동안 보관하였다. 그 후, 철망을 꺼내어, 점착제의 불용해분을 분리하고, 이를 70℃의 오븐에서 4 시간 동안 건조하여 질량(건조 질량)을 측정한 다음, 하기 일반식 1에 따라 겔 분율을 측정하였다.
[일반식 1]
겔(gel) 함량 = B/A × 100
상기 일반식 1에서, A는 에틸 아세테이트의 침적하기 전의 점착제의 질량(0.3 g)을 나타내고, B는 에틸 아세테이트에 침적시킨 후에 측정한 불용해분의 건조 질량을 나타낸다.
2. 점착력 및 재박리성 평가
제조된 편광판을 25 mm × 100 mm (폭 × 길이)의 크기로 재단하여 샘플을 제조하였다. 샘플에서 박리시트를 제거한 후, 점착제를 매개로 무알칼리 유리에 라미네이터를 이용하여 부착하였다. 이어서, 오토클레이브(50℃, 5 기압)에서 약 20분 동안 압착 처리하고, 항온항습 조건(23℃, 50% RH)에 24 시간 동안 보관하였다. 그 후 물성 측정기(Texture analyzer, 영국 스테이블 마이크로 시스템(제))를 이용하여, 300 mm/min의 박리 속도 및 180도의 박리 각도의 조건으로 점착력을 측정하고, 이를 통해 하기 기준으로 재박리성을 평가하였다.
○: 1일 후 점착력이 800 gf/25mm이하
△: 1일 후 점착력이 1,000 gf/25mm 이상
×: 1일 후 점착력이 2,000 gf/25mm 이상
3. 내구신뢰성 평가
제조된 편광판을 180 mm × 250 mm (폭 × 길이)의 크기로 재단하여 샘플을 제조하였다. 이어서, 샘플에서 이형 필름을 박리하고, 19인치의 시판 패널에 라미네이터를 이용하여 부착하였다. 이어서, 오토클레이브(50℃, 5 기압)에서 약 20분 동안 압착 처리하고, 항온항습 조건(23℃, 50% RH)에서 24 시간 동안 보관하여 시편을 제조하였다. 그 후, 제조된 시편의 내습열 내구성을 평가하기 위하여, 60℃의 온도 및 90% R.H.의 상대 습도 조건에서 500 시간 동안 방치한 후, 기포 및 박리의 발생 여부를 평가하였다(내습열 조건). 또한, 내열 내구성은 90℃ 및 105℃의 온도에서 500 시간 방치한 후, 기포 및 박리의 발생 여부를 평가하였다(내열 조건). 모든 시편은 그 상태를 평가하기 직전에 상온에서 24 시간 동안 방치한 후 평가를 실시하였다. 내습열 및 내열 특성의 평가 기준은 하기와 같다.
○: 기포 및 박리 현상 없음
△: 기포 및/또는 박리 현상이 약하게 발생
×: 기포 및/또는 박리 현상이 다량 발생
4. 광투과 균일성
광투과 균일성은 백라이트를 이용하여 암실에서 편광판을 통하여 빛이 새어 나오는 부분이 있는지를 관찰하여 평가하였다. 구체적으로, 광투과 균일성은 점착층이 부착된 편광판을 22인치 모니터(LG Philips LCD사)에 부착하여, 항온항습 조건에서1일간 보관 후, 80C 오븐에서 200시간 동안 방치하고, 백라이트를 사용하여, 모니터의 사각 네변 주변부의 광투과 균일성을 평가하였다. 광투과성의 균일성은 평가 기준은 하기와 같았다.
⊙: 모니터 네 주변부의 광투과성의 불균일현상이 육안으로 판단하기 어려움
○: 모니터 네 주변부의 광투과성의 불균일현상이 약간 있음
△: 모니터 네 주변부의 광투과성의 불균일현상이 다소 있음
×: 모니터 네 주변부의 광투과성의 불균일현상이 다량 있음
6. 점착제 모듈러스 측정
이형필름 사이에 코팅된 점착제를 15 cm × 25 cm의 크기로 재단하고, 편면의 이형 필름을 제거한 다음, 5번 적층시켜서, 두께를 약 1mm가 되도록 하였다. 이어서, 상기 적층체를 지름 8 mm의 원형으로 재단하고, 글래스(glass)를 이용하여, 압축한 다음, 밤새 방치하여, 각 층간의 계면에서의 젖음(wetting)을 향상시켜, 적층시 생긴 기포를 제거하여 시료를 제조하였다. 이어서, 시료를 패러랠 플레이트(parallel plate) 위에 놓고, 갭(gap)을 조정한 후, Normal & Torque의 영점을 맞추고, Normal force의 안정화를 확인한 후, 저장 탄성률을 측정하였다.
측정 기기 및 측정 조건
측정 기기: ARES-RDA, TA Instruments Inc. with forced convection oven
측정 조건:
geometry : 8 mm parallel plate
gap: around 1 mm
test type : dynamic strain frequency sweep
strain = 10.0 [%], temperature : 30℃
initial frequency : 0.4 rad/s, final frequency : 100 rad/s
상기와 같은 측정 결과를, 하기 표 2에 정리하여 기재하였다.
[표 2]
|
실시예 |
비교예 |
1 |
2 |
3 |
4 |
5 |
6 |
7 |
1 |
2 |
G'hard(MPa) |
10.1 |
42.5 |
6.6 |
10.1 |
10.1 |
10.1 |
10.1 |
0.30 |
10.1 |
G'soft(MPa) |
1.3 |
1.3 |
0.8 |
0.11 |
1.3 |
1.3 |
1.3 |
0.30 |
10.1 |
RG' |
7.8 |
32.7 |
8.3 |
91.8 |
7.8 |
7.8 |
7.8 |
1 |
1 |
HP area(%) |
30 |
20 |
40 |
50 |
40 |
30 |
30 |
0 |
0 |
겔 함량(%) |
93 |
94 |
94 |
61 |
95 |
92 |
92 |
81 |
95 |
점착력(gf/25mm) |
340 |
250 |
270 |
390 |
305 |
330 |
220 |
750 |
120 |
재박리성 |
○ |
○ |
○ |
○ |
○ |
○ |
○ |
○ |
○ |
내열 내구성 |
90℃ |
○ |
○ |
○ |
○ |
○ |
○ |
○ |
△ |
△ |
105℃ |
○ |
○ |
○ |
○ |
○ |
○ |
○ |
× |
× |
내습열 내구성 |
○ |
○ |
○ |
○ |
○ |
○ |
○ |
× |
× |
광투과 균일성 |
⊙ |
⊙ |
⊙ |
⊙ |
⊙ |
⊙ |
⊙ |
× |
○ |
G'hard: 하드영역의 저장 탄성률 G'soft: 소프트영역의 저장 탄성률 RG': 하드 및 소프트 영역의 저장 탄성률의 비(G'hard/G'soft) HP area: 전체 점착제 면적에 대한 하드 영역 면적의 비율 |
상기 표 2의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따라 단일 점착제 내에 하드 및 소프트 영역의 패턴이 형성되어 있는 실시예 1 내지 7의 경우, 고온 또는 고습 조건에서 우수한 내구신뢰성을 나타내고, 점착력 및 재박리성 등의 물성이 탁월하게 유지되었다. 또한, 본 발명의 실시예 1 내지 7의 경우, 22인치의 대형 사이즈의 모니터에 적용된 경우에도, 우수한 광투과 균일성을 나타내었다.
반면, 점착제 전면의 저장 탄성률이 상대적으로 낮은 비교예 1의 경우, 편광판의 응력에 의한 수축 및 팽창을 효과적으로 억제하지 못하여 빛샘이 넓게 분포하게 되고, 또한 내구신뢰성도 매우 열악하였다. 또한, 점착제 전면의 저장 탄성률이 상대적으로 높은 비교예 2의 경우, 점착제의 경도(hardness)가 높아져서, 충분한 점착력을 발휘되지 않을 뿐만 아니라, 내구성도 크게 떨어지는 것을 확인하였다.
상기와 같은 결과로부터, 점착제의 전면의 저장 탄성률을 동일하게 제어한 상태에서는, 그 저장 탄성률을 조절하여도, 우수한 효과가 발휘되기 어렵다는 점을 확인할 수 있다.