KR20070071374A - An apparatus of supplying an etchant for a liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

An etching solution supplying unit for an LCD(Liquid Crystal Display) is provided to uniformly supply an etching solution through accurate mixing ratio, by using plural mixing tanks and plural mixing solution analyzing units so as to minimize the significant difference in a dilution ratio of a mixing solution. An etching solution supplying unit comprises an etching solution supplying pipe(201) for supplying an etching solution, and a pure water supplying pipe(202) for supplying pure water. Mixing tanks(203,204) receive the etching solution and the pure water through the supplying pipes, and mix the supplied etching solution and pure water. Mixing solution analyzing units(205,206) are included in the mixing tanks respectively. Each of the mixing solution analyzing units is composed of a component analyzer for analyzing the mixing ratio of the etching solution and an aging characteristic analyzer for analyzing the aging characteristic of the etching solution.

Description

액정표시장치용 식각용액 공급장치{An apparatus of supplying an etchant for a liquid crystal display device}An apparatus for supplying an etchant for a liquid crystal display device

도 1은 종래의 액정표시장치용 식각용액 공급장치의 구성도 1 is a block diagram of a conventional etching solution supply device for a liquid crystal display device

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 식각용액 공급장치의 구성도.2 is a block diagram of an etching solution supply apparatus for a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

도 3은 도 2의 혼합탱크에 구비된 센서부를 설명하기 위한 도면.3 is a view for explaining a sensor unit provided in the mixing tank of FIG.

도 4는 도 2의 혼합탱크에 구비된 혼합액 분석부를 설명하기 위한 도면.4 is a view for explaining a mixed liquid analysis unit provided in the mixing tank of FIG.

＊도면의 주요부에 대한 부호 설명* Explanation of symbols on the main parts of the drawings

201 : 식각용액 공급관 202 : 순수용액 공급관201: etching solution supply pipe 202: pure solution supply pipe

203 : 제 1 혼합탱크 204 : 제 2 혼합탱크203: first mixing tank 204: second mixing tank

205 : 제 1 혼합액 분석부 206 : 제 2 혼합액 분석부205: first mixed solution analysis unit 206: second mixed solution analysis unit

207 : 제 1 센서부 208 : 제 2 센서부207: first sensor unit 208: second sensor unit

209 : 제 1 혼합팬 210 : 제 2 혼합팬209: first mixing fan 210: second mixing fan

215 : 제 1 공급탱크 216 : 제 2 공급탱크215: first supply tank 216: second supply tank

222 : 적산유량계 237 : 필터 222: accumulated flow meter 237: filter

238 : 필터 228 : 식각장치238 filter 228 etching apparatus

243 : 도포 1 펌프 247 : 배출관243 application 1 pump 247 discharge pipe

본 발명은 액정표시장치용 식각용액 공급장치에 관한 것으로써, 다수의 혼합탱크와 혼합액 분석부를 구비하여 혼합액의 희석비 유의차(有意差)를 최소화할 수 있는 액정표시장치용 식각용액 공급장치에 대한 것이다. The present invention relates to an etching solution supply device for a liquid crystal display device, comprising a plurality of mixing tanks and the mixture analysis unit to minimize the difference in the dilution ratio of the mixed solution in the etching solution supply device for a liquid crystal display device It is about.

일반적으로 반도체장치와 액정표시장치 등의 표시장치들을 제조하기 위해서는 기판상에 반도체막, 부도체막, 산화막, 증착막 등의 다수의 박막을 형성하거나 가공하는 식각장치 등의 제조장치들이 사용된다.In general, in order to manufacture display devices such as semiconductor devices and liquid crystal displays, manufacturing apparatuses such as etching apparatuses for forming or processing a plurality of thin films such as semiconductor films, non-conductor films, oxide films, and deposited films are used on a substrate.

상기 각 식각장치 등의 제조장치에는 포토레지스트액, 현상액, 에칭액, 세정액, 유기용제 등의 화학적 용액이 사용되고, 기판을 식각하기 위한 상기 식각장치에는 식각용액을 공급하기 위한 식각용액 공급장치가 사용된다.Chemical apparatuses such as photoresist, developer, etching solution, cleaning solution, organic solvent, etc. are used in manufacturing apparatuses such as the etching apparatus, and an etching solution supply apparatus for supplying an etching solution is used in the etching apparatus for etching a substrate. .

이하, 첨부된 도면을 참조하여 종래의 액정표시장치용 식각용액 공급장치의 구성을 자세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the configuration of a conventional etching solution supply device for a liquid crystal display device.

도 1은 종래의 액정표시장치용 식각용액 공급장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a conventional etching solution supply apparatus for a liquid crystal display device.

도 1에 도시된 바와 같이, 식각용액 공급관(101)과 순수용액 공급관(102)으로부터 각각 식각용액과 순수용액을 공급받는 제 1 공급탱크(103) 및 제 2 공급탱크(104)가 구비되어있다.As shown in FIG. 1, a first supply tank 103 and a second supply tank 104 which receive an etching solution and a pure solution from the etching solution supply pipe 101 and the pure solution supply pipe 102, respectively, are provided. .

그리고, 상기 식각용액 공급관(101)에는 상기 제 1 공급탱크(103) 및 제 2 공급탱크(104)에 식각용액을 공급하기 위한 제 1 식각배관(105)과 제 2 식각배관(106)이 분기되어있다. The first etching pipe 105 and the second etching pipe 106 branch to supply the etching solution to the first supply tank 103 and the second supply tank 104 to the etching solution supply pipe 101. It is.

또한, 상기 순수용액 공급관(102)에는 상기 제 1 공급탱크(103) 및 제 2 공급탱크(104)에 순수용액을 공급하기 위한 제 1 순수배관(107)과 제 2 순수배관(108)이 분기되어있다. In addition, the pure water supply pipe 102 is branched to the first pure water pipe 107 and the second pure water pipe 108 for supplying the pure solution to the first supply tank 103 and the second supply tank 104. It is.

상기 제 1 공급탱크(103) 및 제 2 공급탱크(104)에는 식각용액과 순수용액이 혼합된 혼합액을 배출하기 위한 제 1 배출관(109)과 제 2 배출관(110)이 각각 구비되어있다.The first supply tank 103 and the second supply tank 104 are provided with a first discharge pipe 109 and a second discharge pipe 110 for discharging a mixed solution of an etching solution and a pure solution, respectively.

이와 같이 구성된 액정표시장치용 식각용액 공급장치의 동작을 설명하면 다음과 같다.The operation of the etching solution supply device for a liquid crystal display device configured as described above is as follows.

먼저, 식각용액은 상기 식각용액 공급관(101)과 상기 제 1 식각배관(105) 및 제 2 식각배관(106)을 통해 상기 제 1 공급탱크(103)와 제 2 공급탱크(104)에 공급된다. 상기 제 1 공급탱크(103)와 제 2 공급탱크(104)에 식각용액이 적정량 공급되면 더 이상의 식각용액 공급은 중단된다. First, the etching solution is supplied to the first supply tank 103 and the second supply tank 104 through the etching solution supply pipe 101, the first etching pipe 105 and the second etching pipe 106. . When an appropriate amount of the etching solution is supplied to the first supply tank 103 and the second supply tank 104, the supply of the etching solution is stopped.

다음으로, 순수용액은 상기 순수용액 공급관(102)과 상기 제 1 순수배관(107) 및 제 2 순수배관(108)을 통해 상기 제 1 공급탱크(103) 및 제 2 공급탱크(104)에 공급된다. 그리고, 상기 제 1 공급탱크(103) 및 제 2 공급탱크(104)에 순수용액이 적정량 공급되면 더 이상의 순수용액 공급은 중단된다. Next, the pure solution is supplied to the first supply tank 103 and the second supply tank 104 through the pure solution supply pipe 102, the first pure water pipe 107 and the second pure water pipe 108. do. In addition, when a proper amount of pure water is supplied to the first supply tank 103 and the second supply tank 104, the supply of further pure solution is stopped.

여기서, 상기 적정량은 혼합액이 사용될 각각의 식각장치에 따라 혼합비율을 감안해서 미리 결정해놓은 유량을 나타낸다. 즉, 혼합액의 혼합비율은 각각의 제조장치 및 식각장치에 따라 다르게 적용되기 때문에, 혼합액이 사용될 각각의 장치에 따라 미리 설정된 비율로 혼합하기 위해 결정해놓은 유량이다.Here, the appropriate amount represents a predetermined flow rate in consideration of the mixing ratio according to each etching apparatus for which the mixed liquid is to be used. That is, since the mixing ratio of the mixed liquid is differently applied to each manufacturing apparatus and etching apparatus, it is a flow rate determined for mixing at a predetermined ratio according to each apparatus to be used.

따라서, 상기 제 1 공급탱크(103) 및 제 2 공급탱크(104)는 설정된 적정량의 식각용액과 순수용액을 각각 공급받아서 이들이 혼합된 혼합액을 각기 보유하게 된다. Therefore, the first supply tank 103 and the second supply tank 104 are supplied with the appropriate amount of the etching solution and the pure solution, respectively, to hold each of the mixed liquid mixed with them.

이후, 상기 제 1 공급탱크(103) 및 제 2 공급탱크(104)는 혼합액이 사용될 제조장치 및 식각장치 등으로 혼합액을 공급하기 위해 상기 제 1 배출관(109)과 상기 제 2 배출관(110)을 통해 혼합액을 배출한다. Thereafter, the first supply tank 103 and the second supply tank 104 connect the first discharge pipe 109 and the second discharge pipe 110 to supply the mixed liquid to a manufacturing apparatus and an etching apparatus in which the mixed liquid is to be used. Drain the mixed solution through

상술한 바와 같은 종래의 액정표시장치용 식각용액 공급장치는 상기 식각용액 공급관(101)과 상기 순수용액 공급관(102)에 다수의 배관(105~108)을 매개로 연결된 제 1 공급탱크(103) 및 제 2 공급탱크(104)가 구비되어 있다. The conventional etching solution supply apparatus for a liquid crystal display device as described above has a first supply tank 103 connected to the etching solution supply pipe 101 and the pure solution supply pipe 102 via a plurality of pipes 105 to 108. And a second supply tank 104.

따라서, 종래의 액정표시장치용 식각용액 공급장치의 상기 공급탱크들(103, 104)은 하나의 주 공급관으로부터 분기된 다수개의 보조배관을 통하여 식각용액과 순수용액을 각각 공급받기 때문에, 상기 공급탱크들(103, 104)간에 혼합액의 희석비 유의차(有意差)가 크게 발생하게 된다. 또한, 상기 공급탱크들(103, 104) 각각에 저장되는 혼합액의 경시변화(經時變化) 상태를 판단할 수 없기 때문에, 이러한 혼합액을 공급받아서 사용하는 액정표시장치용 식각장치에서는 공정효율이 떨어지는 문제점이 발생한다. Accordingly, the supply tanks 103 and 104 of the conventional etching solution supply device for the liquid crystal display are supplied with the etching solution and the pure solution through a plurality of auxiliary pipes branched from one main supply pipe. Significant difference in dilution ratio of the mixed solution occurs between them 103 and 104. In addition, since the state of change of the liquid mixture stored in each of the supply tanks 103 and 104 cannot be determined over time, the process efficiency of the liquid crystal display device using such a mixed liquid is poor. A problem occurs.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 정확한 희석비율에 따른 혼합액을 일괄적으로 공급할 수 있는 혼합탱크와 혼합액 분석부를 구비하여, 희석비 유의차를 최소화하면서도 혼합액의 경시변화(經時變化)상태를 분석할 수 있는 액정표시장치용 식각용액 공급장치를 제공하는데에 그 목적이 있다.The present invention has been made in order to solve the above problems, and provided with a mixing tank and a mixed liquid analyzer which can supply the mixed liquid according to the exact dilution ratio collectively, while minimizing the significant difference in the dilution ratio over time (經It is an object of the present invention to provide an etching solution supply device for a liquid crystal display device that can analyze the state of time.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정표시장치용 식각용액 공급장치는, 식각용액 공급관과 순수용액 공급관으로부터 식각용액과 순수용액을 공급받아서 혼합하고 저장하는 다수개의 혼합탱크, 및 상기 혼합탱크의 혼합액에 대한 혼합비율과 경시변화(經時變化)상태를 분석하여 그 결과를 나타내는 혼합액 분석부를 포함하여 구성된다. In order to achieve the above object, an etching solution supply apparatus for a liquid crystal display device includes a plurality of mixing tanks for mixing and storing an etching solution and a pure solution from an etching solution supply pipe and a pure solution supply pipe, and the mixing It is configured to include a mixed liquid analyzing unit for analyzing the mixing ratio and the state of change over time with respect to the mixed liquid of the tank and showing the result.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정표시장치용 식각용액 공급장치의 구성을 자세히 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, the configuration of an etching solution supply apparatus for a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 식각용액 공급장치의 구성도이다.2 is a block diagram of an etching solution supply apparatus for a liquid crystal display according to an embodiment of the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이, 식각용액 공급관(201)과 순수용액 공급관(202)으로부터 식각용액과 순수용액을 공급받는 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204) 가 구비되며, 상기 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204)에는 제 1 혼합액 분석부(205)와 제 2 혼합액 분석부(206)가 구비되어있다. As shown in FIG. 2, a first mixing tank 203 and a second mixing tank 204 are provided to receive the etching solution and the pure solution from the etching solution supply pipe 201 and the pure solution supply pipe 202. The first mixed tank 203 and the second mixed tank 204 are provided with a first mixed liquid analyzing unit 205 and a second mixed liquid analyzing unit 206.

또한, 상기 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204)에는 식각용액과 순수용액의 공급량을 나타내기 위한 센서부(207, 208)와, 혼합액을 섞어주기 위한 혼합팬(209, 210)이 각각 구비되어있다.In addition, the first mixing tank 203 and the second mixing tank 204, the sensor unit (207, 208) for indicating the supply amount of the etching solution and the pure solution, and the mixing pan (209, 210) for mixing the mixed solution ) Are each equipped.

상기 식각용액 공급관(201)에서 분기된 제 1 식각배관(251)과 제 2 식각배관(252)은 상기 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204)에 연결되어있다.The first etching pipe 251 and the second etching pipe 252 branched from the etching solution supply pipe 201 are connected to the first mixing tank 203 and the second mixing tank 204.

그리고, 상기 제 1 식각배관(251)과 제 2 식각배관(252)에는 식각용액의 공급량을 제어하기 위한 제 1 식각밸브(211)와 제 2 식각밸브(212)가 구비된다. The first etching pipe 251 and the second etching pipe 252 are provided with a first etching valve 211 and a second etching valve 212 for controlling the supply amount of the etching solution.

상기 순수용액 공급관(202)에서 분기된 제 1 순수배관(253)과 제 2 순수배관(254)은 상기 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204)에 각각 연결되어있다.The first pure water pipe 253 and the second pure water pipe 254 branched from the pure water supply pipe 202 are connected to the first mixing tank 203 and the second mixing tank 204, respectively.

또한, 상기 제 1 순수배관(253)과 제 2 순수배관(254)에는 순수용액의 공급량을 제어하기 위한 다수개의 순수밸브(213, 214)가 구비된다. In addition, the first pure water pipe 253 and the second pure water pipe 254 are provided with a plurality of pure water valves 213 and 214 for controlling the amount of pure water supplied.

상기 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204)에는 혼합액을 제 1 공급탱크(215) 및 제 2 공급탱크(216)에 공급하기 위한 제 1 내지 제 5 혼합배관(217, 218, 219, 220, 221)이 구비된다.First to fifth mixing pipes 217 and 218 for supplying the mixed liquid to the first supply tank 215 and the second supply tank 216 are provided in the first mixing tank 203 and the second mixing tank 204. 219, 220, 221 are provided.

여기서, 상기 제 1 혼합배관(217)과 상기 제 2 혼합배관(218)은 제 3 혼합배관(219)으로 통합되고, 상기 제 3 혼합배관(237)은 제 4 혼합배관(220)과 제 5 혼합배관(221)으로 분기된다. Here, the first mixing pipe 217 and the second mixing pipe 218 are integrated into the third mixing pipe 219, the third mixing pipe 237 is the fourth mixing pipe 220 and the fifth Branching to the mixing pipe 221.

따라서, 상기 제 3 혼합배관(219)에서 분기되는 배관의 수에 따라 더 많은 공급탱크가 구비될 수 있다.Therefore, more supply tanks may be provided depending on the number of pipes branching from the third mixing pipe 219.

한편, 상기 제 3 혼합배관(237)에서 분기된 상기 제 4 혼합배관(220)과 상기 제 5 혼합배관(221)은 상기 제 1 공급탱크(215) 및 제 2 공급탱크(216)로 연결된다. Meanwhile, the fourth mixing pipe 220 and the fifth mixing pipe 221 branched from the third mixing pipe 237 are connected to the first supply tank 215 and the second supply tank 216. .

상기 혼합배관(217, 218, 220, 221)에는 상기 제 1 공급탱크(215) 및 제 2 공급탱크(216)에 공급량을 제어하기 위한 혼합밸브(224, 225, 226, 227)가 각각 구비된다.The mixing pipes 217, 218, 220, and 221 are provided with mixing valves 224, 225, 226, and 227 for controlling the supply amount to the first supply tank 215 and the second supply tank 216, respectively. .

또한, 상기 제 4 혼합배관(220)과 상기 제 5 혼합배관(221)에는 상기 제 1 공급탱크(215) 및 제 2 공급탱크(216)로 공급되는 혼합액의 공급량을 나타내기 위한 적산유량계(222, 223)가 각각 구비되어있다. In addition, an integration flow meter 222 for indicating the supply amount of the mixed liquid supplied to the first supply tank 215 and the second supply tank 216 to the fourth mixing pipe 220 and the fifth mixing pipe 221. , 223 are each provided.

상기 제 1 공급탱크(215) 및 제 2 공급탱크(216)와 다수의 식각장치(228, 229, 230)는 제 1 내지 제 6 도포배관(231, 232, 233, 234, 235, 236)으로 연결되며, 상기 제 1 도포배관(231)과 상기 제 2 도포배관(232)에는 제 1 필터(237)와 제 2 필터(238)가 각각 구비되어있다. The first supply tank 215, the second supply tank 216, and the plurality of etching devices 228, 229, and 230 are first to sixth application pipes 231, 232, 233, 234, 235, and 236. Is connected, the first coating pipe 231 and the second coating pipe 232 is provided with a first filter 237 and the second filter 238, respectively.

상기 제 3 도포배관(233)에서 분기되는 상기 각 도포배관(234, 235, 236)에는 상기 각 식각장치(228, 229, 230)로 공급되는 혼합액의 공급량을 제어하기 위한 도포밸브(237, 238, 239)가 각각 구비된다. Each of the coating pipes 234, 235, and 236 branched from the third coating pipe 233, a coating valve 237 and 238 for controlling a supply amount of the mixed liquid supplied to each of the etching devices 228, 229, and 230. , 239), respectively.

상기 각 식각장치(228, 229, 230)는 식각공정에서 사용되고 남은 혼합액을 다시 제 1 공급탱크(215) 및 제 2 공급탱크(216)로 공급하기 위한 제 7 도포배관(240)이 구비된다. Each of the etching apparatuses 228, 229, and 230 is provided with a seventh coating pipe 240 for supplying the remaining mixed liquid to the first supply tank 215 and the second supply tank 216.

그리고, 상기 제 7 도포배관(240)에는 제 4 도포밸브(241)와 제 도포밸브(242) 및 제 1 도포펌프(243)가 구비된다.In addition, the seventh application pipe 240 is provided with a fourth application valve 241, the application valve 242, and the first application pump 243.

상기 각 식각장치(228, 229, 230)에는 더 이상 사용할 수 없는 식각용액을 배출하기 위한 배출관(244, 245, 246, 247)이 각각 구비되어 있으며, 상기 각 배출관(244, 245, 246)에는 각각 산배밸브(248, 249, 250)가 구비되어있다.Each of the etching devices 228, 229, and 230 is provided with discharge pipes 244, 245, 246, and 247 for discharging the etching solution that can no longer be used, and each of the discharge pipes 244, 245, and 246 is provided. Acid drain valves 248, 249 and 250 are provided respectively.

여기서, 상기 제 1 센서부(207)와 제 2 센서부(208)에 대해 자세히 설명하면 다음과 같다.Here, the first sensor unit 207 and the second sensor unit 208 will be described in detail as follows.

도 3은 도 2의 혼합탱크에 구비된 센서부를 설명하기 위한 도면이다.3 is a view for explaining a sensor unit provided in the mixing tank of FIG.

도 3에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 센서부(207)와 제 2 센서부(208)에는 상기 식각용액 공급관(201)과 상기 순수용액 공급관(202)에서 공급되는 식각용액과 순수용액의 공급량을 나타내기 위한 다수의 센서가 각각 구비되어있다. As shown in FIG. 3, the first sensor unit 207 and the second sensor unit 208 are supplied with the amount of the etching solution and the pure solution supplied from the etching solution supply pipe 201 and the pure solution supply pipe 202. A plurality of sensors are each provided for indicating.

상기 다수개의 센서들은 서로 다른 길이를 가지고서 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204)내에 공급된 용액의 수위를 감지할 수 있다. The plurality of sensors may have different lengths to detect the level of the solution supplied in the first mixing tank 203 and the second mixing tank 204.

먼저, 공급되는 식각용액의 수위에 따른 접촉에 의해 최저량 센서인 LL(301)센서가 가장 먼저 반응하고, 그 다음으로 소량의 L(302)센서, 정량2(303)센서 그리고 식각(307)센서 순으로 반응한다. First, the LL 301 sensor, which is the lowest sensor, reacts first by contact with the level of the etch solution supplied, and then a small amount of the L 302 sensor, the quantitative 2 303 sensor, and the etching 307. Respond in order of sensor.

여기서, 식각(307)센서가 반응하면 상기 식각용액 공급관(203)은 식각용액의 공급을 중단한다. Here, when the etching 307 sensor reacts, the etching solution supply pipe 203 stops the supply of the etching solution.

다음으로, 상기 각 순수용액 공급관(102)을 통해 상기 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204)내에 순수용액이 공급되고, 순수(306)센서 반응시 순수용액의 공급이 중단된다. Next, the pure solution is supplied into the first mixing tank 203 and the second mixing tank 204 through the respective pure solution supply pipes 102, and the supply of pure solution is stopped when the pure water 306 sensor reacts. .

이때, 정량1(305)센서와 순수(306)센서는 동일선상의 위치에서 같이 반응을 보임으로써, 적정량에 따른 혼합비율이 맞춰짐을 알 수 있다. At this time, the quantitative 1 (305) sensor and the pure water (306) sensor by the reaction in the same line position, it can be seen that the mixing ratio according to the appropriate amount is adjusted.

만일, 과다 공급시에는 다량의 H(306)센서와 최다량의 HH(309)센서가 순서대로 반응을 보임으로써 상기 각 혼합탱크(203, 204)의 혼합액 보유량을 계속 확인할 수 있다. In case of oversupply, a large amount of H 306 sensor and a large amount of HH 309 sensor may react in order to continuously check the amount of the mixed liquid in each of the mixing tanks 203 and 204.

한편, 혼합비율에 따른 혼합액 공급 외에, 식각용액만을 공급하고자 하는 경우는 상기 각 정량(정량1, 정량2, 정량3)센서만을 이용해서 보유량을 확보할 수 있다.On the other hand, in addition to the supply of the mixed solution in accordance with the mixing ratio, if you want to supply only the etching solution can be secured by using only the respective quantitative (quantitative 1, quantitative 2, quantitative 3) sensor.

다음으로, 상기 제 1 혼합액 분석부(205)와 제 2 혼합액 분석부(206)에 대해 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Next, the first mixed liquid analyzer 205 and the second mixed liquid analyzer 206 will be described with reference to the accompanying drawings.

도 4는 도 2에 구비된 혼합액 분석부를 설명하기 위한 도면이다.4 is a view for explaining the mixed liquid analysis unit provided in FIG. 2.

도 4에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 혼합액 분석부(205)와 제 2 혼합액 분석부(206)는 성분분석기(401)와 경시분석기(402) 및 출력기(403)로 구성되어있다.As shown in FIG. 4, the first mixed solution analyzing unit 205 and the second mixed solution analyzing unit 206 include a component analyzer 401, a aging analyzer 402, and an output unit 403.

상기 성분분석기(401)는 혼합액 추출관을 통해 상기 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204)의 혼합액을 추출하여 그 성분을 분석한다. 그리고, 그 혼합액의 성분과 혼합비율에 대한 분석결과를 상기 출력기(403)에 전송한다.The component analyzer 401 extracts the mixed liquid of the first mixed tank 203 and the second mixed tank 204 through the mixed liquid extraction tube and analyzes the components thereof. The result of the analysis on the components and the mixing ratio of the mixed liquid is transmitted to the output unit 403.

따라서, 상기 출력기(403)를 통해 혼합액에 대한 성분과 혼합비율을 나타낼 수 있다. Therefore, the component and the mixing ratio with respect to the mixed liquid may be represented through the output unit 403.

또한, 상기 경시분석기(402)를 통해 상기 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204)의 혼합액을 추출하여 혼합물의 경시변화 상태를 분석한다. 그리고, 그 결과를 상기 출력기(103)에 전송한다.In addition, the mixed solution of the first mixing tank 203 and the second mixing tank 204 is extracted through the time-lapse analyzer 402 to analyze the state of change of the mixture over time. The result is then transmitted to the output unit 103.

상기 출력기(403)는 상기 성분분석기(401)와 상기 경시분석기(402)에서 전송된 결과를 나타냄으로써, 식각용액과 순수용액의 공급여부 및 혼합비율을 조절할 수 있도록 한다.The output unit 403 shows the results transmitted from the component analyzer 401 and the over time analyzer 402, so that the supply and mixing ratio of the etching solution and the pure solution can be adjusted.

이와 같이 구성된 액정표시장치용 공급장치의 동작을 자세히 설명하면 다음과 같다.The operation of the supply device for a liquid crystal display device configured as described above will be described in detail as follows.

먼저, 상기 식각용액 공급관(201)을 통해 상기 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204)에 식각용액이 공급된다. First, an etching solution is supplied to the first mixing tank 203 and the second mixing tank 204 through the etching solution supply pipe 201.

이때, 상기 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204)에 구비된 상기 제 1 센서부(207)와 제 2 센서부(208)는 상기 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204)에 공급되는 식각용액의 공급량을 나타낸다. In this case, the first sensor 207 and the second sensor 208 provided in the first mixing tank 203 and the second mixing tank 204 are mixed with the first mixing tank 203 and second mixing. The supply amount of the etching solution supplied to the tank 204 is shown.

즉, 상기 제 1 센서부(207)와 제 2 센서부(208)는 식각용액의 공급량에 따른 수위변화를 감지하여 최소량을 나타내는 상기 LL(301)센서부터 반응을 보인다. That is, the first sensor unit 207 and the second sensor unit 208 reacts from the LL 301 sensor indicating a minimum amount by detecting a change in the water level according to the supply amount of the etching solution.

다음으로, 소량의 상기 L(302)센서, 상기 정량2(303)센서 순으로 반응을 나타내며, 상기 식각(307)센서가 반응을 나타내면 상기 식각밸브(211, 212)를 잠금으로써 공급을 중단한다.  Next, a small amount of the L (302) sensor, the quantitative 2 (303) sensor in the order of the reaction, if the etching 307 sensor responds to the reaction by stopping the supply by locking the etching valve (211, 212). .

이후, 상기 순수용액 공급관(202)을 통해 상기 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204)에 순수용액을 공급한다. Thereafter, the pure solution is supplied to the first mixing tank 203 and the second mixing tank 204 through the pure solution supply pipe 202.

이때, 상기 제 1 센서부(207)와 제 2 센서부(208)는 공급된 순수용액의 공급량을 나타내며, 상기 제 1 센서부(207)와 제 2 센서부(208)의 순수(306)센서 및 정량1(305)센서가 반응하면, 상기 각 순수벨브(213, 214)를 잠금으로써 공급을 중단한다. At this time, the first sensor unit 207 and the second sensor unit 208 represents the supply amount of the pure water supplied, and the pure water 306 sensor of the first sensor unit 207 and the second sensor unit 208 And when the sensor 1 (305) reacts, the supply is stopped by locking the pure valves (213, 214).

다음으로, 상기 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204)는 식각용액과 순수용액이 적정량 보유되면, 상기 제 1 혼합팬(209)과 제 2 혼합팬(210)을 가동하여 식각용액과 순수용액이 적절히 혼합되도록 한다.Next, when the first mixing tank 203 and the second mixing tank 204 hold an appropriate amount of an etching solution and a pure solution, the first mixing pan 209 and the second mixing fan 210 are operated to be etched. Ensure that the solution and pure solution are mixed properly.

이후, 상기 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204)에 각각 구비된 상기 혼합액 분석부(205, 206)는 상기 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204)의 혼합액을 추출한다. Thereafter, the mixed liquid analyzing units 205 and 206 provided in the first mixed tank 203 and the second mixed tank 204, respectively, are mixed liquids of the first mixed tank 203 and the second mixed tank 204. Extract

그리고, 상기 각 혼합액 분석부(205, 206)에 구비된 상기 성분분석기(401)와 상기 경시분석기(402)는 혼합액 추출관을 통해 추출된 혼합액의 성분에 따른 혼합비율과 경시여부를 각각 분석하여 그 결과를 상기 출력기(403)로 전송한다. In addition, the component analyzer 401 and the aging analyzer 402 provided in each of the mixed liquid analyzers 205 and 206 analyze the mixing ratio and time-lapse according to the components of the mixed liquid extracted through the mixed liquid extraction tube. The result is transmitted to the output unit 403.

상기 출력기(403)를 통해 상기 성분분석기(401)와 상기 경시분석기(402)에서 분석된 결과가 출력됨으로써, 혼합비율 및 경시변화 상태를 정확하게 조절할 수 있다.The results analyzed by the component analyzer 401 and the over time analyzer 402 are output through the output unit 403, thereby accurately adjusting the mixing ratio and the time-dependent change state.

혼합액이 적절한 혼합비율과 경시상태를 갖추면, 상기 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204)에 저장된 혼합액을 상기 각 혼합배관(217, 218, 219, 220, 221)을 이용해서 상기 제 1 공급탱크(215)와 제 2 공급탱크(216)에 공급한다. When the mixed liquid has an appropriate mixing ratio and a time-lapse state, the mixed liquid stored in the first mixing tank 203 and the second mixing tank 204 is discharged using the respective mixing pipes 217, 218, 219, 220, and 221. The first supply tank 215 and the second supply tank 216 are supplied.

이때, 상기 각 혼합배관(220, 221)에 구비된 적산유량계(222, 223)를 통해 상기 제 1 공급탱크(215)와 제 2 공급탱크(216)의 혼합액 보유량을 나타내며, 상기 혼합액이 적정량 확보되면 상기 각 혼합밸브(226, 227)를 잠금으로써, 더 이상의 혼합액 공급을 중단한다.At this time, through the cumulative flowmeters (222, 223) provided in each of the mixed piping (220, 221) indicates the amount of the mixed liquid holding amount of the first supply tank 215 and the second supply tank 216, the mixed liquid ensures the proper amount When the mixing valves 226 and 227 are locked, the supply of the mixed liquid is stopped.

이후, 상기 제 1 공급탱크(215)와 제 2 공급탱크(216)에 보유된 혼합액을 상기 각 도포배관(231, 232, 233, 234, 235, 236)을 이용해서 상기 각 식각장치(228, 229, 230)에 공급한다.Thereafter, the mixed liquids held in the first supply tank 215 and the second supply tank 216 are respectively etched using the respective coating pipes 231, 232, 233, 234, 235, and 236. 229, 230).

한편, 상기 제 1 혼합탱크(203)와 제 2 혼합탱크(204)의 혼합액은 상기 각 식각장치(228, 229, 230)로 혼합액을 배출한 상기 제 1 공급탱크(215)와 제 2 공급탱크(216)가 적정량을 보유할 수 있도록 더 공급할 수 있다. On the other hand, the mixed liquid of the first mixing tank 203 and the second mixing tank 204 is the first supply tank 215 and the second supply tank which discharged the mixed liquid to each of the etching apparatus (228, 229, 230) 216 may be further supplied to hold an appropriate amount.

상기 제 1 공급탱크(215)와 제 2 공급탱크(216)에서 상기 각 식각장치(228, 229, 230)로 공급되는 혼합액은 상기 각 필터(237, 238)에서 필터링 된다.The mixed liquid supplied from the first supply tank 215 and the second supply tank 216 to each of the etching apparatuses 228, 229, and 230 is filtered by the respective filters 237 and 238.

이후, 상기 각 식각장치(228, 229, 230)는 공급받은 혼합액을 이용하여 식각공정을 수행한다. Thereafter, each of the etching apparatuses 228, 229, and 230 performs an etching process using the supplied mixed liquid.

그리고, 식각공정에서 사용되고 남은 혼합액은 상기 제 7 도포배관(240)과 상기 제 1 도포펌프(243)를 이용해서 상기 제 1 공급탱크(215)와 제 2 공급탱크(216)에 다시 공급된다.In addition, the mixed solution remaining in the etching process is supplied to the first supply tank 215 and the second supply tank 216 again using the seventh application pipe 240 and the first application pump 243.

따라서, 상기 제 1 공급탱크(215)와 제 2 공급탱크(216)의 혼합액은 필터링을 거친 후, 식각공정 과정에서 반복적으로 사용된다. Therefore, the mixed solution of the first supply tank 215 and the second supply tank 216 is filtered and then repeatedly used in the etching process.

그러므로, 상기 식각공정에서 사용된 혼합액은 반복된 공정 횟수에 따라 혹은, 공정과정이 수행된 시간에 따라 상기 배출관(244, 245, 246, 247)을 통해 배출된다. Therefore, the mixed liquid used in the etching process is discharged through the discharge pipes (244, 245, 246, 247) according to the number of repeated processes or the time the process is performed.

이후, 이상에서 상술한 과정이 반복적으로 진행된다.Thereafter, the above-described process is repeatedly performed.

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and it is common in the art that various substitutions, modifications, and changes can be made without departing from the technical spirit of the present invention. It will be apparent to those who have knowledge.

이상에서 설명한 바와 같은 본 발명에 따른 액정표시장치용 식각용액 공급장치는 다음과 같은 효과가 있다.The etching solution supply device for a liquid crystal display device according to the present invention as described above has the following effects.

본 발명에 따른 액정표시장치용 식각용액 공급장치는 정확한 희석비율에 따른 혼합액을 일괄적으로 공급할 수 있는 혼합탱크를 구비한 것이다.Etching solution supply apparatus for a liquid crystal display device according to the present invention is provided with a mixing tank that can supply a mixture according to the exact dilution ratio collectively.

또한, 혼합액의 희석비 유의차를 최소화하면서도 혼합액의 경시변화(經時變化)를 판별할 수 있는 혼합액 분석부가 구비된 액정표시장치용 식각용액 공급장치를 제공하여, 액정표시장치용 식각공정의 효율성을 증대시킬 수 있다.In addition, by providing an etching solution supply device for a liquid crystal display device with a liquid mixture analyzer that can determine the change over time of the liquid mixture while minimizing the significant difference in the dilution ratio of the liquid mixture, the efficiency of the etching process for the liquid crystal display device Can be increased.

Claims (3)

식각용액을 공급하기 위한 식각용액 공급관;An etching solution supply pipe for supplying an etching solution; 순수용액을 공급하기 위한 순수용액 공급관;Pure solution supply pipe for supplying pure solution; 상기 각 공급관으로부터 식각용액과 순수용액을 공급받아서 혼합하는 적어도 한개의 혼합탱크; 및,At least one mixing tank receiving and mixing an etching solution and a pure solution from each supply pipe; And, 상기 각 혼합탱크에 구비된 혼합액분석부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 식각용액 공급장치.Etching solution supply device for a liquid crystal display device characterized in that it comprises a mixed liquid analysis unit provided in each of the mixing tank. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 혼합액분석부는 혼합액의 혼합비율을 분석하는 성분분석기와 경시여부를 분석하는 경시분석기로 구성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 식각용액 공급장치. The mixed solution analyzing unit comprises a component analyzer for analyzing the mixing ratio of the mixed solution and a time-lapse analyzer for analyzing whether or not over time. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 혼합액 분석부는 상기 성분분석기와 상기 경시분석기로부터의 분석결과를 출력하는 출력기를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 식각용액 공급장치. The mixed solution analyzing unit further comprises an output unit for outputting the analysis results from the component analyzer and the over time analyzer.
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