KR20060095640A - Method and apparatus for liquid mixing supply - Google Patents
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Abstract
본 발명은 황산, 과산화수소, 초순수 혼합액에 불산(HF)을 미소용량 첨가할 수 있는 반도체 제조 공정의 약액 혼합 공급 장치 및 그 방법에 관한 것이다. 본 발명의 약액 혼합 공급 장치는 적어도 2개의 약액들과 초순수가 일정 비율로 혼합되는 혼합탱크; 및 상기 혼합탱크에 특정약액을 PPM 단위로 공급하기 위한 미소량 공급부를 포함하되; 상기 미소량 공급부는 특정약액이 채워지는 제1정량탱크; 상기 제1정량탱크에 저장된 특정약액을 일정량 펌핑하는 제1정량펌프; 기설정된 용량만큼 초순수가 채워지는 그리고 상기 제1정량펌프를 통해 상기 특정약액이 첨가되어 상기 초순수에 상기 특정약액이 일정 비율로 희석되는 제2정량탱크; 및 상기 제2정량탱크에 저장된 희석액을 일정량 펌핑하여 상기 혼합탱크로 공급하는 제2정량펌프를 포함한다. 이러한 장치에 의하면, 2개 이상의 약액들이 혼합된 혼합액에 미소량의 특정약액을 정량 공급할 수 있다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chemical liquid mixing supply apparatus and method for a semiconductor manufacturing process capable of adding a small amount of hydrofluoric acid (HF) to a sulfuric acid, hydrogen peroxide, and ultrapure water mixture. The chemical liquid mixing supply apparatus of the present invention comprises a mixing tank in which at least two chemical liquids and ultrapure water are mixed at a predetermined ratio; And a minute amount supply unit for supplying a specific chemical liquid to the mixing tank in units of PPM; The micro-quantity supply unit is a first fixed quantity tank filled with a specific chemical liquid; A first metering pump for pumping a predetermined amount of a specific chemical liquid stored in the first metering tank; A second fixed quantity tank filled with ultrapure water by a predetermined capacity and wherein the specific chemical liquid is added through the first fixed pump to dilute the specific chemical liquid in a predetermined ratio in the ultrapure water; And a second fixed pump pumping a predetermined amount of the diluent stored in the second fixed tank to the mixing tank. According to such an apparatus, it is possible to quantitatively supply a small amount of a specific chemical liquid to a mixed liquid mixed with two or more chemical liquids.
Description
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 약액 혼합 공급 장치(100)의 구성도;1 is a block diagram of a chemical liquid
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 약액 혼합 비율을 보여주는 표;2 is a table showing a chemical liquid mixing ratio according to a preferred embodiment of the present invention;
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 약액 혼합 공급 장치에서의 약액 혼합 과정을 보여주는 플로우 챠트;3 is a flow chart showing a chemical liquid mixing process in the chemical liquid mixing supply apparatus according to a preferred embodiment of the present invention;
도 4는 반도체 스핀 에쳐 공정의 약액 혼합 공급 장치를 개략적으로 나타내는 구성도이다.4 is a configuration diagram schematically showing a chemical liquid mixing supply device of a semiconductor spin-etcher process.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings
110 : 혼합탱크110: mixing tank
130 : 미소량 공급부130: micro amount supply unit
132 : 제1정량탱크132: 1st fixed tank
134 : 제1정량펌프134: 1st fixed pump
136 : 제2정량탱크136: 2nd fixed tank
138 : 제2정량펌프 138: 2nd fixed pump
본 발명은 반도체 제조 공정의 약액 혼합 공급 장치에 관한 것으로, 특히 황산, 과산화수소, 초순수 혼합액에 불산(HF)을 미소량 첨가할 수 있는 반도체 제조 공정의 약액 혼합 공급 장치 및 그 방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chemical liquid mixing supply apparatus of a semiconductor manufacturing process, and more particularly, to a chemical liquid mixing supply apparatus and a method of a semiconductor manufacturing process capable of adding a small amount of hydrofluoric acid (HF) to a sulfuric acid, hydrogen peroxide, and ultrapure water mixture.
반도체 제조 공정에 있어서, 반도체 소자의 고집적화에 따라 식각 및 세정 공정의 중요성은 점점 가속화되고 있다. 파티클 관리기준이 보다 엄격해지고 유기물, 무기물, 금속 오염과 같은 미세오염에 대한 세정공정의 최저고하가 절실히 요구되고 있는 것이 현재의 추세이다. 현재 식각 및 세정 공정에 사용되고 있는 화학용액(약액)은 그 종류가 다양해지고 있으며, 효율적이고 최적화된 공정을 위하여 여러 화학용액을 혼합하여 사용하고 있다. In the semiconductor manufacturing process, the importance of the etching and cleaning process is accelerating with increasing integration of semiconductor devices. The current trend is that particle management standards become more stringent, and the minimum high cleaning process for micro-contamination such as organic, inorganic and metal contamination is urgently required. Currently, various chemical solutions (chemical solutions) used in etching and cleaning processes are used, and various chemical solutions are mixed and used for an efficient and optimized process.
따라서, 반도체 장치 제조 설비에는 각각의 약액 공급에 따른 특정 조건 및 관리가 요구되며, 특히 여러 종류의 약액을 혼합하여 공급하는 약액 혼합 공급 장치에 있어서는, 각각의 약액이 일정 비율로 혼합되는 것과 이들 혼합에 따른 농도 관계 및 공급량 등의 정밀한 제어가 요구된다. Therefore, the semiconductor device manufacturing equipment requires specific conditions and management according to the supply of the respective chemical liquids. In particular, in the chemical liquid mixing supply device for mixing and supplying various chemical liquids, the respective chemical liquids are mixed at a predetermined ratio and these mixtures are mixed. The precise control of the concentration relationship and the supply amount is required.
도 4는 반도체 스핀 에쳐 공정의 약액 혼합 공급 장치를 개략적으로 나타내는 구성도이다.4 is a configuration diagram schematically showing a chemical liquid mixing supply device of a semiconductor spin-etcher process.
도 4는, 반도체 스핀 에쳐 공정에서 황산, 과산화수소, 초순수, 불산을 일정한 비율(황산:과산화수소:초순수:불산=3:7:50:85PPM)로 혼합하여 처리부로 공급하기 위한 장치를 개략적으로 보여주는 것이다. 약액 혼합 공급 장치(10)는 각각의 약액 공급부(12a-12d)와 혼합탱크(14) 사이의 공급관(16)상에 설치된 각각의 유량 조절 수단(18)(유량센서, 밸브 등으로 구성됨)을 제어하여 상기 혼합 탱크(14)로 초순수, 황산, 과산화수소 및 불산을 정량 공급하게 된다. FIG. 4 schematically shows an apparatus for supplying sulfuric acid, hydrogen peroxide, ultrapure water, and hydrofluoric acid at a constant ratio (sulfuric acid: hydrogen peroxide: ultrapure water: hydrofluoric acid = 3: 7: 50: 85 PPM) in a semiconductor spin-etch process to be supplied to a treatment unit. . The chemical liquid supply device 10 includes a respective flow rate adjusting means 18 (consisting of a flow sensor, a valve, and the like) provided on the supply pipe 16 between each of the chemical
이러한, 기존의 약액 혼합 공급 장치(10)는 초순수와 황산 그리고 과산화수소과 같은 많은 유량을 공급하고자 하는 경우에는 일반적인 유량 조절 수단을 통해서 정량 공급이 가능하다. 하지만, 불산과 같은 경우에는, 그 공급량이 85PPM(유량으로는 1.7cc)으로 극히 미소량이기 때문에 일반적인 유량 조절 수단을 가지고는 정밀한 정량 공급에 어려움을 갖고 있다.Such a conventional chemical liquid mixing and supplying device 10 can be quantitatively supplied through general flow rate control means to supply a large flow rate such as ultrapure water, sulfuric acid and hydrogen peroxide. However, in the case of hydrofluoric acid, the supply amount is very small at 85 PPM (1.7 cc in flow rate), which makes it difficult to supply a precise fixed amount with a general flow rate adjusting means.
이처럼, 기존의 약액 혼합 공급 장치는 적어도 2개 이상의 약액들이 혼합된 혼합액에 특정약액을 미소량 첨가하는데 있어서 정밀도 및 재현성에 문제를 갖고 있다.As such, the existing chemical liquid supply device has a problem in accuracy and reproducibility in adding a small amount of the specific chemical liquid to the mixed liquid mixed with at least two or more chemical liquids.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 적어도 2개 이상의 약액들이 혼합된 혼합액에 미소량의 특정약액을 정량 공급할 수 있는 새로운 형태의 약액 혼합 공급 장치 및 그 방법을 제공하는데 그 목적이 있다. It is an object of the present invention to provide a novel chemical liquid mixing supply device and a method for supplying a quantitative supply of a specific amount of a specific chemical liquid to a mixed liquid of at least two or more chemical liquids.
상기 기술적 과제들을 이루기 위한 본 발명의 약액 혼합 공급 장치는 적어도 2개의 약액들과 초순수가 일정 비율로 혼합되는 혼합탱크; 및 상기 혼합탱크에 특정약액을 PPM 단위로 공급하기 위한 미소량 공급부를 포함하되; 상기 미소량 공급부는 특정약액이 채워지는 제1정량탱크; 상기 제1정량탱크에 저장된 특정약액을 일 정량 펌핑하는 제1정량펌프; 기설정된 용량만큼 초순수가 채워지는 그리고 상기 제1정량펌프를 통해 상기 특정약액이 첨가되어 상기 초순수에 상기 특정약액이 일정 비율로 희석되는 제2정량탱크; 및 상기 제2정량탱크에 저장된 희석액을 일정량 펌핑하여 상기 혼합탱크로 공급하는 제2정량펌프를 포함한다.The chemical liquid mixing supply device of the present invention for achieving the above technical problem is a mixing tank in which at least two chemical liquids and ultrapure water is mixed in a predetermined ratio; And a minute amount supply unit for supplying a specific chemical liquid to the mixing tank in units of PPM; The micro-quantity supply unit is a first fixed quantity tank filled with a specific chemical liquid; A first fixed-quantity pump for pumping a specific chemical liquid stored in the first fixed-quantity tank daily; A second fixed quantity tank filled with ultrapure water by a predetermined capacity and wherein the specific chemical liquid is added through the first fixed pump to dilute the specific chemical liquid in a predetermined ratio in the ultrapure water; And a second fixed pump pumping a predetermined amount of the diluent stored in the second fixed tank to the mixing tank.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 약액 공급 장치는 상기 초순수에 희석된 특정약액의 비율(상기 희석액의 상기 특정약액 농도)에 따라서 상기 혼합탱크에 공급되어야할 희석액의 유량을 설정하여 상기 제2정량펌프를 제어하는 제어부를 더 포함한다. According to an embodiment of the present invention, the chemical liquid supply apparatus sets the flow rate of the diluent to be supplied to the mixing tank according to the ratio of the specific chemical liquid diluted in the ultrapure water (the specific chemical liquid concentration of the dilution liquid) to the second quantitative amount. It further comprises a control unit for controlling the pump.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 특정약액은 불산이고, 상기 약액들은 과산화수소와 황산을 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the specific chemical solution is hydrofluoric acid, and the chemical solutions include hydrogen peroxide and sulfuric acid.
상기 기술적 과제들을 이루기 위한 본 발명의 약액 혼합 공급 방법은 혼합탱크에 적어도 2개의 약액들과 초순수를 일정 비율로 혼합하는 단계; 상기 혼합탱크에 특정약액을 미소량 혼합하는 단계를 포함하되; 상기 미소량 혼합 단계는 상기 특정약액을 초순수에 희석하는 단계; 상기 특정약액이 희석된 초순수(상기 희석액)를 상기 혼합탱크에 공급하는 단계를 포함한다.In accordance with another aspect of the present invention, there is provided a method of mixing and supplying a chemical liquid in a mixing tank at a ratio of at least two chemical liquids and ultrapure water; Including a small amount of a specific chemical liquid in the mixing tank; The minute amount mixing step may include diluting the specific drug solution in ultrapure water; And supplying ultrapure water (the diluent) in which the specific chemical liquid is diluted to the mixing tank.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 특정약액이 희석된 초순수를 상기 혼합탱크에 공급하는 단계는 상기 초순수에 희석된 특정약액의 비율에 따라서 상기 혼합탱크에 공급되어야할 희석액의 유량을 설정하는 단계와; 상기 설정된 유량만큼 유량제어수단을 통해 상기 혼합탱크에 희석액을 공급하는 단계를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the step of supplying the ultrapure water in which the specific chemical liquid is diluted to the mixing tank may include setting a flow rate of the diluent to be supplied to the mixing tank according to the ratio of the specific chemical liquid diluted in the ultrapure water; ; Supplying a diluent to the mixing tank through a flow control means by the set flow rate.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 유량제어수단은 정량펌프이다.According to an embodiment of the invention, the flow control means is a metering pump.
상기 기술적 과제들을 이루기 위한 본 발명의 약액 혼합 공급 방법은 혼합탱크에 적어도 2개의 약액들과 초순수를 일정 비율로 혼합하는 단계; 상기 혼합탱크에 특정약액을 미소량 혼합하는 단계를 포함하되; 상기 미소량 혼합 단계는 제1정량탱크에 상기 특정약액을 저장하는 단계; 제2정량탱크에 초순수를 기설정된 용량만큼 저장하는 단계; 상기 제1정량탱크에 저장된 특정약액을 상기 제2정량탱크로 공급하여 상기 초순수에 특정약액을 10 : 1 이상의 비율로 희석하는 단계; 상기 제2정량탱크에 저장된 희석액을 일정량 펌핑하여 상기 혼합탱크로 공급하는 단계를 포함한다.In accordance with another aspect of the present invention, there is provided a method of mixing and supplying a chemical liquid in a mixing tank at a ratio of at least two chemical liquids and ultrapure water; Including a small amount of a specific chemical liquid in the mixing tank; The minute amount mixing step includes storing the specific chemical liquid in a first metering tank; Storing ultrapure water in a second metering tank by a predetermined capacity; Supplying the specific chemical liquid stored in the first fixed tank to the second fixed tank to dilute the specific chemical liquid in the ultrapure water at a ratio of 10: 1 or more; And pumping a predetermined amount of the diluent stored in the second fixed tank to the mixing tank.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 제1정량탱크에서 상기 제2정량탱크로 공급되는 상기 특정약액은 제1정량펌프를 통해 일정한 용량만큼 공급된다.According to an embodiment of the present invention, the specific chemical liquid supplied from the first fixed tank to the second fixed tank is supplied by a predetermined volume through the first fixed pump.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 희석액을 상기 혼합탱크로 공급하는 단계는 상기 초순수에 희석된 특정약액의 비율에 따라서 상기 혼합탱크로 공급되어야할 희석액의 유량을 설정하고, 그 설정된 유량만큼 제2정량펌프를 통해 공급된다.According to an embodiment of the present invention, the step of supplying the diluent to the mixing tank sets the flow rate of the diluent to be supplied to the mixing tank according to the ratio of the specific chemical liquid diluted in the ultrapure water, and the second flow rate by the set flow rate It is supplied via a metering pump.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소들을 나타낸다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided to ensure that the disclosed subject matter is thorough and complete, and that the spirit of the present invention to those skilled in the art will fully convey. Portions denoted by like reference numerals denote like elements throughout the specification.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 약액 혼합 공급 장치(100)는 식각(스핀 에 쳐, spin etcher) 또는 세정(wet station)공정에서 순수와 약액들을 일정비율로 혼합한 처리액을 처리장치로 공급하기 위한 것이다. Referring to FIG. 1, the chemical liquid mixing and supplying
상기 약액 혼합 공급 장치(100)는 혼합탱크(110)와 미소량 공급부(130)를 포함한다.The chemical
상기 혼합탱크(110)에는 황산, 과산화수소, 초순수 그리고 불산이 일정한 비율로 혼합된다. 본 실시예에서는 도 2의 표에서와 같은 혼합 비율로 약액들이 혼합될 수 있다. Sulfuric acid, hydrogen peroxide, ultrapure water and hydrofluoric acid are mixed in the
상기 황산과 과산화수소 그리고 초순수는 각각의 소스부(112a,112b,112c)와 연결되는 공급관(114)을 통해 혼합탱크(110)로 공급된다. 상기 혼합탱크(110)로 공급되는 약액들(황산, 과산화수고, 초순수)의 유량 조절은 각 공급관(114)에 설치된 유량제어밸브(116a)와 유량계(116b)를 통해 이루어진다. 미설명부호 118은 순환라인, 118a는 순환용펌프, 118b는 약액 농도계이다.The sulfuric acid, hydrogen peroxide and ultrapure water are supplied to the
한편, 상기 불산은 상기 미소량 공급부(130)를 통해 상기 혼합탱크(110)로 공급된다.On the other hand, the hydrofluoric acid is supplied to the
상기 미소량 공급부(130)는 미소량의 불산(PPM 단위)을 상기 혼합탱크(110)에 정량 공급하기 위한 것으로, 제1정량탱크(132), 제2정량탱크(136), 제1정량펌프(134), 제2정량펌프(138) 그리고 제어부(140)를 포함한다. The minute
상기 제1정량탱크(132)에는 상기 불산 소스부(112d)로부터 제공받은 불산이 채워진다. 상기 불산 소스부(112d)로부터 제공받는 불산은 원액 50%가 함유된 것이다. 상기 제2정량탱크(136)에는 초순수가 기설정된 용량만큼 채워진다. 상기 제1정 량펌프(134)는 제1정량탱크(132)의 불산을 일정량 펌핑하여 상기 제2정량탱크(136)로 공급한다. 상기 제2정량탱크(136)에는 초순수에 소량의 불산이 혼합된 희석액이 만들어진다. 상기 제2정량탱크(136)에는 상기 초순수와 상기 불산의 혼합을 위해 순환라인(137)이 연결 설치된다. 상기 제2정량펌프(138)는 상기 제2정량탱크(136)에 저장된 희석액을 일정량 펌핑하여 상기 혼합탱크(110)로 공급한다. 여기서, 상기 제어부(140)는 상기 초순수에 희석된 불산의 비율(상기 희석액의 상기 불산의 농도)에 따라서 상기 혼합탱크(110)에 공급되어야할 희석액의 유량을 설정하여 상기 제2정량펌프(138)를 제어하게 된다. The first
이러한 구성을 갖는 약액 혼합 공급 장치(100)는 혼합탱크(110)에 불산을 PPM 단위로 정밀 공급할 수 있는 것이다. The chemical liquid
상기한 본 발명의 약액 혼합 공급 장치를 이용한 약액 혼합 공급 방법을 상세히 설명하면 다음과 같다.The chemical liquid mixture supply method using the chemical liquid mixture supply device of the present invention described above is as follows.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 약액 혼합 방법은 (a) 상기 혼합탱크(110)에 황산과 과산화수소 그리고 초순수를 일정 비율(도 2의 표 참고)로 혼합하는 단계(s10)와, (b) 상기 혼합탱크(110)에 불산을 미소량 혼합하는 단계(s20)를 포함한다. 상기 (a) 단계와 (b)단계는 뒤바뀔 수 있다. Referring to Figures 1 to 3, the chemical liquid mixing method (a) mixing sulfuric acid, hydrogen peroxide and ultrapure water in the
상기 (a)단계(s10)는, 상기 황산과 과산화수소 그리고 초순수가 일정 비율에 맞는 유량만큼 각각의 소스부(112a,112b,112c)와 연결되는 공급관(114)을 통해 혼합탱크(110)로 공급된다. 상기 혼합탱크(110)는 20L 정량을 갖는다. 따라서, 상기 혼합탱크(110)에는 황산 1000cc, 과산화수소 2333,3cc 그리고 초순수 16,665cc가 공급된다. 상기 혼합탱크(110)로 공급되는 약액들(황산, 과산화수고, 초순수)의 유량은 각 공급관(114)에 설치된 유량제어밸브(116a)와 유량계(116b)를 통해 조절된다. In step (a), the sulfuric acid, hydrogen peroxide, and ultrapure water are supplied to the
상기 (b)단계(s20)는, 도 2의 표에서과 같이 20L의 혼합탱크에 85PPM의 불산(유량으로 계산하면 1.7cc)을 추가 혼합하기 위한 것으로, 상기 불산은 상기 미소량 공급부(130)를 통해 상기 혼합탱크(110)로 공급된다. 상기 (b)단계는 다음과 같다. 먼저, (c) 상기 제1정량탱크(132)에는 농도 50%의 불산이 채워진다(s22). (d) 상기 제2정량탱크(136)에는 초순수 850cc가 채워지며 정량 확인은 레벨 센서(136a)로 설정을 한다(s24). (e) 상기 제1정량탱크(132)의 불산 17cc(불산 농도가 50%임으로 실제 불산 원액은 8.5cc임)를 제1정량펌프(134)를 통해 상기 제2정량탱크(136)로 공급하여 상기 제2정량탱크(136)의 불산과 초순수 비율을 1:100으로 혼합한다(s26). (f)상기 제2정량탱크(136)에서 혼합된 희석액(불산과 초순수 비율이 1:100)은 상기 제2정량펌프(138)를 이용하여 상기 혼합탱크(110)로 공급한다(s28). 상기 제어부(140)는 상기 초순수에 희석된 불산의 비율에 따라서 상기 혼합탱크(110)로 공급되어야할 희석액의 유량을 설정하고, 그 설정된 유량만큼 제2정량펌프(138)를 통해 공급하게 된다. 이때, 상기 혼합탱크(110)로 공급되는 희석액의 유량은 170cc이며, 상기 혼합탱크(110)에는 불산 1.7cc가 공급되게 된다. 만약, 상기 제2정량탱크(136)에서의 불산과 초순수의 혼합비율이 1:50이면 상기 혼합탱크에는 85cc의 희석액이 공급될 것이다. 이러한 과정을 거쳐, 불산은 상기 미소량 공급부를 통해 계량된 비율만큼 혼합탱크(16)로 공급될 수 있다. Step (b) (s20), as shown in the table of FIG. 2 is to further mix 85PPM of hydrofluoric acid (calculated as the flow rate 1.7cc) in a 20L mixing tank, the hydrofluoric acid is the minute
최종적으로, 상기 혼합탱크에는 불산 1.7cc, 황산 1000cc, 과산화수소 2333.3cc 그리고 초순수는 16,665cc+168.3cc가 혼합된다. 상기 희석액을 공급하는 과정에서 추가되는 초순수의 유량만큼 상기 초순수의 공급량을 가감할 수 있다. Finally, 1.7cc of hydrofluoric acid, 1000cc of sulfuric acid, 2333.3cc of hydrogen peroxide and 16,665cc + 168.3cc of ultrapure water are mixed in the mixing tank. The supply amount of the ultrapure water may be added or subtracted by the flow rate of the ultrapure water added in the process of supplying the diluent.
한편, 본 발명은 상기의 구성으로 이루어진 약액 혼합 공급 장치 및 그 방법은 다양하게 변형될 수 있고 여러 가지 형태를 취할 수 있다. 본 발명은 상기의 상세한 설명에서 언급되는 특별한 형태로 한정되는 것이 아닌 것으로 이해되어야 하며, 오히려 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.On the other hand, the present invention is a chemical liquid mixing supply device and the method consisting of the above configuration can be variously modified and can take various forms. It is to be understood that the invention is not to be limited to the specific forms referred to in the foregoing description, but rather includes all modifications, equivalents and substitutions that fall within the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. It must be understood.
이상에서, 본 발명에 따른 약액 혼합 공급 장치 및 그 방법은 구성 및 작용을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.In the above, the chemical liquid mixture supplying apparatus and method thereof according to the present invention have been shown in accordance with the above-described description and drawings, but this is merely described for example, and various changes and modifications are made within the scope of the present invention. Of course, change is possible.
상술한 바와 같이 본 발명은 적어도 2개 이상의 약액들이 혼합된 혼합액에 미소 용량의 특정약액을 정확하게 공급할 수 있으며, 정량 공급이 항상 일정하게(재현성) 유지할 수 있다. As described above, the present invention can accurately supply a small amount of a specific chemical liquid to a mixed liquid of at least two or more chemical liquids, and can always maintain a constant (reproducible) supply of a fixed amount.
Claims (10)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020050016418A KR20060095640A (en) | 2005-02-28 | 2005-02-28 | Method and apparatus for liquid mixing supply |
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|---|---|---|---|---|
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| KR100841084B1 (en) * | 2007-03-07 | 2008-06-24 | 세메스 주식회사 | An apparatus for fabricating a semiconductor device |
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2005
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