KR20060096441A

KR20060096441A - 광섬유 처리 장치, 처리 방법 및 광섬유

Info

Publication number: KR20060096441A
Application number: KR1020067007831A
Authority: KR
Inventors: 다이 이노우에; 히로시 오야마다
Original assignee: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
Priority date: 2003-10-28
Filing date: 2004-10-22
Publication date: 2006-09-11
Also published as: US20060208918A1; CN1875301A; EP1681587A1; WO2005040872A1; TW200523223A; JP2005134469A

Abstract

적어도 중수소를 함유하는 가스에 의한 광섬유의 처리를 모니터하고, 처리의 종료를 동시적으로 검지하는 것이 가능한 광섬유 처리 장치, 처리 방법 및 광섬유를 제공한다. 광섬유를 가스 처리하는 장치로서, 처리 용기가 광섬유를 출입하는 문 이외에, 가스 도입구, 가스 배출구 및 샘플링 파이버 취출구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하고, 샘플링 파이버 취출구로부터 인출된 광섬유와 접속되는 광원 및 흡수 손실을 측정하는 광 파워미터를 구비하고 있다. 또한 가스 처리의 종료를 판단하기 위해서, 광 파워미터의 값을 모니터하고, 그 값의 변화로부터 판단하는 기구를 설치하는 것이 바람직한 것을 목적으로 한다.

중수소, 광섬유, 처리, 용기, 가스 도입구, 가스 배출구, 취출구, 광원, 흡수 손실, 광 파워미터, 모니터

Description

광섬유 처리 장치, 처리 방법 및 광섬유{OPTICAL FIBER TREATING DEVICE, TREATING METHOD, AND OPTICAL FIBER}

본 발명은 광섬유의 가스 처리, 특히 적어도 중수소를 포함한 가스에 의해 행해지는 광섬유의 가스 처리에 사용되는 광섬유 처리 장치, 처리 방법, 및 광섬유에 관한 것이다.

문헌의 참조에 의한 편입이 인정되는 지정국에 대해서는, 하기의 출원에 기재된 내용을 참조에 의해 본 출원에 편입하고 본 출원의 기재의 일부로 한다.

특허출원 2003-367587 :　출원일　2003년 10월 28일

광섬유를 이용한 전송로로 가장 많이 사용되고 있는 것은, 제로(zero) 분산 파장을 1310nm 부근에 가지는 싱글 모드(single mode) 광섬유이다. 종래, 이 광섬유는 1310nm의 신호광의 전송에 사용되고 있었지만, 최근에 들어 분산 보상 기술의 진보 등에 의해 다른 파장의 신호광을 전송하기 위해서도 이용되게 되었다.

근년, 요구되는 전송 용량의 증가에 저비용으로 대응하기 위해서, CWDM(Coarse Wavelength Division Multiplexing : 저밀도 파장 분할 다중) 기술이 개발되어 왔다. 이 전송 기술에서는 파장 간격을 20nm 정도로 넓게 함으로써 염가의 광원을 사용하여도 각 신호 파장간의 혼신이 일어나지 않게 되고 있다. 이 기술 로 많은 신호광을 광섬유로 전송하는데는 사용 가능한 파장 대역이 넓은 것이 바람직하지만, 종래의 싱글 모드 광섬유에는, 1383nm 부근에 광섬유 중의 OH기에 기인하는 흡수 손실 피크(peak)가 있어 이 파장 대역을 이용할 수 없었다. 이를 사용 가능하게 하기 위해 저수분 광섬유가 개발되어 ITU-T G652 table C, D에서도 국제 규격으로서 정해져 있다.

이러한 광섬유에서는, 초기의 흡수 손실 피크가 작은 것에 더하여, 수소에 의한 에이징(aging)을 한 다음에도 그 흡수 손실 피크가 작을 것이 요구된다. 이 때문에 광섬유의 수소 내성을 향상시키는 하나의 방법으로서 광섬유를 중수소로 처리한다고 하는 방법이 있다. 이 방법은 중수소 D가 광섬유 중의 결함과, 수소 H와 똑같이 반응함에도 불구하고, 반응으로 완성되는 OD기가 OH기와는 달라서 신호광으로서 사용되는 파장 영역에 문제가 되는 흡수 손실 피크를 형성하지 않는다는 특징이 있는 것을 이용한 방법이다(특허문헌 1∼3, 5 참조).

이러한 중수소에 의한 광섬유의 처리는 광섬유를 밀폐 가능한 용기에 넣어 용기 내를 중수소 함유 분위기로 하여 소정의 시간 방치함으로써 행해진다. 중수소는 수소와 같이 가연성 가스이기 때문에 중수소 함유 분위기로 채우기 전에 용기 내의 분위기를 질소 등의 불활성 가스 등으로 위험이 없을 정도로 치환할 필요가 있다.

이와 같이 중수소에 의한 광섬유의 처리는 밀폐 용기 중에서 행해지기 때문에 중수소 처리가 종료한 것을 동시적으로 검지할 수가 없었다. 그 때문에 종래는 경험적으로 필요한 시간, 중수소 함유 분위기에 노출한 후, 광섬유를 처리 장치로 부터 취출하고, 샘플링(sampling)하여 수소 내성이 향상되고 있는 것을 확인하거나, 혹은 중수소 처리 전후에서의 손실 스펙트럼(spectrum)을 측정하여, 630nm 부근의 결함에 기인하는 흡수 손실 피크의 소멸을 확인하여 처리의 종료를 확인하고 있었다(특허문헌 4 참조).

<특허문헌 1>　일본공개특허 1985-90852호 공보

<특허문헌 2>　일본공개특허 1995-277770호 공보

<특허문헌 3>　일본공개특허 2000-148450호 공보

<특허문헌 4>　일본공개특허 2003-75293호 공보

<특허문헌 5>　일본공개특허 2003-137580호 공보

<발명이 해결하고자 하는 과제>

상기한 것과 같이 중수소 처리 후 수소 내성을 측정하거나 혹은 손실 스펙트럼을 측정하거나 하여 중수소 처리의 종료를 확인하고 있었기 때문에, 중수소 처리에 필요 이상의 너무 시간을 들이거나, 처리가 불충분한 경우에는 재처리가 필요하고, 또한, 샘플링에 사용한 광섬유가 쓸데없게 되는 등의 문제가 있었다.

본 발명은, 상기 과제에 감안하여 적어도 중수소를 함유하는 가스에 의한 광섬유의 처리를 모니터 하고, 처리의 종료를 동시적으로 검지하는 것이 가능한 광섬유 처리 장치, 처리 방법, 및 광섬유를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.

<과제를 해결하기 위한 수단>

상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 제1의 형태에 있어서는, 광섬유를 가스 처리하는 장치로서, 처리 용기가 광섬유를 출입하는 문 이외에, 가스 도입구, 가스 배출구 및 샘플링 파이버 취출구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하고, 샘플링 파이버 취출구로부터 인출된 광섬유와 접속되는 광원 및 흡수 손실을 측정하는 광 파워미터(power meter)를 구비하고 있다. 또한 가스 처리의 종료를 판단하기 위해서, 광 파워미터의 값을 모니터(monitor)하고, 그 값의 변화로부터 판단하는 기구를 설치하는 것이 바람직하다.

광원은 가스 처리에 의해 광섬유의 흡수 손실이 변화하는 파장 영역의 광을 방사하는 것으로 하고, 그 파장은 광섬유의 흡수 손실 피크 파장 혹은 그 주변의 파장으로 한다. 가스 처리에는 중수소 또는 중수소를 함유하는 가스를 사용하고, 이때의 광원으로는 파장이 630nm 부근의 광을 방사하는 것이 좋다.

본 발명의 제2의 형태에 있어서는, 광섬유를 가스 처리하는 방법이고, 광섬유를 처리 용기에 수납하고, 상기 용기 내를 처리 가스로 채우고, 상기 용기에 설치된 샘플링 파이버 취출구로부터 광섬유를 인출하여 광원과 광 파워미터에 접속하고, 가스 처리 중, 광섬유의 흡수 손실을 모니터하고, 상기 흡수 손실의 변화로부터 가스 처리의 종료를 동시적으로 판단하는 것을 특징으로 하고, 가스 처리의 종료는 소정의 파장에 있어서의 광량이 설정 광량에 이르렀을 때 종료로 판단한다.

본 발명의 제3의 형태에 있어서는, 광섬유를 가스 처리하는 광섬유 처리 장치이고, 광섬유를 출입하는 개구를 가지는 수용 용기 본체와 개구를 개폐하고, 개구를 닫음으로써 수용 용기 본체와의 사이에 기밀인 공간을 형성하는 문과, 수용 용기 본체 및 문에 의해 형성된 공간에 가스를 도입하는 가스 도입구와, 수용 용기 본체 및 문에 의해 형성된 공간으로부터 가스를 배출하는 가스 배출구와, 수용 용기 본체 및 문에 의해 형성된 공간의 외부와, 공간에 수용된 광섬유의 양단의 사이를 광학적으로 접속하는 내외 접속부를 구비하였다.

상기 광섬유 처리 장치에 있어서, 내외 접속부는 공간에 수용된 광섬유의 양단을 공간의 외부에 인출하여 보관 유지하여도 좋다. 또한, 내외 접속부는 수용 용기 본체에 배치되어 있어도 좋다. 또한, 내외 접속부는 수용 용기 본체로부터 떼어냄 가능하여도 좋다.

상기 광섬유 처리 장치는 공간의 외부에 배치되어 공간에 수용된 광섬유의 양단의 일방에 광을 도입하는 광원과, 공간의 외부에 배치되어 공간에 수용된 광섬유의 양단의 타단으로부터 나오는 광의 광량을 계측하는 광 파워미터를 또한 구비하여도 좋다.

상기 광섬유 처리 장치에 있어서, 광원은 가스 처리에 의해 광섬유의 흡수 손실이 변화하는 파장 영역의 광을 방사하는 것이 바람직하다. 특히, 광원은 630nm 부근의 파장의 광을 방사하는 것이 바람직하다.

상기 광섬유 처리 장치는 광 파워미터에 의해 계측된 광량이 역치(threshold)를 넘는 경우에, 가스 처리가 종료하였다고 판단하는 종료 판단부를 또한 구비하여도 좋다.

상기 광섬유 처리 장치는 광원으로부터의 광량에 대한 광 파워미터에 의해 계측된 광량의 비가 역치를 넘는 경우에, 가스 처리가 종료하였다고 판단하는 종료 판단부를 또한 구비하여도 좋다. 또, 상기 광섬유 처리 장치는 광 파워미터에 의해 계측된 광량의 변화율이 역치를 넘는 경우에, 가스 처리가 종료하였다고 종료 판단하는 판단부를 또한 구비하여도 좋다. 또, 상기 광섬유 처리 장치는 광원으로부터의 광량에 대한 광 파워미터에 의해 계측된 광량의 비의 변화율이 역치를 넘는 경우에, 가스 처리가 종료하였다고 종료 판단하는 판단부를 또한 구비하여도 좋다.

상기 광섬유 처리 장치는 종료 판단부에 의해 가스 처리가 종료하였다고 판단되는 경우에, 공간에 대한 가스의 도입 및 가스의 배출을 정지하는 가스 제어부를 또한 구비하여도 좋다.

상기 광섬유 처리 장치는 종료 판단부에 의해 가스 처리가 종료하였다고 판단되는 경우에, 문을 여는 것을 허용하는 문개폐 제어부를 또한 구비하여도 좋다.

또한 상기의 발명의 개요는 본 발명의 필요한 특징의 모두를 열거한 것은 아니고 이러한 특징군의 서브콤비네이션(sub-combination)도 또한 발명이 될 수 있다.

<발명의 효과>

본 발명에 의하면, 광섬유의 수소 내성이 향상되고, 한편 1383nm 부근에 있어서의 OH기로 기인하는 흡수 손실 피크가 크게 저감 내지 소멸하여 지극히 뛰어난 싱글 모드 광섬유가 얻어진다.

도 1은 본 발명의 실시예 1의 광섬유 처리 장치를 개략적으로 나타내는 도이다.

도 2는　가스 처리 중 처리 시간과 투과 광량의 변화의 모습을 나타내는 그 래프이다.

도 3은　본 발명의 실시예 2의 광섬유 처리 장치를 개략적으로 나타내는 도이다.

<부호의 설명>

10　 광섬유 처리 장치

20　 LED

30　 광 파워미터

40　 PC(Personal Computer)

50　 광섬유

52　 일단 54　 타단

60　 밸브 62　 밸브

100　 수용 용기

110　 수용 용기 본체

120　 문(door) 122　 락(lock)

130　 가스 도입관 132　 가스 도입구

140　 가스 배출관 142　 가스 배출구

150　 내외 접속부

200　 종료 판단부

210　 가스 제어부

220　 문개폐 제어부

이하, 발명의 실시의 형태를 통해서 본 발명을 설명하지만, 이하의 실시 형태는 청구의 범위에 관련된 발명을 한정하는 것은 아니고, 또 실시 형태 중에서 설명되어 있는 특징의 조합 모두가 발명의 해결 수단에 필수라고는 할 수 없다.

본 발명자는, 열심히 검토를 거듭한 결과, 광섬유의 중수소 처리에는 다음과 같은 특징이 있는 것을 찾아냈다.

예를 들면, 중수소 1%, 질소 1%의 상압(常壓)의 혼합 가스를 처리 가스로서 사용할 경우 3일반 정도로 처리가 종료한다. 이 사이에 처리가 천천히 시간에 비례하여 진행되는 것이 아니라, 3일간 동안 흡수 손실에 아무런 변화를 볼 수 없는 기간이 계속된 후, 그 후의 수 시간에 처리가 급격하게 진행되어 종료한다. 이 변화는 630nm에 피크를 가지는 NBOHC(non-bonding oxygen hole center : 비가교 산소 홀 센터)의 흡수 손실 피크의 소멸로 확인할 수 있다.

그래서, 처리 장치의 용기에 광섬유 취득용의 포트(port)를 설치하고, 그곳으로부터 처리를 하는 광섬유의 양단을 취출하고, 그 일단으로부터 가스 처리에 의해 광섬유의 흡수 손실이 변화하는 파장 영역의 광을 도입하고, 타단의 구석으로 투과해 오는 광의 강도를 가스 처리 중 모니터 함으로써, 즉, 가스 처리의 종료를 동시적으로 파악할 수가 있어 본 발명을 달성하였다.

또한 가스 처리의 종료는 소정의 파장에 있어서의 광량이 설정 광량에 이르렀을 때 종료로 판단한다. 예를 들면, 처리 가스에는 중수소를 함유하는 가스를, 광원으로는 파장이 630nm 부근의 광을 방사하는 것을 사용하고, 투과 광량(흡수 손 실)의 변화를 모니터 한다.

<실시예 1>

본 발명의 실시예 1과 관련되는 가스 처리 장치를 도 1에 나타낸다.

이 처리 장치는 가스 처리하려고 하는 광섬유의 보빈(bobbin)을 수용 가능한 용적을 가지는 밀폐 가능한 용기를 구비하고, 상기 용기에는 보빈을 출입하기 위한 문 이외에 가스 도입구와 가스 배출구, 또한 광섬유 취출구(taking-out port)가 설치되어 있다.

광섬유 취출구는 교환 가능한 구조로 되고, 광섬유를 인출한 후, 에폭시 수지로 포트(port)를 막아 용기의 밀폐성을 확보한다. 가스 도입구와 가스 배출구에는 각각 밸브가 설치되고, 용기 내가 충분히 요구되는 분위기가 되었을 때 밸브를 닫고 용기를 봉지한다.

가스 도입구에는, 또한 질소 라인과 처리 가스 라인이 절체 가능하도록 설치되고, 용기 내의 퍼지(purge)와 처리 가스의 도입이 동일한 가스 도입구(introducing port)로부터 할 수 있다.

처리 장치는 또한 광섬유에 모니터 광을 도입하는 광원과 광 파워미터를 구비하고 있다. 처리 가스는 중수소를 포함한 가스를 사용하고, 광원으로는 파장 625nm의 LED를 사용하였다. 광 파워미터로부터의 출력은 컴퓨터에 입력되어 그 값이 항상 모니터 된다. 컴퓨터에는, 이 값의 변화의 속도가 미리 설정한 역치를 넘어간 후, 변화가 안정되었을 때 가스 처리가 종료한 것을 고지하는 시스템이 조립되어 넣어져 있다. 또, 광 파워미터의 출력값의 변화율이 한 번 커진 후에 작아지 고, 변화가 안정되었을 때 가스 처리가 종료한 것을 고지하는 시스템으로 하여도 좋다.

도 2는 이 처리 장치를 이용하여 가스 처리한 결과를 나타내는 그래프이고, 횡축으로 처리 시간이, 종축으로 투과 광량(광파워)의 변화가 취해지고, 어느 시간 경과했을 때 급격하게 투과 광량이 증가하고, 화살표 B점에서는 가스 처리가 종료한 것을 나타내고 있고, 이 모습은 컴퓨터에 모니터 되고 있다.

가스 처리의 종료를 검지하려, 화살표 B의 곳에서 취출한 광섬유에 대해서 수소 시험을 하였지만, 흡수 손실 피크의 상승을 볼 수 없고, 시스템이 목적대로 기능하는 것이 확인되었다.

또한 화살표 A의 곳에서 취출한 광섬유는 수소 시험에서 흡수 손실 피크의 상승이 인정되었다.

<실시예 2>

도 3은 본 발명의 실시예 2와 관련되는 가스 처리 장치(10)를 나타낸다. 광섬유 처리 장치(10)는, 광섬유(50)를 출입하는 개구를 가지는 수용 용기 본체(110)와, 개구를 개폐하고, 상기 개구를 닫음으로써 상기 수용 용기 본체와의 사이에 기밀인 공간을 형성하는 문(120)으로 이루어지는 수용 용기(100)를 구비한다. 광섬유 처리 장치(10)는, 문(120)을 닫을 경우에 수용 용기 본체(110)에 계지하는 락(lock)(122), 수용 용기(100)에 접속된 가스 도입관(130) 및 가스 배출관(140), 수용 용기(100)에 배치된 내외 접속부(150), 및 수용 용기(100)의 외부에 배치된 LED(20), 광 파워미터(30) 및 PC(40)를 또한 구비한다.

가스 도입관(130)은 수용 용기(100)에 설치된 가스 도입구(132)를 통하여 수용 용기 본체(110) 및 문(120)에 의해 형성된 공간에 가스를 도입한다. 또, 가스 배출관(140)은 수용 용기(100)에 설치된 가스 배출구(142)를 통해 수용 용기 본체(110) 및 문(120)에 의해 형성된 공간으로부터 가스를 배출한다. 가스 도입관(130) 및 가스 배출관(140)에는 각각 밸브(60, 62)가 설치된다. 이들 밸브(60, 62)는 가스 도입관(130) 및 가스 배출관(140)의 가스의 유량을 제어한다. 여기서, 가스 도입구(132) 및 가스 배출구(142)는 수용 용기(100)에 있어서의 수용 용기 본체(110)에 배치된다. 이에 의해,문(120)을 개폐하는 경우에 가스 도입관(130) 및 가스 배출관(140)이 방해가 되지 않는다.

내외 밸브(60, 62), 수용 용기 본체(110) 및 문(120)에 의해 형성된 공간의 외부와, 당해 공간에 수용된 광섬유(50)의 양단의 사이를 광학적으로 접속한다. 도 3에 나타내는 실시예에 있어서 내외 접속부(150)는, 수용 용기 본체(110)에 배치되어 있고, 수용 용기(100)의 해당 공간에 수용된 광섬유(50)의 일단(52) 및 타단(54)을 당해 공간의 외부에 인출하여 보관 유지한다. 내외 접속부(150)는 수용 용기 본체(110)를 관통하는 취출구를 가지고, 광섬유(50)의 일단(52), 타단(54)을 인출한 후, 에폭시 수지로 취출구를 막힘으로써 수용 용기(100)의 공간의 밀폐성이 확보된다. 내외 접속부(150)가 수용 용기 본체(110)에 배치되어 있으므로, 문(120)을 개폐하는 경우에, 일단(52) 및 타단(54)이 신축되지 않고, 용이하게 가스 도입관(130)을 개폐할 수가 있다. 또, 내외 접속부(150)는 수용 용기 본체(110)로부터 떼어냄 가능하여도 좋다.

LED(20)는, 수용 용기(100)의 공간에 수용된 광섬유(50)의 일단(52)에 광학적으로 접속되고, 이 일단(52)에 광을 도입한다. LED(20)는 가스 처리에 의해 광섬유(50)의 흡수 손실이 변화하는 파장 영역의 광을 방사한다. 예를 들면, LED(20)는 630nm 부근의 파장의 광을 방사한다. 또, 광 파워미터(30)는 수용 용기(100) 공간에 수용된 광섬유(50)의 타단(54)에 광학적으로 접속되고, 이 타단(54)으로부터 나오는 광의 광량을 계측한다.

PC(40)는 LED(20) 및 PC(40)를 제어하는 종료 판단부(200)와, 밸브(60) 및 밸브(62)를 제어하는 가스 제어부(210)와, 락(122)을 제어하는 문개폐 제어부(220)를 가진다.

종료 판단부(200)는, 도 1 및 도 2에 나타내는 실시예 1과 마찬가지로, 광 파워미터(30)에 의해 계측된 광량이 역치를 넘는 경우에, 가스 처리가 종료하였다고 판단한다. 또한 종료 판단부(200)는, 상기 광량에 대신하여, LED(20)로부터 일단(52)에 도입된 광량에 대한, 광 파워미터(30)에 의해 계측된 광량의 비가 역치를 넘었는지 여부를 판단하여도 좋다. 또한, 다른 예로서 종료 판단부(200)는, 광 파워미터(30)에 의해 계측된 광량의 변화율, 또는 LED(20)로부터 일단(52)에 도입된 광량에 대한, 광 파워미터(30)에 의해 계측된 광량의 비의 변화율이 역치를 넘었는지 여부를 판단하여도 좋다.

가스 제어부(210)는, 종료 판단부(200)에 의해 가스 처리가 종료하였다고 판단되는 경우에, 밸브(60) 및 밸브(62)의 유량을 제한함으로써, 수용 용기(100)의 공간에 대한 가스의 도입 및 가스의 배출을 정지한다. 이에 의해 가스 처리가 종료 한 후에까지 불필요한 가스를 도입 또는 배출하는 것을 막을 수가 있다. 또, 문개폐 제어부(220)는, 종료 판단부(200)에 의해 가스 처리가 종료하였다고 판단되는 경우에, 락(122)을 해제하고, 문(120)을 여는 것을 허용한다. 이에 의해 가스 처리의 도중에 문(120)이 열리는 것에 의한 불편을 막을 수가 있다.

이상, 도 3에 나타내는 실시예에 의하면, 광섬유(50)를 수용 용기(100) 내에 수용한 상태로 가스 처리가 종료했는지 여부를 판단할 수가 있다. 이에 의해 광섬유(50)를 수용 용기(100)로부터 취출하여 가스 처리의 종료를 판단하는 경우에 비해, 샘플링에 사용하는 광섬유를 소량으로 마칠 수가 있고 또 광섬유(50)의 가스 처리를 빨리 종료할 수가 있다.

이상, 본 발명을 실시의 형태를 이용하여 설명하였지만, 본 발명의 기술적 범위는 상기 실시의 형태에 기재의 범위에는 한정되지 않는다. 상기 실시의 형태에 다양한 변경 또는 개량을 가하는 것이 가능하다는 것이 당업자에게 분명하다. 그러한 변경 또는 개량을 가한 형태도 본 발명의 기술적 범위에 포함될 수 있는 것이 청구의 범위의 기재로부터 분명하다.

가스 처리의 종료를 동시적으로 검지할 수가 있고, 광섬유의 각종 가스 처리에 이용할 수 있다.

Claims

광섬유를 가스 처리하는 장치로서,

처리 용기가 광섬유를 출입하는 문 이외에, 가스 도입구, 가스 배출구 및 샘플링 파이버 취출구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 광섬유 처리 장치.
제1항에 있어서,

상기 샘플링 파이버 취출구로부터 인출된 광섬유와 접속되는 광원 및 흡수 손실을 측정하는 광 파워미터를 구비하고 있는 광섬유 처리 장치.
제1항 또는 제2항에 있어서,

광 파워미터의 값을 모니터하고, 그 값의 변화로부터 가스 처리의 종료를 판단하는 기구를 구비하고 있는 광섬유 처리 장치.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 광원은 가스 처리에 의해 광섬유의 흡수 손실이 변화하는 파장 영역의 광을 방사하는 광섬유 처리 장치.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 광원이 방사하는 광의 파장이 광섬유의 흡수 손실 피크 파장 혹은 그 주변의 파장인 광섬유 처리 장치.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 처리에 사용하는 가스가 중수소 또는 중수소를 함유하는 가스인 광섬유 처리 장치.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 광원광의 파장이 630nm 부근에 있는 광섬유 처리 장치.
광섬유를 가스 처리하는 방법으로서,

광섬유를 처리 용기에 수납하고, 상기 용기 내를 처리 가스로 채우고, 상기 용기에 설치된 샘플링 파이버 취출구로부터 광섬유를 인출하여 광원과 광 파워미터에 접속하고, 가스 처리 중, 광섬유의 흡수 손실을 모니터하고, 상기 흡수 손실의 변화로부터 가스 처리의 종료를 동시적으로 판단하는 것을 특징으로 하는 광섬유 처리 방법.
제8항에 있어서,

상기 가스 처리의 종료를 소정의 파장에 있어서의 광량이 설정 광량에 이르렀을 때 종료로 판단하는 광섬유 처리 방법.
제8항 또는 제9항에 있어서,

상기 광원은 가스 처리에 의해 광섬유의 흡수 손실이 변화하는 파장 영역의 광을 방사하는 광섬유 처리 방법.
제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 광원이 방사하는 광의 파장이 광섬유의 흡수 손실 피크 파장 혹은 그 주변의 파장인 광섬유 처리 방법.
제8항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 가스 처리에 사용하는 가스가 중수소를 함유하는 가스인 광섬유 처리 방법.
제8항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 광원광의 파장이 630nm 부근에 있는 광섬유 처리 방법.
제8항 내지 제13항 중 어느 한 항의 광섬유 처리 방법을 이용하여 가스 처리되는 것을 특징으로 하는 광섬유.
광섬유를 가스 처리하는 광섬유 처리 장치로서,

상기 광섬유를 출입하는 개구를 가지는 수용 용기 본체와,

　상기 개구를 개폐하고, 상기 개구를 닫음으로써 상기 수용 용기 본체와의 사이에 기밀인 공간을 형성하는 문과,

상기 수용 용기 본체 및 상기 문에 의해 형성된 상기 공간에, 가스를 도입하는 가스 도입구와,

상기 수용 용기 본체 및 상기 문에 의해 형성된 상기 공간으로부터 가스를 배출하는 가스 배출구와,

상기 수용 용기 본체 및 상기 문에 의해 형성된 상기 공간의 외부와, 상기 공간에 수용된 상기 광섬유의 양단의 사이를 광학적으로 접속하는 내외 접속부를 구비하는 광섬유 처리 장치.
제15항에 있어서,

상기 내외 접속부는 상기 공간에 수용된 상기 광섬유의 양단을 상기 공간의 외부에 인출하여 보관 유지하는 광섬유 처리 장치.
제16항에 있어서,

상기 내외 접속부는 상기 수용 용기 본체에 배치되어 있는 광섬유 처리 장치.
제17항에 있어서,

상기 내외 접속부는 상기 수용 용기 본체로부터 취출 가능한 광섬유 처리 장 치.
제15항에 있어서,

상기 공간의 외부에 배치되고 상기 공간에 수용된 상기 광섬유의 상기 양단의 일방에 광을 도입하는 광원과,

상기 공간의 외부에 배치되고 상기 공간에 수용된 상기 광섬유의 상기 양단의 일방으로부터 나오는 광의 광량을 계측하는 광 파워미터를 더 구비하는 광섬유 처리 장치.
제19항에 있어서,

상기 광원은 가스 처리에 의해 상기 광섬유의 흡수 손실이 변화하는 파장 영역의 광을 방사하는 광섬유 처리 장치.
제20항에 있어서,

　 상기 광원은 630nm 부근의 파장의 광을 방사하는 광섬유 처리 장치.
제19항에 있어서,

상기 광 파워미터에 의해 계측된 광량이 역치를 넘는 경우에, 가스 처리가 종료하였다고 판단하는 종료 판단부를 더 구비하는 광섬유 처리 장치.
제19항에 있어서,

상기 광원으로부터의 광량에 대한 상기 광 파워미터에 의해 계측된 광량의 비가 역치를 넘는 경우에, 가스 처리가 종료하였다고 판단하는 종료 판단부를 더 구비하는 광섬유 처리 장치.
제19항에 있어서,

상기 광 파워미터에 의해 계측된 광량의 변화율이 역치를 넘는 경우에, 가스 처리가 종료하였다고 종료 판단하는 판단부를 더 구비하는 광섬유 처리 장치.
제19항에 있어서,

상기 광원으로부터의 광량에 대한 상기 광 파워미터에 의해 계측된 광량의 비의 변화율이 역치를 넘는 경우에, 가스 처리가 종료하였다고 종료 판단하는 판단부를 더 구비하는 광섬유 처리 장치.
제22항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 종료 판단부에 의해 가스 처리가 종료하였다고 판단되는 경우에, 상기 공간에 대한 가스의 도입 및 가스의 배출을 정지하는 가스 제어부를 더 구비하는 광섬유 처리 장치.
제22항 내지 제26항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 종료 판단부에 의해 가스 처리가 종료하였다고 판단되는 경우에, 상기 문을 여는 것을 허용하는 문개폐 제어부를 더 구비하는 광섬유 처리 장치.