KR20060080267A - 표시 패널용 기판 - Google Patents

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KR20060080267A
KR20060080267A KR1020050000537A KR20050000537A KR20060080267A KR 20060080267 A KR20060080267 A KR 20060080267A KR 1020050000537 A KR1020050000537 A KR 1020050000537A KR 20050000537 A KR20050000537 A KR 20050000537A KR 20060080267 A KR20060080267 A KR 20060080267A
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KR1020050000537A
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손우성
유영훈
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삼성전자주식회사
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Abstract

정전기에 안정적이고 검사 공정을 용이하게 하기 위한 표시 패널용 기판이 개시된다. 표시 패널용 기판은 제1 방향으로 배열된 복수의 게이트 배선들과 제2 방향으로 배열된 복수의 데이터 배선들과, 제2 방향으로 연장되어 데이터 배선들에 테스트 신호를 인가하는 복수의 검사 배선들 및 서로 다른 검사 배선 위에 단부가 형성된 인접한 데이터 배선들과 서로 다른 검사 배선을 전기적으로 연결하는 연결부들을 포함한다. 이에 따라, 정전기에 안정적이고 2D 이상의 어레이 검사 및 3D 이상의 V/I 검사를 용이하게 할 수 있다.
어레이 검사, 정전기, 데이터 배선 단부

Description

표시 패널용 기판{SUBSTRATE FOR DISPLAY PANEL}
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 표시 패널용 기판에 대한 부분 확대도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 패널용 기판에 대한 부분 확대도이다.
도 3은 도 1의 I-I' 라인을 따라서 절단한 단면도이다.
도 4a 내지 도 4d는 도 3에 도시된 표시 패널용 기판의 제조 방법을 설명하기 위한 공정도들이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 패널용 기판에 대한 부분 확대도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 패널용 기판에 대한 부분 확대도이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 패널용 기판에 대한 부분 확대도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
110 : 스위칭 소자 111 : 게이트 전극
112 : 반도체층 113 : 소스 전극
114 : 드레인 전극 210 : 제1 검사부
220 : 제2 검사부 230 : 제3 검사부
본 발명은 표시 패널용 기판에 관한 것으로, 보다 상세하게는 정전기에 안정적이고 검사 공정을 용이하게 하기 위한 표시 패널용 기판에 관한 것이다.
일반적으로 액정 표시 패널은 어레이 기판, 상기 어레이 기판과 마주하는 상부 기판, 및 상기 어레이 기판과 상기 상부 기판과의 사이에 개재된 액정층으로 이루어진다. 상기 어레이 기판은 화상이 표시되는 화소 영역과 상기 화소영역을 둘러싸는 주변 영역을 갖는다.
상기 화소 영역은 복수의 게이트 배선들과, 상기 게이트 배선들과 교차하는 복수의 데이터 배선들, 및 상기 게이트 배선들과 데이터 배선들에 연결되는 화소 전극들이 형성되고, 상기 주변 영역에는 구동 신호를 출력하는 구동 칩이 실장되는 패드들이 형성된다.
이상과 같이 어레이 기판이 형성되면, 어레이 기판 상에 형성된 배선들에 대한 전기적인 동작 상태를 점검하기 위한 어레이 검사 공정과, 액정 공정 이후에 표시 패널의 전기적 및 광학적인 동작 상태를 점검하기 위한 육안 검사(Visual Inspection; 이하, V/I) 공정을 수행한다.
상기와 같은 어레이 검사 공정 및 V/I 공정을 위한 검사용 배선 및 패드가 상기 주변 영역에 형성된다. 검사 방식에 따라서, 상기 검사용 배선 및 패드는 소 정 개수를 단위로 게이트 배선들 및 데이터 배선들을 각각 묶어(예컨대, 2G2D, 2G3D 등) 테스트 신호를 인가하여 검사한다.
이에 본 발명의 기술적 과제는 이러한 점에 착안한 것으로, 본 발명의 목적은 정전기에 안정적이고 검사가 용이한 표시 패널용 기판을 제공하는 것이다.
상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 실시예에 따른 표시 패널용 기판은, 제1 방향으로 배열된 복수의 게이트 배선들과 제2 방향으로 배열된 복수의 데이터 배선들과, 상기 제2 방향으로 연장되어 상기 데이터 배선들에 테스트 신호를 인가하는 복수의 검사 배선들 및 상기 서로 다른 검사 배선 위에 단부가 형성된 인접한 데이터 배선들과 상기 서로 다른 검사 배선을 전기적으로 연결하는 연결부들을 포함한다.
바람직하게 상기 복수의 검사 배선들은 3개 이상의 검사 배선들이다.
바람직하게 상기 데이터 배선의 단부는 평면에서 관찰할 때 H-자 형상이거나, 상기 제2 방향으로 일정 길이 연장된 연장부를 가지며, 상기 연장부의 폭은 상기 검사 배선의 폭보다 넓게 형성된 제1 T자 형상이거나, 상기 연장부의 폭은 상기 데이터 배선의 폭과 실질적으로 동일한 제2 T자 형상이다.
상기 연결부는 상기 검사 배선을 노출시키는 제1 콘택홀과 상기 데이터 배선의 단부를 노출시키는 제2 콘택홀에 형성된 화소 전극 패턴이다.
예를 들어, 상기 복수의 검사 배선들은 제1 내지 제3 검사 배선을 포함하는 경우, 상기 제1 검사 배선은 3k-2 번째 데이터 배선의 단부와 연결되며, 상기 제2 검사 배선은 3k-1 번째 데이터 배선의 단부와 연결되며, 상기 제3 검사 배선은 3k 번째 데이터 배선의 단부와 연결된다.
상기 제1 검사 배선이 상기 데이터 배선과 동일한 층으로 형성되고, 상기 제2 및 제3 검사 배선이 상기 게이트 배선과 동일한 층으로 형성된 경우, 상기 3k-1 번째 및 3k 번째 데이터 배선의 단부는 상기 H-자 형상이 바람직하다.
한편, 상기 제1 내지 제3 검사 배선이 상기 게이트 배선과 동일한 층으로 형성되는 경우, 상기 데이터 배선들의 단부는 동일한 형상인 것이 바람직하다.
이러한 표시 패널용 기판에 의하면, 데이터 배선들의 배열 방향으로 연장된 복수의 검사배선들에 의해 정전기에 안정적이다. 또한, 2D 이상의 어레이 검사 및 3D 이상의 V/I 검사를 용이하게 할 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명을 보다 상세하게 설명하고자 한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 표시 패널용 기판에 대한 부분 확대도이다.
도 1을 참조하면, 표시 패널용 기판은 표시 영역(DA)과, 상기 표시 영역(DA)을 둘러싸는 주변 영역(PA)으로 이루어진다.
상기 표시 영역(DA)에는 제1 방향으로 배열된 복수의 게이트 배선(GL)들과, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 배열된 복수의 데이터 배선(DL)들에 의해 정의되는 복수의 화소 영역들이 정의된다.
상기 화소 영역에는 스위칭 소자(TFT)(110)와, 상기 스위칭 소자(TFT)(110)에 연결되는 액정 캐패시터(CLC)의 제1 전극(또는 화소전극)(130) 및 스토리지 캐 패시터(CST)가 형성된다. 상기 스위칭 소자(TFT)(110)는 게이트 배선에 연결된 게이트 전극(111)과, 데이터 배선에 연결된 소스 전극(113) 및 상기 화소 전극(130)에 연결된 드레인 전극(114)을 포함한다.
상기 주변 영역(PA)에는 상기 게이트 배선(GL)들과 데이터 배선(DL)들 및 화소 전극(130)의 전기적 및/또는 광학적 동작 상태를 검사하기 위해 테스트 신호를 인가하는 검사부가 형성된다. 이하, 검사부는 상기 데이터 배선들에 테스트 신호를 인가하는 경우를 설명한다.
상기 검사부(250)는 3D 방식에 따라서, 3k-2번째 데이터 배선들을 하나로 묶어 제1 테스트 신호를 인가하는 제1 검사부(210)와, 3k-1번째 데이터 배선들을 하나로 묶어 제2 테스트 신호를 인가하는 제2 검사부(220) 및 3k 번째 데이터 배선들을 하나로 묶어 제3 테스트 신호를 인가하는 제3 검사부(230)를 포함한다. 상기 k는 자연수이다.
상기 제1 검사부(210)는 제1 배선(211) 및 제1 패드(213)를 포함한다. 상기 제1 배선(211)은 복수의 데이터 배선들의 단부에 상기 데이터 배선과 동일층으로 형성된 정전기 분산 배선(SHORTING BAR)이다. 상기 정전기 분산 배선을 이용하여 3k-2 번째 데이터 배선들(DL3k-2)에 테스트 신호를 인가한다. 상기 제1 배선(211)의 단부에는 제1 패드(213)가 형성된다.
상기 제2 검사부(220)는 제2 배선(221) 및 제2 패드(223)를 포함한다. 상기 제2 배선(221)은 3k-1번째 데이터 배선(DL3k-1)들과 전기적으로 연결하는 연결부(CT12)들이 형성된다. 상기 연결부(CT12)는 평면에서 관찰할 때 제2 배선(221)으로 부터 연장된 제1 연결부(225)와 H-자형의 3k-1번째 데이터 배선(DL3k-1)의 단부에 형성된 제2 연결부(227)를 포함한다.
상기 제1 연결부(225) 및 제2 연결부(227)에는 제1 콘택홀(225C) 및 제2 콘택홀들(227C)이 각각 형성되고, 상기 제1 및 제2 콘택홀(225C,227C)을 통해 화소 전극 패턴(132)이 형성되어 상기 제1 연결부(225) 및 제2 연결부(227)가 전기적으로 연결된다.
상기 제3 검사부(230)는 제3 배선(231) 및 제3 패드(233)를 포함한다. 상기 제3 배선(231)은 3k번째 데이터 배선(DL3k)들과 전기적으로 연결하는 연결부(CT13)들이 형성된다. 상기 연결부(CT13)는 평면에서 관찰할 때 제3 배선(231)으로부터 연장된 제1 연결부(235)와 H-자형의 3k 번째 데이터 배선(DL3k)의 단부에 형성된 제2 연결부(237)를 포함한다.
상기 제1 연결부(235) 및 제2 연결부(237)는 제1 및 제2 콘택홀(235C,237C)을 통해 화소 전극 패턴(133)이 형성되어 상기 제1 연결부(235) 및 제2 연결부(237)가 전기적으로 연결된다.
결과적으로 도시된 바와 같이, 정전기 분산 배선(또는 제1 배선)(211)과 복수의 데이터 배선들 사이를 오프닝하는 별도의 식각 공정 없이도 2D 이상의 어레이 검사 및 3D 이상의 V/I 검사를 용이하게 할 수 있다. 또한, 복수의 데이터 배선들 단부에 정전기 분산 배선(또는 제1 배선(211))이 형성됨에 따라서 정전기에 대한 안전성을 얻을 수 있다. 복수의 데이터 배선들 단부 하부에 검사 배선(또는 게이트 배선)이 있으므로, 또한 정전기에 안정적이다. 또한, 필요에 따라 상기 데이터 배 선들과 검사 배선 사이에 액티브층(a-Si층)을 형성하여 다이오드를 구현함으로써 더욱 정전기에 안정적일 수 있다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 패널용 기판에 대한 부분 확대도이며, 도 1에 도시된 구성요소와 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하여 설명한다.
도 2를 참조하면, 상기 주변 영역(PA)에는 상기 게이트 배선(GL)들과 데이터 배선(DL)들 및 화소 전극(130)의 전기적 및/또는 광학적 동작 상태를 검사하기 위해 테스트 신호를 인가하는 검사부가 형성된다.
상기 검사부(250)는 3D 방식에 따라서, 3k-2 번째 데이터 배선들을 하나로 묶어 제1 테스트 신호를 인가하는 제1 검사부(210)와, 3k-1번째 데이터 배선들을 하나로 묶어 제2 테스트 신호를 인가하는 제2 검사부(220) 및 3k 번째 데이터 배선들을 하나로 묶어 제3 테스트 신호를 인가하는 제3 검사부(230)를 포함한다. 상기 k는 자연수이다. 상기 데이터 배선들을 하나로 묶는 정전기 분산 배선(203)이 상기 데이터 배선들과 동일층으로 상기 제1 검사부(210)의 외곽에 형성된다.
도시된 바와 같이, 상기 정전기 분산 배선(203)은 상기 제1 검사부(210)와 전기적으로 연결된 3k-2번째 데이터 배선들과 연결된다. 물론, 상기 정전기 분산 배선(203)은 제1, 제2 및 제3 검사부(210,220,230)와 각각 연결된 3k-2 번째, 3k-1번째 및 3k 번째 데이터 배선 중 어느 하나의 데이터 배선들과 연결될 수 있다.
상기 제1 검사부(211)는 제1 배선(212) 및 제1 패드(214)를 포함한다. 상기 제1 배선(212)에는 3k-1번째 데이터 배선(DL3k-1)들과 전기적으로 연결하는 연결부 (CT11)들이 형성된다. 상기 연결부(CT11)는 평면에서 관찰할 때 제1 배선(212)으로부터 연장된 제1 연결부(215)와 H-자형의 3k-2번째 데이터 배선(DL3k-2)의 단부에 형성된 제2 연결부(217)를 포함한다.
상기 제1 연결부(215) 및 제2 연결부(217)에는 제1 콘택홀(215C) 및 제2 콘택홀들(217C)이 각각 형성되고, 상기 제1 및 제2 콘택홀(215C,217C)을 통해 화소 전극 패턴(131)이 형성되어 상기 제1 연결부(215) 및 제2 연결부(217)가 전기적으로 연결된다.
상기 제2 및 제3 검사부(220,230)에 대한 설명은 도 1의 설명과 동일하므로 생략한다.
이와 같이, 상기 제1 내지 제3 검사부(210,220,230)에 형성된 연결부(C11,C12,C13)가 동일하게 형성됨으로써 상기 제1 내지 제3 검사부(210,220,230)에 동일한 콘택 저항을 가짐에 따라서 3D 검사를 용이하게 할 수 있다.
도 3은 도 1의 I-I' 라인을 따라서 절단한 단면도이다.
도 1 및 도 3을 참조하면, 투명 기판(101)의 표시 영역에는 스위칭 소자(110)가 형성되고, 주변 영역에는 검사부(250)가 형성된다.
상기 스위칭 소자는 게이트 전극(111), 반도체층(112), 소스 전극(113), 드레인 전극(114) 및 화소 전극(130)을 포함한다. 상기 게이트 전극(111)은 게이트 금속층으로 형성되고, 상기 반도체층(112)은 상기 게이트 전극(111) 위에 형성된다. 상기 반도체층(112)은 활성층(112a)과 저항성 접촉층(112b)을 포함한다.
상기 소스 전극(113) 및 드레인 전극(114)은 소스 및 드레인 금속층에 의해 형성되고, 상기 소스 전극(113) 및 드레인 전극(114)을 마스크로 상기 저항성 접촉층(112b)이 식각되어 채널부가 형성된다. 상기 드레인 전극(114)은 콘택홀(116)에 의해 일부가 노출되고, 상기 콘택홀(116)을 통해 상기 화소 전극(130)과 전기적으로 연결된다.
도시되지는 않았으나, 상기 화소 영역에는 게이트 금속층으로 형성된 제1 전극과, 상기 화소 전극(130)을 제2 전극으로 하는 스토리지 캐패시터가 형성된다.
상기 검사부(250)는 3D 방식에 대응하여, 제1 검사부(210), 제2 검사부(220) 및 제3 검사부(230)를 포함한다. 상기 제1 검사부(210)의 제1 배선(211) 및 제1 패드(213)는 데이터 금속층으로 형성된다. 즉, 상기 표시 영역의 복수의 데이터 배선(DL)이 형성될 때 형성되며, 상기 제1 배선(211)은 복수의 데이터 배선들 중 3k-2 번째 데이터 배선들과 연결되어 형성된다.
한편, 상기 제2 검사부(220) 및 제3 검사부(230)의 제2 및 제3 배선(221,231)과 제2 및 제3 패드(223,233)는 상기 게이트 금속층으로 형성된다.
상기 제2 배선(221)에는 3k-1 번째 데이터 배선(DL3k-1)들과 전기적으로 연결하기 위한 연결부(CT12)들이 형성된다. 상기 제2 배선(221)에는 제1 연결부(225)가 형성되고, 상기 제1 연결부(225)는 제2 배선(221) 폭 보다는 넓은 폭으로 형성되며, 상기 제1 콘택홀(225C)이 형성된다.
평면상에서 관찰할 때 H-자형을 갖는 상기 3k-1번째 데이터 배선(DL3k-1)의 단부에는 상기 제1 연결부(225)의 크기에 대응하는 제2 연결부(227)가 형성되고, 상기 제2 연결부(227)에는 제2 콘택홀(227C)이 형성된다. 상기 제1 및 제2 콘택홀 (225C,227C)은 상기 H- 자형의 양쪽 단부에 각각 형성된다. 상기 제1 및 제2 콘택홀(225C,227C)에는 화소 전극 패턴(132)이 형성되어 상기 제2 배선(221)과 3k-1 번째 데이터 배선(DL3k-1)이 전기적으로 연결된다.
상기 제3 배선(231)에는 3k 번째 데이터 배선(DL3k)들과 전기적으로 연결하기 위한 연결부(CT13)들이 형성된다. 상기 제3 배선(231)에는 제1 연결부(235)가 형성되고, 상기 제1 연결부(235)는 제3 배선(231) 폭 보다는 넓은 폭으로 형성되며, 상기 제1 콘택홀(235C)이 형성된다.
H-자형을 갖는 상기 3k번째 데이터 배선(DL3k)의 단부에는 상기 제1 연결부(235)의 크기에 대응하는 제2 연결부(237)가 형성되고, 상기 제2 연결부(237)에는 제2 콘택홀(237C)이 형성된다. 상기 제1 및 제2 콘택홀(235C,237C)은 상기 H-자형의 양쪽 단부에 각각 형성된다. 상기 제1 및 제2 콘택홀(235C,237C)에는 화소 전극 패턴(133)이 형성되어 상기 제3 배선(231)과 3k 번째 데이터 배선(DL3k)이 전기적으로 연결된다.
도시된 바와 같이, 상기 제1 내지 제3 검사부 들 중 데이터 금속층으로 형성된 제1 검사부와, 게이트 금속층으로 형성된 제2 및 제3 검사부 간의 콘택 저항을 고려하여 상기 제2 및 제3 검사부에 형성된 연결부는 평면에서 관찰할 때 콘택 면적이 넓은 H-자형이 바람직하다.
도 4a 내지 도 4d는 도 2에 도시된 표시 패널용 기판의 제조 방법을 설명하기 위한 공정도들이다.
도 4a를 참조하면, 투명 기판(101) 상에 스퍼터링(sputtering)등의 방법으로 알루미늄(Al) 또는 구리(Cu) 등을 증착하여 게이트 금속층을 형성한다. 상기 게이트 금속층을 포토 리소그래픽(photolithography) 공정으로 패터닝하여 스위칭 소자(110)의 게이트 전극(111), 제2 검사부(220) 및 제3 검사부(230)를 형성한다. 상기 제2 검사부(220)는 제2 배선(223) 및 제2 패드(221)를 포함하고, 상기 제3 검사부(230)는 제3 배선(233) 및 제3 패드(231)를 포함한다.
이후, 투명 기판(101)상에 형성된 게이트 금속층을 덮도록 게이트 절연층(103)을 증착한다. 게이트 절연층(103)은 질화 실리콘 또는 산화 실리콘과 같은 절연물질로 형성한다.
도 4b를 참조하면, 상기 게이트 절연층(103) 위에 활성층(112a) 및 저항성 접촉층(112b)을 순차적으로 증착한다. 상기 활성층(112a) 및 저항성 접촉층(112b)은 스위칭 소자(110)의 게이트 전극(111)에 대응하는 부분에만 잔류하도록 포토 리소그래픽 공정으로 패터닝한다.
이후, 저항성 접촉층(112b)을 덮도록 소오스 및 드레인 금속층을 증착하고, 포토 레지스트 노광 및 현상하여 포토 레지스트 패턴(미도시)을 형성한다. 상기 포토 레지스트 패턴(미도시)을 마스크로 하여 소오스 및 드레인 금속층을 식각한다.
이에 의해 소오스 및 드레인 금속층은 스위칭 소자(110)의 소스 및 드레인 전극(113,114)을 형성하고, 제1 검사부(210)를 형성한다. 상기 제1 검사부(210)는 제1 배선(211) 및 제1 패드(213)를 포함한다.
이후, 소스 및 드레인 전극(113,114)을 마스크로 하여 노출된 저항성 접촉층(112b)을 식각하여 스위칭 소자(110)의 채널부를 형성한다.
도시되지는 않았으나, 상기 활성층(112a) 및 저항성 접촉층(112b)을 상기 제2 및 제3 검사부(220,230)의 제2 및 제3 배선(223,233) 과 상기 3k-1번째 및 3k 번째 데이터 배선들(DL3k-1,DL3k)의 단부 사이에 형성하여 다이오드로 구현할 수 있다. 상기와 같은 다이오드 구조를 가짐에 따라서 정전기에 더욱 안정적일 수 있다.
도 4c를 참조하면, 소스 및 드레인 금속층 위에 패시베이션층(105)이 형성되며, 상기 패시베이션층(105) 위에는 절연층(107)이 형성된다. 물론, 상기 절연층(107)은 형성되지 않을 수도 있다.
상기 절연층(107)은 질화 실리콘 또는 산화 실리콘 등의 무기 절연 물질을 갖거나, 아크릴계(Acryl) 유기화합물, 테프론(Teflon), BCB(benzocyclobutene), 사이토프(Cytop) 또는 PFCB(Perfluorocyclobutane) 등의 저유전 상수를 갖는 유기 절연 물질을 갖는다.
이후, 포토 리소그래픽 공정으로 패시베이션층(105) 및 절연층(107)에 콘택홀들을 형성한다.
도 4d를 참조하면, 콘택홀들은 스위칭 소자(110)의 드레인 전극(114)의 일부분을 노출시키는 콘택홀(116)을 포함한다. 또한, 상기 제2 배선(221)과 3k-1 번째 데이터 배선(DL3k-1)들과 전기적으로 연결하는 연결부(CT11)에 형성된 콘택홀들(225C,227C)을 포함하며, 상기 제3 배선(231)과 3k 번째 데이터 배선(DL3k)들과 전기적으로 연결하는 연결부(CT12)에 형성된 콘택홀들(235C,237C)을 포함한다.
이 후, 절연층(107) 위에 투명한 전도성 물질인 투명 전극층을 증착 및 패터닝하여 화소 전극(130)을 형성하고, 상기 연결부(CT11)와 연결부(CT12)를 형성하는 화소 전극 패턴들(132,133)을 형성한다. 상기 투명한 전도성 물질인 인듐-틴-옥사이드(Indium-Tin-Oxide : ITO), 인듐-아연-옥사이드(Indium-Zinc-Oxide : IZO) 또는 인듐-틴-아연 옥사이드(Indium-Tin-Zinc-Oxide)를 증착하여 패터닝한다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 패널용 기판에 대한 부분 확대도이다.
도 5를 참조하면, 표시 패널용 기판은 표시 영역(DA)과, 상기 표시 영역(DA)을 둘러싸는 주변 영역(PA)으로 이루어진다.
상기 표시 영역(DA)에는 제1 방향으로 배열된 복수의 게이트 배선(GL)들과, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 배열된 복수의 데이터 배선(DL)들에 의해 정의되는 복수의 화소 영역들이 정의된다.
상기 화소 영역에는 스위칭 소자(TFT)(310)와, 상기 스위칭 소자(TFT)(310)에 연결되는 액정 캐패시터(CLC)의 제1 전극(또는 화소전극)(330) 및 스토리지 캐패시터(CST)가 형성된다. 상기 스위칭 소자(TFT)(310)는 게이트 배선에 연결된 게이트 전극(311)과, 데이터 배선에 연결된 소스 전극(313) 및 상기 화소 전극(330)에 연결된 드레인 전극(314)을 포함한다.
상기 주변 영역(PA)에는 상기 게이트 배선(GL)들과 데이터 배선(DL)들 및 화소 전극(330)의 전기적 및/또는 광학적 동작 상태를 검사하기 위해 테스트 신호를 인가하는 검사부가 형성된다. 이하 검사부는 상기 데이터 배선들에 테스트 신호를 인가하는 경우를 설명한다.
상기 검사부(450)는 3D 방식에 따라서, 3k-2번째 데이터 배선들을 하나로 묶 어 제1 테스트 신호를 인가하는 제1 검사부(410)와, 3k-1번째 데이터 배선들을 하나로 묶어 제2 테스트 신호를 인가하는 제2 검사부(420) 및 3k 번째 데이터 배선들을 하나로 묶어 제3 테스트 신호를 인가하는 제3 검사부(430)를 포함하며, 게이트 금속층으로 형성된다.
상기 제1 검사부(410)는 제1 배선(411) 및 제1 패드(413)를 포함한다. 상기 제1 배선(411)은 상기 데이터 배선들과 동일층으로 형성되어 정전기 분산 배선(SHORTING BAR) 기능을 수행한다.
상기 제2 검사부(420)는 제2 배선(421) 및 제2 패드(423)를 포함한다. 상기 제2 배선(421)은 3k-1번째 데이터 배선(DL3k-1)들과 전기적으로 연결하는 연결부(CT22)들이 형성된다. 상기 연결부(CT22)는 제2 배선(421)을 노출시키는 제1 콘택홀(425C)과 제1 T-자형의 단부를 갖는 3k-1번째 데이터 배선(DL3k-1)의 상기 단부 일부를 노출시키는 제2 콘택홀(427C)을 포함한다. 상기 제1 및 제2 콘택홀(425C,427C)은 상기 제1 T-자형의 가로 방향의 양쪽 단부에 각각 형성된다. 상기 제1 및 제2 콘택홀(425C,427C)에 형성된 제2 화소 전극 패턴(332)을 포함한다.
상기 제3 검사부(430)는 제3 배선(431) 및 제3 패드(433)를 포함한다. 상기 제3 배선(431)은 3k번째 데이터 배선(DL3k)들과 전기적으로 연결하는 연결부(CT23)들이 형성된다. 상기 연결부(CT23)는 제3 배선(431)을 노출시키는 제1 콘택홀(435C)과 제1 T-자형의 단부를 갖는 3k 번째 데이터 배선(DL3k)의 상기 단부 일부를 노출시키는 제2 콘택홀(437C)을 포함한다. 상기 제1 및 제2 콘택홀(435C,437C)은 상기 제1 T-자형의 가로 방향의 양쪽 단부에 각각 형성된다. 상기 제1 및 제2 콘택홀(435C,437C)에 형성된 제3 화소 전극 패턴(333)을 포함한다.
상기 제1 T-자형은, 제1 배선(411)의 폭보다 넓은 가로방향의 배선폭과, 상기 데이터 배선의 폭과 실질적으로 동일한 세로방향의 배선폭을 갖는다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 패널용 기판에 대한 부분 확대도이다.
도 6을 참조하면, 표시 패널용 기판은 표시 영역(DA)과, 상기 표시 영역(DA)을 둘러싸는 주변 영역(PA)으로 이루어진다.
상기 표시 영역(DA)에는 제1 방향으로 배열된 복수의 게이트 배선(GL)들과, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 배열된 복수의 데이터 배선(DL)들에 의해 정의되는 복수의 화소 영역들이 정의된다. 상기 화소 영역에는 스위칭 소자(TFT)(510)와, 상기 스위칭 소자(TFT)(510)에 연결되는 액정 캐패시터(CLC)의 제1 전극(또는 화소전극)(330) 및 스토리지 캐패시터(CST)가 형성된다. 상기 스위칭 소자(TFT)(510)는 게이트 배선에 연결된 게이트 전극(311)과, 데이터 배선에 연결된 소스 전극(513) 및 상기 화소 전극(530)에 연결된 드레인 전극(514)을 포함한다.
상기 주변 영역(PA)에는 상기 게이트 배선(GL)들과 데이터 배선(DL)들 및 화소 전극(530)의 전기적 및/또는 광학적 동작 상태를 검사하기 위해 테스트 신호를 인가하는 검사부가 형성된다. 이하 검사부는 상기 데이터 배선들에 테스트 신호를 인가하는 경우를 설명한다.
상기 검사부(650)는 3D 방식에 따라서, 3k-2번째 데이터 배선(DL3k-2)들을 하나로 묶어 제1 테스트 신호를 인가하는 제1 검사부(610)와, 3k-1번째 데이터 배 선(DL3k-1)들을 하나로 묶어 제2 테스트 신호를 인가하는 제2 검사부(620) 및 3k 번째 데이터 배선(DL3k)들을 하나로 묶어 제3 테스트 신호를 인가하는 제3 검사부(630)를 포함하며, 게이트 금속층으로 형성된다.
상기 제1 검사부(610)는 제2 T-자형의 단부를 갖는 3k-2 번째 데이터 배선(DL3k-2)과 전기적으로 연결되는 제1 배선(611) 및 제1 패드(613)를 포함한다. 상기 제1 배선(611)은 상기 데이터 배선들과 동일층으로 형성되어 정전기 분산 배선(SHORTING BAR) 기능을 수행한다.
상기 제2 검사부(620)는 제2 T-자형의 단부를 갖는 3k-1 번째 데이터 배선(DL3k-1)과 전기적으로 연결되는 제2 배선(621) 및 제2 패드(623)를 포함한다. 상기 제2 배선(621)에는 연결부(CT32)들이 형성된다.
상기 제3 검사부(630)는 제2 T-자형의 단부를 갖는 3k 번째 데이터 배선(DL3k)과 전기적으로 연결되는 제2 배선(631) 및 제2 패드(633)를 포함한다. 상기 제3 배선(631)에는 연결부(CT33)들이 형성된다.
상기 제2 T-자형은 가로방향의 배선폭은 상기 제1 배선(611)과 실질적으로 동일한 배선폭을 갖고, 세로방향의 배선폭은 상기 데이터 배선의 폭과 실질적으로 동일한 배선폭을 갖는다. 또는 상기 가로방향의 배선폭과 상기 세로방향의 배선폭이 실질적으로 동일하다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 패널용 기판에 대한 부분 확대도이다.
도 7을 참조하면, 표시 패널용 기판은 표시 영역(DA)과, 상기 표시 영역(DA) 을 둘러싸는 주변 영역(PA)으로 이루어진다.
상기 표시 영역(DA)에는 제1 방향으로 배열된 복수의 게이트 배선(GL)들과, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 배열된 복수의 데이터 배선(DL)들에 의해 정의되는 복수의 화소 영역들이 정의된다. 상기 화소 영역에는 스위칭 소자(TFT)(710)와, 상기 스위칭 소자(TFT)(710)에 연결되는 액정 캐패시터(CLC)의 제1 전극(또는 화소전극)(730) 및 스토리지 캐패시터(CST)가 형성된다. 상기 스위칭 소자(TFT)(710)는 게이트 배선에 연결된 게이트 전극(711)과, 데이터 배선에 연결된 소스 전극(713) 및 상기 화소 전극(730)에 연결된 드레인 전극(714)을 포함한다.
상기 주변 영역(PA)에는 상기 게이트 배선(GL)들과 데이터 배선(DL)들 및 화소 전극(730)의 전기적 및/또는 광학적 동작 상태를 검사하기 위해 테스트 신호를 인가하는 검사부가 형성된다. 이하 검사부는 상기 데이터 배선들에 테스트 신호를 인가하는 경우를 설명한다.
상기 검사부(850)는 3D 방식에 따라서, 3k-2번째 데이터 배선(DL3k-2)들을 하나로 묶어 제1 테스트 신호를 인가하는 제1 검사부(810)와, 3k-1번째 데이터 배선(DL3k-1)들을 하나로 묶어 제2 테스트 신호를 인가하는 제2 검사부(820) 및 3k 번째 데이터 배선(DL3k)들을 하나로 묶어 제3 테스트 신호를 인가하는 제3 검사부(830)를 포함하며, 게이트 금속층으로 형성된다.
상기 제1 검사부(810)는 통자형의 단부를 갖는 3k-2 번째 데이터 배선(DL3k-2)과 전기적으로 연결되는 제1 배선(811) 및 제1 패드(813)를 포함한다. 상기 제1 배선(811)은 상기 데이터 배선들과 동일층으로 형성되어 정전기 분산 배선 (SHORTING BAR) 기능을 수행한다.
상기 제2 검사부(820)는 통자형의 단부를 갖는 3k-1 번째 데이터 배선(DL3k-1)과 전기적으로 연결되는 제2 배선(821) 및 제2 패드(823)를 포함한다. 상기 제2 배선(821)에는 연결부(CT42)들이 형성된다.
상기 제3 검사부(830)는 통자형의 단부를 갖는 3k 번째 데이터 배선(DL3k)과 전기적으로 연결되는 제2 배선(831) 및 제2 패드(833)를 포함한다. 상기 제3 배선(831)에는 연결부(CT43)들이 형성된다.
결과적으로 도시된 바와 같이, 정전기 분산 배선(또는 제1 배선)과 복수의 데이터 배선들 사이의 오프닝하기 위한 별도의 식각 공정 없이도 2D 이상의 어레이 검사 및 3D 이상의 V/I 검사를 용이하게 할 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면 기판상에 형성된 배선들의 전기적인 상태를 검사하기 위해 배선들의 분리 공정이 불필요하다. 특히, 데이터 배선들의 분리 공정시 정상적으로 분리되지 않는 문제점을 본 발명에 따른 검사 배선 구조를 가짐에 따라서 해결할 수 있다.
또한, 데이터 배선들과 연결되는 검사 배선들의 연결부가 게이트 금속층과 데이터 금속층에 의해 플로팅 다이오드가 형성됨에 따라서 정전기 발생시 데미지(DEMAGE)를 최소화하여 보다 안정적이다.
또한, 상기 연결부를 평면에서 관찰할 때 H-자형으로 형성하여 콘택 저항을 줄일 수 있다.
또한, 3D 이상의 검사 공정을 수행할 수 있으며, 이에 의해 2D 이상의 어레이 검사는 물론, 6D 검사 방식을 요구하는 V/I(VISUAL INSPECTION) 공정도 효율적으로 할 수 있다.
이상에서는 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (11)

  1. 제1 방향으로 배열된 복수의 게이트 배선들;
    제2 방향으로 배열된 복수의 데이터 배선들;
    상기 제2 방향으로 연장되어 상기 데이터 배선들에 테스트 신호를 인가하는 복수의 검사 배선들; 및
    다른 검사 배선 위에 형성된 인접한 데이터 배선들의 단부와, 상기 검사 배선을 연결하는 연결부를 포함하는 표시 패널용 기판.
  2. 제1항에 있어서, 상기 검사 배선들의 외곽에는 상기 검사 배선들 중 어느 하나의 검사 배선과 전기적으로 연결된 데이터 배선들과 연결된 정전기 분산 배선을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널용 기판.
  3. 제1항에 있어서, 상기 검사 배선들 중 외곽에 형성된 검사 배선은 상기 데이터 배선과 동일한 층으로 형성된 것을 특징으로 하는 표시 패널용 기판.
  4. 제1항에 있어서, 상기 복수의 검사 배선들은 2개 이상인 것을 특징으로 하는 표시 패널용 기판.
  5. 제1항에 있어서, 상기 데이터 배선의 단부는 평면에서 관찰할 때 H자 형상인 것을 특징으로 하는 표시 패널용 기판.
  6. 제1항에 있어서, 상기 데이터 배선의 단부는,
    상기 제2 방향으로 일정 길이 연장된 연장부를 가지며, 상기 연장부의 폭은 상기 검사 배선의 폭보다 넓게 형성된 것을 특징으로 하는 표시 패널용 기판.
  7. 제1항에 있어서, 상기 데이터 배선의 단부는,
    상기 제2 방향으로 일정 길이 연장된 연장부를 가지며, 상기 연장부의 폭은 상기 데이터 배선의 폭과 실질적으로 동일한 것을 특징으로 하는 표시 패널용 기판.
  8. 제1항에 있어서, 상기 연결부는,
    상기 검사 배선을 노출시킨 제1 콘택홀과 상기 데이터 배선의 단부를 노출시킨 제2 콘택홀에 형성된 화소 전극 패턴인 것을 특징으로 하는 표시 패널용 기판.
  9. 제1항에 있어서, 상기 복수의 검사 배선들은 제1 내지 제3 검사 배선을 포함하고,
    상기 제1 검사 배선은 3k-2 번째(k는 자연수임) 데이터 배선의 단부와 연결되며,
    상기 제2 검사 배선은 3k-1 번째 데이터 배선의 단부와 연결되며,
    상기 제3 검사 배선은 3k 번째 데이터 배선의 단부와 연결된 것을 특징으로 하는 표시 패널용 기판.
  10. 제9항에 있어서, 상기 제1 검사 배선은 검사 배선들의 외곽에 형성되고, 상기 데이터 배선과 동일한 층으로 형성된 것을 특징으로 하는 표시 패널용 기판.
  11. 제9항에 있어서, 상기 제1 검사 배선에 인접한 외곽에 상기 3k-2 번째 데이터 배선과 연결된 정전기 분산 배선을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널용 기판.
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