KR20000041579A - 선택적인 본딩 옵션 패드를 갖는 반도체 메모리 장치 - Google Patents

선택적인 본딩 옵션 패드를 갖는 반도체 메모리 장치 Download PDF

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KR20000041579A
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이중섭
이준근
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김영환
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Abstract

본 발명은 반도체 메모리 장치의 본딩 옵션 패드에 관한 것으로, 특히 다수의 기준전위에 선택적으로 본딩되는 다수의 본딩 옵션 패드를 배치하므로써 디바이스 동작시 노이즈와 무관하게 안정적으로 동작시키기 위한 선택적인 본딩 옵션 패드를 갖는 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 다수의 기준전위에 선택적으로 본딩되는 본딩 옵션 패드를 각각의 기준전위 리드 프레임에 본딩이 가능하도록 다수의 본딩 옵션 패드를 배치하므로써 온칩에 이용시 기존의 플로우팅 그라운트 스킴에 비해 내부 노이즈에 대한 영향이 없어 디바이스가 안정적으로 동작하며 제품의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.

Description

선택적인 본딩 옵션 패드를 갖는 반도체 메모리 장치
본 발명은 반도체 메모리 장치의 본딩 옵션 패드에 관한 것으로, 특히 다수의 기준전위에 선택적으로 본딩되는 다수의 본딩 옵션 패드를 배치하므로써 디바이스 동작시 노이즈와 무관하게 안정적으로 동작시키기 위한 선택적인 본딩 옵션 패드를 갖는 반도체 메모리 장치에 관한 것이다.
종래의 기술은 본딩 옵션 패드 하나를 이용하여 하이 기준전위에 본딩이 가능하도록 배치한 다음, 장치의 목적에 맞게 상기 본딩 옵션 패드를 하이 기준전위로 연결하여 사용하고자 할 때에는 하이 기준전위 즉 Vdd에 본딩을 하거나 로우 기준전위을 이용하고자 할 때에는 본딩 옵션 패드를 플로우팅(Floating)시켜 도 1에 도시한 바와 같이 내부적으로 플로우팅 그라운드 방식(Floating Ground Scheme)의 회로를 사용한다.
종래의 기술은 도 1에 도시된 바와 같이 본딩 옵션 패드를 로우 기준전위로 이용하고자 할 때에 본딩 옵션 패드를 플로우팅 상태로 두어, 파워업시 출력노드(6)가 그라운드로 래치되도록 하는 플로우팅 그라운드 방식을 사용하는데, 플로우팅 그라운드 방식은 Device 동작시 Noise가 내부 그라운드에 영향을 주어 오동작을 일으킬 수 있는 문제점이 있다.
본 발명은 상기한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 창안된 것으로, 본딩 옵션 패드를 하이 기준전위 리드 프레임과 로우 기준전위 리드 프레임에 본딩할 수 있게 배치하고 상기 본딩 옵션 패드들을 내부적으로 상호 메탈로 연결하여 하이 기준전위이든 로우 기준전위이든 언제나 어느 하나의 기준전위에 본딩을 할 수 있도록 한 것이다.
도 1은 종래기술에 따른 플로우팅 그라운드 회로도.
도 2는 본 발명의 일실시예 따른 선택적인 본딩 옵션 패드.
〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉
10 : 디바이스 칩 20, 34, 35, 49 : 본딩 선택 패드
100, 112 : 하이 기준전위 리드 프레임
113, 125 : 로우 기준전위 리드 프레임
50∼76 : 본딩 와이어 80, 81 : 메탈 레이어
21∼33, 36∼47 : 본딩 패드 101∼111, 114∼124 : 리드 프레임
상기 목적 달성을 위한 본 발명은 하나 또는 복수의 본딩 옵션 패드를 갖는 반도체 메모리 장치에 있어서,
다수의 기준전위에 선택적으로 본딩되는 본딩 옵션 패드를 각각의 기준전위 리드 프레임에 본딩이 가능하도록 다수의 본딩 옵션 패드를 배치하는 것을 특징으로 한다.
상술한 목적 및 기타의 목적과 본 발명의 특징 및 이점은 첨부도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통해 보다 분명해질 것이다.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 일실시예를 설명한다.
먼저, 본 발명에 대한 전체적인 구조를 살펴본다.
도 2에 도시되어 있는 바와 같이 디바이스 칩(10), 본딩 패드(21∼33 36∼48), 본딩 옵션 패드(20, 34, 35, 49), 메탈 레이어(80, 81), 본딩 와이어(50∼76), 그리고 리드 프레임(100∼125)으로 구성된다.
상기의 리드 프레임들중 100, 125, 112, 113은 기준전위 리드 프레임(Reference Potential Lead Frame)으로, 100과 112는 하이 기준전위(Vdd) 리드 프레임, 113과 125는 로우 기준전위(Vss) 리드 프레임이다.
상기의 본딩 옵션 패드들중 20 과 49 패드(200), 34 와 35 패드(300)는 서로 내부적으로 메탈 레이어(80, 81)로 연결하였고, 각각의 본딩 옵션 패드들은 기준전위 리드 프레임에 본딩이 가능하도록 배치하였다.
예를들어, 도 2에 도시된 바와 같이 200번 본딩 옵션 패드를 하이 기준전위에 본딩하고자 할 때에는 50번 본딩 와이어를 사용하여 20번 본딩 옵션 패드를 100번의 하이 기준전위 리드 프레임에 본딩한다.
한편, 200번 본딩옵션 패드를 로우 기준전위에 본딩하고자 할 때에는 49번 본딩 옵션 패드를 125번 로우 기준전위 리드 프레임에 본딩하면 된다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명의 선택적인 본딩 옵션 패드를 온칩에 이용하면, 기존의 플로우팅 그라운트 스킴에 비해 내부 노이즈에 대한 영향이 없어 디바이스가 안정적으로 동작하며 제품의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.
본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위한 것으로 당업자라면 첨부된 특허청구의 범위에 개시된 본 발명의 기술적 사상과 범위를 통해 각종 수정, 변경, 대체 및 부가가 가능할 것이다.

Claims (3)

  1. 하나 또는 복수의 본딩 옵션 패드를 갖는 반도체 메모리 장치에 있어서,
    다수의 기준전위에 선택적으로 본딩되는 본딩 옵션 패드를 각각의 기준전위 리드 프레임에 본딩이 가능하도록 다수의 본딩 옵션 패드를 배치하는 것을 특징으로 하는 선택적인 본딩 옵션 패드를 갖는 반도체 메모리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    각각의 기준전위 리드 프레임에 본딩되는 다수의 본딩 옵션 패드들은 내부적으로 메탈로 연결되는 것을 특징으로 하는 선택적인 본딩 옵션 패드를 갖는 반도체 메모리 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    각각의 기준전위 리드 프레임에 본딩되는 다수의 본딩 옵션 패드들은 플로우팅 조건이 되지 않게 항상 어느 기준전위이든 반드시 하나의 기준전위에 본딩이 되는 것을 특징으로 하는 선택적인 본딩 옵션 패드를 갖는 반도체 메모리 장치.
KR1019980057509A 1998-12-23 1998-12-23 선택적인 본딩 옵션 패드를 갖는 반도체 메모리 장치 KR20000041579A (ko)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100344838B1 (ko) * 2000-07-24 2002-07-20 주식회사 하이닉스반도체 본딩 옵션 회로
KR100476393B1 (ko) * 2002-06-24 2005-03-16 주식회사 하이닉스반도체 패키지 테스트 시간을 줄이기 위한 반도체 메모리 소자

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KR100344838B1 (ko) * 2000-07-24 2002-07-20 주식회사 하이닉스반도체 본딩 옵션 회로
KR100476393B1 (ko) * 2002-06-24 2005-03-16 주식회사 하이닉스반도체 패키지 테스트 시간을 줄이기 위한 반도체 메모리 소자

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