KR20000017060A - 전자파 필터 - Google Patents

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KR20000017060A
KR20000017060A KR1019990031932A KR19990031932A KR20000017060A KR 20000017060 A KR20000017060 A KR 20000017060A KR 1019990031932 A KR1019990031932 A KR 1019990031932A KR 19990031932 A KR19990031932 A KR 19990031932A KR 20000017060 A KR20000017060 A KR 20000017060A
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KR
South Korea
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electromagnetic wave
layer
wave filter
silver
electromagnetic
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KR1019990031932A
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오기노에쓰오
안자키도시아키
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이즈하라 요조
니폰 이타가라스 가부시키가이샤
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    • HELECTRICITY
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Abstract

플라즈마 방전에 의해 방출된 전자파를 차단하기 위해 플라즈마 디스플레이 앞면에 배치된 전자파 필터는 전자파 및 근적외선에 대한 차단성과 실제 사용에서 요구되는 내구성을 가진다. 투명한 전자파 차단막은 41 nm 두께의 산화 아연층, 11 nm 두께의 실버베이스층(silver base layer;은을 주성분으로 하는 층), 76 nm 두께의 산화 아연층, 12 nm 두께의 실버베이스층, 74 nm 두께의 산화 아연층, 12 nm 두께의 실버베이스층, 76 nm 두께의 산화 아연층, 11 nm 두께의 실버 베이스층, 및 39 nm 두께의 산화 아연층의 순서대로 스퍼트링에 의해 유리판의 한 측면에 증착함으로써 형성된다. PET 막은 점착층을 보호하기 위해 감압 점착층(a pressure-sensitive adhesive layer)과 함께 전자파 차단막에 점착된다. 전자파 차단막은 1.3

Description

전자파 필터{Electromagnetic wave filter}
본 발명은 플라즈마 방전에 의해 발생된 전자파를 제거하기 위해 플라즈마 디스플레이 패널 앞면에 적절히 사용되는 전자파 필터에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 전자파를 차단하기 위해 요구되는 성능 뿐만 아니라 고 가시광선 투과율(high visible light transmission)과 저 근적외선 투과율(low near infrared transmission)을 가지며 실제 사용에서 충분한 내구성을 가지는 전자파 필터에 관한 것이다. 전자파 필터는 음극선관(CRT) 또는 전계방출 디스플레이(FED)에서 방사된 전자파를 제거하기 위해서도 사용될 수 있다.
주 표면에 형성된 유리판과 전자파 차단막등의 투명 기판을 포함하는 가시 광선 영역의 공지된 투명한 전자파 필터는 유전체층과 금속층을 순서대로 교대로 증착시켜 그 위에 형성된 다층막과 투명 기판을 가지는 전자파 필터를 포함한다. 이러한 목적을 위해 사용되는 상기 전자파 차단막은 전자파로부터 보호하기 위한 전도성 물질(낮은 시트 저항을 가짐)에 증착시켜 얻어진 막이다. 투명한 금속 산화물같은 얇은 유전체층 및 얇은 실버층을 포함하는 다층막은 고 가시광선 투과율을 가지면서도 낮은 저항을 가지는 도체막으로서 알려져 있다.
JP-A-5-42624(여기서 사용된 "JP-A"용어는 일본특허공개공보를 의미)에는 유전체층들 사이에 끼워져 있는 실버층을 포함하는 구조를 가지는 열선(heat ray)차단막이 코팅된 유리판이 개시되어 있다. 상기 차단막에서, 실버층을 보호하는 유전체층은 산화 아연층 및 산화 주석층을 포함하는 2 개 이상의 층으로 구성된 다층구조를 갖는다. 열선 차단막이 전자부품 또는 윈도우에 전자파 차단막으로써 적용되어 질수 있는 효과에 대한 설명이 기술되어 있다.
JP-A-9-85893 에는 금속층으로서 적어도 0.3 원자 % 팔라듐을 함유하는 실버층 및, 유전체층으로서 알류미늄같은 금속을 함유하는 산화 아연층으로 구성된 다층막이 코팅된 유리판에 대한 설명이 개시되어 있다. 산화 아연층에 대한 금속의 첨가가 내부 응력을 줄여 실버층에 대한 점착성을 향상시켜 주는 효과가 개시되어 있다. 상기 막은 5-층 구조(두개의 실버층을 함유)로 구성되어 내습열성을 향상시킨다.
JP-A-8-104547 에는 절연 도장된 더블-글래이즈드 유닛(double-glazed unit)에 대한 열선 차단막이 개시되어 있다. 상기 차단막은 금속층으로서 두개의 실버층, 및 유전체층으로서 산화 주석층 및 산화 아연층으로 구성된 5-층 구조로 되어 있다. 그위에 형성된 차단막을 가지는 윈도우 유리에 의해 투과하거나 반사된 광이 무색이 되도록 유전체층의 두께를 조절하는 효과에 대한 설명이 개시되어 있다.
플라즈마 디스플레이 패널은 대형 화상 디스플레이로서 알려져 있지만, 고명도 디스플레이를 이루기 위해서는 강한 플라즈마 노출이 요구된다. 상기 플라즈마 디스플레이 패널은 노출 영역으로부터 패널 앞면으로 전자파 및 근적외선을 방사한다. 방사된 전자파는 인간의 신체에 해로운 영향을 미칠 가능성이 있다. 한편, 방사된 근적외선은 플라즈마 디스플레이 패널에 근접한 장비들의 원격 제어 수신기에서 근적외선이 검출되어 스위치를 오동작시키는 문제점을 가지고 있다.
상기 문제점을 해결하기 위해, 플라즈마 디스플레이 패널 앞면에 전자파 차단이 가능한 투명 물체를 증착하는 것이 제안되어 있다. 유전체층과 실버층이 교대로 배치되어 있는 다층구성의 전자파 필터가 플라즈마 디스플레이의 앞면에 부착되는 기술이 연구되어지고 있다. 상기 전자파 필터는 후술되는 모든 성능을 충족시켜야 한다.
(1) 전자파 차단 성능.
(2) 플라즈마 디스플레이 패널에 근접한 장비의 오작동 방지 및 장비의 리모컨 스위치의 원격 제어에 사용되는 근적외선 영역(800-900 nm)의 파장에서의 저 전자파 투과율 성능.
(3) 밝은 영상 디스플레이를 유지하기 위한 고 가시광선 투과율 성능.
(4) 공기에 노출된 상태에서의 필터의 사용으로 인한 내습열성등의 내구성.
상기 (2) 및 (3)을 동시에 만족하는 전자파 차단막을 얻기 위해서는, 가시 광선 영역에서는 고 광선 투과율 및, 근적외선 영역에서는 저 광선 투과율을 가질수 있게 설계되어야 한다. 즉, 가시 광선 영역과 근적외선 영역의 경계에서 투과율이 갑자기 하락하는 투과율 특성을 가져야 한다. 따라서 본 발명은 이러한 문제점들을 해결하고자 하는 것이다.
JP-A-5-42625에서 개시된 유리판 상의 열선 차단막에서, 보호층으로서 사용되는 유전체층은 산화 아연층 및 산화 주석층을 포함하는 2 개 이상의 다층으로 구성된다. 상기 구성 으로 인해, 상기 차단막은 내습열성등의 내구성이 탁월하다. 그러나, 상기 차단막은 하나의 실버층만 가지므로 전자파를 차단하기에는 충분하지 않다. 더우기, 종래의 차단막이 플라즈마 디스플레이 앞면에 사용될때, 근적외선 영역에서 고광선 투과율을 가지므로, 잘못된 원격제어를 방지하는데 비효과적이다.
JP-A-9-85893에서 개시된것처럼, 유리판에 형성된 다층구성막은 적어도 0.3 원자 % 팔라듐을 함유하고 있는 실버층이 금속층으로 사용되고 있고, 내부 응력을 줄이고 실버층에 점착을 향상시키기 위해 알루미늄등의 금속을 함유하는 산화 아연층이 유전체층으로 사용되고 있기 때문에 내습성열을 향상시킨다. 그러나 두 개의 실버층(전체 5 개의 층 중에서)을 함유하는 종래의 막은 플라즈마 디스플레이 패널의 차단막에 요구되는 (2) 및 (3)의 성능이 없다.
더나아가, JP-A-8-104547에서 개시된 열선 차단막은 두개의 실버층을 함유하는 5 층구조로 되어 있어 상기 동일 현상에 대해서 (2) 및 (3)의 성능이 없다.
본 발명의 목적은 플라즈마 디스플레이 패널의 앞면에서 방출되는 전자파 및 원격 제어기에서 사용되는 광선과 동일한 적외선을 차단하는 기능을 가진 전자파 필터를 제공하는 반면, 고 가시광선 투과율 및 실제 사용에서 충분한 내구성을 유지하는 것이다.
상기 문제점들을 해결하기 위한 연구의 결과로, 전자파 차단성, 근적외선 영역의 저 광선 투과율, 및 실제 내습열성을 가지도록 플라즈마 디스플레이 패널의 앞면에 배치된 전자파 필터에 요구되는 저항 값은 4개의 분리된 실버베이스층의 형성 및 상기 각각의 실버층에 팔라듐을 첨가해서 얻어짐을 알았다. 본발명은 이러한 사실에 기초 해서 성취되었다.
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널을 위한 전자파 필터에 있어서,
한 측면에 전자파 차단막이 코팅된 투명기판을 가진 전자파 차단판 및, 상기 전자파 차단막의 표면을 덮도록 상기 차단판에 형성된 보호막을 포함하며;
상기 전자파 차단막은 550 nm 의 파장에서 1.7 내지 2.7 의 반사계수를 가진 유전체층 과 실버베이스층(silver base layer)을 순서대로 투명기판상에 교대로 증착시켜 형성된 9 층구조를 가지며, 상기 실버베이스층 각각이 5 nm 내지 20 nm 의 두께를 가지므로, 850 nm 의 파장에서 15 % 이하의 근적외선 투과율 및 2/□ 이하의 시트 저항을 가지는 전자파 필터를 제공한다.
도1은 본 발명에 따른 전자파 필터의 한 실시예의 단면도.
도2는 본 발명에 따른 전자파 차단 필터의 층구조를 도시하는 단면도.
도3은 본 발명에 따른 실용상의 전자파 필터를 도시하는 단면도.
도4는 실시예(1)에서 얻어진 표본의 분광 투과율 특성곡선.
도5는 실시예(1)에서 얻어진 표본의 분광 반사율 특성곡선.
〈도면의 부호에 대한 설명〉
1:전자파 필터
2:전자파 차단막
3:감압 점착층(a pressure-sensitive adhesive layer)
4:PET 막
5:유리판
6:플라즈마 디스플레이 패널
7:프레임
8:버스-바(Bus-bar)
9:흑색 세라믹 패턴
10:유전체층
11:실버베이스층(silver base layer;은을 주성분으로 하는 층)
유전체층은 550 nm 의 파장에서 1.7 내지 2.7의 반사계수를 가지는 1개 이상의 투명 금속 산화물로 구성된다. 1.7 미만의 반사계수를 가지는 유전체가 사용된 경우, 산출된 전자파 필터는 너무 높은 반사율을 가지며, 2.7을 초과하는 반사계수를 가진 금속 산화물이 사용될 경우, 층의 증착은 투명기판의 고온 가열이 필요하고 상기 가열은 실버베이스층을 산화적으로 열화시킨다. 결론적으로, 유전체층의 반사계수는 1.7내지 2.7 이어야 한다.
실버층으로만 구성될때, 실버베이스층은 내습열성등의 실제 내후성은 불충분하다. 따라서, 팔라듐, 금, 니켈 또는 티타늄등의 금속은 실버의 비저항을 상당히 줄이지 않은 범위내에서 실버에 첨가될 수 있다. 특히, 상기 금속중에서 팔라듐이 더 양호한데, 그 이유는 소량의 첨가로 실제적인 레벨상에서 전자파 차단막의 내습열성을 향상시키기 때문이다.
실버베이스층의 각각 두께는 5 nm 내지 20 nm 이다. 그 이유는, 두께가 5 nm 미만이면 전자파 차단 성능을 보장하는 저시트저항의 확보가 어렵고, 20 nm 를 초과하면 확보된 전자파 필터가 너무 높은 반사 계수 및 너무 낮은 투과율을 가지기 때문이다.
양호한 일 실시예에서, 본 발명의 전자파 필터는 실버의 양을 기준으로 첨가금속으로서 팔라듐을 0.1 원자 % 이상 0.5 원자 % 미만의 양을 각각 함유한 실버베이스층을 가지는 필터이다. 팔라듐 함유량의 상기 하한값은 실제 사용에서 전자파 차단막이 충분한 내습열성을 가질수 있도록 결정한다. 상한값은 근적외선 차단 성능을 확보해서 잘못된 원격에러를 방지할수 있도록 결정된다.
본 발명의 발명자는, 실제적인 실험을 통해, 고 휘도 플라즈마 디스플레이 패널로부터 방사된 근적외선의 85%이상이 차단될때(예를 들면, 광선의 투과율이 15이하 일때) 잘못된 원격제어는 방지될수 있다는 것을 알게 되었다. 또한, 팔라듐 함유량이 증가 하면 상기 실버층의 차단성능이 줄어든다는 것도 알게 되었다.
전자파 차단막내의, 팔라듐의 함양이 많으면 내습열성의 향상과 근적외선 차단 성능의 향상 사이의 상관 관계가 성립한다. 두가지 성능의 실제적인 균형된 조합을 확보함에 있어서, 팔라듐 함유의 하한값은 양호하게는 0.10 원자 % 이고, 보다 양호하게는 0.3 원자 %이다. 반면에 상한값은 양호하게는 0.45 원자 % 이고, 보다 양호하게는 0.4 원자 %이다.
다른 양호한 실시예의 전자파 필터에서, 실버베이스층과 유전체층 각각은 상기 필터가 550 nm 의 파장에서 50 % 이상의 광투과율을 가지도록 제어된 두께를 갖는다. 이를 달성하기 위해, 네 개의 분리된 실버베이스층은 각각의 실버베이스층이 상기 층들의 각각의 두께를 조절하면서, 550 nm 의 파장에서 1.7 내지 2.7 의 반사계수를 가지는 유전체층들 사이에 끼워 지도록 형성된다. 상기 범위보다 작은 실버베이스층 두께를 선택하면, 보다 높은 가시광선 투과율이 얻어진다. 높아진 가시광선 투과율은 최적 및 서로 근접하는 두께를 가지도록 실버베이스층의 두께 조절에 의해서 얻어질수 있다
또 다른 양호한 실시예에서, 유전체층 및 실버베이스층 각각은 투명기판 측면에서 봤을 때, 전자파 필터 색도 좌표 a및 b의 값이 - 1 〈 a〈 4 및 -8 〈 b〈 1 을 만족하는 반사색조를 갖도록 하기 위해 제어된 두께를 가지는 전자파 필터이다. 상기 관계식에서, a및 b는 시랩(Cealab) 색좌표계의 두축을 표시한다.
각 유전체의 두께, 각 유전체의 두께 비율, 및 각 실버베이스층의 두께는 가시 광선 영역의 넓은 범위에 걸쳐 저 반사율이 발생하도록 선택되어 가시영역의 중심에서 반사율에 대해 중심파장을 조절하도록 선택된다. 그러므로, 상기 필터는 눈에 띄지 않는 반사색조를 가지도록 조절되어, 상기 색좌표계에 대한 관계식을 만족한다. 특히, 뚜렷한 적색조가 발생하지 않도록 상기 인자들을 조절하는 것이 바람직하다.
또 다른 양호한 실시예에서 전자파 필터는 7 nm 내지 17 nm 의 두께를 가지는 실버베이스층의 필터이다. 고 가시광선 투과율을 50 % 이상 충분히 얻기 위해서는, 각 실버베이스층의 두께는 17 nm 이하가 양호하다. 60 % 이상의 가시광선 투과율은 14 nm 이하의 두께를 조절해서 얻어진다. 한편, 충분한 저 근적외선 투과율 및 시트 저항의 충분한 감소에 의해 전자파 차단 성능을 얻기 위해서는, 실버베이스층의 두께가 7 nm 이상이면 양호하고, 9 nm 이상이면 보다 양호하다.
또 다른 실시예에서 전자파 필터는 실버베이스층의 전체 두께가 30 nm 내지 70 nm 의 필터이다. 전체 두께가 30 nm 미만인 실버베이스층은 전체 두께가 감소함에 따라 전자파 차단 성능과 적외선 차단 성능이 점차 감소하기 때문에 바람직하지 않다. 실버베이스층의 전체 두께가 70 nm 를 초과하면, 실버베이스층에 의한 광선 흡수로 인해 전체 두께가 증가함에 따라 가시광선 투과율이 감소하기 때문에 바람직 하지 않고, 이로 인해 밝은 화상을 얻기 어렵다.
또 다른 실시예에서 전자파 필터는 투명기판 측면에서 본 층 배열 순서에서 (9-10):(10-13):(10-13):(9-11)의 두께 비율을 가지는 실버베이스층의 필터이다. 가시광선 투과율을 높이고 가시광선 반사를 감소시키기 위해서는, 실버베이스층은 양호하게는 상기 범위내의 두께 비율을 가진다.
또 다른 실시예에서 전자파 필터는 투명기판에서 가장 가까이에 있는 두께가 42 nm ± 10 nm 인 유전체층 및, 투명기판 측면에서 본 층배열 순서에 따라서 두께 비율이 (44±4):(82±8):(79±8):(82±8):(42±4)인 유전체층을 함유하는 필터이다.
각 유전체층의 두께 및 유전체층의 두께 비율은 실버베이스층의 경우처럼 가시광선의 투과율 및 반사율에 영향을 미칠 뿐만 아니라, 반사색에도 상당한 영향을 미친다. 투명 기판에서 가장 가까운 유전체층의 두께 및 유전체층의 두께 비율을 상기 명시된 범위내에서 각각의 값을 조절함으로써, 550 nm 의 파장에서 광 투과율을 높이는 것이 가능(가시광선 투과율도 본 발명에서 높아진다)하고, 상기 파장에서 반사율을 줄이는 것이 가능하다. 동시에, 전자파 필터에 의해서 반사된 광이 실제 사용범위로 나타난 - 1 〈 a〈 4 및 - 8 〈 b〈 1 의 범위에서 눈에 띄지 않는색조를 갖도록 하는 것이 가능하다.
두께 선택은 투명 기판에서 가장 가까운 유전체층에 있어서 제일 중요한데, 그 이유는 다른 유전체층의 두께는 상기 유전체층의 두께를 기초로하여 결정되기 때문이다. 고 광투과율, 저 반사율 및 전자파 필터에서 요구되는 반사색조를 가지는 유용한 전자파 필터를 얻기 위해서는 투명 기판에서 가장 가까운 유전체층의 두께는 양호하게는 42 nm ± 10 nm 로 조절되어야 한다.
투명 기판에서 가장 가까운 유전체층의 두께가 상기 범위의 상한선을 초과해서 증가한다면, 투과율 영역 및 반사율 영역에서 중심 파장은 장파장측으로 옮겨진다. 한편, 유전체층의 두께가 상기 범위의 하한선 이하로 감소된다면, 투과율 영역 및 반사율 영역에서 중심 파장은 단파장측으로 옮겨진다. 이 경우, 가시광선 영역에서 고 광투과율 및 근적외선 차단 성능을 만족시키는 것은 어렵다; 본 발명의 목적 중 하나가 상기 두 성능을 만족하는 것이다.
손상되지 않은 밝은 영상 디스플레이를 유지하기 위해서는, 전자파 필터는 양호하게는 550 nm 의 파장에서 50 % 이상의 광 투과율을 가진다. 이를 달성하기 위해서, 4 개의 분리된 실버베이스층은 각각의 층의 두께를 조절하면서, 각 실버베이스층이 550 nm 의 파장에서 1.7 내지 2.7 의 반사계수를 가지는 유전체층 사이에 끼워지도록 형성된다.
또 다른 실시예에서 전자파 필터는 투명 기판에서 가장 멀리 있는 유전체층에 포개진 유전체층과 실버베이스층을 부가로 가지는 필터이다. 부가된 실버베이스층과 유전체층의 두께를 적절하게 선택함으로, 전자파 필터는 다섯개의 분리된 실버층 및 여섯개의 분리된 유전체층으로 구성될 수 있다. 그러므로, 상기 필터는 고도의 전자파차단 성능 및 1(/□)이하의 시트저항을 가질 수 있다.
본 발명에서 사용된 상기 유전체층은 550 nm 의 파장에서 1.7 내지 2.7 의 반사계수를 가지는 하나 이상의 유전체로 구성된다. 상기 유전체의 예로는 산화 아연, 산화 주석, 산화 인듐, 산화 티타늄, 산화 지르코늄 및 탄탈 펜톡사이드등의 금속 산화물이 있다. 상기 금속 산화물은 혼합해서 사용될 수 있다. 예를 들면, 산화 아연/산화 인듐 혼합물 또는 산화 인듐-주석(ITO)이 사용될 수 있다. 두개 이상의 투명 금속 산화물은 다층구성의 유전체층을 형성하기 위해 개별적으로 증착될수 있다.
상기 열거된 금속 산화물중에서, 전기적으로 도체인 산화 아연이 양호하다. 그 이유는 실버베이스층에 대한 언더코트(undercoat)로서 산화아연의 증착은 아연 산화물 결정격자의 피치(pitch)가 실버의 피치와 매우 유사하여 저 비저항(고 결정성을 가지는)을 가지는 실버막의 성장에 적당하기 때문이다. 산화 아연은 대기중의 실버-부식 가스에 함유된 황과 다른 성분을 흡착해서 황성분이 실버층에 직접적으로 도달하는 것을 방지하여 층을 보호하는 것이 바람직하다. 알루미늄 또는 갈륨 등의 소량의 다른 금속이 함유된 산화 아연을 포함하는 산화 아연 베이스층(zinc oxide base layer)은 전기적 도전성을 증가시키고 후술될 막형성 단계에서 유리하다. 산화 주석 및 산화 인듐-아연 복합물은 전기적으로 도체이고 부식 가스를 확실하게 막는 비결정질 막으로써 증착되므로, 전자파 차단막의 내습열성을 개선시킨다. 상기 산화물은 대기중에 있는 H2O,SO2,NOx,및 HCL 등의 부식 가스로 부터 실버층을 보호하는 관점에서 양호하다.
상기 이유 때문에, 본 발명에서 최외층의 유전체층 또는 각 유전체층은 산화 주석층 및 산화 아연층 또는, 산화 주석층 및 알루미늄을 함유한 산화 아연층(이하, ZAO로 칭함)으로 구성된 두개의 층을 가진다. 이 경우, 산화 아연층 또는 산화 아연 베이스층은 결정격자의 상기 상술된 관점으로부터, 실버층과 접촉하게될 언더코트로서 증착된다. 본 발명에서 사용된 보호막은 화학적 및 물리적으로 전자파 차단막을 공기등의 대기로부터 보호할 목적으로 증착된다. 보호막으로는 수지막이 있다. 수지막은 전자파 차단막 및 수지막 사이의 경계면에서 반사된 광을 조절하는 관점에서 보면 550 nm 의 파장에서 1.58 내지 1.7 의 반사계수를 가진다. 1.7 을 초과하는 수지막의 반사계수는 수지막과 전자파 차단막 사이에서 반사계수의 큰 차이 때문에 바람직하지 않고, 경계면 사이에서 발생하는 광 반사율은 증가하고, 전자파 필터의 광 투과율의 상당히 감소한다. 1.58 미만인 수지막의 반사계수는 사용자가 보는 반사된 광의 색이 자연색과 상당히 거리가 멀기 때문에 시각적 관점에서 바람직하지 못하다.
상기 수지막은 5 μm 내지 5 mm 의 광범위한 두께를 가질수 있다. 본 발명에서 사용될 수 있는 막 재료의 예로는 PET(polyethylene terephthalate), PE(polyester), TAC(triacetyl cellulose), PW(polyurethane)등이 있다.
본 발명에서, 수지막은 전자파 차단막에 점착력을 가지고 점착된다. 양호하게는, 감압(pressure-sensitive) 점착층을 통해 점착된다. 내구성 향상을 위해서 감압 아크릴 수지층이 좋다.
감압 점착층은 20 μm 내지 500 μm 의 두께를 가진다. 그 이유는 후술된다. 두께가 20 μm 미만이면, 수지막 장치가 완전히 제거되지 않았을 동안에 전자파 차단막과 점착층의 경계면에서 부가된 입자로 인해 레벨이 달라지고 육안으로 식별 가능한 정도의 결점이 생기는 경향이 있고, 두께가 500 μm 이상이면, 주위 환경으로부터 침투하는 습기를 막기가 어렵고, 전자파 차단막의 내구성을 저하시키기 때문이다.
본 발명에서 사용할수 있는 다른 형태의 보호막은 투명 금속 산화물층이다. 이 경우, 금속 산화물은 전자파 차단막의 표면에 직접적으로 증착된다. 사용할 수 있는 금속 산화물의 예로는 실리콘 디옥사이드와 산화 알루미늄등이 있다. 상기 금속 산화물 보호막은 내습열성 및 내마모성 등에 대하여 충분한 성능을 보장하는 관점에서 약 1 μm 이상의 두께를 갖는 것이 양호하다.
본 발명에서 사용될 수 있는 투명기판의 예로는 소다-석회 규산염 유리, 붕규산 유리 및 알카리가 없는 유리판등의 공지된 유리판과 PET, 아크릴(PMMA) 및 TAC 판등이 있다.
본 발명에서 유전체층, 실버베이스층 및 보호 금속 산화물막은 알려진 진공막 증착 기술에 의해서 형성된다. 스퍼터링이 매우 양호하다. 유전체층 중에는 알루미늄을 함유한 산화 아연층이 양호한데, 그 이유는 상기 산화물층은, 소정의 퍼센트의 산화 알루미늄양을 함유하는 우수한 산화 아연 파우더의 소결에 의해 얻어진 타겟을 사용하여, 직류 스퍼터링에 의해서 안정한 방전이 형성될 수 있기 때문이다. 실리콘 디옥사이드같은 두꺼운 보호막을 형성하기 위해서는, 공지된 트윈-매그(twin-mag) 스퍼터링 방법이 막을 고속으로 증착시킬수 있기 때문에 보다 적합하다.
막의 형성은 일반적으로 실온에서 이루어진다. 우수하게 개선된 결정체를 가진 실버를 증착시킬 목적으로, 상기 기판은 막이 형성되는 동안 약 300 ℃ 이하의 온도에서 적절히 가열된다. 상기 실내온도에서의 막 증착으로 얻어진 전자파 차단막은 유전체층에 의한 광흡수를 제거하고 실버층의 비저항을 줄이기 위해 대기중 또는 질소중에서 300 ℃ 이하로 가열하는 방법을 사용하는 것이 가능하다.
본 발명에서 전자파 차단막의 표면, 수지막의 외측 및 내측 표면, 또는 전자파 차단막으로 덮여지지 않은 투명기판의 측면등에, 무반사처리가 가능하므로 가시광선 투과율이 향상된다.
가시광색을 모으기 위한 색조막은 무색광에 보다 유사한 투과 광을 만드는데 사용될수 있다.
도1은 본 발명에 따른 전자파 필터(1)의 한 실시예의 단면도를 도시한다.
상기 필터(1)은 유리판(5), 상기 유리판(5)의 표면에 형성된 전자파 차단막(2) 및 대기로 부터 차단막(2)를 보호도록 감압 점착층(3)을 통해 차단막(2)에 점착된 수지막(4)을 포함한다. 실버 페이스트로부터 만들어진 접지를 위한 버스-바(8)는 상기 유리판(5)의 주변, 즉, 상기 유리판(5)과 상기 전자파 차단막(2)사이의 경계의 주변부에 공급된다. 더우기, 흑색 세라믹 패턴(9)은 상기 버스-바(8)가 상기 유리판(5)측면으로부터 노출되지 않도록 하기위해 상기 유리판(5)의 표면에 공급된다.
도2는 본 발명에 따른 상기 전자파 차단막의 층구성의 단면도를 도시한다.
유리판(5)에 형성된 상기 전자파 차단막(2)은 유전체층(10) 및 실버 베이스층(11)이 교대로 증착된 다층구조를 가진다. 상기 유전체층 각각은 상기 상술된 범위내의 반사 계수를 가지는 투명 금속 산화물 또는, 상기 투명 금속 산화물의 혼합물로 구성된 단일층 구조를 가지거나, 상기 금속 산화물의 두개 이상의 층으로 구성된 다층구조를 각각 가진다. 본 발명에서, 티타늄같은 실버층 및 상이한 금속층은 상기 광학층이 가시광선 투과율을 상당히 줄이지 않는한, 내구성 또는 색조 조절등을 향상시키기 위해 유전체층 및 실버베이스층 사이에 적절히 삽입된다.
도3은 실제 사용에서, 본 발명의 전자파 필터(1)구성의 개략적인 단면도를 도시한다.
상기 전자파 필터(1)은 프레임(7)에 의해 지탱되고 플라즈마 디스플레이 패널(6)앞면에 부착된다.
도4는 실시예(1)에서 얻어진 표본의 분광 투과율 특성곡선을 도시한다.
도5는 실시예(1)에서 얻어진 표본의 분광 반사율 특성곡선을 도시한다.
본 발명은 후술되는 실시예 및 비교예의 언급에 의해 보다 상세한 내용이 설명되지만, 본 발명이 이러한 실시예들에 의해서 한정되는 것처럼 해석되어서는 안된다.
테이블(1∼4)의 설명.
-유리판:소다-석회 규산염 조성을 가지는 2 mm 두께의 평평한 유리판.
-ZAO:6 중량(wt)% 의 알루미늄을 함유하는 산화 아연층.
-AgPd0.4:실버를 기준으로 해서 0.4 원자% 팔라듐을 함유하는 실버베이스층.
-( )안의 수치는 두께를 표시하는데, 단위는 전자파 차단막에서는 nm 이고, 점착층 및 보호층에서는 μm 이다.
-유전체층인 제 1 , 제 3 , 제 5 , 제 7 및 제 9 층의 각 층구조는 투명기판과으로 부터 거리의 증가에 따른 순서를 도시하는데, 예를 들면, 투명기판에 가장 가까운 조성층이 가장 먼저 도시된다.
테이블(5)의 설명
-시트 저항:측정은 4 단자법 저항계로 측정된다. 2/□ 이하의 시트저항 값은 ○ 로 표시되고, 2/□을 초과하는 값은 × 로 표시된다.
-근적외선 투과율: 투과율은 850 nm 의 파장에서 측정된다. 15 % 이하의 투과율 값은 ○ 로 표시되고, 15 % 를 초과하는 값은 × 로 표시된다.
-내습열성:전자파 필터는 60 ℃ 의 온도 및 90 % 습도의 환경에 놓이고, 힐럭스(hillocks), 핀홀스(pinholes), 또는 포깅(fogging)등의 육안으로 식별가능한 결점을 개선시키기 위해, 상기 필터에 요구되는 시간은 내습열성의 측정으로서 결정된다.
500 시간 이상의 시간기간은 ○ 로 표시되고, 500 시간을 초과하는 시간 기간은 × 로 표시된다.
테이블(6)의 설명.
광 투과율:투과율은 450 nm, 550 nm 및 650 nm에서 분광계로 각각 측정된다. 상기 각 파장에서 50 % 이상의 투과율을 가지는 필터는 ○ 로 표시되고, 그 외는 × 로 표시된다.
색조:투과된 광 및 유리측면으로 들어오는 광은 시랩 색좌표계의 두축인 a및 b의 값을 결정하기 위해 측정된다. - 1 〈 a〈 4 및 - 8 〈 b〈 1인 표본은 ○ 로 표시되고, 상기 범위외의 표본은 × 로 표시된다.
실시예(1)
테이블(1)의 컬럼안의 실시예(1)에서 설명된 다층구조는 인-라인 스퍼터링 시스템에 의해 2 mm 두께의 투명 유리판에 증착된다. SnO2층은 주석 금속 타게트 및 반응성 가스로는 산소를 사용하는 반응 스퍼터링에 의해서 증착된다. ZAO 층은 Zn (94 중량%) / Al (6 중량%) 금속 타게트 및 반응성 가스로는 산소를 사용하는 반응 스퍼터링에 의해서 증착된다. 실버베이스층은 Ag (99.6 중량%)/Pd (0.4 중량%)금속 타게트 및 아르곤 가스를 사용하는 스퍼터링에 의해서 증착된다. 각 층은 실내 온도에서 테이블(1)에 주어진 두께로 증착된다. 상기 형성된 다층막은 유전체층에 의한 광 흡수 제거와 실버층의 결정체를 개선하기 위해 대기중에서 200℃ 에서 30분간 열처리된다. 감압 점착층을 가지고 있는 무반사 PET 막은 결과적으로 형성된 전자파 차단막의 보호와 유리의 파손을 방지할 목적으로 상기 차단막의 표면에 적용된다. 그러므로, 4 개의 분리된 실버베이스층 및 5 개의 분리된 유전체층(4·5형태에 언급되어 있음)을 가지는 전자파 필터가 산출된다. 상기 필터의 특징은 테이블(5 , 6)에 설명되어 있다.
이러한 표본에서, 시트 저항과 근적외선 투과율의 내습열성은 전자파 필터로 사용함에 있어서 만족스럽게 평가된다. 또한, 투과율, 반사율 및 색조등의 광학적 특징은 전자파 필터로 사용됨에 있어서 만족스럽게 평가된다. 표본의 분광 투과율 특성곡선 및 분광 반사율 특성곡선은 도4 및 도5 에 각각 도시되어 있다. 대부분의 가시광선 영역에서 상기 반사율 곡선은 낮다는 것이 도시 되어 있다.
실시예 (2,3)
전자파 필터 표본(4·5 형태)은 실버베이스층의 팔라듐 함유량, 각 유전체층의 층구성 및 각 층의 두께가 다른것 중에서 하나를 제외하고는 실시예(1)의 동일한 방법으로 산출된다. 상기 표본의 각 층구조는 테이블(1)에 도시되어 있고, 특징은 테이블(5,6)에 설명되어 있다. 각 표본의 시트 저항, 근적외선 투과율 및 내습열성은 전자파 필터로 사용함에 있어서 만족스럽게 평가되었고, 투과율과 색조등의 광학적 특징은 전자파 필터로 사용함에 있어서 만족스럽게 평가되었다. 실시예(1∼3)에서 얻어진 전자파 필터는, 다층 광학막을 위한 컴퓨터 계산 프로그램의 계산을 기초로 형성된 다층의 전자파 차단막의 필터 표본중에서 본 발명의 목적에 대한 가장 적절한 특징을 가지는 필터 표본이다. 이러한 세개의 필터는 시트저항 및 내습열성에 의해 알려진 내구성에 관한 실제적인 요구사항을 만족시키고, 가시광선 영역에서 만족스러운 광학적 특징을 보여준다. 즉, 상기 필터들은 플라즈마 디스플레이에서 화상의 밝기를 상당히 감소시키지 않고, 반사광에 대한 색조도 만족시킨다.
실시예(4)
테이블(1)에 도시되어 있는, 각각 상대적으로 얇은 두께의 실버베이스층의 층구조를 가지는 전자파 필터 표본(4·5 형태)은 실시예(1)에 명시된 동일한 방법으로 산출된다. 테이블(5,6)에서 도시된 것처럼, 상기 표본의 적외선 투과율 및 내습열성은 전자파 필터로 사용됨에 있어서 만족스럽게 평가된다. 투과율 및 색조등의 광학적 특성에 관해서는, 상기 표본은 전자파 필터에서 실제적으로 요구되는 특징을 갖는다.
실시예(5)
테이블(2)에 도시된 층구조를 가지는 전자파 필터 표본(4·5 형태)은 실시예(1)에 명시된 동일한 방법으로 산출된다. 상기 표본의 실버베이스층은 비교적 두껍게 증착된다. 상기 표본의 시트 저항, 근적외선 투과율 및 내습열성은 전자파 필터로 사용됨에 있어서 만족스럽게 평가된다. 투과율, 반사율 및 색조등의 광학적 특징에 관해서는, 상기 표본은 전자파 필터에서 실제적으로 요구되는 특징을 갖는다.
실시예(6)
테이블(2)에 도시된 층구조를 가지는 전자파 필터 표본(4·5 형태)은 실시예(1)에 명시된 동일한 방법으로 산출된다. 상기 표본의 유전체층은 비교적 두껍게 증착된다. 테이블(5,6)에서 도시된 것처럼, 상기 표본의 시트 저항, 근적외선 투과율 및 내습열성은 전자파 필터로 사용됨에 있어서 만족스럽게 평가된다. 투과율, 반사율 및 색조등의 광학적 특징에 관해서는, 상기 표본은 전자파 필터에서 실제적으로 요구되는 특징을 갖는다.
실시예(7)
테이블(2)에 도시된 층구조를 가지는 전자파 필터 표본(4·5 형태)은 실시예(1)에 명시된 동일한 방법으로 산출된다. 상기 표본의 유전체층은 비교적 두껍게 증착된다. 테이블(5,6)에서 도시된 것처럼, 상기 표본의 시트 저항, 근적외선 투과율 및 내습열성은 전자파 필터로 사용됨에 있어서 만족스럽게 평가된다. 투과율, 반사율 및 색조등의 광학적 특징에 관해서는, 상기 표본은 전자파 필터에서 실제적으로 요구되는 특징을 갖는다.
실시예(8)
테이블(2)에 도시된 층구조를 가지는 전자파 필터 표본(5·6 형태)은 실시예(1)에 명시된 동일한 방법으로 산출되고, (11)층의 전자파 차단막을 가진다. 상기 표본의 유전체층은 비교적 두껍게 증착된다. 테이블(5,6)에서 도시된 것처럼, 상기 표본의 시트 저항, 근적외선 투과율 및 내습열성은 전자파 필터로 사용됨에 있어서 만족스럽게 평가된다. 투과율, 반사율 및 색조등의 광학적 특징에 관해서는, 상기 표본은 전자파 필터에서 실제적으로 요구되는 특징을 갖는다.
실시예(9)
실버베이스층의 팔라듐 함유량이 다른것을 제외하고는 유전체층 및 실버베이스층(층 두께는 동일하다)으로 구성된 동일한 다층구조를 가지는 전자파 차단막은 실시예(1)의 동일한 방법으로 형성된다. 이러한 차단막은 850 nm 파장에서의 투과율에 대해 측정되고, 결과는 테이블(7)에 도시되어 있다. 테이블(7)은 팔라듐 함유량이 증가함에 따라 850 nm 파장에서 투과율의 증가 즉, 근적외선 차단성능이 감소하는 것에 대해 명시한다. 달리, 내습열성은 팔라듐 함유량의 증가에 따라 보다 양호해진다.
상기 결과로 부터, 팔라듐 함유량은 근적외선을 차단하는 성능 및 내습열성사이에서 균형을 이루는 것을 알수 있다. 특히, 상기 두 성능의 균형된 조합을 보장하는 관점에서 보면, 실버베이스층에 함유된 팔라듐이 실버를 기준으로 해서 0.10 원자 % 이상이면 양호하고, 0.3 원자 % 이상이면 보다 양호하다. 상한선은 실버를 기준으로 해서 0.45 원자 % 이면 양호하고, 0.4 원자 % 이면 보다 양호하다.
비교예(1)
테이블(3)에 도시된 다층구조를 가지는 전자파 필터의 비교 표본(4·5 형태)은 실시예(1)에 명시된 동일한 방법으로 산출되고, 산출된 상기 비교 표본의 특징은 테이블(5, 6)에 상술되어 있다. 상기 표본의 실버베이스층은 1 원자 % 팔라듐을 함유하고 있다. 상기 표본이 1.8/□만큼 낮은 시트 저항을 가지더라도, 850 nm 파장에서 22 % 만큼 높은 투과율을 가진다(투과율 값이 적을수록 근적외선 차단 성능이 좋다). 상기 비교 표본은 실제적인 사용에 요구되는 모든 특징을 가지고 있지는 않다. 이는 상기 상술된 바와 같이, 전자파 차단 성능은 만족시킬지라도 팔라듐 함유량이 실버층내에서 높기 때문에 근적외선 차단 성능이 감소된다.
비교예(2)
테이블(3)에 도시된 다층구조를 가지는 전자파 필터의 비교 표본은 실시예(1)에 명시된 동일한 방법으로 산출되고, 산출된 상기 비교 표본의 특징은 테이블(5, 6)에 상술되어 있다. 상기 표본의 실버베이스층은 0.05 원자 % 팔라듐을 함유하고 있다. 상기 표본은 시트 저항과 근적외선 투과율을 만족한다. 그러나, 실버층의 내구성을 향상시키는데 사용되는 팔라듐의 양이 적기 때문에, 내습열성 테스트를 해보면, 384시간 이내에 전자파 차단막이 악화된다. 그러므로, 상기 표본은 전자파 필터가 요구하는 실제적인 성능이 없다.
비교예(3)
테이블(3)에 도시된 다층구조를 가지는 전자파 필터의 비교 표본은 실시예(1)에 명시된 동일한 방법으로 산출되고, 산출된 상기 비교 표본의 특징은 테이블(5, 6)에 상술되어 있다. 상기 표본의 다층구조는 3·4 형태이다. 상기 표본은 12 % 의 근적외선 투과율과 실제적으로 요구되는 근적외선 차단 성능을 가지고 있지만, 시트저항은 2.5/□이다. 즉, 상기 표본의 전자파 차단 성능이 불충분하다. 그러므로, 상기 비교의 전자파 필터는 실제 사용에서 필요한 특징을 모두 가지고 있지는 않다.
비교예(4)
테이블(3)에 도시된 다층구조를 가지는 전자파 필터의 비교 표본은 실시예(1)에 명시된 동일한 방법으로 산출되고, 산출된 상기 비교 표본의 특징은 테이블(5, 6)에 상술되어 있다. 상기 표본의 실버베이스층은 4 nm 만큼 두께가 작기 때문에, 상기 표본은 높은 근적외선 투과율과 4.2/□ 만큼 높은 시트 저항을 가진다. 그러므로 상기 비교 표본은 실제 사용에서 요구되는 근적외선 차단 성능과 전자파 차단 성능을 가지고 있지 않다.
비교예(5)
테이블(3)에 도시된 다층구조를 가지는 전자파 필터의 비교 표본은 실시예(1)에 명시된 동일한 방법으로 산출되고, 산출된 상기 표본의 특징은 테이블(5, 6)에 상술되어 있다. 상기 표본의 실버베이스층은 22 nm 에서 24 nm 만큼 두께가 크기 때문에, 상기 표본은 높은 근적외선 차단 성능(2 % 만큼 낮은 투과율)과 만족스러운 전자파 차단 성능(0.8/□ 만큼 낮은 시트 저항)을 가지지만, 550 nm 의 파장에서는 50 % 보다 낮은 투과율을 가지므로 상기 비교 표본은 실제 사용에서 요구되는 근적외선 차단 성능과 전자파 차단 성능을 모두 가지고 있지는 않다.
비교예(6)
테이블(3)에 도시된 다층구조를 가지는 전자파 필터의 비교 표본은 실시예(1)에 명시된 동일한 방법으로 산출되고, 산출된 상기 비교 표본의 특징은 테이블(5, 6)에 상술되어 있다. 상기 표본의 실버베이스층들은 각각 양호한 범위내에서 두께를 가지므로, 상기 표본은 만족할 만한 전자파 차단 성능(1.4/□ 만큼 낮은 시트 저항)을 가지지만, 유전체층이 너무 두껍기 때문에, 가시광선 영역의 투과율 사이에서 균형이 깨어진다. 즉, 상기 표본은 650 nm 의 파장(가시광선 영역에서 보다 긴 파장;붉은색에 대응하는 파장)에서 높은 투과율을 가지고, 보다 낮은 파장(파란색에 대응하는 파장)에서는 낮은 투과율을 가진다. 가시광선 영역에서 투과율 분포의 영향때문에, 850 nm 의 파장에서의 투과율은 17 % 만큼 높은 정도로서 낮지 않다. 즉, 상기 표본은 실제사용에서 요구되는 근적외선 차단능력을 가지고 있지 않다. 더우기, 상기 표본은 반사색조에 관한 값에서 알수 있듯이 뚜렷한 반사 색조를 가진다.
비교예(7)
테이블(3)에서 도시된 다층구조를 가지는 전자파 필터의 비교 표본은 실시예(1)에 명시된 동일한 방법으로 산출되고, 산출된 상기 비교 표본은 테이블(5, 6)에 상술되어 있다. 상기 표본의 실버베이스층들은 각각 양호한 범위내에서 두께를 가지므로, 상기 표본은 만족할 만한 전자파 차단성능(1.4/□ 만큼 낮은 시트 저항)을 가진다. 그러나, 상기 표본의 유전체층들은 비교예(6)의 층들에 비해 두께가 너무 얇기 때문에, 상기 표본은 가시광선 영역의 투과율사이에서 균형이 깨어진다. 즉, 450 nm 의 파장(가시광선 영역에서 낮은 파장;파란색에 대응하는 파장)에서는 높은 투과율 특성을 가지고, 보다 높은 파장(붉은색에 대응하는 파장)에서는 낮은 투과율 특성을 가진다. 결과적으로, 상기 표본은 반사색조에 관한 값에서 알수 있듯이 뚜렷한 색조를 가진다.
상기 실시예 및 비교예에서 상술된 것처럼, 본 발명에 따른 실시예에서 산출된 상기 필터 표본은 플라즈마 디스플레이 앞면에 증착될 전자파 필터에 요구되는, 근적외선 차단 성능과 가시광선 영역에서의 광학적 특징을 각각 만족하는 것으로 평가 되었다. 인간의 신체에 해로운 영향을 미치는 전자파가 전기적으로 도전된 재료에 의해 차단됨을 알수 있고, 상기 재료는 전자파를 차단하기 위한 수/□ 정도의 낮은 시트 저항을 가져야 된다. 상기 예에서 산출된 상기 필터 표본들은 각각 2/□ 이하의 시트 저항을 가지므로, 실제적인 사용에서 전자파 차단 성능을 가진다.
본 발명의 전자파 필터는 850 nm 의 파장에서 전자파 차단막이, 550 nm 의 파장에서 주어진 범위내의 반사계수를 가지는 유전체층과 각 실버베이스층이 5 nm에서 20 nm 의 두께로 조절되는 동안 투명기판에 배열되어 있는 실버베이스층이, 교대로 증착되어 형성된 9 층구조의 전자파 차단막의 구성에 의해, 2/□ 의 시트저항과 15 %의 근적외선 투과율을 가질수 있도록 조절된다.
상기 특징으로 인해, 본 발명의 전자파 필터가 플라즈마 디스플레이 패널 앞면에 설치될때, 상기 필터는 플라즈마 방전에 의해 발생되는 전자파 및 근적외선이 상기 패널로부터 앞으로 방사되는 것을 방지 할수 있다. 그러므로, 상기 필터는 플라즈마 디스플레이 패널에 근접한 전자장치의 잘못된 원격제어를 방지할수 있다.
본 발명의 상기 필터에서 실버베이스층은 소정의 팔라듐을 함유하기 때문에, 상기 필터는 적외선 차단 성능을 저하시킴 없이 유지하는 동안에 실용적인 내습열성을 가질수 있다.
더우기, 선정된 반사계수를 가질때 즉, 실버베이스층과 유전체층이 주어진 범위내의 두께를 가질때, 본 발명의 전자파 필터는 뚜렷한 반사 색조와 고 가시광선 투과율을 가지지 않는다. 상기 필터는 화상 디스플레이에서 밝기를 저하 시키지 않는다.
본 발명에 대한 특정 실시예를 참조로 설명하였지만, 본 기술 분야의 기술자에 의해 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않고 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.

Claims (16)

  1. 플라즈마 디스플레이 패널을 위한 전자파 필터에 있어서,
    한 측면에 전자파 차단막이 코팅된 투명기판을 가진 전자파 차단판 및, 상기 전자파 차단막의 표면을 덮도록 상기 차단판에 형성된 보호막을 포함하며;
    상기 전자파 차단막은 550 nm 의 파장에서 1.7 내지 2.7 의 반사계수를 가진 유전체층과 실버베이스층(silver base layer)을 순서대로 투명기판상에 교대로 증착시켜 형성된 9 층구조를 가지며, 상기 실버베이스층 각각이 5 nm 내지 20 nm 의 두께를 가지므로, 850 nm 의 파장에서 15 % 이하의 근적외선 투과율 및 2/□ 이하의 시트 저항을 가지는 전자파 필터.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 실버베이스층 각각이 실버를 기준으로 해서, 0.1 원자 % 이상 0.5 원자 % 미만의 팔라듐을 함유하는 전자파 필터.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 실버베이스층 및 상기 유전체층 각각은 상기 전자파 필터가 550 nm 의 파장에서 50 % 이상의 광 투과율을 가지는 전자파 필터.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 실버베이스층 및 상기 유전체층 각각은 상기 투명 기판 측면에서 봤을때, 상기 전자파 필터가 색도 좌표 a및 b의 값이 - 1 〈 a〈 4 및 - 8 〈 b〈 1 를 만족하는 반사색조를 가지도록 제어된 두께를 가지는 전자파 필터.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 실버베이스층 각각이 7 nm 내지 17 nm 의 두께를 가지는 전자파 필터.
  6. 제 4 항에 있어서, 상기 실버베이스층이 30 nm 내지 70 nm 의 전체 두께를 가지는 전자파 필터.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 실버베이스층이 상기 투명 기판측면으로 부터의 배열 순서로 (9-11):(10-13):(10-13):(9-11)의 두께 비율을 가지는 전자파 필터.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 투명 기판에 가장 근접한 상기 유전체층은 42 nm ± 10 nm의 두께를 가지며, 상기 유전체층은 상기 투명 기판측면으로 부터의 배열 순서로 (44±4):(82±8):(79±8):(82±8):(42±4)의 두께 비율을 가지는 전자파 필터.
  9. 제 8 항에 있어서, 투명 기판에서 가장 멀리 떨어져 있는 유전체층 위에 순서대로 포개진 상기 실버베이스층 및 투명한 유전체층을 부가로 가지는 전자파 필터.
  10. 제 7 항, 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서, 상기 유전체층 각각이 산화 아연 을 주성분으로 하는 산화 아연 베이스층을 가지는 전자파 필터.
  11. 제 10 항에 있어서, 상기 유전체층 각각이 산화 주석 베이스층과, 각각 인접한 실버 베이스층과 접촉하는 하나 이상의 산화 아연 베이스층을 포함하는 다층구조를 가지는 전자파 필터.
  12. 제 11 항에 있어서, 상기 유전체층이 최외층으로서 산화 주석층을 가지는 전자파 필터.
  13. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 보호막이 550 nm 의 파장에서 1.59 내지 1.69 의 반사 계수를 가지는 수지막인 전자파 필터.
  14. 제 13 항에 있어서, 상기 보호막이 20 μm 내지 500 μm 의 두께를 가지는 감압 점착층(a pressure-sensitive adhesive layer)을 통해 전자파 차단막에 부착되는 전자파 필터.
  15. 제 14 항에 있어서, 상기 투명 기판과 상기 전자파 차단막 사이의 상기 투명 기판의 주변부내에 접지 위치되고, 소결을 통해 실버 페이스트로 형성된 접지 전극을 가지는 전자파 필터.
  16. 제 15 항에 있어서, 투명 기판 측면에서 봤을때, 흑색 세라믹 패턴에 의해 접지 전극이 흑색 세라믹 패턴으로 숨겨지도록 상기 흑색 세라믹 패턴이 상기 접지 전극과 상기 투명 기판사이에 형성되는 전자파 필터.
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