KR102394984B1 - 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법 - Google Patents

표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법이 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 절연 기판, 상기 절연 기판을 관통하는 관통홀 및 상기 절연 기판을 덮는 유기층을 포함하되, 상기 관통홀을 둘러싸는 배리어 영역이 정의되고, 상기 배리어 영역에는 상기 유기층이 단절되는 단절부가 배치된다.

Description

표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법{DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME}
본 발명은 표시 장치 및 표시 장치의 제조방법에 대한 것이다.
디스플레이 장치들 중, 유기발광 디스플레이 장치는 시야각이 넓고 컨트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답속도가 빠르다는 장점을 가지고 있어 차세대 디스플레이 장치로서 주목을 받고 있다.
일반적으로 유기발광 디스플레이 장치는 기판 상에 박막트랜지스터 및 유기 발광 소자들을 형성하고, 유기 발광 소자들이 스스로 빛을 발광하여 작동한다. 이러한 유기발광 디스플레이 장치는 휴대폰 등과 같은 소형 제품의 디스플레이부로 사용되기도 하고, 텔레비전 등과 같은 대형 제품의 디스플레이부로 사용되기도 한다.
유기발광 디스플레이 장치 중에서도, 최근 플렉서블 디스플레이 장치에 관한 관심이 높아짐에 따라 이에 관한 연구가 활발히 진행되고 있다. 이러한 플렉서블 디스플레이 장치를 구현하기 위해서는 종래의 글라스재 기판이 아닌 합성 수지 등과 같은 재질의 플렉서블 기판을 이용한다. 이러한 플렉서블 기판은 플렉서블 특성을 갖기에, 제조공정 등에서 핸들링이 용이하지 않다는 문제점을 갖는다. 따라서 이러한 문제점을 해결하기 위해 충분한 강성(rigidity)을 갖는 지지기판 상에 플렉서블 기판을 형성하여 여러 공정을 거친 후, 플렉서블 기판을 지지기판으로부터 분리하는 과정을 거친다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 수분이 표시 영역으로 침투하는 것을 방지하는 표시 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 절연 기판, 상기 절연 기판을 관통하는 관통홀 및 상기 절연 기판을 덮는 유기층을 포함하되, 상기 관통홀을 둘러싸는 배리어 영역이 정의되고, 상기 배리어 영역에는 상기 유기층이 단절되는 단절부가 배치된다.
또한, 상기 배리어 영역 상에 배치되는 적어도 하나의 그루브를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 그루브는 서로 이격되는 제1 측벽, 제2 측벽을 포함하고, 상기 단절부는 상기 제1 측벽에서 형성될 수 있다.
또한, 상기 제1 측벽과 상기 제2 측벽의 기울기는 동일할 수 있다.
또한, 상기 유기층을 덮는 전극을 더 포함하고, 상기 단절부에서 상기 전극은 단절될 수 있다.
또한, 상기 전극은 상기 제1 측벽과 접촉하고, 상기 제2 측벽과는 접촉하지않을 수 있다.
또한, 상기 절연 기판에 화상을 표시하는 표시 영역과 상기 표시 영역의 외측에 배치되는 비표시 영역이 정의되고, 상기 관통홀은 상기 표시 영역에 형성될 수 있다.
또한, 상기 절연 기판은 순차적으로 적층되는 제1 기판, 무기층 및 제2 기판을 포함하고, 상기 그루브는 상기 제2 기판에 형성될 수 있다.
또한, 상기 그루브의 평면 형상은 상기 관통홀을 둘러 싸는 링 형상일 수 있다.
또한, 상기 배리어 영역의 외측에 상기 배리어 영역을 둘러싸는 댐 영역이 정의되고, 상기 댐 영역에 형성되는 적어도 하나의 댐을 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 댐은 제1댐 및 상기 제1 댐과 이격되는 제2댐을 포함할 수 있다.
또한, 상기 절연 기판에 화상을 표시하는 표시 영역과 상기 표시 영역의 외측에 배치되는 비표시 영역이 정의되고, 상기 관통홀은 상기 표시 영역에 형성될 수 있다.
또한, 상기 표시 영역은 제1 전극 및 상기 제1 전극과 대향하는 제2 전극을 포함하고, 상기 유기층은 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 배치될 수 있다.
또한, 상기 유기층은 유기 발광층을 포함할 수 있다.
또한, 상기 절연 기판에 화상을 표시하는 표시 영역과 상기 표시 영역의 외측에 배치되는 비표시 영역이 정의되고, 상기 관통홀은 상기 비표시 영역에 형성될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법은 캐리어 기판 상에 배치되며, 제1 영역, 제2 영역 및 제3 영역이 정의된 절연 기판의 상기 제1 영역에 적어도 하나의 댐을 형성하는 단계, 상기 제3 영역에 제1 방향으로 레이저를 조사하여 레이저 커팅부를 형성하는 단계, 상기 제2 영역에 상기 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 레이저를 조사하여 상기 절연 기판에 적어도 하나의 그루브를 형성하는 단계 및 상기 그루브를 적어도 부분적으로 덮는 유기층을 형성하는 단계를 포함하되, 상기 제2 영역에는 상기 유기층이 단절되는 단절부가 형성된다.
또한, 상기 캐리어 기판을 탈착시키고, 상기 절연 기판 하부에 보호 필름을 부착시키는 단계를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 제3 영역에 대응하는 상기 보호 필름을 커팅하여 관통홀을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 그루브는 서로 이격되는 제1 측벽 및 제2 측벽을 포함하고, 상기 단절부는 상기 제1 측벽에서 형성될 수 있다.
또한, 상기 유기층을 덮는 전극을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예들에 의하면 적어도 다음과 같은 효과가 있다.
수분이 표시 영역에 침투하여 표시 불량을 야기하는 것을 방지할 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 배치도이다.
도 2는 도 1의 'A' 부분을 확대한 확대도이다.
도 3은 도 2의 Ⅰ-Ⅰ' 라인을 따라 절단한 단면도이다.
도 4는 도 2의 Ⅱ-Ⅱ'라인을 따라 절단한 단면도이다.
도 5는 도 3의 일 부분을 확대한 부분 확대도이다.
도 6은 도 3의 일 부분을 확대한 부분 확대도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 배치도이다.
도 9는 도 8의 'B' 부분을 확대한 확대도이다.
도 10은 도 9의 Ⅲ-Ⅲ' 라인을 따라 절단한 단면도이다.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 배치도이다.
도 12는 도 11의 'C' 부분을 확대한 확대도이다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도이다.
도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도이다.
도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 평면도이다.
도 16은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도이다.
도 17은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도이다.
도 18은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도이다.
도 19는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도이다.
도 20은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 평면도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이며, 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위해 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수 있음은 물론이다.
이하, 첨부된 도면을 참조로 하여 본 발명의 실시예들에 대해 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 배치도이다. 도 2는 도 1의 'A' 부분을 확대한 확대도이다. 도 3은 도 2의 Ⅰ-Ⅰ' 라인을 따라 절단한 단면도이다. 도 4는 도 2의 Ⅱ-Ⅱ'라인을 따라 절단한 단면도이다. 도 5는 도 3의 일 부분을 확대한 부분 확대도이다.
도 1 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 절연 기판(500), 절연 기판(500)을 관통하는 관통홀(H) 및 절연 기판(500)을 덮는 유기층(EL)을 포함한다.
절연 기판(500)은 제1 기판(501) 및 제2 기판(502)을 포함할 수 있다. 일 실시예에서 제1 기판(501) 및/또는 제2 기판(502)은 폴리이미드(polyimide), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET, polyethylene terephthalate), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylene naphtalate), 폴리아릴레이트(PAR, polyarylate) 및 폴리에테르이미드(polyetherimide)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 선택된 둘 이상을 포함하여 이루어질 수 있다.
다만, 이는 예시적인 것으로 제1 기판(501) 및 제2 기판(502) 의 재질이 이에 제한되는 것은 아니다.
다른 실시예에서 절연 기판(500)은 금속이나 유리 등의 재료를 포함할 수도 있다.
일 실시예에서 절연 기판(500)은 가요성 기판일 수 있다. 다시 말하면, 절연 기판(500)은 벤딩(bending), 롤링(rolling) 및 폴딩(folding)이 가능한 플렉서블(flexible) 기판일 수 있다.
일 실시예에서 절연 기판(500)은 순차적으로 적층된 제1 기판(501), 무기층(400) 및 제2 기판(502)을 포함할 수 있다. (도 3 참조)
절연 기판(500)이 가요성 기판인 실시예에서 제1 기판(501) 및 제2 기판(502)은 폴리이미드(PI, Polyimide)를 포함하여 이루어질 수 있다.
일 실시예에서 무기층(400)은 실리콘 옥사이드(SiOx), 실리콘 나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥시나이트라이드(SiONx)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 포함하여 이루어질 수 있다.
절연 기판(500) 상에는 표시 영역(DA)과 비표시 영역(NDA)이 정의될 수 있다. 표시 영역(DA)은 화상을 표시하는 영역이고, 비표시 영역(NDA)은 표시 영역(DA)의 외측에 배치되며, 표시 영역(DA)이 화상을 표시할 수 있도록 각종 신호선이나 전원선이 배치되는 영역일 수 있다.
표시 영역(DA)에는 복수의 화소(도시하지 않음)가 정의될 수 있으며, 하나의 화소 안에는 적어도 하나의 박막 트랜지스터와 유기발광소자가 배치될 수 있다. 이에 대한 구체적인 설명은 뒤에서 자세히 하기로 한다.
비표시 영역(NDA)의 일측에는 구동집적회로(IC)가 배치될 수 있다. 구동집적회로(IC)는 절연 기판(500)에 직접 실장될 수 있다. 도 1에서는 구동집적회로(IC)가 하나인 경우를 도시하고 있으나, 구동집적회로(IC)의 수가 이에 제한되는 것은 아니며, 다른 실시예에서 구동집적회로(IC)는 복수일 수 있다.
구동집적회로(IC)는 복수의 스캔 신호 및/또는 복수의 데이터 신호를 생성하여 표시 영역(DA)의 화소에 제공할 수 있다. 이를 위해 절연 기판(500) 상에는 구동집적회로(IC)와 화소를 전기적으로 연결하는 복수의 신호 라인(도시하지 않음)이 배치될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 절연 기판(500)을 관통하는 관통홀(H)을 포함할 수 있다.
다시 말하면, 관통홀(H)은 절연 기판(500)의 상면과 하면에 개구부를 형성할 수 있다.
일 실시예에서 관통홀(H)은 표시 영역(DA) 내측에 배치될 수 있다. 이하에서는 도 2를 참조하여 관통홀(H) 및 관통홀(H)과 인접한 구성에 대해 설명하기로 한다.
먼저 관통홀(H)이 차지하는 영역인 홀 영역(HA)이 정의된다. 일 실시예에서 관통홀(H)의 평면 형상은 원형일 수 있다. 다만, 이는 예시적인 것으로 관통홀(H)의 평면 형상이 이에 제한되는 것은 아니다. 다른 실시예에서 관통홀(H)의 평면 형상은 다각형 또는 타원일 수 있다. 또 다른 실시예에서 관통홀(H)의 평면 형상은 직선 및 곡선을 포함하는 형상일 수 있다.
배리어 영역(BA)은 관통홀(H)을 둘러싸는 영역으로 정의될 수 있다. 관통홀(H)의 평면 형상이 원형인 실시예에서 배리어 영역(BA)의 외측 경계는 원일 수 있다. 다시 말하면, 배리어 영역(BA)의 외측 경계는 관통홀(H)의 외측 경계와 동심원을 이룰 수 있다.
배리어 영역(BA)에는 적어도 하나의 그루브가 배치될 수 있다.
일 실시예에서 배리어 영역(BA)에는 제1 그루브(GR1), 제2 그루브(GR2) 및 제3 그루브(GR3)가 형성될 수 있다. 제1 그루브(GR1), 제2 그루브(GR2) 및 제3 그루브(GR3)는 관통홀(H)을 둘러싸도록 배치될 수 있다. 다시 말하면, 제1 그루브(GR1), 제2 그루브(GR2) 및 제3 그루브(GR3)의 평면 형상은 관통홀(H)을 둘러싸는 링(Ring) 형상을 가질 수 있다.
도 2는 배리어 영역(BA)에 제1 그루브(GR1), 제2 그루브(GR2) 및 제3 그루브(GR3)가 배치되는 경우를 도시하지만, 그루브의 개수가 이에 제한되는 것은 아니다. 다른 실시예에서 그루브는 하나일 수 있으며, 또 다른 실시예에서 그루브는 4개 이상일 수 있다.
일 실시예에서 관통홀(H)의 외측에는 제1 그루브(GR1), 제2 그루브(GR2) 및 제3 그루브(GR3)가 순차적으로 배치될 수 있다. 관통홀(H)이 원형인 예시적인 실시예에서 제1 그루브(GR1), 제2 그루브(GR2) 및 제3 그루브(GR3)의 평면 형상은 관통홀(H)의 중심을 중점으로 한 동심원 형상을 가질 수 있다.
댐 영역(D)은 배리어 영역(BA)을 둘러싸는 영역으로 정의될 수 있다. 댐 영역(D)에는 적어도 하나의 댐이 배치될 수 있다. 일 실시예에서 댐 영역(D)에는 제1댐(D1) 및 제2댐(D2)이 배치될 수 있다. 도 2는 댐 영역(D)에 두 개의 댐이 형성되는 경우를 예시하나 댐의 개수가 이에 제한되는 것은 아니다. 다른 실시예에서 댐은 한 개거나, 3개 이상일 수 있다.
앞서 설명한 바와 같이 관통홀(H)은 표시 영역(DA)의 내측에 배치될 수 있다. 관통홀(H)이 표시 영역(DA)의 내측에 배치되는 예시적인 실시예에서 댐 영역(D)의 외측에는 표시 영역(DA)이 배치될 수 있다.
이하에서는 도 3 및 도 4를 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 단면 형상에 대해 설명하기로 한다.
앞서 설명한 바와 같이 절연 기판(500)은 플렉서블 기판일 수 있다. 일 실시예에서 절연 기판(500)은 순차적으로 적층된 제1 기판(501), 무기층(400) 및 제2 기판(502)을 포함할 수 있으며, 제1 기판(501)과 제2 기판(502)은 폴리이미드(PI, Polyimide)를 포함할 수 있다.
제2 기판(502) 상에는 버퍼층(100)이 형성될 수 있다. 일 실시예에서 버퍼층(100)은 표시 영역(DA) 및 댐 영역(D) 상에 형성될 수 있다. 버퍼층(100)은 홀 영역(HA)에는 형성되지 않으며, 배리어 영역(BA)에는 부분적으로 형성되거나, 형성되지 않을 수 있다.
버퍼층(100)은 제2 기판(502) 하부로부터 제공되는 불순물이 제2 기판(502) 상부로 침투하는 것을 방지하는 역할 및 제2 기판(502)의 상면을 평탄화하는 역할을 할 수 있다.
일 실시예에서 버퍼층(100)은 실리콘 옥사이드, 실리콘 나이트라이드, 실리콘 옥시나이트라이드, 알루미늄옥사이드, 알루미늄나이트라이드, 티타늄옥사이드 또는 티타늄나이트라이드로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하여 이루어질 수 있다.
다른 실시예에서 버퍼층(100)은 폴리이미드, 폴리에스테르 및 아크릴로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하여 이루어질 수 있다.
또한, 도 3은 버퍼층(100)이 단일층인 경우를 도시하나, 버퍼층(100)의 구조가 이에 제한되는 것은 아니고, 다른 실시예에서 버퍼층(100)은 복수의 기능막이 적층된 적층막일 수 있다.
버퍼층(100) 상에는 반도체 패턴층(700)이 배치될 수 있다. 일 실시예에서 반도체 패턴층(700)은 비결정 실리콘 또는 폴리 실리콘과 같은 무기 반도체를 포함할 수 있다. 다른 실시에에서 반도체 패턴층(700)은 유기 반도체 또는 산화물 반도체를 포함할 수 있다.
일 실시예에서 반도체 패턴층(700)은 소스 영역(도시하지 않음) 및 드레인 영역(도시하지 않음)을 포함할 수 있다. 후술하는 소스 전극(SE)은 반도체 패턴층(700)의 소스 영역에, 드레인 전극(DE)은 드레인 영역과 전기적으로 연결될 수 있다.
반도체 패턴층(700) 상에는 게이트 절연막(GI)이 배치될 수 있다. 게이트 절연막(GI)은 표시 영역(DA) 및 댐 영역(D) 상에 형성될 수 있다. 게이트 절연막(GI)은 홀 영역(HA)에는 형성되지 않으며, 배리어 영역(BA)에는 부분적으로 형성되거나, 형성되지 않을 수 있다.
일 실시예에서 게이트 절연막(GI)의 단부와 버퍼층(100)의 단부는 서로 정렬될 수 있다. 즉 도 3에 도시된 바와 같이 게이트 절연막(GI)의 일 측벽과 버퍼층(100)의 일 측벽은 서로 정렬될 수 있다.
일 실시예에서 게이트 절연막(GI)은 실리콘 나이트라이드, 실리콘 옥사이드 및 실리콘 옥시나이트라이드로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 포함하여 이루어질 수 있다.
게이트 절연막(GI) 상에는 게이트 전극(GE)이 배치될 수 있다. 게이트 전극(GE)은 예컨대, 알루미늄 합금을 포함하는 알루미늄(Al) 계열의 금속, 은 합금을 포함하는 은(Ag) 계열의 금속, 구리 합금을 포함하는 구리(Cu)계열의 금속, 몰리브덴 합금을 포함하는 몰리브덴(Mo) 계열 금속, 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 및 탄탈륨(Ta) 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.
게이트 전극(GE) 상에는 게이트 전극(GE)을 덮는 층간 절연막(ILD)이 배치될 수 있다. 층간 절연막(ILD)은 표시 영역(DA) 및 댐 영역(D) 상에 형성될 수 있다. 층간 절연막(ILD)은 홀 영역(HA)에는 형성되지 않으며, 배리어 영역(BA)에는 부분적으로 형성되거나, 형성되지 않을 수 있다.
일 실시예에서 층간 절연막(ILD)의 단부와 게이트 절연막(GI)의 단부는 서로 정렬될 수 있다. 다시 말하면, 층간 절연막(ILD)의 일 측벽과 게이트 절연막(GI)의 일 측벽은 서로 정렬될 수 있다. 이 경우, 층간 절연막(ILD), 게이트 절연막(GI) 및 버퍼층(100)의 측벽은 서로 정렬될 수 있다.
도 3 및 도 4는 층간 절연막(ILD)이 단일막인 경우를 예시하나 이는 예시적인 것으로 이에 제한되지 않는다. 즉, 다른 실시예에서 층간 절연막(ILD)은 둘 이상의 기능층을 갖는 적층막일 수 있다.
층간 절연막(ILD) 상에는 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)이 배치된다. 구체적으로, 층간 절연막(ILD)이 반도체 패턴층(700)의 소스 영역 및 드레인 영역을 노출시키고, 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)은 노출된 부분을 통해 반도체 패턴층(700)과 접촉할 수 있다. 이를 통해, 소스 전극(SE)과 드레인 전극(DE)은 각각 반도체 패턴층(700)과 전기적으로 연결될 수 있다.
즉, 게이트 전극(GE)과 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)이 모여 하나의 박막 트랜지스터를 이룰 수 있다.
상술한 박막 트랜지스터는 유기 발광 소자(OLED)를 구동하는 구동 트랜지스터일 수 있다.
도 3은 반도체 패턴층(700) 상에 게이트 전극(GE)이 배치되는 탑 게이트(top gate) 방식의 표시 장치를 도시하나, 이에 제한되는 것은 아니며, 다른 실시예에서 표시 장치는 게이트 전극(GE)이 반도체 패턴층(700) 하부에 배치되는 바텀 게이트(bottom gate) 방식을 채용할 수도 있다.
소스 전극(SE), 드레인 전극(DE) 및 층간 절연막(ILD) 상에는 패시베이션막(600)이 배치될 수 있다. 패시베이션막(600)은 층간 절연막(ILD)을 부분적으로 덮을 수 있다. 또한, 패시베이션막(600)은 드레인 전극(DE)을 부분적으로 노출시키도록 형성될 수 있다.
패시베이션막(600) 상에는 제1 전극(201), 유기층(EL) 및 제2 전극(202)이 배치될 수 있다. 제1 전극(201), 유기층(EL) 및 제2 전극(202)이 모여 하나의 유기 발광 소자를 이룰 수 있다.
일 실시예에서 제1 전극(201)은 애노드(Anode) 전극일 수 있다. 제1 전극(201)은 패시베이션막(600) 상에 형성되며 패시베이션막(600)에 의해 노출된 드레인 전극(DE)과 접촉할 수 있다. 즉 제1 전극(201)은 드레인 전극(DE)과 전기적으로 연결될 수 있다.
일 실시예에서 제1 전극(201)은 은 반사 전극일 수 있으며, Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir 및 Cr로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 반사막과 반사막 상에 형성된 투명 또는 반투명 전극을 포함할 수 있다.
투명 또는 반투명 전극은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO(Zinc Oxide), In2O3(Indiu, Oxide), (IGO, Indium Gallium Oxide) 및 AZO(Aluminum Zinc Oxide)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 포함하여 이루어질 수 있다.
제1 전극(201) 상에는 절연물로 이루어진 화소 정의막(PDL)이 배치될 수 있다. 화소 정의막(PDL)은 제1 전극(201)의 적어도 일부를 노출할 수 있다.
화소 정의막(PDL)과 제1 전극(201) 상에는 유기층(EL)이 배치될 수 있다. 유기층(EL)은 저분자 또는 고분자 유기물로 이루어진 유기 발광층을 포함할 수 있다.
일 실시예에서 유기 발광층은 적색, 녹색 및 청색으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 빛을 발광할 수 있다.
또한 일 실시예에서 유기층(EL)은 홀 수송층(HTL, Hole Transfer Layer), 홀 주입층(HIL, Hole Injection Layer), 전자 수송층(ETL, Electron Transfer Layer) 및 전자 주입층(EIL, Electron Injection Layer)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 층을 더 포함할 수 있다.
일 실시예에서 유기층(EL)은 절연 기판(500)을 적어도 부분적으로 덮도록형성될 수 있다. 다시 말하면, 유기층(EL)은 표시 영역(DA), 댐 영역(D) 및 배리어 영역(BA)을 적어도 부분적으로 덮을 수 있다.
유기층(EL) 상에는 제2 전극(202)이 배치될 수 있다. 일 실시예에서 제2 전극(202)은 캐소드(Cathode) 전극일 수 있다.
일 실시예에서 제2 전극(202)은 전면 전극으로서, 절연 기판(500) 상에 전면적으로 배치될 수 있다.
제2 전극(202)은 유기층(EL)을 덮을 수 있다. 유기층(EL)이 표시 영역(DA), 비표시 영역(NDA), 댐 영역(D) 및 배리어 영역(BA)을 덮는 실시예에서 제2 전극(202)은 유기층(EL)과 같이 표시 영역(DA), 비표시 영역(NDA), 댐 영역(D) 및 배리어 영역(BA)을 덮을 수 있다.
일 실시예에서 제2 전극(202)은 투명 전극 또는 반투명 전극일 수 있다. 일 실시예에서 제2 전극(202)은 Li. Ca, Lif/Ca, LiF/Al, Al, Ag, Mg로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 포함할 수 있다. 또한, 제2 전극(202)은 일함수가 낮은 금속 박막으로 이루어질 수 있다.
일 실시예에서 투명 또는 반투명 전극은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO(Zinc Oxide), In2O3(Indiu, Oxide), (IGO, Indium Gallium Oxide) 및 AZO(Aluminum Zinc Oxide)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 포함하여 이루어질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 유기층(EL)에서 발생한 빛이 제2 전극(202) 쪽으로 출사되는 전면 발광형 표시 장치일 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치는 유기층(EL)에서 발생한 빛이 제1 전극(201)쪽으로 출사되는 배면 발광형 표시 장치일 수 있다. 이 경우, 제2 전극(202)은 반사 전극으로 이루어지고, 제1 전극(201)은 투명 또는 반투명 전극으로 이루어질 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치는 유기층(EL)에서 발생한 빛이 제1 전극(201) 및 제2 전극(202) 쪽으로 출사되는 양면발광형 표시 장치일 수 있다.
제2 전극(202) 상에는 봉지막(300)이 배치될 수 있다. 일 실시예에서 봉지막(300)은 제1 무기막(301), 제1 유기막(302) 및 제2 무기막(303)을 포함할 수 있다.
. 제1 무기막(301)은 실리콘 옥사이드(SiOx), 실리콘 나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥시나이트라이드(SiONx)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 포함하여 이루어질 수 있다.
도 3 및 도 4는 제1 무기막(301)이 단일층인 경우를 예시하지만, 제1 무기막(301)의 구조가 이에 제한되는 것은 아니다. 다른 실시예에서 제1 무기막(301)은 복수의 기능막이 적층된 적층막일 수 있다.
일 실시예에서 제1 무기막(301)은 실리콘 옥사이드(SiOx)로 이루어진 막과 실리콘 나이트라이드(SiNx)로 이루어진 막이 교번하여 적층된 적층막일 수 있다. 제1 무기막(301) 상에는 제1 유기막(302)이 배치될 수 있다. 제1 유기막(302)은 제1 무기막(301) 상에 형성되며, 화소 정의막(PDL)에 의한 단차를 평탄화할 수 있도록 일정 두께, 예컨대, 약 30000Å의 두께로 형성될 수 있다.
일 실시예에서 제1 유기막(302)은 에폭시, 아크릴레이트 또는 우레탄아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 포함하여 이루어질 수 있다.
제1 유기막(302) 상에는 제2 무기막(303)이 배치될 수 있다. 제2 무기막(303)은 실리콘 옥사이드(SiOx), 실리콘 나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥시나이트라이드(SiONx)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 포함하여 이루어질 수 있다.
도 3은 제2 무기막(303)이 단일층인 경우를 예시하지만, 제2 무기막(303)의 구조가 이에 제한되는 것은 아니다. 다른 실시예에서 제2 무기막(303)은 복수의 기능막이 적층된 적층막일 수 있다. 일 실시예에서 제2 무기막(303)은 실리콘 옥사이드(SiOx)로 이루어진 막과 실리콘 나이트라이드(SiNx)로 이루어진 막이 교번하여 적층된 적층막일 수 있다.
이어서, 댐 영역(D)에 대해 설명하기로 한다.
댐 영역(D)에는 버퍼층(100), 게이트 절연막(GI) 및 층간 절연막(ILD)이 형성될 수 있다. 도 3은 댐 영역(D)에 세 개 층의 무기막, 즉 버퍼층(100), 게이트 절연막(GI) 및 층간 절연막(ILD)이 형성되는 경우를 예시하나, 댐 영역(D)에 형성된 무기막이 이에 제한되는 것은 아니다. 다른 실시예에서 댐 영역(D)에는 적어도 한 개 층의 무기막이 형성될 수 있으며, 적어도 한 개 층의 무기막은 버퍼층(100), 게이트 절연막(GI) 및 층간 절연막(ILD) 중 어느 하나와 동일한 물질로 형성될 수 있다.
층간 절연막(ILD) 상에는 제1댐(D1) 및 제2댐(D2)이 배치될 수 있다. 제1댐(D1)은 관통홀(H)과 이격되어 배치된다.
일 실시예에서 제1댐(D1)은 배리어 영역(BA)을 정의할 수 있다. 다시 말하면, 배리어 영역(D1)은 제1댐(D1)과 관통홀(H) 사이의 영역으로 정의될 수 있다.
일 실시예에서 제1댐(D1)은 표시 영역(DA)의 화소 정의막(PDL)과 동일한 재질로 이루어질 수 있다. 즉 제1댐(D1)은 화소 정의막(PDL)과 동일층에 배치될 수 있다. 이를 위해 제1댐(D1)은 화소 정의막(PDL)과 동일 공정에서 동시에 형성될 수 있다. 다만, 이에 제한되는 것은 아니고, 다른 실시예에서 제1댐(D1)은 화소 정의막(PDL)과 별개로 독립적으로 형성될 수 있다.
제1댐(D1)과 이격되도록 제2댐(D2)이 배치될 수 있다. 제2댐(D2)은 표시 영역(DA)과 제1댐(D1) 사이에 배치될 수 있다. 제2댐(D2)의 높이는 제1댐(D1)과 상이할 수 있다. 제2댐(D2)의 높이는 제1댐(D1)보다 작을 수 있다. 다만, 이에 제한되는 것은 아니고, 다른 실시예에서 제2댐(D2)의 높이는 제1댐(D1)과 실질적으로 동일할 수 있다.
일 실시예에서 제2댐(D2)은 표시 영역(DA)의 패시베이션막(600)과 동일한 재질로 이루어질 수 있다. 이를 위해 제2댐(D2)은 패시베이션막(600)과 동일한 공정에서 동시에 형성될 수 있다. 다만, 이에 제한되는 것은 아니고, 다른 실시예에서 제2댐(D2)은 패시베이션막(600)과 별개로 독립적으로 형성될 수도 있다.
제1댐(D1)과 제2댐(D2) 상에는 봉지막(300)이 배치될 수 있다.
제2댐(D2) 상에는 제1 무기막(301), 제1 유기막(302) 및 제2 무기막(303)이 배치될 수 있다.
일 실시예에서 제1댐(D1) 상에는 제1 무기막(301) 및 제2 무기막(303)만 배치되고, 제1 유기막(302)은 배치되지 않을 수 있다.
다시 말하면, 제2댐(D2)의 상면은 제1 유기막(302)과 중첩하지만, 제1댐(D1)의 상면은 제1 유기막(302)과 중첩하지 않을 수 있다.
즉 제1댐(D1) 상에서 제1 무기막(301)과 제2 무기막(303)은 직접 접촉할 수 있다.
이어서, 배리어 영역(BA)에 대해 설명하기로 한다.
일 실시예에서 배리어 영역(BA)에서 무기막은 제거되거나, 부분적으로 존재할 수 있다.
일 실시예에서 배리어 영역(BA)은 제1 그루브(GR1), 제2 그루브(GR2) 및 제3 그루브(GR3)를 포함할 수 있다.
앞서 도 2에서 설명한 바와 같이 제1 그루브(GR1), 제2 그루브(GR2) 및 제3 그루브(GR3)의 외주는 직경이 다른 동심원 형태를 가질 수 있다. 제1 그루브(GR1), 제2 그루브(GR2) 및 제3 그루브(GR3)의 단면 형상은 실질적으로 동일할 수 있다.
도 3 및 도 4는 제1 그루브(GR1), 제2 그루브(GR2) 및 제3 그루브(GR3)의 폭이 실질적으로 동일한 경우를 도시하지만, 이에 제한되지 않는다. 즉, 다른 실시예에서 제1 그루브(GR1), 제2 그루브(GR2) 및 제3 그루브(GR3)의 폭은 서로 다를 수 있다.
이어서 홀 영역(HA)에 대해 설명하기로 한다.
상술한 바와 같이 홀 영역(HA)에는 관통홀(H)이 배치될 수 있다. 일 실시예에서 관통홀(H)의 양 측벽은 테이퍼진 형상을 가질 수 있다. 즉, 도 4에 도시된 바와 같이 관통홀(H)의 단면 형상은 절연 기판(500) 상부에서 하부로 갈수록 그 폭이 좁아지는 형상을 가질 수 있다.
이하에서는 도 5를 참조하여, 제1 그루브(GR1)의 단면 형상에 대해 구체적으로 설명하기로 한다.
도 5는 도 3의 일부를 확대한 부분 확대도이다.
도 5를 참조하면, 제1 그루브(GR1)는 제1 측벽(SW1), 바닥면(BS) 및 제2 측벽(SW2)을 포함할 수 있다.
바닥면(BS)은 제1 측벽(SW1)과 제2 측벽(SW2)사이에 배치될 수 있다.
일 실시예에서 바닥면(BS)은 무기층(400)으로 이루어질 수 있다. 즉, 제1 그루브(GR1)는 제2 기판(502)을 관통하며, 무기층(400) 및 제1 기판(501)은 관통하지 않을 수 있다. 이 경우, 바닥면(BS)은 무기층(400)으로 이루어지고, 제1 측벽(SW1) 및 제2 측벽(SW2)은 제2 기판(502)으로 이루어질 수 있다.
일 실시예에서 제1 그루브(GR1)의 높이, 즉 제2 기판(502) 상면과 바닥면(BS)까지의 거리는 5.8㎛이상일 수 있다.
일 실시예에서 제1 측벽(SW1)은 바닥면(BS)과 제1각(θ1)을 이룰 수 있다. 이 때, 제1각(θ1)은 예각일 수 있다. 제1각(θ1)이 예각일 경우, 제2 기판(502)의 상면으로부터 연장되는 제1 측벽(SW1)은 급격하게 꺾이는 경사를 가질 수 있다.
제2 측벽(SW2)은 바닥면(BS)과 제2각(θ2)을 가질 수 있다. 일 실시예에서 제2각(θ2)과 제1각(θ1)의 합은 180도일 수 있다.
다시 말하면, 제2 측벽(SW2)과 제1 측벽(SW1)은 나란한 방향으로 연장될 수 있다.
이를 기울기 측면에서 설명하면 아래와 같다. 먼저 측벽의 기울기는 단면 상에서 정의될 수 있다. 일 실시예에서 기울기는 도 5에 도시된 x축과 y축으로 이루어진 좌표 평면계에서 y축 방향 변화량을 x축 방향 변화량으로 나눈 값으로 정의될 수 있다. 즉, 기울기는 x축에 대하여 면 또는 선이 기울어진 정도를 의미한다.
이를 기초로 설명하면, 일 실시예에서 제1 측벽(SW1)과 제2 측벽(SW2)의 기울기는 양의 기울기 또는 음의 기울기를 가질 수 있다. 또한, 제1 측벽(SW1)의 기울기와 제2 측벽(SW2)의 기울기는 실질적으로 동일할 수 있다.
구체적으로 도 5는 제1 측벽(SW1)과 제2 측벽(SW2)이 양의 기울기를 갖는 경우를, 도 6은 제1 측벽(SW1)과 제2 측벽(SW2)이 음의 기울기를 갖는 경우를 도시한다.
제2 기판(502)과 제1 그루브(GR1) 상에는 유기층(EL)이 배치될 수 있다. 유기층(EL)은 절연 기판(500) 상에 형성되며, 수분의 이동 경로로 기능할 수 있다. 다시 말하면, 관통홀(H) 주변에서 발생한 수분이 유기층(EL)을 타고 표시 영역(DA)에 침투하여 표시 불량을 야기할 수 있다.
따라서, 이를 방지하기 위해 유기층(EL)을 단절시킬 필요가 있다. 본 명세서에서 '단절'이라 함은 연속적으로 배치되는 일 구성의 연속성을 차단한다는 의미로 사용될 수 있다. 즉, 연속적으로 배치되는 일 구성이 단절되면, 일 구성은 단속적으로 배치될 수 있다.
유기층(EL)은 커버리지가 우수하여 완만한 경사에서 쉽게 단절되지 않는다. 제1 측벽(SW1)이 급격하게 꺾이는 경사를 갖는 경우, 유기층(EL)은 단절될 수 있으며, 이에 따라 수분이 유기층(EL)을 타고 표시 영역(DA)까지 전달되는 것을 차단할 수 있다.
이에 따라 배리어 영역(BA)에는 유기층(EL)이 단절되는 단절부가 배치될 수 있다.
도 3 및 도 4는은 배리어 영역(BA)에 제1 그루브(GR1), 제2 그루브(GR2) 및 제3 그루브(GR3)에 대응되도록 제1 단절부(CP1), 제2 단절부(CP2) 및 제3 단절부(CP3)가 형성되는 경우를 예시한다. 다만, 이는 예시적인 것으로, 그루브의 개수와 마찬가지로 이에 대응되는 단절부의 개수 또한 이에 제한되는 것은 아니다.
이하에서는 설명의 편의를 위해 도 5를 참조하여, 제1 단절부(CP1)에 대해 설명하기로 한다. 제2 단절부(CP2) 및 제3 단절부(CP3)는 제1 단절부(CP1)와 실질적으로 동일하며, 이에 따라, 제1 단절부(CP1)에 대한 설명은 제2 단절부(CP2) 및 제3 단절부(CP3)에도 그대로 적용될 수 있다.
일 실시예에서 제1 단절부(CP1)는 제1 측벽(SW1)에서 형성될 수 있다.
유기층(EL)을 단절시키는 제1 단절부(CP1)에 의해 아래와 같은 구조가 형성될 수 있다. 일 실시예에서 제1 측벽(SW1)의 일부는 유기층(EL)과 접촉하고, 나머지 일부는 유기층(EL)과 접촉하지 않을 수 있다. 바닥면(BS) 및 제2 측벽(SW2)은 전부 유기층(EL)과 접촉할 수 있다.
유기층(EL) 상에는 제2 전극(202)이 배치될 수 있다. 일 실시예에서 제2 전극(202)은 제1 단절부(CP1)에서 단절될 수 있다. 이에 따라, 제2 전극(202)은 제1 측벽(SW1)과 직접적으로 접촉할 수 있다. 바닥면(BS)과 제2 측벽(SW2)은 유기층(EL)에 의해 제2 전극(202)과 직접 접촉하지 않을 수 있다.
즉, 유기층(EL)은 제1 측벽(SW1)의 일부를 덮지 못하며, 이에 따라 제1 측벽(SW1)의 일부를 노출시킬 수 있다.
제2 전극(202) 상에는 제1 무기막(301)이 배치될 수 있다. 일 실시예에서 제1 무기막(301)은 제2 전극(202)과 유기층(EL)에 의해 노출된 제1 측벽(SW1)의 일부와 직접 접촉할 수 있다.
제1 무기막(301) 상에는 제2 무기막(303)이 배치될 수 있다. 즉 배리어 영역(BA)에서 제1 무기막(301)과 제2 무기막(303)은 직접 접촉할 수 있다.
제2 그루브(GR2) 및 제3 그루브(GR3)는 제1 그루브(GR1)와 실질적으로 동일한 형상을 가질 수 있다. 따라서, 이에 대한 자세한 설명은 생략하기로 한다.
다시 도 4를 참조하면, 배리어 영역(BA) 내측에는 관통홀(H)이 배치될 수 있다. 관통홀(H)은 절연 기판(500)을 완전하게 관통할 수 있다. 이에 따라 홀 영역(HA)에는 빈 공간이 형성될 수 있다.
이하에서는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치에 대해 설명한다. 이하의 실시예에서 이미 설명한 구성과 동일한 구성에 대해서는 동일한 참조 번호로서 지칭하며, 중복 설명은 생략하거나 간략화하기로 한다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 부분 확대도이다. 도 6을 참조하면, 다른 실시예에서 제1측벽(SW1_1)은 바닥면(BS1)과 제1각(θ1)을 이루고, 제2 측벽(SW2_1)은 바닥면(BS1)과 제2각(θ2)을 이루되, 제2각(θ2)이 바닥면(BS1)과 이루는 각이 예각인 점이 도 5와 다른 점이다.
일 실시예에서 제1 측벽(SW1_1)과 바닥면(BS1)이 이루는 제1각(θ1)이 둔각이고, 제2 측벽(SW2_1)과 바닥면(BS1)이 이루는 제2각(θ2)이 예각일 수 있다.
이 경우, 제1 단절부(CP1_1)는 제2 측벽(SW2_1)에서 형성될 수 있다. 이 경우, 유기층(EL)은 단절되며, 이에 따라 제2 측벽(SW2_1)의 일부는 유기층(EL)과 접촉하고, 나머지 일부는 유기층(EL)과 접촉하지 않을 수 있다. 바닥면(BS) 및 제1 측벽(SW1_1)은 전부 유기층(EL)과 접촉할 수 있다.
유기층(EL) 상에는 제2 전극(202)이 배치될 수 있다. 일 실시예에서 제2 전극(202)은 제1 단절부(CP1_1)에서 단절될 수 있다. 이에 따라, 제2 전극(202)은 제2 측벽(SW2_1)과 직접적으로 접촉할 수 있다. 바닥면(BS)과 제1 측벽(SW1_1)은 유기층(EL)에 의해 제2 전극(202)과 직접 접촉하지 않을 수 있다.
즉, 유기층(EL)은 제2 측벽(SW2_1)의 일부를 덮지 못하며, 이에 따라 제2 측벽(SW2_1)의 일부를 노출시킬 수 있다.
제2 전극(202) 상에는 제1 무기막(301)이 배치될 수 있다. 일 실시예에서 제1 무기막(301)은 제2 전극(202)와 유기층(EL)에 의해 노출된 제2 측벽(SW2_1)의 일부와 직접 접촉할 수 있다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다.
도 7을 참조하면, 배리어 영역(BA)에서 그루브가 형성되지 않은 영역 상에는 적어도 하나의 절연막이 배치될 수 있다.
일 실시예에서 배리어 영역(BA)에서 제1 그루브(GR1), 제2 그루브(GR2) 및 제3 그루브(GR3)가 형성되지 않은 영역 상에는 버퍼층(100), 게이트 절연막(GI) 및 층간 절연막(ILD)이 형성될 수 있다.
도 7은 배리어 영역(BA)에서 제1 그루브(GR1), 제2 그루브(GR2) 및 제3 그루브(GR3)가 형성되지 않은 영역 상에 버퍼층(100), 게이트 절연막(GI) 및 층간 절연막(ILD) 모두가 형성되는 경우를 도시하나 이에 제한되는 것은 아니다.
다른 실시예에서, 배리어 영역(BA)에서 제1 그루브(GR1), 제2 그루브(GR2) 및 제3 그루브(GR3)가 형성되지 않은 영역 상에는 버퍼층(100), 게이트 절연막(GI) 및 층간 절연막(ILD)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상의 절연막이 배치될 수 있다. 즉, 버퍼층(100), 게이트 절연막(GI) 및 층간 절연막(ILD) 중 선택된 어느 하나 이상은 생략될 수도 있다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 배치도이다.
도 9는 도 8의 'B' 부분을 확대한 확대도이다. 도 10은 도 9의 Ⅲ-Ⅲ' 라인을 따라 절단한 단면도이다.
도 8 내지 도 10을 참조하면, 다른 실시예에서 관통홀(H1)은 비표시 영역(NDA)에 배치될 수 있다.
도 8을 참조하면, 관통홀(H1)은 비표시 영역(NDA)에서 절연 기판(500)을 관통할 수 있다. 관통홀(H1)이 차지하는 홀 영역(HA) 주위에는 배리어 영역(BA)과 댐 영역(D)이 배치될 수 있다. 배리어 영역(BA) 및 댐 영역(D)은 앞서 도 2에서 설명한 것과 실질적으로 동일하므로, 이에 대한 자세한 설명은 생략하기로 한다.
댐 영역(D)의 외측에는 비표시 영역(NDA)이 배치될 수 있다. 도 10을 참조하면, 비표시 영역(NDA)과 댐 영역(D)에서 제2 기판(502) 상에는 제1 절연막(801), 제2 절연막(802) 및 제3 절연막(803)이 형성될 수 있다.
일 실시예에서 제1 절연막(801)은 표시 영역(DA)의 버퍼층(100)과 동일한 물질로 이루어지고, 제2 절연막(802)은 표시 영역(DA)의 게이트 절연막(GI)과 동일 물질로 이루어지고, 제3 절연막(803)은 표시 영역(DA)의 패시베이션막(600)과 동일한 물질로 이루어질 수 있다.
도 10은 비표시 영역(NDA)과 댐 영역(D)에 3개의 층으로 이루어진 절연막이 배치되는 것을 도시하지만, 절연막의 구조가 이에 제한되는 것은 아니다. 다른 실시예에서 절연막은 하나의 단일층일 수 있으며, 또 다른 실시예에서 절연막은 4개 이상의 층을 갖는 적층막일 수도 있다.
비표시 영역(NDA)에서 제3 절연막(803) 상에는 제1 무기막(301)과 제2 무기막(303)이 배치될 수 있다. 즉 비표시 영역(NDA)에서 제1 무기막(301)과 제2 무기막(303)은 직접 접촉할 수 있다.
다만, 이에 제한되는 것은 아니고, 다른 실시예에서 제1 무기막(301)과 제2 무기막(303) 사이에 제1 유기막(302)이 배치될 수도 있다. (도 3 참조)
댐 영역(D)에서 제3 절연막(803) 상에 제1댐(D1)과 제2댐(D2)이 배치될 수 있다. 이는 도 3에서 설명한 것과 실질적으로 동일하므로, 이에 대한 자세한 설명은 생략하기로 한다.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 배치도이다. 도 12는 도 11의 'C' 부분을 확대한 확대도이다.
도 11을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에서 관통홀(H2)은 사각형 형상을 가질 수 있다. 앞서 설명한 바와 같이 관통홀(H2)의 형상은 원형으로 제한되지 않는다.
도 12를 참조하면, 관통홀(H2)이 사각형 형상을 갖는 실시예에서, 관통홀(H2)을 둘러싸는 제1 그루브(GR1_2), 제2 그루브(GR2_2) 및 제3 그루브(GR3_2)는 사각형 형상을 가질 수 있다. 또한, 관통홀(H2)의 평면 형상과 제1 그루브(GR1_2), 제2 그루브(GR2_2) 및 제3 그루브(GR3_2)의 평면 형상은 서로 닮은 꼴일 수 있다.
관통홀(H2)이 사각형 형상을 갖는 실시예에서, 제1댐(D1_2) 및 제2댐(D2_2)의 평면 형상은 사각형 형상일 수 있다. 또한, 관통홀(H2)의 평면 형상과 제1댐(D1_2) 및 제2댐(D2_2)이 이루는 평면 형상은 서로 닮은꼴일 수 있다.
도 12는 관통홀(H2)이 사각형 형상인 실시예에서, 제1 그루브(GR1_2), 제2 그루브(GR2_2) 및 제3 그루브(GR3_2)와 제1댐(D1_2) 및 제2댐(D2_2)의 평면 형상이 사각형 형상인 경우를 도시하지만, 제1 그루브(GR1_2), 제2 그루브(GR2_2) 및 제3 그루브(GR3_2)와 제1댐(D1) 및 제2댐(D2)의 평면 형상이 이에 제한되는 것은 아니다.
다른 실시예에서는 관통홀(H2)이 사각형 형상을 갖되, 제1 그루브(GR1_2), 제2 그루브(GR2_2) 및 제3 그루브(GR3_2)와 제1댐(D1_2) 및 제2댐(D2_2)의 평면 형상은 도 2에서와 같이 원형일 수 있다.
이하에서는, 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법에 대해 설명하기로 한다. 이하에서 설명하는 구성의 일부는 앞서 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 구성과 동일할 수 있으며, 중복 설명을 피하기 위해 일부 구성에 대한 설명은 생략될 수 있다.
도 13, 도 14, 도 16, 도 17, 도 18 및 도 19는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도이다. 도 15 및 도 20은 본 발명의 일 실시예에 따른 제조 방법을 설명하기 위한 평면도이다.
도 13 내지 도 20을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법은 캐리어 기판(G) 상에 배치되며, 제1 영역(A1), 제2 영역(A2) 및 제3 영역(A3)이 정의된 절연 기판(500)의 제1 영역(A1)에 적어도 하나의 댐(D1, D2)을 형성하는 단계, 제3 영역(A3)에 제1 방향으로 레이저를 조사하여 레이저 커팅부(LC)를 형성하는 단계, 제2 영역(A2)에 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 레이저를 조사하여 절연 기판(500)에 적어도 하나의 그루브를 형성하는 단계 및 그루브를 부분적으로 덮는 유기층(EL)을 형성하는 단계를 포함한다.
먼저, 도 13을 참조하면, 제1 영역(A1), 제2 영역(A2) 및 제3 영역(A3)이 정의된 절연 기판(500)의 제1 영역(A1)에 적어도 하나의 댐(D1, D2)을 형성하는 단계가 진행된다.
절연 기판(500)은 캐리어 기판(G) 상에 배치될 수 있다. 캐리어 기판(G)은 유리를 포함하여 이루어질 수 있다.
일 실시예에서 제3 영역(A3)의 평면 형상은 원형일 수 있다. 즉, 제3 영역(A3)에는 이후에 관통홀(H)이 형성될 수 있다.
다시 말하면, 제3 영역(A3)은 도 2 또는 도 12의 홀 영역(HA)에 대응되는 영역일 수 있다.
이와 마찬가지로 제1 영역(A1)은 도 2 또는 도 12의 댐 영역(D)에 대응되고, 제2 영역(A2)은 도 2 또는 도 12의 배리어 영역(BA)과 대응될 수 있다.
일 실시예에서 제1 영역(A1)에는 적어도 하나의 절연막이 배치될 수 있다. 절연막은 제1 절연막(801), 제2 절연막(802) 및 제3 절연막(303)에서 선택된 하나 이상을 포함하여 이루어질 수 있다.
일 실시예에서, 제2 영역(A2)과 제3 영역(A3)에는 절연막이 배치되지 않을 수 있다. 절연막은 절연 기판(500) 상에 전면적으로 형성된 후 제2 영역(A2)과 제3 영역(A3)에서 선택적으로 제거되거나, 마스크를 이용하여 제1 영역(A1)에만 형성될 수 있다.
도 13은 제2 영역(A2)과 제3 영역(A3)에 절연막이 형성되지 않은 경우를 도시하지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 다른 실시예에서 제2 영역(A2)과 제3 영역(A3)에도 제1 영역(A1)과 같이 제1 절연막(801), 제2 절연막(802) 및 제3 절연막(303)에서 선택된 하나 이상이 형성될 수 있다.
이 경우, 후술하는 과정을 거친 결과물은 도 7과 같은 형태를 가질 수 있다.
제1 영역(A1)의 제3 절연막(803) 상에는 제1댐(D1) 및/또는 제2댐(D2)이 형성될 수 있다.
일 실시예에서 제1댐(D1)은 표시 영역(DA)의 화소 정의막(PDL)과 동일 공정에서 동시에 형성될 수 있다. 다만, 이는 예시적인 것으로 제1댐(D1)의 제조 방법이 이에 제한되는 것은 아니다. 마찬가지로 제2댐(D2)은 표시 영역(DA)의 패시베이션막(600)과 동일 공정에서 동시에 형성될 수 있다. (도 3 참조)
이어서 도 14를 참조하면, 절연 기판(500)의 제3 영역(A3)에 제1 방향으로 레이저를 조사하여 레이저 커팅부(LC)를 형성하는 단계가 진행될 수 있다.
일 실시예에서 제1 방향은 절연 기판(500)과 수직인 방향일 수 있다. 제1 방향으로 조사되는 제1 레이저빔(L1)은 절연 기판(500)을 완전하게 관통할 수 있다. 다시 말하면, 제1 레이저빔(L1)은 제1 기판(501), 무기층(400) 및 제2 기판(502)를 완전하게 관통하는 레이저 커팅부(LC)를 형성할 수 있다.
일 실시예에서 레이저 커팅부(LC)는 도 15에서와 링(Ring) 형상일 수 있다. 다만, 다른 실시예에서 레이저 커팅부(LC)는 액자 형상을 가질 수도 있다.
레이저 커팅부(LC)를 링 형상으로 형성하는 경우, 레이저 커팅부(LC) 내측에는 섬 패턴(50)이 형성될 수 있다. 섬 패턴(50)은 이후 단계에서 제거될 수 있다.
이어서, 도 16을 참조하면, 제2 영역(A2)에 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 레이저를 조사하여 제2 기판(502)을 관통하며, 제1 측벽(SW1), 제2 측벽(SW2) 및 바닥면(BS)을 갖는 적어도 하나의 그루브(GR1, GR2, GR3)를 형성하는 단계가 진행된다.
제2 방향은 제1 방향과 상이한 방향일 수 있다. 제2 방향을 설명하기 위해 기준면(RL)이 정의된다. 기준면(RL)은 절연 기판(500)의 상면과 평행한 가상의 면일 수 있다.
제2 레이저빔(L2)의 조사 방향인 제2 방향과 기준면(RL)은 제3각(θ3)을 이룰 수 있다. 일 실시예에서 제3각(θ3)은 제1 측벽(SW1)과 바닥면(BS)이 이루는 각인 제1각(θ1)과 실질적으로 동일할 수 있다.
즉, 제3각(θ3)은 제1각(θ1)과 마찬가지로 예각일 수 있다.
절연 기판(500) 상에 조사되는 제2 레이저빔(L2)은 제2 기판(502)을 관통할 수 있다. 다만, 제2 레이저빔(L2)은 무기층(400) 및 제1 기판(501)을 관통하지 않을 수 있다. 이는 무기층(400)이 방지막으로 기능하는 것에 기인할 수 있다.
제2 레이저빔(L2)에 의해 형성된 제1 그루브(GR1), 제2 그루브(GR2) 및 제3 그루브(GR3)은 앞서 도 5 또는 도 6에서 설명한 것과 실질적으로 동일하므로, 이에 대한 자세한 설명은 생략하기로 한다.
일 실시예에서 제2 레이저빔(L2)은 복수일 수 있다. 도 16은 제2 레이저빔(L2)이 3개인 경우를 예시하나, 제2 레이저빔(L2)의 개수가 이에 제한되는 것은 아니며, 다른 실시예에서 제2 레이저빔(L2)은 단수이거나, 4개 이상일 수 있다.
이어서, 도 17을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법은 절연 기판(500) 상에 유기층(EL)을 형성하는 단계, 유기층(EL) 상에 제2 전극(202)을 형성하는 단계, 제2 전극(202) 상에 봉지막(300)을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
유기층(EL)은 화학기상증착 또는 잉크젯 방식을 이용하여 형성할 수 있다. 다만, 이는 예시적인 것으로 유기층(EL)의 형성 방법이 이에 제한되는 것은 아니다.
유기층(EL)은 절연 기판(500) 상에 형성될 수 있다. 배리어 영역(BA)에 형성되는 적어도 하나의 그루브에 의해 유기층(EL)을 단절시키는 단절부(CP1, CP2, CP3)가 형성될 수 있음은 앞서 도 4등에서 설명한 바와 같다.
일 실시예에서 제2 전극(202)은 화학기상증착 방식을 이용하여 형성할 수 있다.
형성된 제2 전극(202)의 구조는 앞서 도 3 등에서 설명한 것과 실질적으로 동일할 수 있다.
제2 전극(202) 상에는 봉지막(300)이 형성될 수 있다. 봉지막(300)은 제1 무기막(301), 제1 유기막(302) 및 제2 무기막(303)을 포함할 수 있으며, 형성된 봉지막(300)는 앞서 도 3 등에서 설명한 것과 실질적으로 동일할 수 있다.
이어서, 도 18을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 캐리어 글래스(G)를 탈착시키는 단계 및 보호 필름(PF)를 부착시키는 단계를 더 포함할 수 있다.
캐리어 글래스(G)를 탈착시키는 단계에서 섬 패턴(50)은 제거되거나, 도 18에서 도시된 바와 같이 잔류할 수 있다. 다만, 잔류하는 경우에도, 후에 보호 필름(PF)을 커팅하는 단계에서 제거될 수 있다.
캐리어 글래스(G)를 탈착시킨 후 후속 공정에서의 안정성을 확보하기 위해 절연 기판(500)의 하면에 보호 필름(PF)을 부착할 수 있다.
이어서, 도 19 및 도 20을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법은 보호 필름(PF)을 커팅하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에서 제3 영역(A3)에 대응하는 보호 필름(PF)을 커팅하는 단계가 진행될 수 있다. 보호 필름(PF)을 커팅하면, 잔류하던 섬 패턴(50)이 제거될 수 있으며, 이에 따라 제3 영역(A3)에는 관통홀(H)이 형성될 수 있다. 보호 필름(PF)은 레이저 커팅부(LC)를 따라 커팅될 수 있다. 이에 따라 도 20에 도시된 바와 같이 섬 패턴(50)이 제거된 관통홀(H)이 형성될 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이지 않는 것으로 이해해야 한다.
DA: 표시 영역
NDA: 비표시 영역
H: 관통홀
GR: 그루브
D1: 제1댐
D2: 제2댐
HA: 홀 영역
BA: 배리어 영역
D: 댐 영역
EL: 유기층
201: 제1 전극
202: 제2 전극
300: 봉지막
500: 절연 기판

Claims (20)

  1. 표시 영역, 절연 기판을 관통하는 관통홀, 및 상기 관통홀을 둘러싸는 배리어 영역이 정의된 절연 기판;
    상기 절연 기판의 상기 표시 영역, 및 상기 배리어 영역 상에 배치된 유기층을 포함하고,
    상기 배리어 영역에는 상기 유기층이 단절되는 단절부가 배치되고,
    상기 유기층의 평면 형상은 연속적인 표시 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 배리어 영역 상에 배치되는 적어도 하나의 그루브를 더 포함하는 표시 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 그루브는 서로 이격되는 제1 측벽, 제2 측벽을 포함하고, 상기 단절부는 상기 제1 측벽에서 형성되는 표시 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1 측벽과 상기 제2 측벽의 기울기는 동일한 표시 장치.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 유기층을 덮는 전극을 더 포함하고, 상기 단절부에서 상기 전극은 단절되는 표시 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 전극은 상기 제1 측벽과 접촉하고, 상기 제2 측벽과는 접촉하지 않는 표시 장치.
  7. 제2항에 있어서,
    상기 절연 기판에 화상을 표시하는 표시 영역과 상기 표시 영역의 외측에 배치되는 비표시 영역이 정의되고, 상기 관통홀은 상기 표시 영역에 형성되는
    표시 장치.
  8. 제2항에 있어서,
    상기 절연 기판은 순차적으로 적층되는 제1 기판, 무기층 및 제2 기판을 포함하고, 상기 그루브는 상기 제2 기판에 형성되는 표시 장치.
  9. 제2항에 있어서,
    상기 그루브의 평면 형상은 상기 관통홀을 둘러 싸는 링 형상인 표시 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 배리어 영역의 외측에 상기 배리어 영역을 둘러싸는 댐 영역이 정의되고, 상기 댐 영역에 형성되는 적어도 하나의 댐을 더 포함하는 표시 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 댐은 제1댐 및 상기 제1 댐과 이격되는 제2댐을 포함하는 표시 장치.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 절연 기판에 화상을 표시하는 표시 영역과 상기 표시 영역의 외측에 배치되는 비표시 영역이 정의되고, 상기 관통홀은 상기 표시 영역에 형성되는 표시 장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 표시 영역은 제1 전극 및 상기 제1 전극과 대향하는 제2 전극을 포함하고, 상기 유기층은 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 배치되는 표시 장치.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 유기층은 유기 발광층을 포함하는 표시 장치.
  15. 제1항에 있어서,
    상기 절연 기판에 화상을 표시하는 표시 영역과 상기 표시 영역의 외측에 배치되는 비표시 영역이 정의되고, 상기 관통홀은 상기 비표시 영역에 형성되는 표시 장치.
  16. 캐리어 기판 상에 배치되며, 제1 영역, 제2 영역 및 제3 영역이 정의된 절연 기판의 상기 제1 영역에 적어도 하나의 댐을 형성하는 단계;
    상기 제3 영역에 제1 방향으로 레이저를 조사하여 레이저 커팅부를 형성하는 단계;
    상기 제2 영역에 상기 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 레이저를 조사하여 상기 절연 기판에 적어도 하나의 그루브를 형성하는 단계; 및
    상기 그루브를 적어도 부분적으로 덮는 유기층을 형성하는 단계를 포함하되,
    상기 제2 영역에는 상기 유기층이 단절되는 단절부가 형성되고,
    상기 유기층은 상기 제1 영역, 및 상기 제2 영역 상에 배치되고,
    상기 유기층의 평면 형상은 연속적인 표시 장치의 제조 방법.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 캐리어 기판을 탈착시키고, 상기 절연 기판 하부에 보호 필름을 부착시키는 단계를 더 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 제3 영역에 대응하는 상기 보호 필름을 커팅하여 관통홀을 형성하는 단계를 더 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
  19. 제16항에 있어서,
    상기 그루브는 서로 이격되는 제1 측벽 및 제2 측벽을 포함하고, 상기 단절부는 상기 제1 측벽에서 형성되는 표시 장치의 제조 방법.
  20. 제16항에 있어서,
    상기 유기층을 덮는 전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
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