CN110739342B - 显示面板及其制备方法和显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请提供一种显示面板及其制备方法和显示装置，以断开位于隔离区域的发光功能层，从而隔断通过发光功能层向像素区域传输水汽和氧气的路径。所述显示面板具有显示区，显示区包括开孔区域、闭合环绕开孔区域设置的隔离区域、以及围绕隔离区域设置的像素区域；像素区域与隔离区域沿显示面板的厚度方向均设置有依次叠设于基底上的中间层和发光功能层；位于隔离区域的中间层开设有闭合环绕开孔区域的斜槽，斜槽包括倾斜设置的第一侧面，第一侧面与斜槽的底面形成的第一夹角为锐角；其中，位于隔离区域的发光功能层在斜槽的第一侧面断开。该制备方法用于制作包括发光区和透明区的显示面板。该显示装置包括上述的显示面板。

Description

显示面板及其制备方法和显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法和显示装置。

背景技术

随着OLED面板行业的发展，大尺寸、大视角、全面屏逐渐成为研究的热点领域。全面屏是指具有超高屏占比的一类显示屏，理想的全面屏的屏占比为100％，即，手机的正面全部都是显示界面。但受限于手机前置摄像头、手机听筒、人脸识别传感器、光线传感器等手机不可或缺的基本功能部件的安装需要，目前，手机屏幕上方都需要留有一定的缺口来安装上述功能部件，从而形成了“刘海屏”“水滴屏”等显示屏。

随着全面屏的不断发展，广大消费者已经不能满足于刘海屏，水滴屏等设计，随即出现了带孔11的显示面板10，如图1所示，这个孔11可以用来放置摄像头，从而大大增加了屏幕的利用率，提高了用户的视觉体验效果。

在显示区域打孔的主要技术难点是需要将有机发光材料层在孔的边缘处有效地断开，因为有机发光材料层对水氧非常敏感，直接打孔的话，有机发光材料层在边缘处会裸露，就形成了传输水汽和氧气的通道，从而导致像素区域发光失效，不能正常显示。

因此，如何有效地隔断通过有机发光材料层向像素区域传输水汽和氧气的路径，是本领域有待解决的一个难题。

发明内容

本申请提供一种显示面板及其制备方法和显示装置，以断开位于隔离区域的发光功能层，从而隔断通过发光功能层向像素区域传输水汽和氧气的路径。

根据本申请实施例的第一方面，提供一种显示面板。所述显示面板包括基底，所述显示面板具有显示区，所述显示区包括开孔区域、闭合环绕所述开孔区域设置的隔离区域、以及围绕所述隔离区域设置的像素区域；

所述像素区域与所述隔离区域沿所述显示面板的厚度方向均设置有依次叠设于所述基底上的中间层和发光功能层；

位于所述隔离区域的所述中间层开设有闭合环绕所述开孔区域的斜槽，所述斜槽包括倾斜设置的第一侧面，所述第一侧面与所述斜槽的底面形成的第一夹角为锐角；

其中，位于所述隔离区域的所述发光功能层在所述斜槽的第一侧面断开。

可选的，所述中间层为平坦化层。

可选的，所述第一夹角为30度～60度。

可选的，所述中间层包括沿所述厚度方向由下至上依次叠设的第一中间层和第二中间层；

所述斜槽包括沿所述厚度方向由下至上依次叠设的第一部分和第二部分，所述第一部分位于所述第一中间层，所述第二部分位于所述第二中间层，每一部分都具有所述第一侧面，所述第一部分的第一侧面与所述第二部分的第一侧面分别位于不同的平面内；

所述发光功能层在所述第一部分的第一侧面以及所述第二部分的第一侧面均断开。

可选的，所述第一部分的所述第一侧面的倾斜方向与所述第二部分的所述第一侧面的倾斜方向相同或者相反。

可选的，所述显示区还包括阻挡区域，所述阻挡区域位于所述隔离区域与所述像素区域之间，所述阻挡区域中设置有位于所述基底上的阻挡柱，所述阻挡柱闭合环绕所述隔离区域设置，所述阻挡柱的上表面高出所述像素区域的中间层的上表面，所述发光功能层设于所述阻挡柱的上表面。

可选的，所述显示面板还包括封装层，位于所述像素区域的所述封装层包括沿所述厚度方向由下至上依次叠设的第一无机封装层、有机层以及第二无机封装层，位于所述阻挡区域和所述隔离区域的所述封装层仅包括沿所述厚度方向由下至上依次叠设的第一无机封装层以及第二无机封装层。

可选的，所述阻挡柱的上表面高出所述像素区域的中间层的上表面2.5微米～3.5微米。

根据本申请实施例的第二方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括如上所述的显示面板。

根据本申请实施例的第三方面，提供一种显示面板的制备方法，所述制备方法用于制作上述的显示面板，所述制备方法包括：

沿所述厚度方向，在所述基底上形成所述中间层；

在位于所述隔离区域的所述中间层开设所述斜槽，所述斜槽闭合环绕所述开孔区域设置，所述斜槽包括倾斜设置的第一侧面，所述第一侧面与所述斜槽的底面形成的第一夹角为锐角；

沿所述厚度方向在所述中间层上形成所述发光功能层，位于所述隔离区域的所述发光功能层在所述斜槽的第一侧面断开。

可选的，通过激光刻蚀工艺形成所述斜槽。

可选的，通过蒸镀工艺形成所述发光功能层。

上述实施例的显示面板及其制备方法和显示装置，通过在位于隔离区域的中间层设置斜槽，且斜槽具有倾斜设置的第一侧面，以在斜槽的第一侧面断开发光功能层，从而隔断通过发光功能层向像素区域传输水汽和氧气的路径，从而避免水汽和氧气从开孔区域的开口沿发光功能层进入像素区域中，对像素区域造成侵蚀。

附图说明

图1现有技术中的显示面板的俯视结构示意图。

图2是实施例1的显示面板的俯视结构示意图。

图3是实施例1的显示面板的局部剖面结构示意图。

图4是图3的A部分的局部结构放大图。

图5(a)-图5(d)是一示例性实施例的显示面板的制备方法的工艺流程图。

图6是实施例2的显示面板的局部剖面结构示意图。

图7是图6的B部分的局部结构放大图。

图8是实施例2的另一实施方式的显示面板的局部剖面结构示意图。

图9(a)-图9(e)是实施例2的显示面板的制备方法的工艺流程图。

图1中附图标记说明

显示面板10

孔11

图2至图9中附图标记说明

显示面板20

显示区21

开孔区域22

隔离区域23

阻挡区域24

像素区域25

基底30

薄膜晶体管40

有源层42

栅绝缘层43

栅极44

源极46

漏极47

中间层50

斜槽51

第一部分51a

第二部分51b

第一侧面511

第一部分的第一侧面511a

第二部分的第一侧面511b

第二侧面512

第一中间层52

第二中间层53

发光器件60

发光功能层61

阳极62

像素界定层63

阻挡柱70

封装层80

显示面板的厚度方向T

第一夹角α

第二夹角β

平坦化层的厚度t1

斜槽的长度L1

第一部分的长度L11

第二部分的长度L12

相邻的两个斜槽的间隔长度l1

阻挡柱的上表面高出中间层的上表面的距离d1

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本申请相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本申请的一些方面相一致的装置的例子。

在本申请使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本申请。除非另作定义，本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本申请所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本申请说明书以及权利要求书中使用的“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似词语意指出现在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的元件或者物件及其等同，并不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而且可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“多个”包括两个，相当于至少两个。在本申请说明书和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。

实施例1

请结合图2至图4以理解，本实施案例提供一种显示面板20及包含其的显示装置。

显示面板20具有显示区21，显示区21包括开孔区域22、闭合环绕开孔区域22设置的隔离区域23、以及围绕隔离区域23设置的像素区域25。上述的开孔区域22在开口处理后，用于组装摄像头等，开孔区域22的形状例如可以为如图所示的圆形，例如还可以为矩形等其他规则形状。

显示面板20包括基底30，此处，对基底30不进行限定，基底30可以是一个衬底基板；也可以是由衬底基板和设置在衬底基板上的膜层构成。

像素区域25与隔离区域23沿显示面板20的厚度方向T均设置有依次叠设于基底30上的中间层50和发光功能层61。位于隔离区域23的中间层50开设有闭合环绕开孔区域22的斜槽51，斜槽51包括倾斜设置的第一侧面511，第一侧面511与斜槽51的底面形成的第一夹角α为锐角。在本实施例中，斜槽51还包括与第一侧面511相对设置的第二侧面512，第二侧面512与斜槽51的底面形成的第二夹角β为钝角。

其中，位于隔离区域23的发光功能层61在斜槽51的第一侧面511断开。这是因为，在蒸镀发光功能层61过程中，斜槽51的第一侧面511被其上的中间层50遮挡，从而使发光功能层61在斜槽51的第一侧面511断开，从而隔断通过发光功能层61向像素区域25传输水汽和氧气的路径，从而避免水汽和氧气从开孔区域22的开口沿发光功能层61进入像素区域25中，对像素区域25造成侵蚀。

在本实施例中，斜槽51不限于一个，当斜槽51的个数为多个时，多个斜槽51间隔设置。斜槽51的长度L1为6微米～13微米，相邻的两个斜槽51的间隔长度l1为10微米～17微米。斜槽51的深度等于中间层50的厚度，但不限于此，斜槽51的底面下也可以留有部分中间层50，斜槽51的底面下的中间层50的厚度不大于0.3微米。

显示区21中的像素区域25用于显示画面，像素区域25包括多个子像素，多个子像素至少包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素。示例的，第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素分别为红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。对于第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素，其分布方式可以参考本领域的常规设置。

对每个子像素而言，除包括上述的发光功能层61外，还包括设置于该发光功能层61靠近基底30一侧的阳极62，以及远离基底30一侧的阴极(图中未标示)。其中，每个子像素中，阳极62、发光功能层61和阴极构成一个发光器件60。发光器件60还包括像素界定层63，像素界定层63用于隔开相邻的发光器件60，避免发生串路。其中，像素界定层63可覆盖部分阳极62，即，阳极62先形成，像素界定层63在阳极62之后形成。

其中，发光功能层61至少包括发光层。如图所示，可选的，发光功能层61除包括发光层外，还可以包括电子传输层(election transporting layer，简称ETL)、电子注入层(election injection layer，简称EIL)、空穴传输层(hole transporting layer，简称HTL)以及空穴注入层(hole injection layer，简称HIL)。当然，对于发光功能层61而言，除包括发光层外，可以包括ETL、EIL、HTL、HIL中的部分。

在像素区域25，基底30与发光器件60之间还设置有薄膜晶体管40(Thin-filmtransistor，TFT)。薄膜晶体管40包括有源层42、栅绝缘层43、栅极44、层间绝缘层(图中未标示)以及源极46、漏极47，漏极47和源极46均与有源层42连接。薄膜晶体管40的漏极47与发光器件60的阳极62电连接。

在本实施例中，中间层50为平坦化层。平坦化层设置在薄膜晶体管40和发光器件60之间。平坦化层的厚度t1为1微米～3微米。

平坦化层相对于薄膜晶体管40中的层结构，如层间绝缘层，具有厚度优势。在平坦化层开设斜槽51，其斜槽51中倾斜设置的与斜槽51的底面形成的第一夹角α为锐角的第一侧面511，因具有较长的断面，从而能够更好地隔断通过发光功能层61向像素区传输水汽和氧气的路径。

可选的，第一夹角α为30度～60度，第一夹角α的角度过小不利于通过激光刻蚀形成斜槽51；同时，第一夹角α的角度也不能过大，从而无法使发光功能层61在蒸镀过程在斜槽51的第一侧面511断开。最佳地，第一夹角α为45度。

在本实施例中，显示区21还包括阻挡区域24，阻挡区域24位于隔离区域23与像素区域25之间，阻挡区域24中设置有位于基底30上的阻挡柱70，阻挡柱70闭合环绕隔离区域23设置，阻挡柱70的上表面高出像素区域25的中间层50的上表面，发光功能层61设于阻挡柱70的上表面。阻挡柱70的上表面高出像素区域25的中间层50的上表面的距离d1为2.5微米～3.5微米。较佳地，阻挡柱70的上表面高出像素区域25的中间层50的上表面的距离d1为3微米。

在本实施例中，显示面板20还包括封装层80，位于像素区域25的封装层80包括沿厚度方向T由下至上依次叠设的第一无机封装层、有机层以及第二无机封装层，位于阻挡区域24和隔离区域23的封装层80仅包括沿厚度方向由下至上依次叠设的第一无机封装层以及第二无机封装层。

第一无机封装层和第二无机封装层用于防止从显示面板20正面进入的水汽和氧气进入发光功能层61中。第一无机封装层和第二无机封装层的材料为无机物，比如氮化硅和/或氧化硅。有机层用于防止第一无机封装层的中无机物颗粒影响第二无机封装层的制备，导致第二无机封装层的膜层破裂，因此需要设置有机层平坦化第一无机封装层，有机层的材料例如可以为亚克力。

由于有机层的材料具有一定的流动性，因此为了便于制备有机层，设置阻挡柱70用于拦截有机层的材料向靠近开孔区域22的一侧流动。阻挡柱70的纵截面形状例如可以为梯形、矩形等。在阻挡柱70的纵截面形状为梯形的情况下，该梯形的顶边的长度小于其底边的长度。

在本实施例中，阻挡柱70不限于一个，当阻挡柱70的个数为多个时，多个阻挡柱70间隔设置。多个阻挡柱70有利于进一步拦截有机层的材料，避免因为单个阻挡柱70的拦截能力不足而导致有机层的材料向开孔区域22蔓延。单个阻挡柱70的长度为40微米至60微米，以使阻挡柱70的上表面形成一个平面，以避免阻挡柱70的上表面形成尖角而影响显示面板20的平面效果。

根据本申请实施例的第二方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括如上的显示面板20。

基于同一发明构思，本申请的实施例提供一种显示面板20的制备方法，如图5(a)-图5(d)所示。所述制备方法用于制作上述的显示面板20，如上所述，显示面板20具有显示区21，显示区21包括开孔区域22、闭合环绕开孔区域22设置的隔离区域23、以及围绕隔离区域23设置的像素区域25。所述制备方法包括：

步骤100：沿所述厚度方向，在所述基底上形成所述中间层；

步骤200：在位于所述隔离区域的所述中间层开设所述斜槽，所述斜槽闭合环绕所述开孔区域设置，所述斜槽包括倾斜设置的第一侧面，所述第一侧面与所述斜槽的底面形成的第一夹角为锐角；

步骤300：沿所述厚度方向在所述中间层上形成所述发光功能层，位于所述隔离区域的所述发光功能层在所述斜槽的第一侧面断开。

在步骤100前，制备方法包括在基底30上形成薄膜晶体管40。具体地，在基底30上形成有源层薄膜，并对有源层薄膜进行构图以形成有源层42；在有源层42上形成栅绝缘层薄膜；在栅绝缘层薄膜上形成第一导电薄膜，并对第一导电薄膜进行构图以形成栅极44；在栅极44上形成层间绝缘层薄膜，并对层间绝缘层薄膜和栅绝缘层薄膜进行刻蚀形成源极46接触孔和漏极47接触孔，以形成层间绝缘层、栅绝缘层43，刻蚀例如可以是干刻。

接续，在层间绝缘层上形成第二导电薄膜，并对第二导电薄膜进行构图以形成源极46和漏极47，源极46通过源极46接触孔与有源层42连接，漏极47通过漏极47接触孔与有源层42连接。

在步骤100中，如图5(a)所示，在源极46和漏极47上形成中间层50(即平坦化层)。具体地，在源极46和漏极47上形成平坦化层薄膜，对平坦化层薄膜进行构图以形成过孔，以形成平坦化层。

在步骤200中，如图5(b)所示，在位于隔离区域23的中间层50(即平坦化层)开设斜槽51，斜槽51闭合环绕开孔区域22设置，斜槽51包括倾斜设置的第一侧面511，第一侧面511与斜槽51的底面形成的第一夹角α为锐角。通过激光刻蚀工艺形成斜槽51，且激光的照射方向为斜向。激光刻蚀工艺具有能够精确控制刻蚀深度及工艺简单的优势。

在步骤300中，如图5(c)所示，在中间层50(即平坦化层)上形成第三导电薄膜，对第三导电薄膜进行构图以形成阳极62，阳极62通过平坦化层上的过孔与漏极47电连接；在阳极62上形成像素界定层薄膜，对像素界定层薄膜进行构图形成像素界定层63，像素界定层63具有开口区域以露出阳极62；在像素界定层63的开口区域形成发光功能层61；在发光功能层61上形成第四导电薄膜，并对第四导电薄膜进行构图以形成阴极，以完成发光器件60的制作。其中，通过蒸镀工艺形成发光功能层61，以使在蒸镀过程中，通过斜槽51的第一侧面511使发光功能层61断开。

在本实施例中，有源层薄膜、第一导电薄膜、第二导电薄膜、第三导电薄膜以及第四导电薄膜的构图包括涂布光刻胶、曝光、显影及刻蚀等工艺。平坦化层薄膜和像素界定层薄膜的构图包括涂布光刻胶、曝光及显影等工艺。

可选的，在步骤300之前，即在中间层50上形成发光功能层61之前，显示面板20的制备方法还包括：

在隔离区域23与像素区域25之间的阻挡区域24形成阻挡柱70，阻挡柱70闭合环绕隔离区域23设置，阻挡柱70的上表面高出像素区域25的中间层50的上表面。

在步骤300中，即在中间层50上形成发光功能层61步骤中还包括：在阻挡柱70上形成发光功能层61。

在步骤300之后，即在形成发光功能层61之后，如图5(d)所示，显示面板20的制备方法还包括：

在发光功能层61以及斜槽51的第一侧面511上形成封装层80，位于像素区域25的封装层80包括沿厚度方向T由下至上依次叠设的第一无机封装层、有机层以及第二无机封装层，位于阻挡区域24和隔离区域23的封装层80仅包括沿所述厚度方向T由下至上依次叠设的第一无机封装层以及第二无机封装层。

在形成封装层80后，通过激光切割得到带孔的显示面板20。

实施例2

请结合图6至图8以理解，本实施例的显示面板的整体结构基本和实施例1中的结构相同，其不同的之处在于，中间层50包括沿厚度方向T由下至上依次叠设的第一中间层52和第二中间层53。斜槽51包括沿厚度方向T由下至上依次叠设的第一部分51a和第二部分51b，第一部分51a位于第一中间层52，第二部分51b位于第二中间层53，每一部分都具有第一侧面，第一部分51a的第一侧面511a与第二部分51b的第一侧面511b分别位于不同的平面内。发光功能层61在第一部分51a的第一侧面511a以及所述第二部分51b的第一侧面511b均断开。这样，通过在同一斜槽51内形成两个第一侧面511，能够发光功能层61在同一斜槽51内形成两次断开，从而能够更好地避免水汽和氧气从开孔区域22的开口沿发光功能层61进入像素区域25中，对像素区域25造成侵蚀。

如图6所示，第一部分51a的第一侧面511a的倾斜方向与第二部分51b的第一侧面511b的倾斜方向相反。在本实施例中，如图7所示，斜槽51的第一部分51a的长度L11为6微米～10微米，斜槽51的第二部分51b的长度L12为10微米～13微米。

如图8所示，在本实施例的另一实施方式中，第一部分51a的第一侧面511a的倾斜方向与第二部分51b的第一侧面511b的倾斜方向也可以相同。

基于同一发明构思，本申请的实施例提供一种显示面板20的制备方法，如图9(a)～图9(e)所示。本实施例的制备方法的整体步骤基本和实施例1中的步骤相同，其不同的之处在于：

在步骤100中，如图9(a)所示，在源极46和漏极47上形成中间层50，中间层50包括第一中间层52和第二中间层53。具体地，在源极46和漏极47上形成第一平坦化层薄膜，对第一平坦化层薄膜进行构图以形成过孔，以形成第一平坦化层，即第一中间层52；在第一平坦化层形成第二平坦化层薄膜，对第二平坦化层薄膜进行构图以形成过孔，以形成第二平坦化层，即第二中间层53；

在步骤200中，如图9(b)所示，通过激光刻蚀工艺在第一平坦化层形成斜槽51的第一部分51a，斜槽51的第一部分51a向左(或者向右)倾斜；如图9(c)所示，再次通过激光刻蚀工艺在第二平坦化层形成斜槽51的第二部分51b，斜槽51的第二部分51b向右(或者向左)倾斜；每一部分都具有第一侧面，第一部分51a的第一侧面511a与第二部分51b的第一侧面511b分别位于不同的平面内。

接续，步骤200之后的步骤均与实施例1相同。如图9(d)所示，沿厚度方向T在中间层50上形成发光功能层61，位于隔离区域23的发光功能层61在第一部分51a的第一侧面511a以及第二部分51b的第一侧面511b均断开；如图9(e)所示，在发光功能层61、斜槽51的第一部分51a的第一侧面511a以及第二部分51b的第一侧面511b上形成封装层80，位于像素区域25的封装层80包括沿厚度方向T由下至上依次叠设的第一无机封装层、有机层以及第二无机封装层，位于阻挡区域24和隔离区域23的封装层80仅包括沿所述厚度方向T由下至上依次叠设的第一无机封装层以及第二无机封装层。

本实施例的显示面板及其制备方法和显示装置，通过在同一斜槽内形成两个第一侧面(第一部分51a的第一侧面511a以及第二部分51b的第一侧面511b)，能够发光功能层在同一斜槽内形成两次断开，从而能够更好地避免水汽和氧气从开孔区域的开口沿发光功能层进入像素区域中，对像素区域造成侵蚀。

以上所述仅为本申请的较佳实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请保护的范围之内。

Claims (10)

1.一种显示面板，所述显示面板包括基底，其特征在于，所述显示面板具有显示区，所述显示区包括开孔区域、闭合环绕所述开孔区域设置的隔离区域、以及围绕所述隔离区域设置的像素区域；

所述像素区域与所述隔离区域沿所述显示面板的厚度方向均设置有依次叠设于所述基底上的中间层、发光功能层和封装层，其中所述中间层为平坦化层；

位于所述隔离区域的所述中间层开设有闭合环绕所述开孔区域的斜槽，所述斜槽包括倾斜设置的第一侧面与第二侧面，所述第一侧面与所述斜槽的底面形成的第一夹角为锐角，所述第一侧面与所述第二侧面相对设置，所述第二侧面与所述斜槽的底面形成的第二夹角为钝角；

其中，位于所述隔离区域的所述发光功能层在所述斜槽的第一侧面断开，并且所述发光功能层的一部分位于所述斜槽内；

所述中间层包括沿所述厚度方向由下至上依次叠设的第一中间层和第二中间层；

所述斜槽包括沿所述厚度方向由下至上依次叠设的第一部分和第二部分，所述第一部分位于所述第一中间层，所述第二部分位于所述第二中间层，每一部分都具有所述第一侧面，所述第一部分的第一侧面与所述第二部分的第一侧面分别位于不同的平面内；

所述发光功能层在所述第一部分的第一侧面以及所述第二部分的第一侧面均断开，所述封装层在所述第一部分的第一侧面以及所述第二部分的第一侧面均不发生断开。

2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一夹角为30度～60度。

3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一部分的所述第一侧面的倾斜方向与所述第二部分的所述第一侧面的倾斜方向相同或者相反。

4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示区还包括阻挡区域，所述阻挡区域位于所述隔离区域与所述像素区域之间，所述阻挡区域中设置有位于所述基底上的阻挡柱，所述阻挡柱闭合环绕所述隔离区域设置，所述阻挡柱的上表面高出所述像素区域的中间层的上表面，所述发光功能层及所述封装层设于所述阻挡柱的上表面。

5.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，位于所述像素区域的所述封装层包括沿所述厚度方向由下至上依次叠设的第一无机封装层、有机层以及第二无机封装层，位于所述阻挡区域和所述隔离区域的所述封装层仅包括沿所述厚度方向由下至上依次叠设的第一无机封装层以及第二无机封装层。

6.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡柱的上表面高出所述像素区域的中间层的上表面2.5微米～3.5微米。

7.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的显示面板。

8.一种显示面板的制备方法，所述制备方法用于制作权利要求1-6任一项所述的显示面板，其特征在于，所述制备方法包括：

沿所述厚度方向，在所述基底上形成所述中间层；

在位于所述隔离区域的所述中间层开设所述斜槽，所述斜槽闭合环绕所述开孔区域设置，所述斜槽包括倾斜设置的第一侧面，所述第一侧面与所述斜槽的底面形成的第一夹角为锐角；

沿所述厚度方向在所述中间层上形成所述发光功能层，位于所述隔离区域的所述发光功能层在所述斜槽的第一侧面断开。

9.如权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，通过激光刻蚀工艺形成所述斜槽。

10.如权利要求9所述的显示面板的制备方法，其特征在于，通过蒸镀工艺形成所述发光功能层。

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