KR102367763B1

KR102367763B1 - 펠리클용 점착제, 그것을 사용한 펠리클 및 펠리클의 평가 방법

Info

Publication number: KR102367763B1
Application number: KR1020150174117A
Authority: KR
Inventors: 준 호리코시; 유 야나세
Original assignee: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
Priority date: 2014-12-25
Filing date: 2015-12-08
Publication date: 2022-02-24
Also published as: KR20160078876A; US9703188B2; EP3037879B1; JP2016122090A; US20160187771A1; EP3037879A1; JP6308623B2; TW201631101A; TWI682981B

Abstract

(과제) 펠리클 프레임 상에 도포된 점착제의 요철, 기복 상태를 용이하면서 또한 정확하게 평가할 수 있는 펠리클용 점착제, 그것을 사용한 펠리클 및 펠리클의 평가 방법을 제공한다.
(해결 수단) 펠리클을 포토마스크에 첩부하기 위한 펠리클용 점착제로서, 점착제에 응력 발광 재료를 첨가한 것이다.

Description

펠리클용 점착제, 그것을 사용한 펠리클 및 펠리클의 평가 방법{AN AGGLUTINAT FOR PELLICLE, A PELLICLE USING IT AND A METHOD FOR EVALUATING PELLICLE}

본 발명은 반도체 디바이스, 프린트 기판, 액정 디스플레이 등을 제조할 때의 먼지 방지용으로 사용되는 리소그래피용 펠리클에 관한 것으로, 특히나 펠리클용 점착제, 그것을 사용한 펠리클 및 펠리클의 평가 방법에 관한 것이다.

LSI, 초 LSI 등의 반도체 디바이스나 액정 디스플레이 등을 제조할 때, 반도체 웨이퍼 또는 액정용 원판 (原板) 에 광을 조사하여 패턴을 제작하는데, 이 때에 사용하는 포토마스크 혹은 레티클 (이하, 이것들을 간단히 「포토마스크」로 기술한다) 에 먼지가 부착되어 있으면, 패턴의 에지가 버석거리는 것 외에, 하지 (下地) 가 검게 오염되거나 하는 등, 얻어지는 제품의 치수, 품질, 외관 등이 손상된다는 문제가 있었다.

이 때문에, 패턴의 제작 작업은 통상적으로 클린 룸 내에서 행해지고 있지만, 그래도 포토마스크를 항상 청정하게 유지하는 것은 어렵다. 그래서, 포토마스크 표면에 먼지 방지를 위해 펠리클을 첩부 (貼付) 한 후에 노광이 행해지고 있다. 이 경우, 이물질은 포토마스크의 표면에는 직접 부착되지 않고, 펠리클막 상에 부착되기 때문에, 리소그래피시에 초점을 포토마스크의 패턴 상에 맞춰 두면, 펠리클막 상의 이물질은 전사 (轉寫) 와 무관하게 된다.

일반적으로, 펠리클은 광을 잘 투과시키는 니트로셀룰로오스, 아세트산셀룰로오스, 불소 수지 등으로 이루어지는 투명한 펠리클막을 알루미늄, 스테인리스, 폴리에틸렌 등으로 이루어지는 펠리클 프레임의 상단면 (上端面) 에 펠리클막의 양용매를 도포한 후, 풍건시켜 접착하거나 (특허문헌 1 참조), 아크릴 수지나 에폭시 수지 등의 접착제에 의해 접착하고 있다 (특허문헌 2, 3 참조). 또, 펠리클 프레임의 하단에는, 포토마스크에 첩부하기 위한, 폴리부텐 수지, 폴리아세트산비닐 수지, 아크릴 수지, 실리콘 수지 등으로 이루어지는 점착제층, 및 점착제층의 보호를 목적으로 한 이형층 (세퍼레이터) 가 형성되어 있다.

일본 공개특허공보 소58-219023호 미국 특허 제4861402호 명세서 일본 특허공보 소63-27707호

펠리클은, 포토마스크 상의 패턴에 대한 이물질 부착을 방지하기 위해서 점착제층을 개재하여 포토마스크에 첩부되는데, 점착제층이 전체 둘레에 걸쳐, 요철이나 기복이 없이 평탄하게 펠리클 프레임에 형성되어, 확실하면서 또한 균일하게 포토마스크에 첩부되어 있지 않으면, 점착제층의 요철이나 기복 부분에 의해서 포토마스크와의 첩부면에 불균일한 응력 분포가 생기고, 그 때문에 포토마스크 상의 패턴을 변형시켜 버릴 가능성이 있다.

최근에는, 펠리클을 포토마스크에 첩부할 때에 포토마스크의 패턴을 변형시키지 않도록, 펠리클 프레임의 평탄도가 높은 것을 사용하거나, 점착제를 평탄히 도포하거나 하고 있지만, 그래도 점착제층 표면의 미소한 요철이나 기복, 점착제층 폭의 굵기의 차이, 펠리클 첩부시의 펠리클과 포토마스크가 이루는 각도 등에 따라서는, 펠리클을 포토마스크에 첩부할 때에, 포토마스크 상의 패턴을 변형시켜 버리는 경우가 있다.

점착제를 펠리클 프레임 상에 요철이나 기복없이 도포하는 방법은 몇 가지가 있는데, 도포 후에 형성된 점착제층의 형상이나 상태를 상세하게 평가하기 위한 특별한 방법은 없고, 간이적인 방법으로서, 펠리클을 유리 기판에 첩부하고, 그 때의 점착제층의 첩부 상태를 유리 기판의 뒷편에서부터 육안이나 또는 CCD 카메라로 관찰하는 방법이 있을 뿐이다. 그러나, 이러한 방법으로는 점착제층의 첩부 후의 폭의 굵기나 가늘기는 확인할 수 있지만, 점착제층에 어느 만큼의 요철이나 기복이 발생하고 있는지 (있었는지) 까지는 알 수 없다.

또한, 종래에 있어서, 점착제층의 형상을 보다 상세히 평가하고자 하는 경우에는, 펠리클을 유리 기판에 첩부한 후, 펠리클마다 Flat Master, Ultra Flat 등의 장치 (모두 SOL 사 제조) 를 사용하여 측정하지 않으면 안되었다. 그러나, 이러한 장치들을 사용한 측정은 번잡하면서 또한 시간이 걸리는 것이었다.

이와 같이, 펠리클 프레임 상에 형성된 점착제층의 요철, 기복 상태를 용이하면서 또한 정확하게 평가하기란 곤란하다는 문제점이 있었다.

그래서 본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 이루어진 것으로, 펠리클 프레임 상에 형성된 점착제층의 요철, 기복 상태를 용이하면서 또한 정확하게 평가할 수 있는 펠리클용 점착제, 그것을 사용한 펠리클 및 펠리클의 평가 방법을 제공하는 것을 과제로 하고 있다.

상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토를 실시한 결과, 본 발명자는, 펠리클 프레임 상에 형성된 점착제층에 요철이나 기복이 있으면, 펠리클을 포토마스크에 첩부했을 때에 점착제층의 요철이나 기복이 있는 부분과 평탄한 부분에서는 응력차가 발생하지만, 점착제층을 형성하는 점착제 중에 응력에 의해 발광하는 재료를 첨가해 두면, 펠리클을 포토마스크에 첩부했을 때, 점착제층의 요철이나 기복에서 기인하여 생긴 응력차에 의해서 발광량에 차이가 생기기 때문에, 그 발광 상태를 관찰함으로써, 점착제층의 요철이나 기복의 정도를 용이하면서 또한 정확하게 평가할 수 있음을 알아내어, 본 발명의 펠리클용 점착제, 펠리클, 및 펠리클의 평가 방법을 완성하기에 이르렀다.

즉, 본 발명의 펠리클용 점착제는 펠리클을 포토마스크에 첩부하기 위한 펠리클용 점착제로서, 점착제에 응력 발광 재료를 첨가한 것이다.

본 발명의 펠리클용 점착제는, 가해진 응력에 따라서 발광량이 변화하는 응력 발광 재료를 함유하고 있고, 펠리클 프레임의 일방의 단면 (端面) 에 그 점착제가 도포된 펠리클을 포토마스크에 첩부했을 때에, 예를 들어 점착제의 도포 두께가 균일하지 않고 일부에 볼록 형상으로 튀어나온 부분이 있으면, 그 점착제에 의해서 형성된 점착제층의 볼록 형상부에 평탄부보다 상대적으로 큰 응력이 가해지고, 그 때문에, 그 점착제 중에 첨가된 응력 발광 재료가 강하게 발광한다. 반대로, 형성된 점착제층에 오목 형상으로 패여 있는 부분이 있는 경우, 오목 형상부에 가해지는 응력은 그 주변부보다 상대적으로 작고, 그 때문에 발광은 약하거나 혹은 발광하지 않는다. 이와 같이 발광 상태를 확인함으로써, 점착제층의 요철, 기복 상태를 간단하면서 또한 정확하게 평가할 수 있다.

상기 응력 발광 재료로는 응력의 크기에 따라서 발광량이 변화하는 재료, 예를 들어, 유로퓸 (Eu) 이온을 발광 이온으로 하여 부활시킨 알루민산스트론튬계의 재료를 들 수 있다.

상기 응력 발광 재료의 첨가량은, 상기 점착제 100 질량부에 대하여 50 ∼ 1,000 질량부로 하는 것이 바람직하다.

상기 점착제의 주성분은 실리콘계 조성물, 또는 아크릴계 조성물인 것이 바람직하다.

또한, 본 발명의 펠리클은, 적어도 펠리클막과, 그 펠리클막이 일방의 단면에 첩부된 펠리클 프레임과, 그 펠리클 프레임의 타방의 단면에 펠리클을 포토마스크에 첩부하기 위한 점착제층을 갖는 펠리클로서, 그 점착제층이, 본 발명의 펠리클용 점착제로 이루어지는 것을 특징으로 하는 것이다.

또한, 본 발명의 펠리클의 평가 방법은, 본 발명의 펠리클을 포토마스크에 첩부하고, 그 때의 그 펠리클의 점착제층의 발광량을 확인하는 것을 특징으로 하는 것이다.

본 발명에 의하면, 육안으로 점착제층의 발광의 유무나 발광의 강약을 관찰할 수 있어, 이로써 펠리클 프레임 상에 형성된 점착제층의 요철이나 기복 등의 상태를 용이하면서 또한 정확하게 평가할 수 있다.

그리고, CCD 카메라 및 화상 처리 장치를 사용하여 발광 면적이나 발광량을 측정함으로써 펠리클 프레임 상에 형성된 점착제층의 요철이나 기복 등의 상태를 정량적으로 평가할 수 있고, 그 결과, 개인차가 없는, 보다 정확하고 신뢰성이 높은 평가가 가능해진다.

도 1 은 응력 발광 재료가 첨가된 본 발명의 펠리클용 점착제를 사용한, 본 발명 펠리클의 일례를 나타내는 개략 종단면도이다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하지만, 본 발명은 도면에 나타낸 양태에 한정되는 것은 아니다.

도 1 은, 응력 발광 재료가 첨가된 본 발명의 펠리클용 점착제를 사용한, 본 발명 펠리클의 일례를 나타내는 개략 종단면도이다.

도 1 에 있어서, 본 발명의 일례를 나타내는 펠리클 (1) 은, 펠리클 (1) 을 첩부하는 포토마스크 (유리 기판) 의 형상에 대응한 형상, 일반적으로는 사각형틀 형상 (장방형틀 형상 또는 정방형틀 형상) 을 한 펠리클 프레임 (12) 의 상단면에 펠리클막 (11) 이 쳐져 있고 (張設), 펠리클 프레임 (12) 의 하단면에는 펠리클 (1) 을 포토마스크 (유리 기판) 에 첩부하기 위한 점착제층 (13) 이 형성되어 있다. 이 점착제층 (13) 은 응력 발광 재료를 함유한 점착제, 즉, 본 발명의 펠리클용 점착제로 이루어지는 것이다. 또한, 점착제층 (13) 의 하단면에는 점착제층 (13) 을 보호하기 위한 이형층 (세퍼레이터) (14) 이 박리 가능하게 첩부되어 있다.

여기서, 본 발명에 있어서는 펠리클막 및 펠리클 프레임의 재질에 특별히 제한은 없고, 공지된 것을 사용할 수 있지만, 강성, 가공성의 면에서 펠리클 프레임은 금속제의 것이 바람직하다. 또한, 펠리클막은 공지된 방법으로 펠리클 프레임에 접착된다.

본 발명의 펠리클에 있어서는, 본 발명의 펠리클용 점착제는 펠리클 프레임의 하단면에 소정의 폭 (통상, 펠리클 프레임의 프레임폭과 동일하거나 또는 그 이하) 으로 도포되고, 또한, 펠리클 프레임의 하단면의 둘레 방향의 전체 둘레에 걸쳐 펠리클 프레임을 포토마스크 (유리 기판) 에 첩부할 수 있도록 도포된다.

전술한 바와 같이, 본 발명의 펠리클용 점착제는 점착제에 응력 발광 재료를 첨가한 것인데, 그 점착제로는 공지된 것을 사용할 수 있다. 특히 실리콘계 조성물을 주성분으로 하는 실리콘계 점착제나 아크릴계 조성물을 주성분으로 하는 아크릴계 점착제를 바람직하게 사용할 수 있다.

상기 실리콘계 점착제로는, 예를 들어, X-40-3122, KR-3700, X-40-3103, X-40-3264 등의 실리콘 점착제 (모두 신에츠 화학 공업사 제조 : 제품명) 를 사용할 수 있다.

상기 아크릴계 점착제로는, 예를 들어, SK 다인 시리즈의 SK-1425, SK-1495 등의 아크릴 점착제 (모두 소켄 화학사 제조 : 제품명) 를 사용할 수 있다.

상기 실리콘계 점착제 중에서는, 특히 점착 강도가 강하고, 저분자 실록산이 저감되어 있는 점에서, X-40-3122 (신에츠 화학 공업사 제조 : 제품명) 이 바람직하다. 또한, 상기 아크릴계 점착제 중에서는 점착력이나 작업성의 면에서, SK-1495 (소켄 화학사 제조 : 제품명) 가 바람직하다.

본 발명의 펠리클용 점착제에 첨가되는 응력 발광 재료는, 응력을 받으면 발광하는 재료이면 특별히 한정되지 않지만, 응력 발광 재료의 모재가 되는 알루민산스트론튬에 부활제로서 유로퓸 (Eu) 이온 또는 유로퓸 이온원 (源) 으로서 유로퓸 화합물을 첨가한 재료가 바람직하다. 여기서, 알루민산스트론튬은 일반식 : Sr_xAl_yO_z (0 ＜ X, 0 ＜ y, 0 ＜ Z) 로 나타내는 화합물이고, 구체적으로는, SrAl₂O₄, SrAl₄O₇, Sr₄Al₁₄O₂₅, SrAl₁₂O₁₉, Sr₃Al₂O₆ 등의 화합물이 예시된다. 또한, 알루민산스트론튬은, 알루미나와 스트론튬 화합물을 반응시켜 얻을 수 있다.

상기 알루미나로는, α 알루미나, θ 알루미나, κ 알루미나, δ 알루미나, η 알루미나, χ 알루미나, γ 알루미나, ρ 알루미나 등을 들 수 있다. 그 중에서도 α 알루미나, θ 알루미나, η 알루미나가 바람직하게 사용된다.

상기 스트론튬 화합물로는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 탄산스트론튬, 산화스트론튬, 수산화스트론튬, 할로겐화스트론튬, 황산스트론튬, 질산스트론튬, 인산수소스트론튬 등을 들 수 있다.

상기 유로퓸 화합물도 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 탄산유로퓸, 산화유로퓸, 염화유로퓸, 황산유로퓸, 황산유로퓸, 아세트산유로퓸 등을 들 수 있다.

상기 응력 발광 재료의 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 구체적으로는, 예를 들어, 알루미나와 스트론튬 화합물을 반응시켜 얻은 알루민산스트론튬과 유로퓸 화합물을 물 및/또는 유기 용매 중에 첨가하여 혼합하고, 그 후, 물 및/또는 유기 용매를 제거하고, 남은 고형분을 소성, 분쇄 등을 함으로써 얻을 수 있다.

상기 응력 발광 재료는, 점착제층의 응력이 가해진 지점에 있어서, 응력의 세기에 따라서 녹색의 광을 발광한다. 이 경우, 점착제 중에 있어서의 응력 발광 재료의 농도 (첨가량) 가 높을수록 발광 응답성은 양호하지만, 응력 발광 재료의 첨가량이 본 발명의 펠리클용 점착제의 원료인 점착제 100 질량부에 대하여 1,000 질량부를 초과하면, 그 점착제에 응력 발광 재료를 반죽해 넣을 수 없게 되고, 또한, 첨가량이 50 질량부 미만에서는, 응력이 가해졌을 때의 발광이 약하기 때문에 발광량을 확인하기가 어렵다. 따라서, 응력 발광 재료의 첨가량은, 상기 점착제 100 질량부에 대하여 50 ∼ 1,000 질량부의 첨가량으로 하는 것이 바람직하다.

또한, 본 발명의 펠리클용 점착제에는, 목적에 따라서 본 발명의 특징을 방해하지 않는 범위에서 다른 성분을 배합할 수 있다. 예를 들어, 이형제, 안료, 염료, 가소제, 난연성 부여제, 내열성 향상제, 내후성 향상제, 틱소트로피 부여제, 항균제, 곰팡이 방지제 등을 배합해도 된다.

상기 응력 발광 재료의 대부분은 분말상이기 때문에, 점착제 중에 균일하게 배합하기가 곤란한 경우가 있다. 그와 같을 때에는, 필요에 따라서 톨루엔, 자일렌 등의 방향족계 용제, 헥산, 옥탄, 이소옥탄, 이소파라핀 등의 지방족계 용제, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용제, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르계 용제, 디이소프로필에테르, 1,4-디옥산 등의 에테르계 용제, 또는 이들의 혼합 용제에 상기 응력 발광 재료를 분산시키고 나서 점착제에 첨가해도 된다.

펠리클 프레임 (12) 에 대한 상기 펠리클용 점착제의 도포는, 필요에 의해 그 점착제를 용매로 희석시킨 것을 펠리클 프레임 (12) 의 하단면에 도포함으로써 실시한다. 그리고, 그 점착제를 가열 건조, 경화시킴으로써 점착제층 (13) 이 형성된다. 이 경우, 펠리클용 점착제의 도포 방법으로는, 브러시 칠하기, 스프레이, 자동 디스펜서 등에 의한 방법을 들 수 있다.

이형층 (세퍼레이터) (14) 은, 펠리클을 포토마스크에 첩부하기까지 점착제층 (13) 을 보호하기 위한 것으로, 펠리클의 사용시에는 제거된다. 그 때문에, 이형층 (세퍼레이터) 은, 점착제층을 펠리클의 사용시까지 보호가 필요한 경우에 적절히 형성된다. 제품 펠리클은 일반적으로, 이형층 (세퍼레이터) 을 첩부시킨 상태로 유통된다. 이형층 (세퍼레이터) 의 재질에 관해서는 특별히 제한은 없으며, 공지된 것을 사용할 수 있다. 또한, 이형층 (세퍼레이터) 은 공지된 방법으로 점착제층에 첩부하면 된다.

본 발명의 펠리클용 점착제를 사용하여 이루어지는 펠리클은, 통상적인 포토마스크의 먼지 방지용으로서의 기능을 가질 뿐만 아니라, 그 펠리클을 포토마스크에 첩부한 후, 포토마스크를 구성하는 유리 기판의 뒷쪽에서부터 발광을 관찰함으로써 점착제층의 요철, 기복 등을 간편하면서 또한 효과적으로 평가할 수 있다.

본 발명의 평가 방법에서는, 육안에 의해 점착제층의 발광의 유무나 발광의 강약을 관찰할 수 있기 때문에, 종래의 응력 발광 재료를 함유하지 않은 점착제를 사용한 펠리클보다 용이하면서 또한 정확하게 점착제층의 요철, 기복 상태를 평가할 수 있다.

그리고, CCD 카메라와 화상 처리 장치를 사용하여 발광 면적이나 발광량을 측정함으로써 점착제층의 요철, 기복 상태를 정량적으로 평가하는 것이 가능해지기 때문에, 펠리클에 형성된 점착제층의 평가 기준을 명확히 할 수 있어, 관찰자에 따라서 평가 기준이 상이하다는 등의 문제를 해결하고, 보다 정확하고 효과적인 평가가 가능해진다.

실시예

이하, 실시예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.

[실시예 1]

먼저, 알루미늄 합금제의 펠리클 프레임 (외형 사이즈 149 ㎜ × 122 ㎜ × 높이 5.8 ㎜, 두께 2 ㎜) 을 클린 룸 안으로 반입하고, 중성 세제와 순수를 사용하여 충분히 세정 후, 건조시켰다.

한편, 실리콘 점착제 X-40-3122 (신에츠 화학 공업사 제조 : 제품명) 100 질량부에, 유로퓸 (Eu) 이온을 발광 이온으로 하여 부활시킨 알루민산스트론튬으로 이루어지는 응력 발광 재료 ML-032 (사카이 화학 공업사 제조 : 제품명) 를 100 질량부 첨가하고, 혼합하여, 펠리클용 점착제를 조제하였다. 그리고, 조제한 그 점착제를 자동 디스펜서 (이와시타 엔지니어링사 제조, 도시 생략) 를 사용하여 펠리클 프레임의 하단면에 도포하였다.

그 후, 그 점착제의 유동성이 없어질 때까지 풍건시킨 후, 다시 고주파 유도 가열 장치 (도시 생략) 에 의해 펠리클 프레임을 130 ℃ 까지 가열하여, 그 점착제를 경화시켜 점착제층을 형성하였다.

또한, 상기 펠리클 프레임 상단면에는, 접착제로서 사이톱 CTX-A (아사히 가라스사 제조 : 제품명) 을 개재하여 펠리클막을 첩부하고, 커터로 틀 밖의 불필요한 막을 절제하여 펠리클을 완성시켰다.

[실시예 2]

상기 점착제를, 아크릴 점착제 SK-1495 (소켄 화학사 제조 : 제품명) 100 질량부에 대하여 응력 발광 재료 ML-032 (사카이 화학 공업사 제조 : 제품명) 를 100 질량부 첨가하고, 혼합하여 조제한 것 외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 펠리클을 제작하였다.

[비교예 1]

상기 점착제로서, X-40-3122 (신에츠 화학 공업사 제조 : 제품명) 를 사용하고, 응력 발광 재료를 첨가하지 않은 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 펠리클을 제작하였다.

[비교예 2]

상기 점착제로서, SK-1495 (소켄 화학사 제조 : 제품명) 을 사용하고, 응력 발광 재료를 첨가하지 않은 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 펠리클을 제작하였다.

[점착제층의 첩부 상태의 관찰]

실시예 1, 2 및 비교예 1, 2 에서 얻어진 펠리클을 각각 유리 기판의 패턴 형성면측에 첩부하고, 이하에 나타내는 바와 같이, 육안 및 CCD 카메라로 각 펠리클의 점착제층의 첩부 상태를 관찰하였다 (관찰 1, 2).

1. 형광등 하에 있어서의 육안에 의한 첩부 상태의 관찰

클린 룸 내에 있어서, 형광등 아래에서, 펠리클이 첩부된 유리 기판의 이면으로부터 점착제층이 첩부된 부분을 육안에 의해, 발광의 유무나 발광의 강약을 확인하였다.

2. CCD 카메라에 의한 첩부 상태의 관찰

상기와 동일한 조건하에서, 펠리클이 첩부된 유리 기판의 이면으로부터 점착제층이 첩부된 부분을 CCD 카메라/화상 처리 장치 (IV 시리즈, CV-X100 시리즈 (모두 키엔스사 제조) 에 의해, 발광의 유무나 발광의 강약을 확인하였다.

또, 상기 관찰 1, 2 는, 점착제층과 유리 기판의 첩부 상태의 양호/불량을 확인하기 위해 점착제의 도포 상태를 의도적으로 바꿔서 실시하였다. 즉, 점착제층의 요철, 기복 등이 없이 양호한 것 (도포 상태 양호품) 과, 요철, 기복 등이 있어 불충분한 것 (도포 상태 불충분품) 에 대하여 관찰을 실시하고, 이하에 나타내는 평가 기준으로 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.

(평가 기준)

◎ : 점착제층의 요철, 기복 상태를 일정한 기준 하에서 정량적으로 평가 가능.

○ : 점착제층의 요철, 기복 상태를 인식할 수 있고, 대략적으로 평가 가능.

× : 점착제층의 요철, 기복 상태를 인식할 수 없고, 평가 불가.

		실시예 1	실시예 2	비교예 1	비교예 2
육안 관찰	도포 상태 양호품	○	○	×	×
육안 관찰	도포 상태 불충분품	○	○	×	×
CCD 카메라 관찰	도포 상태 양호품	◎	◎	×	×
CCD 카메라 관찰	도포 상태 불충분품	◎	◎	×	×

표 1 의 결과로부터 알 수 있듯이, 본 발명의 펠리클용 점착제 및 그것을 사용한 펠리클을 사용하면, 펠리클을 유리 기판에 첩부했을 때의 점착제층이 받는 응력의 차이를 발광량의 차이로서 확인할 수 있어, 본 발명의 평가 방법에 의해 점착제층의 첩부 상태, 점착제층의 요철, 기복 등의 상태를 간단하면서 또한 정확하게 평가할 수 있다.

1 : 펠리클
11 : 펠리클막
12 : 펠리클 프레임
13 : 점착제층 (응력 발광 재료를 함유한 점착제)
14 : 이형층 (세퍼레이터)

Claims

펠리클을 포토마스크에 첩부하기 위한 펠리클용 점착제로서, 점착제에 응력 발광 재료를 첨가한 것을 특징으로 하는 펠리클용 점착제.
제 1 항에 있어서,
상기 응력 발광 재료가, 응력의 크기에 따라서 발광량이 변화하는 재료인, 펠리클용 점착제.
제 1 항에 있어서,
상기 응력 발광 재료가, 유로퓸 (Eu) 이온을 발광 이온으로 하여 부활시킨 알루민산스트론튬계의 재료인, 펠리클용 점착제.
제 1 항에 있어서,
상기 점착제의 주성분이 실리콘계 조성물인, 펠리클용 점착제.
제 1 항에 있어서,
상기 점착제의 주성분이 아크릴계 조성물인, 펠리클용 점착제.
제 1 항에 있어서,
상기 응력 발광 재료의 첨가량이, 상기 점착제 100 질량부에 대하여 50 ∼ 1,000 질량부인, 펠리클용 점착제.
적어도 펠리클막과, 그 펠리클막이 일방의 단면에 첩부된 펠리클 프레임과, 그 펠리클 프레임의 타방의 단면에 펠리클을 포토마스크에 첩부하기 위한 점착제층을 갖는 펠리클로서, 그 점착제층이 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 펠리클용 점착제로 이루어지는 것을 특징으로 하는 펠리클.
제 7 항에 기재된 펠리클을 포토마스크에 첩부하고, 그 때의 그 펠리클의 점착제층의 발광량을 확인하는 것을 특징으로 하는 펠리클의 평가 방법.
펠리클 프레임의 단면에, 제 1 항에 기재된 펠리클용 점착제로부터 얻어지는 점착제층을 형성하여 이루어지는, 점착제층이 형성된 펠리클 프레임.
포토마스크에, 제 7 항에 기재된 펠리클을 형성한, 펠리클 첩부 포토마스크.
제 10 항에 기재된 펠리클 첩부 포토마스크를 사용하여 노광하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
제 10 항에 기재된 펠리클 첩부 포토마스크를 사용하여 노광하는 공정을 갖는, 반도체 디바이스의 제조 방법.
제 10 항에 기재된 펠리클 첩부 포토마스크를 사용하여 노광하는 공정을 갖는, 액정 디스플레이의 제조 방법.