KR102314912B1

KR102314912B1 - Method for producing nickel particles

Info

Publication number: KR102314912B1
Application number: KR1020177004960A
Authority: KR
Inventors: 가츠히로 야마다; 슈지 이노우에
Original assignee: 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤
Priority date: 2014-09-30
Filing date: 2015-09-03
Publication date: 2021-10-19
Also published as: TW201612328A; CN106715010A; CN106715010B; WO2016052067A1; TWI648409B; JPWO2016052067A1; KR20170061659A; JP6608378B2

Abstract

본 발명의 니켈 입자 제조 방법은, Ⅰ) 적어도 카르복실산니켈을 함유하는 금속염과, 지방족 1 급 모노아민을 혼합·가열하여 종 입자를 형성하는 공정, Ⅱ) 니켈염과, 지방족 1 급 모노아민을 혼합·가열하여, 니켈염을 유기 아민에 용해시킨 니켈 착물 용액을 준비하는 공정, Ⅲ) 종 입자와 니켈 착물 용액을 혼합하여 혼합액을 얻는 공정, 및 Ⅳ) 혼합액 중의 니켈 이온을 가열 환원하고, 종 입자를 핵으로 하여 금속 니켈을 석출·성장시켜 니켈 입자를 형성하는 공정을 구비하고 있다.The method for producing nickel particles of the present invention comprises: I) a step of mixing and heating a metal salt containing at least nickel carboxylate and an aliphatic primary monoamine to form seed particles; II) a nickel salt and an aliphatic primary monoamine a step of preparing a nickel complex solution in which a nickel salt is dissolved in an organic amine by mixing and heating, III) a step of mixing the seed particles and a nickel complex solution to obtain a mixed solution, and IV) heating and reducing nickel ions in the mixed solution, The step of forming nickel particles by precipitating and growing metallic nickel using seed particles as nuclei is provided.

Description

니켈 입자의 제조 방법 {METHOD FOR PRODUCING NICKEL PARTICLES}Method for producing nickel particles {METHOD FOR PRODUCING NICKEL PARTICLES}

본 발명은 예를 들어 적층 세라믹스 콘덴서 (MLCC) 의 내부 전극 형성용의 도전성 페이스트 등의 용도에 바람직하게 이용할 수 있는 니켈 입자의 제조 방법에 관한 것이다. This invention relates to the manufacturing method of the nickel particle which can be used suitably for uses, such as an electrically conductive paste for internal electrode formation of a multilayer ceramic capacitor (MLCC), for example.

금속 미립자는 벌크 금속과는 상이한 물리적·화학적 특성을 갖기 때문에, 예를 들어, 도전성 페이스트나 투명 도전막 등의 전극 재료, 고밀도 기록 재료, 촉매 재료, 잉크젯용 잉크 재료 등의 여러 가지 공업 재료에 이용되고 있다. 최근에는 전자 기기의 소형화나 박형화에 수반하여 금속 미립자도 수십 ∼ 수백 ㎚ 정도까지 미립자화가 진행되고 있다. 예를 들어, 전자 기기의 소형화에 수반하여 적층 세라믹 콘덴서 (MLCC) 의 전극은 박막 다층화가 진행되고 있다. 이에 수반하여 전극층의 재료에는, 예를 들어 평균 입자경이 150 ㎚ 를 밑돌 정도로 작고, 입자경이 균일하여 그 편차가 작고, 또한, 가능한 한 분산성이 우수한 나노 입자가 바람직하다고 여겨지고 있다. 그 때문에, 공업적으로는 입도 분포가 샤프한 금속 미립자를 안정적으로 제조하는 기술의 개발이 요구되고 있다. Since fine metal particles have different physical and chemical properties from bulk metals, they are used, for example, in various industrial materials such as electrode materials such as conductive pastes and transparent conductive films, high-density recording materials, catalyst materials, and inkjet ink materials. is becoming In recent years, with the miniaturization and thinning of electronic devices, fine particles of metals are also being made into fine particles of several tens to hundreds of nm. For example, the thin film multilayering of the electrode of a multilayer ceramic capacitor (MLCC) is progressing with size reduction of an electronic device. In connection with this, for the material of the electrode layer, for example, nanoparticles having an average particle diameter as small as less than 150 nm, uniform particle diameter, small variation, and as excellent as possible in dispersibility are considered preferable. Therefore, industrially, development of the technique which manufactures stably the metal microparticles|fine-particles with a sharp particle size distribution is calculated|required.

입자 형상, 입자경이 균일하고, 2 차 응집이 적은 금속 미립자를 제조하는 방법으로서, 예를 들어 특허문헌 1 에서는, 금속염의 용액에 환원제를 첨가함으로써, 독립 단분산 상태에 있는 금속 초미립자 (핵) 를 생성시키는 공정과, 이 핵에, 환원제의 존재하, 금속염의 용액으로부터 금속을 환원 석출시키는 공정을 포함하는 다단계의 제조 방법이 제안되어 있다. As a method for producing metal fine particles having a uniform particle shape and particle size and little secondary agglomeration, for example, in Patent Document 1, metal ultrafine particles (nuclei) in an independent monodisperse state are obtained by adding a reducing agent to a solution of a metal salt. A multi-step manufacturing method has been proposed, which includes a step of producing it and a step of reducing and precipitating a metal from a solution of a metal salt in the nucleus in the presence of a reducing agent.

또, 이종 금속의 코어와 쉘을 포함하는 금속 미립자의 다단계 제조 방법으로서, 예를 들어 특허문헌 2 에서는, 니켈 입자, 코발트염 및 1 급 아민을 함유하는 혼합물을 가열하여 착화 반응액을 얻는 공정과, 이 착화 반응액을 가열하여 니켈-코발트 나노 입자 슬러리를 얻는 공정을 포함하는 니켈-코발트 나노 입자의 제조 방법이 제안되어 있다. In addition, as a multi-step method for producing metal fine particles including a core and a shell of a dissimilar metal, for example, Patent Document 2 discloses a step of heating a mixture containing nickel particles, a cobalt salt, and a primary amine to obtain a complexing reaction solution; , a method for producing nickel-cobalt nanoparticles including a step of heating the complexing reaction solution to obtain a nickel-cobalt nanoparticle slurry has been proposed.

일본 공개특허공보 평10-317022호Japanese Patent Laid-Open No. 10-317022 국제 공개 WO2011/115214호International publication WO2011/115214

특허문헌 1 의 실시예에서는, 핵이 되는 금속 초미립자의 크기가 100 ㎚ 를 초과하고, 최종적으로 제조되는 금속 미립자의 평균 입자경도 1 ㎛ 정도이기 때문에, 응집이 발생하기 어렵고, 입자경의 편차에 대한 허용 범위도 넓다. 그 때문에, 특허문헌 1 의 기술은, 현재의 공업 재료에 요구되는, 예를 들어 평균 입자경이 150 ㎚ 를 밑돌 정도로 작은 금속 미립자의 제조에 적용할 수 있는 것은 아니다. In the example of Patent Document 1, since the size of ultrafine metal particles serving as nuclei exceeds 100 nm, and the average particle diameter of the metal fine particles finally produced is about 1 μm, agglomeration is difficult to occur, and tolerance for particle size variation The range is also wide. Therefore, the technique of patent document 1 is not applicable to manufacture of the metal microparticles|fine-particles which are calculated|required by the present industrial material, for example, an average particle diameter is less than 150 nm.

본 발명의 목적은, 평균 입자경이 예를 들어 150 ㎚ 를 밑돌 정도로 작고, 또한, 입자경이 균일하여 그 편차가 작은 금속 미립자를 안정적으로 제조하는 것이다. It is an object of the present invention to stably manufacture metal fine particles having an average particle diameter as small as, for example, less than 150 nm, and having a uniform particle diameter and a small variation.

본 발명의 니켈 입자의 제조 방법은, 하기의 공정 Ⅰ ∼ Ⅳ:The manufacturing method of the nickel particle of this invention is following process I-IV:

Ⅰ) 적어도 카르복실산니켈을 함유하는 금속염과, 지방족 1 급 모노아민을 혼합하여 가열함으로써 종 입자를 형성하는 공정, I) a step of forming seed particles by mixing and heating a metal salt containing at least nickel carboxylate and an aliphatic primary monoamine;

Ⅱ) 니켈염과, 지방족 1 급 모노아민을 혼합하여 가열함으로써, 니켈염을 유기 아민에 용해시킨 니켈 착물 용액을 준비하는 공정, II) a step of preparing a nickel complex solution in which a nickel salt is dissolved in an organic amine by mixing and heating a nickel salt and an aliphatic primary monoamine;

Ⅲ) 상기 종 입자와 상기 니켈 착물 용액을 혼합하여 혼합액을 얻는 공정,Ⅲ) a step of mixing the seed particles and the nickel complex solution to obtain a mixed solution;

Ⅳ) 상기 혼합액 중의 니켈 이온을 가열 환원하고, 상기 종 입자를 핵으로 하여 금속 니켈을 석출·성장시켜 니켈 입자를 형성하는 공정IV) A step of heating and reducing nickel ions in the liquid mixture to form nickel particles by precipitating and growing metallic nickel using the seed particles as nuclei

을 구비하는 것을 특징으로 한다. It is characterized in that it is provided.

본 발명의 니켈 입자의 제조 방법은, 주사형 전자 현미경 관찰에 의한, 상기 종 입자의 평균 입자경 (D1) 이 10 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하의 범위 내여도 되고, 상기 니켈 입자의 평균 입자경 (D2) 이 20 ㎚ 이상 150 ㎚ 이하의 범위 내여도 되고, 또한, 8 ≥ D2/D1 이어도 된다. In the manufacturing method of the nickel particle of this invention, the average particle diameter (D1) of the said seed particle by scanning electron microscope observation may exist in the range of 10 nm or more and 50 nm or less, and the average particle diameter (D2) of the said nickel particle is It may exist in the range of 20 nm or more and 150 nm or less, and 8≥D2/D1 may be sufficient.

본 발명의 니켈 입자의 제조 방법은, 상기 종 입자의 입자경의 변동 계수 (CV1) 및 상기 니켈 입자의 입자경의 변동 계수 (CV2) 가 모두 0.2 이하여도 되고, 그 비 (CV1/CV2) 가 0.7 이상 1.3 이내의 범위 내여도 된다. In the manufacturing method of the nickel particle of this invention, 0.2 or less may be sufficient as both the coefficient of variation (CV1) of the particle diameter of the said seed particle, and the coefficient of variation (CV2) of the particle diameter of the said nickel particle, and the ratio (CV1/CV2) is 0.7 or more It may be within the range of 1.3.

본 발명의 니켈 입자의 제조 방법은, 상기 공정 Ⅱ 에서 사용하는 상기 지방족 1 급 모노아민은, 탄소수가 6 이상 20 이하의 범위 내여도 된다. In the manufacturing method of the nickel particle of this invention, C6-C20 may exist in the range of the said aliphatic primary monoamine used by the said process II.

본 발명의 니켈 입자의 제조 방법은, 상기 금속염이, 카르복실산니켈과, 구리, 은, 금, 백금 및 팔라듐에서 선택되는 1 종 이상의 금속의 염을 함유하고 있어도 된다. In the manufacturing method of the nickel particle of this invention, the said metal salt may contain the salt of 1 or more types of metal chosen from nickel carboxylate and copper, silver, gold|metal|money, platinum, and palladium.

본 발명의 니켈 입자의 제조 방법은, 상기 공정 Ⅰ 및 상기 공정 Ⅳ 의 가열을 마이크로파에 의해 실시해도 된다. In the manufacturing method of the nickel particle of this invention, you may perform the heating of the said process I and the said process IV with a microwave.

본 발명에 의하면, 상기 공정 Ⅰ ∼ 공정 Ⅳ 를 실시함으로써, 평균 입자경이 예를 들어 150 ㎚ 를 밑돌 정도로 작고, 또한, 입자경 분포가 샤프하고, CV 값이 작은 니켈 입자를 안정적으로 제조할 수 있다. 이 니켈 입자는, 예를 들어 적층 세라믹스 콘덴서 (MLCC) 의 내부 전극 형성용 도전성 페이스트 등의 전자 재료로서 바람직하게 이용할 수 있다. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, by implementing said process I - process IV, nickel particle with an average particle diameter small enough to be less than 150 nm, and a sharp particle diameter distribution and a small CV value can be manufactured stably. This nickel particle can be used suitably as electronic materials, such as an electrically conductive paste for internal electrode formation of a multilayer ceramic capacitor (MLCC), for example.

도 1 은 실시예 1 에서 제조한 니켈 입자 (종 입자) 의 주사형 전자 현미경 사진이다.
도 2 는 실시예 1 에서 제조한 니켈 입자의 주사형 전자 현미경 사진이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a scanning electron micrograph of the nickel particle (seed particle) manufactured in Example 1. FIG.
FIG. 2 is a scanning electron microscope photograph of the nickel particles prepared in Example 1. FIG.

본 실시형태에 관련된 니켈 입자의 제조 방법은 공정 Ⅰ ∼ 공정 Ⅳ 를 포함하고 있다. The manufacturing method of the nickel particle which concerns on this embodiment includes the process I - the process IV.

[공정 Ⅰ][Process Ⅰ]

공정 Ⅰ 에서는, 적어도 카르복실산니켈을 함유하는 금속염과, 지방족 1 급 모노아민을 혼합하여 가열함으로써 종 입자를 형성한다. 종 입자는 공정 Ⅳ 에서 니켈 입자의 성장의 핵으로서 기능하는 것이다. In process I, a seed particle is formed by mixing and heating the metal salt containing at least nickel carboxylate, and an aliphatic primary monoamine. The seed particles function as nuclei for the growth of nickel particles in step IV.

＜카르복실산니켈을 함유하는 금속염＞<Metal salt containing nickel carboxylate>

공정 Ⅰ 에서 사용하는 카르복실산니켈로는, 예를 들어, 환원 과정에서의 해리 온도 (분해 온도) 가 비교적 낮은 포름산니켈, 아세트산니켈 등을 사용하는 것이 바람직하다. 카르복실산니켈은 무수물이어도 되고, 또 수화물이어도 된다. 또한, 카르복실산니켈 대신에, 염화니켈, 질산니켈, 황산니켈, 탄산니켈, 수산화니켈 등의 무기염을 사용하는 것도 생각할 수 있지만, 무기염의 경우, 해리 (분해) 가 고온이기 때문에, 환원 과정에서 고온에서의 가열이 필요하여 바람직하지 않다. 또, Ni(acac)₂(β-디케토나토 착물), 스테아르산 이온 등의 유기 배위자에 의해 구성되는 니켈염을 사용하는 것도 생각할 수 있지만, 이들 니켈염을 사용하면, 원료 비용이 높아져 바람직하지 않다. As the nickel carboxylate used in step I, it is preferable to use, for example, nickel formate, nickel acetate, etc., which have a relatively low dissociation temperature (decomposition temperature) in the reduction process. Anhydride may be sufficient as nickel carboxylate, and a hydrate may be sufficient as it. In addition, it is also conceivable to use inorganic salts such as nickel chloride, nickel nitrate, nickel sulfate, nickel carbonate, and nickel hydroxide instead of nickel carboxylate. It is not preferable because it requires heating at a high temperature. Also, it is conceivable to use nickel salts composed of organic ligands such as Ni(acac) _{2 (β-diketonato complex) and stearate ions.} not.

공정 Ⅰ 에서 사용하는 금속염은, 카르복실산니켈 이외에, 예를 들어, 구리, 은, 금, 백금 및 팔라듐에서 선택되는 1 종 이상의 금속의 염을 함유하고 있어도 된다. 이들 금속의 염으로는, 예를 들어 포름산구리, 아세트산팔라듐 등의 카르복실산염, 질산은 등의 질산염, 염화금산, 염화백금산 등의 염화물 등을 사용하는 것이 바람직하다. 금속염은 무수물이어도 되고, 또 수화물이어도 된다. 금속염 중에서도, 구리염을 사용하는 것이 바람직하고, 분해 온도가 비교적 낮은 포름산구리를 사용하는 것이 가장 바람직하다. 공정 Ⅰ 에서는, 카르복실산니켈 이외의 금속염을 배합함으로써, 종 입자의 형성을 촉진할 수 있음과 함께, 종 입자의 입자경의 제어가 용이해진다.The metal salt used in process I may contain the salt of 1 or more types of metals chosen from copper, silver, gold|metal|money, platinum, and palladium other than nickel carboxylate, for example. As salts of these metals, it is preferable to use, for example, carboxylates such as copper formate and palladium acetate, nitrates such as silver nitrate, and chlorides such as chloroauric acid and chloroplatinic acid. An anhydride may be sufficient as a metal salt, and a hydrate may be sufficient as it. It is preferable to use a copper salt among metal salts, and it is most preferable to use the copper formate whose decomposition temperature is comparatively low. In process I, while being able to accelerate|stimulate formation of a seed particle by mix|blending metal salts other than nickel carboxylate, control of the particle diameter of a seed particle becomes easy.

공정 Ⅰ 에 있어서, 카르복실산니켈 이외의 금속염을 사용하는 경우, 금속염과의 배합 비율은, 예를 들어 이하와 같이 하는 것이 바람직하다. 금속염으로서, 구리염을 사용하는 경우, 카르복실산니켈과 구리염의 비율은, 공정 Ⅰ 에서 생성되는 니켈 및 구리의 합금의 종 입자 그리고 공정 Ⅳ 에서 생성되는 니켈 입자의 산화 안정성의 관점에서, 니켈 원소에 대한 구리 원소의 비율로서 3 중량％ 이상 50 중량％ 이하의 범위 내로 하는 것이 바람직하다. 금속염으로서, 구리염 이외의 것을 사용하는 경우, 카르복실산니켈과 금속염의 비율은, 예를 들어, 은 등의 니켈 이외의 이종 금속에 의한 마이그레이션에 의한 쇼트나 정전 용량의 저하 등의 제품 불량의 관점에서, 니켈 원소에 대한 구리염 이외의 금속 원소의 비율로서 0.01 중량％ 이상 2 중량％ 이하의 범위 내로 하는 것이 바람직하다. In the process I, when using metal salts other than nickel carboxylate, it is preferable to carry out the compounding ratio with a metal salt as follows, for example. When a copper salt is used as the metal salt, the ratio of the nickel carboxylate to the copper salt is a nickel element from the viewpoint of oxidation stability of the seed particles of the alloy of nickel and copper produced in the step I and the nickel particles produced in the step IV. It is preferable to set it as the ratio of the copper element with respect to 3 weight% or more and 50 weight% or less within the range. When a metal salt other than copper salt is used, the ratio of nickel carboxylate to the metal salt is, for example, a short circuit due to migration by a dissimilar metal other than nickel such as silver or a decrease in capacitance, etc. From a viewpoint, it is preferable to set it as the ratio of metal elements other than a copper salt with respect to a nickel element in the range of 0.01 weight% or more and 2 weight% or less.

＜지방족 1 급 모노아민＞<Alphatic Primary Monoamine>

지방족 1 급 모노아민은, 니켈 이온과의 착물을 형성할 수 있는 것이면, 특별히 한정되지 않고, 상온에서 고체 또는 액체인 것을 사용할 수 있다. 여기서, 상온이란, 20 ℃ ± 15 ℃ 를 말한다. 상온에서 액체의 지방족 1 급 모노아민은, 니켈 착물을 형성할 때의 유기 용매로서도 기능한다. 또한, 상온에서 고체의 지방족 1 급 모노아민이어도, 가열에 의해 액체이거나, 또는 유기 용매를 사용하여 용해되는 것이면, 특별히 문제는 없다. 공정 Ⅰ 에 있어서, 2 급 아민은 입체 장해가 크기 때문에, 니켈 착물의 양호한 형성을 저해할 우려가 있고, 3급 아민은 니켈 이온의 환원능을 갖지 않기 때문에 어느 것도 사용할 수 없다. 또, 디아민은, 금속 이온 중에서도 특히 니켈 이온과 형성된 착물의 안정성이 높고, 그 환원 온도는 높아지기 때문에 반응성이 매우 낮아, 생성되는 니켈 입자에 변형이 발생하기 쉬워지기 때문에 바람직하지 않다. The aliphatic primary monoamine is not particularly limited as long as it can form a complex with nickel ions, and a solid or liquid substance can be used at room temperature. Here, normal temperature means 20 degreeC±15 degreeC. A liquid aliphatic primary monoamine at room temperature also functions as an organic solvent for forming a nickel complex. Moreover, even if it is a solid aliphatic primary monoamine at normal temperature, if it is a liquid by heating, or if it melt|dissolves using an organic solvent, there will be no problem in particular. In the step I, since the secondary amine has a large steric hindrance, there is a fear that good formation of the nickel complex may be inhibited. Further, among metal ions, particularly among metal ions, the stability of the complex formed with nickel ions is high, and the reduction temperature thereof is high, so the reactivity is very low, and the resulting nickel particles are easily deformed, so that diamine is not preferred.

지방족 1 급 모노아민은, 예를 들어 그 탄소 사슬의 길이를 조정함으로써 생성되는 종 입자의 입경을 제어할 수 있다. 종 입자의 입경을 제어하는 관점에서, 지방족 1 급 모노아민은, 그 탄소수가 6 ∼ 20 정도인 것에서 선택하여 사용하는 것이 바람직하다. 탄소수가 많을수록 얻어지는 종 입자의 입경이 작아진다. 이와 같은 아민으로서, 예를 들어 옥틸아민, 트리옥틸아민, 디옥틸아민, 헥사데실아민, 도데실아민, 테트라데실아민, 스테아릴아민, 올레일아민, 미리스틸아민, 라우릴아민 등을 들 수 있다. The aliphatic primary monoamine can control the particle diameter of the seed particle produced|generated by adjusting the length of the carbon chain, for example. It is preferable to use an aliphatic primary monoamine from a viewpoint of controlling the particle diameter of a seed particle selecting from the thing of about C6-C20. The particle size of the seed particle obtained, so that there is much carbon number becomes small. Examples of such amines include octylamine, trioctylamine, dioctylamine, hexadecylamine, dodecylamine, tetradecylamine, stearylamine, oleylamine, myristylamine, and laurylamine. have.

지방족 1 급 모노아민은, 종 입자의 생성시에 표면 수식제로서 기능하기 때문에, 지방족 1 급 모노아민의 제거 후에도 2 차 응집을 억제할 수 있다. 또, 지방족 1 급 모노아민은, 환원 반응 후의 생성된 종 입자의 고체 성분과 용제 또는 미반응의 지방족 1 급 모노아민 등을 분리하는 세정 공정에 있어서의 처리 조작의 용이성의 관점에서도 바람직하다. 또한, 지방족 1 급 모노아민은, 니켈 착물을 환원하여 종 입자를 얻을 때의 반응 제어의 용이성의 관점에서는 환원 온도보다 비점이 높은 것이 바람직하다. 즉, 지방족 1 급 모노아민은, 비점이 180 ℃ 이상인 것이 바람직하고, 200 ℃ 이상인 것이 보다 바람직하다. 또, 지방족 1 급 모노아민은, 탄소수가 9 이상인 것이 바람직하다. 여기서, 예를 들어 탄소수가 9 인 지방족 1 급 모노아민의 C₉H₂₁N (노닐아민) 의 비점은 201 ℃ 이다. Since an aliphatic primary monoamine functions as a surface modifier at the time of production|generation of a seed particle, even after removal of an aliphatic primary monoamine, secondary aggregation can be suppressed. Moreover, an aliphatic primary monoamine is preferable from a viewpoint of the easiness of treatment operation in the washing|cleaning process of isolate|separating the solid component of the produced|generated seed particle|grains after a reduction reaction, a solvent, unreacted aliphatic primary monoamine, etc. Moreover, it is preferable that an aliphatic primary monoamine has a boiling point higher than a reduction temperature from a viewpoint of the easiness of reaction control at the time of reducing a nickel complex and obtaining seed particle|grains. That is, it is preferable that a boiling point is 180 degreeC or more, and, as for an aliphatic primary monoamine, it is more preferable that it is 200 degreeC or more. Moreover, it is preferable that C9 or more of an aliphatic primary monoamine. _{Here, for example, the boiling point of C 9} H ₂₁ N (nonylamine) of an aliphatic primary monoamine having 9 carbon atoms is 201°C.

지방족 1 급 모노아민은, 환원 반응 후의 생성된 종 입자의 고체 성분과 용제 또는 미반응의 지방족 1 급 모노아민 등을 분리하는 세정 공정에 있어서의 처리 조작의 용이성의 관점에서, 실온에서 액체인 것이 바람직하다. 또한, 지방족 1 급 모노아민은, 니켈 착물을 환원하여 종 입자를 얻을 때의 반응 제어의 용이성의 관점에서, 환원 온도보다 비점이 높은 것이 바람직하다. 지방족 1 급 모노아민의 양은, 금속 이온 1 ㏖ 에 대해 2 ㏖ 이상 사용하는 것이 바람직하고, 2.2 ㏖ 이상 사용하는 것이 보다 바람직하다. 지방족 1 급 모노아민의 양 2 ㏖ 미만에서는, 얻어지는 니켈 입자의 입자경의 제어가 곤란해져, 입자경에 편차가 발생하기 쉬워진다. 또, 지방족 1 급 모노아민의 양의 상한은 특별히 없지만, 예를 들어 생산성의 관점에서는, 금속 이온 1 ㏖ 에 대해 20 ㏖ 이하로 하는 것이 바람직하고, 4 ㏖ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 요컨대, 지방족 1 급 모노아민의 양은, 금속 이온 1 ㏖ 에 대해 2 ∼ 20 ㏖ 의 범위 내가 바람직하고, 2 ∼ 4 ㏖ 의 범위 내가 보다 바람직하고, 2.2 ∼ 4 ㏖ 의 범위 내가 가장 바람직하다. The aliphatic primary monoamine is liquid at room temperature from the viewpoint of easiness of treatment operation in the washing step of separating the solid component of the produced seed particles after the reduction reaction and the solvent or unreacted aliphatic primary monoamine. desirable. Moreover, it is preferable that an aliphatic primary monoamine has a boiling point higher than reduction temperature from a viewpoint of the easiness of reaction control at the time of reducing a nickel complex and obtaining a seed particle. It is preferable to use 2 mol or more with respect to 1 mol of metal ions, and, as for the quantity of an aliphatic primary monoamine, it is more preferable to use 2.2 mol or more. If the amount of the aliphatic primary monoamine is less than 2 mol, control of the particle size of the nickel particles obtained becomes difficult, and variations in the particle size are liable to occur. Moreover, there is no upper limit in particular of the quantity of an aliphatic primary monoamine, For example, from a viewpoint of productivity, it is preferable to set it as 20 mol or less with respect to 1 mol of metal ions, and it is more preferable to set it as 4 mol or less. That is, the inside of the range of 2-20 mol is preferable with respect to 1 mol of metal ions, as for the quantity of an aliphatic primary monoamine, the inside of the range of 2-4 mol is more preferable, The inside of the range of 2.2-4 mol is the most preferable.

＜유기 용매＞<Organic solvent>

지방족 1 급 모노아민은, 유기 용매로서 반응을 진행시킬 수 있지만, 균일 용액에서의 반응을 보다 효율적으로 진행시키기 위해, 공정 Ⅰ 에서, 지방족 1 급 모노아민과는 다른 유기 용매를 새로 첨가해도 된다. 사용할 수 있는 유기 용매로는, 지방족 1 급 모노아민과 니켈 이온 등의 금속 이온과의 착형성을 저해하지 않는 것이면, 특별히 한정되는 것이 아니고, 예를 들어 탄소수 4 ∼ 30 의 에테르계 유기 용매, 탄소수 7 ∼ 30 의 포화 또는 불포화의 탄화수소계 유기 용매, 탄소수 8 ∼ 18 의 알코올계 유기 용매 등을 사용할 수 있다. 또, 마이크로파 조사에 의한 가열 조건하에서도 사용을 가능하게 하는 관점에서, 사용하는 유기 용매는, 비점이 170 ℃ 이상인 것을 선택하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 200 ∼ 300 ℃ 의 범위 내에 있는 것을 선택하는 것이 좋다. 이와 같은 유기 용매의 구체예로는, 예를 들어 테트라에틸렌글리콜, n-옥틸에테르, 탄소수가 20 ∼ 40 의 범위 내에 있는 폴리알파올레핀 등을 들 수 있다. Although an aliphatic primary monoamine can advance reaction as an organic solvent, in order to advance reaction in a homogeneous solution more efficiently, you may add new organic solvent different from an aliphatic primary monoamine in process I. The organic solvent that can be used is not particularly limited as long as it does not inhibit complex formation between an aliphatic primary monoamine and a metal ion such as a nickel ion. For example, an ether-based organic solvent having 4 to 30 carbon atoms, carbon number A saturated or unsaturated hydrocarbon-based organic solvent having 7 to 30 carbon atoms, an alcohol-based organic solvent having 8 to 18 carbon atoms, or the like can be used. In addition, from the viewpoint of enabling use even under heating conditions by microwave irradiation, the organic solvent to be used preferably has a boiling point of 170°C or higher, more preferably within the range of 200 to 300°C. good to do Specific examples of such an organic solvent include tetraethylene glycol, n-octyl ether, and polyalphaolefin having 20 to 40 carbon atoms.

＜가열 환원＞<heat reduction>

공정 Ⅰ 에 있어서, 종 입자를 형성하기 위한 가열 방법은 특별히 제한되지 않고, 예를 들어 오일 배스 등의 열 매체에 의한 가열이어도 되고, 마이크로파 조사에 의한 가열이어도 되지만, 마이크로파 조사에 의한 가열이 바람직하다. 마이크로파 조사에 의한 가열은, 균일 가열을 가능하게 하고, 또한 에너지를 금속 이온에 직접 부여할 수 있기 때문에 급속 가열을 실시할 수 있다. 이로써, 반응액 전체를 원하는 온도로 균일하게 할 수 있고, 금속 이온의 환원, 핵의 형성, 성장을 용액 전체에 있어서 동시에 발생시켜, 결과적으로 입자경 분포가 좁은 단분산의 종 입자를 단시간에 용이하게 제조할 수 있다. 마이크로파의 사용 파장은 특별히 한정되는 것이 아니고, 예를 들어 2.45 ㎓ 이다. In step I, the heating method for forming the seed particles is not particularly limited, and for example, heating with a heating medium such as an oil bath or heating by microwave irradiation may be used, but heating by microwave irradiation is preferable. . Heating by microwave irradiation enables uniform heating, and since energy can be directly applied to metal ions, rapid heating can be performed. Thereby, the entire reaction solution can be made uniform at a desired temperature, and metal ion reduction, nuclei formation, and growth occur simultaneously throughout the solution, and as a result, monodisperse seed particles with a narrow particle size distribution can be easily produced in a short time. can be manufactured. The wavelength used for microwaves is not particularly limited, and is, for example, 2.45 GHz.

종 입자를 형성하기 위한 가열 온도는, 얻어지는 종 입자의 형상의 편차를 억제한다는 관점에서, 바람직하게는 170 ℃ 이상, 보다 바람직하게는 180 ℃ 이상으로 하는 것이 좋다. 가열 온도의 상한은 특별히 없지만, 처리를 능률적으로 실시하는 관점에서, 예를 들어 270 ℃ 이하로 하는 것이 바람직하다. From a viewpoint of suppressing the dispersion|variation in the shape of the seed particle obtained, the heating temperature for forming a seed particle becomes like this. Preferably it is 170 degreeC or more, More preferably, it is good to set it as 180 degreeC or more. Although there is no upper limit in particular of heating temperature, It is preferable to set it as 270 degrees C or less, for example from a viewpoint of performing a process efficiently.

공정 Ⅰ 에서는, 가열에 의해 얻어지는 종 입자의 슬러리를, 예를 들어, 정치 (靜置) 분리시켜, 상청액을 제거한 후, 적당한 용매를 사용하여 세정하고, 건조시킴으로써, 지방족 1 급 모노아민으로 피복된 종 입자가 얻어진다. In step I, for example, the slurry of seed particles obtained by heating is subjected to stationary separation, the supernatant is removed, washed using an appropriate solvent, and dried to coat with an aliphatic primary monoamine Seed particles are obtained.

＜종 입자＞<seed particle>

공정 Ⅰ 에서 얻어지는 종 입자의 주사형 전자 현미경 관찰에 의한 평균 입자경 (D1) 은, 예를 들어 50 ㎚ 이하가 바람직하고, 10 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하의 범위 내가 보다 바람직하다. 종 입자의 평균 입자경 (D1) 이 10 ㎚ 미만에서는, 핸들링성이 저하됨과 함께, 응집되기 쉬워져, 핵제로서 사용한 경우에, 입자경 분포가 샤프한 니켈 입자를 안정적으로 제조하는 것이 어려워진다. 한편, 종 입자의 평균 입자경 (D1) 이 50 ㎚ 를 초과하면, 종 입자의 단계에서의 입자경의 편차가 커져, 역시, 핵제로서 사용한 경우에, 입자경 분포가 샤프한 니켈 입자를 안정적으로 제조하는 것이 곤란해진다. 50 nm or less is preferable, for example, and, as for the average particle diameter (D1) by scanning electron microscope observation of the seed particle obtained at the process I, the inside of the range of 10 nm or more and 50 nm or less is more preferable. When the average particle diameter (D1) of a seed particle is less than 10 nm, while handling property falls, it becomes easy to aggregate, and when it uses as a nucleating agent, it becomes difficult to manufacture stably the nickel particle with a sharp particle diameter distribution. On the other hand, when the average particle diameter (D1) of the seed particles exceeds 50 nm, the dispersion of the particle diameter at the stage of the seed particles becomes large, and again, when used as a nucleating agent, it is difficult to stably produce nickel particles having a sharp particle size distribution. becomes

또, 공정 Ⅰ 에서 얻어지는 니켈 입자는, 입자경의 변동 계수 (CV1) 가, 0.2 이하인 것이 바람직하고, 0.15 이하인 것이 보다 바람직하다. CV 값이 0.2 를 초과하면, 이후의 공정 Ⅳ 에서 얻어지는 니켈 입자의 입자경의 편차가 커지는 경우가 있다. Moreover, it is preferable that it is 0.2 or less, and, as for the nickel particle obtained by the process I, it is more preferable that it is 0.15 or less of the coefficient of variation (CV1) of a particle diameter. When CV value exceeds 0.2, the dispersion|variation in the particle diameter of the nickel particle obtained by subsequent process IV may become large.

[공정 Ⅱ][Process Ⅱ]

공정 Ⅱ 에서는, 니켈염과 지방족 1 급 모노아민을 혼합하여 가열함으로써 니켈염을 유기 아민에 용해시킨 니켈 착물 용액을 준비한다. In process II, the nickel complex solution which melt|dissolved the nickel salt in the organic amine by mixing and heating a nickel salt and an aliphatic primary monoamine is prepared.

＜니켈염＞<Nickel salt>

공정 Ⅱ 에 있어서, 니켈염의 종류는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 수산화니켈, 염화니켈, 질산니켈, 황산니켈, 탄산니켈, 카르복실산니켈, Ni(acac)₂(β-디케토나토 착물), 스테아르산니켈 등을 들 수 있지만, 이 중에서도, 염화니켈 또는 카르복실산니켈이 바람직하고, 환원 과정에서의 해리 온도 (분해 온도) 가 비교적 낮은 카르복실산니켈을 사용하는 것이 유리하다. 카르복실산니켈은 단독으로 사용해도 되고, 다른 니켈염과 병용할 수도 있다. 또, 카르복실산니켈은 공정 Ⅰ 과 동일한 것을 사용할 수 있다. In step II, the type of the nickel salt is not particularly limited, and for example, nickel hydroxide, nickel chloride, nickel nitrate, nickel sulfate, nickel carbonate, nickel carboxylate, Ni(acac) ₂ (β-diketonato complex) , nickel stearate, and the like. Among them, nickel chloride or nickel carboxylate is preferable, and it is advantageous to use nickel carboxylate having a relatively low dissociation temperature (decomposition temperature) in the reduction process. Nickel carboxylate may be used independently and may be used together with another nickel salt. In addition, the thing similar to step I can be used for nickel carboxylate.

＜지방족 1 급 모노아민＞<Alphatic Primary Monoamine>

공정 Ⅱ 에 있어서, 지방족 1 급 모노아민은 공정 Ⅰ 과 동일한 것을 사용 할 수 있다. In Step II, the same aliphatic primary monoamine as in Step I can be used.

＜니켈 착물 용액＞<Nickel Complex Solution>

니켈 착물 용액 중의 니켈 농도는, 예를 들어 2 ∼ 13 중량％ 의 범위 내로 하는 것이 바람직하고, 6 ∼ 12 중량％ 의 범위 내로 하는 것이 보다 바람직하다. 본 실시형태의 제조 방법에서는, 종 입자를 형성하는 공정 Ⅰ 과, 종 입자로부터 니켈 입자를 성장시키는 공정 Ⅳ 를 구별하는 다단계의 반응에 의해, 일단계의 합성법에 비해, 니켈 착물 용액 중의 니켈의 농도를 높이는 것이 가능하고, 생산성을 향상시킬 수 있다. 일단계의 합성법으로는, 니켈 농도가 10 중량％ 를 초과하면, 반응성이 저하됨과 함께, 입자경의 제어가 어려워진다. The nickel concentration in the nickel complex solution is, for example, preferably in the range of 2 to 13% by weight, more preferably in the range of 6 to 12% by weight. In the manufacturing method of this embodiment, the concentration of nickel in the nickel complex solution is higher than that of the one-step synthesis method by a multi-step reaction that distinguishes the step I of forming seed particles and the step IV of growing nickel particles from the seed particles. can be increased, and productivity can be improved. In one-step synthesis method, when nickel concentration exceeds 10 weight%, while reactivity will fall, control of a particle diameter becomes difficult.

2 가의 니켈 이온은 배위자 치환 활성종으로서 알려져 있으며, 형성되는 착물의 배위자는 온도, 농도에 따라 용이하게 배위자 교환에 의해 착형성이 변화될 가능성이 있다. 예를 들어 카르복실산니켈 및 지방족 1 급 모노아민의 혼합물을 가열하여 반응액을 얻는 공정에 있어서, 사용하는 아민의 탄소 사슬 길이 등의 입체 장해를 고려하면, 예를 들어, 카르복실산 이온이 2 좌 배위 또는 단좌 배위 중 어느 것으로 배위될 가능성이 있고, 또한 아민의 농도가 대과잉인 경우에는 외권에 카르복실산 이온이 존재하는 구조를 취할 가능성이 있다. 목적으로 하는 반응 온도 (환원 온도) 에 있어서 균일 용액으로 하려면, 배위자 중 적어도 1 개 지점은 지방족 1 급 모노아민이 배위되어 있을 필요가 있다. 그 상태를 취하려면, 지방족 1 급 모노아민이 과잉으로 반응 용액 내에 존재하고 있을 필요가 있고, 적어도 니켈 이온 1 ㏖ 에 대해 2 ㏖ 이상 존재하고 있는 것이 바람직하고, 2.2 ㏖ 이상 존재하고 있는 것이 보다 바람직하다. 또, 지방족 1 급 모노아민의 양의 상한은 특별히 없지만, 예를 들어 생산성의 관점에서는, 니켈 이온 1 ㏖ 에 대해 20 ㏖ 이하로 하는 것이 바람직하고, 4 ㏖ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 요컨대, 지방족 1 급 모노아민의 양은, 니켈 이온 1 ㏖ 에 대해 2 ∼ 20 ㏖ 의 범위 내가 바람직하고, 2 ∼ 4 ㏖ 의 범위 내가 보다 바람직하고, 2.2 ∼ 4 ㏖ 의 범위 내가 가장 바람직하다. A divalent nickel ion is known as a ligand-substituted active species, and the ligand of the formed complex may easily change its complexability by ligand exchange depending on temperature and concentration. For example, in the process of obtaining a reaction solution by heating a mixture of nickel carboxylate and aliphatic primary monoamine, when steric hindrance such as carbon chain length of the amine to be used is considered, for example, carboxylate ions There is a possibility of being coordinated by either the bidentate coordination or the monodentate configuration, and when the concentration of the amine is large, there is a possibility of adopting a structure in which a carboxylate ion exists in the exosphere. In order to obtain a homogeneous solution at the target reaction temperature (reduction temperature), at least one of the ligands needs to be coordinated with an aliphatic primary monoamine. In order to take that state, the aliphatic primary monoamine needs to exist in the reaction solution excessively, it is preferable to exist at least 2 mol with respect to 1 mol of nickel ions, It is more preferable to exist 2.2 mol or more do. Moreover, there is no upper limit in particular of the quantity of an aliphatic primary monoamine, For example, from a viewpoint of productivity, it is preferable to set it as 20 mol or less with respect to 1 mol of nickel ions, and it is more preferable to set it as 4 mol or less. That is, the inside of the range of 2-20 mol is preferable with respect to 1 mol of nickel ions, as for the quantity of an aliphatic primary monoamine, the inside of the range of 2-4 mol is more preferable, The inside of the range of 2.2-4 mol is the most preferable.

착형성 반응은 실온에서도 진행시킬 수 있지만, 반응을 확실하고 또한 효율적으로 실시하기 위해, 100 ℃ 이상의 온도에서 가열을 실시하는 것이 바람직하다. 이 가열은 카르복실산니켈로서, 예를 들어 아세트산니켈 4 수화물과 같은 카르복실산니켈의 수화물을 사용한 경우에 특히 유리하다. 가열 온도는, 바람직하게는 100 ℃ 를 초과하는 온도로 하고, 보다 바람직하게는 105 ℃ 이상의 온도로 함으로써, 카르복실산니켈에 배위된 배위수와 지방족 1 급 모노아민의 배위자 치환 반응이 효율적으로 실시된다. 또, 착물 배위자로서의 수분자를 해리시킬 수 있고, 또한 그 물을 계 외로 내보낼 수 있기 때문에 효율적으로 착물을 형성시킬 수 있다. 예를 들어, 아세트산니켈 4 수화물은, 실온에서는 2 개의 배위수와 2 좌 배위자인 2 개의 아세트산 이온, 외권에 2 개의 수분자가 존재한 착물 구조를 취하고 있기 때문에, 이 2 개의 배위수와 지방족 1 급 모노아민의 배위자 치환에 의해 효율적으로 착형성시키려면, 100 ℃ 보다 높은 온도에서 가열함으로써 이 착물 배위자로서의 수분자를 해리시키는 것이 바람직하다. 또, 가열 온도는, 나중에 계속되는 환원의 과정과 확실하게 분리하여, 착형성 반응을 완결시킨다는 관점에서, 175 ℃ 이하가 바람직하다. 공정 Ⅱ 에서의 가열 온도가 지나치게 높으면, 니켈 착물의 생성과 니켈 (0 가) 에 대한 환원 반응이 동시에 진행되어, 새로 니켈의 핵이 발생함으로써, 입자경의 분포가 좁은 니켈 입자의 생성이 곤란해질 우려가 있다. 따라서, 공정 Ⅱ 에 있어서의 가열 온도는 105 ℃ ∼ 175 ℃ 의 범위 내가 바람직하고, 보다 바람직하게는, 125 ∼ 160 ℃ 의 범위 내이다. Although the complexation reaction can proceed even at room temperature, in order to carry out the reaction reliably and efficiently, it is preferable to heat at a temperature of 100°C or higher. This heating is particularly advantageous when a hydrate of nickel carboxylate such as nickel acetate tetrahydrate is used as the nickel carboxylate. The heating temperature is preferably set at a temperature exceeding 100°C, more preferably at a temperature of 105°C or higher, so that the coordination number coordinated with the nickel carboxylate and the ligand substitution reaction of the aliphatic primary monoamine are efficiently carried out do. Moreover, since a water molecule as a complex ligand can be dissociated and the water can be taken out of the system, a complex can be efficiently formed. For example, at room temperature, nickel acetate tetrahydrate has a complex structure in which two coordination numbers, two acetate ions, which are bidentate ligands, and two water molecules exist in the outer sphere, so these two coordination numbers and aliphatic first class In order to efficiently form a complex by ligand substitution of a monoamine, it is preferable to dissociate a water molecule as a complex ligand by heating at a temperature higher than 100°C. Further, the heating temperature is preferably 175°C or less from the viewpoint of reliably separating from the subsequent reduction process and completing the complex-forming reaction. If the heating temperature in Step II is too high, the formation of the nickel complex and the reduction reaction to nickel (0 valence) proceed simultaneously, and new nuclei of nickel are generated, which may make it difficult to produce nickel particles with a narrow particle size distribution. there is Therefore, as for the heating temperature in process II, the inside of the range of 105 degreeC - 175 degreeC is preferable, More preferably, it exists in the range of 125-160 degreeC.

가열 시간은 가열 온도나, 각 원료의 함유량에 따라 적절히 결정할 수 있지만, 착형성 반응을 확실하게 완결시킨다는 관점에서, 15 분 이상으로 하는 것이 바람직하다. 가열 시간의 상한은 특별히 없지만, 장시간 가열하는 것은, 에너지 소비 및 공정 시간을 절약하는 관점에서 불필요하다. 가열의 방법은 특별히 제한되지 않고, 예를 들어 오일 배스 등의 열매체에 의한 가열이어도 되고, 마이크로파 조사에 의한 가열이어도 되지만, 마이크로파 조사에 의한 가열이 바람직하다. 마이크로파 조사에 의한 가열은, 혼합액 내의 균일 가열을 가능하게 하고, 또한 에너지를 니켈 이온에 직접 부여할 수 있기 때문에, 급속 가열을 실시할 수 있다. 마이크로파의 사용 파장은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 2.45 ㎓ 이다. Although the heating time can be appropriately determined according to the heating temperature and the content of each raw material, it is preferably set to 15 minutes or longer from the viewpoint of reliably completing the complexing reaction. Although there is no upper limit in particular for a heating time, heating for a long time is unnecessary from a viewpoint of saving energy consumption and process time. The method of heating is not specifically limited, For example, although heating by a heating medium, such as an oil bath, may be sufficient, and heating by microwave irradiation may be sufficient, the heating by microwave irradiation is preferable. Heating by microwave irradiation enables uniform heating in the liquid mixture, and energy can be directly applied to nickel ions, so that rapid heating can be performed. The wavelength used for microwaves is not particularly limited, and is, for example, 2.45 GHz.

카르복실산니켈과 지방족 1 급 모노아민의 착형성 반응은, 카르복실산니켈과 지방족 1 급 모노아민을 혼합하여 얻어지는 용액을 가열했을 때, 용액의 색의 변화에 의해 확인할 수 있다. 또, 이 착형성 반응은, 예를 들어 자외·가시 흡수 스펙트럼 측정 장치를 사용하여, 300 ㎚ ∼ 750 ㎚ 의 파장 영역에서 관측되는 흡수 스펙트럼의 흡수 극대의 파장을 측정하고, 원료의 극대 흡수 파장 (예를 들어 아세트산니켈 4 수화물에서는 그 극대 흡수 파장은 710 ㎚ 이다) 에 대한 착화 반응액의 시프트를 관측함으로써 확인할 수 있다. The complex-forming reaction of nickel carboxylate and aliphatic primary monoamine can be confirmed by the change in the color of the solution when the solution obtained by mixing nickel carboxylate and aliphatic primary monoamine is heated. Moreover, this complexation reaction measures the wavelength of the absorption maximum of the absorption spectrum observed in the wavelength range of 300 nm - 750 nm using, for example, an ultraviolet-visible absorption spectrum measuring apparatus, and the maximum absorption wavelength of a raw material ( For example, in nickel acetate tetrahydrate, the maximum absorption wavelength is 710 nm), and it can confirm by observing the shift of the complexing reaction liquid.

[공정 Ⅲ][Process Ⅲ]

본 공정은, 공정 Ⅰ 에서 얻은 종 입자와, 공정 Ⅱ 에서 얻은 니켈 착물 용액을 혼합하여 혼합액을 얻는 공정이다. This step is a step of mixing the seed particles obtained in the step I and the nickel complex solution obtained in the step II to obtain a mixed solution.

공정 Ⅲ 에서는, 종 입자 또는 종 입자를 포함하는 슬러리를, 니켈 착물 용액에 첨가해도 되고, 종 입자를 포함하는 슬러리에, 니켈 착물 용액을 첨가해도 된다. 공정 Ⅲ 에서 혼합된 니켈 착물은, 새로운 핵의 형성에는 이용되지 않고, 다음의 공정 Ⅳ 에서 종 입자로부터 니켈 입자로의 성장에 이용된다. 요컨대, 혼합액 중의 니켈 착물의 농도가, 핵 형성의 임계 농도를 초과하지 않는 한, 니켈 착물은 입자 성장에만 이용된다. 따라서, 공정 Ⅳ 에서 목적으로 하는 입자경의 니켈 입자를 얻기 위한 니켈 착물의 양은, 종 입자의 입자경에 기초하여 계산하여 산출할 수 있다. 본 공정에서는 혼합액 중의 니켈 착물 중의 니켈 농도를 예를 들어 다음의 식 (1) 에 의해 산출할 수 있다. 예를 들어, 종 입자로서 평균 입자경이 10 ∼ 50 ㎚ 의 범위 내, 입자경의 변동 계수가 0.2 이하인 것을 사용하여, 평균 입자경이 20 ∼ 150 ㎚ 의 범위 내의 니켈 입자를 얻는 경우, 혼합액 중의 니켈 착물 중의 니켈 농도가, 예를 들어 4 ∼ 13 중량％ 의 범위 내가 되도록 하는 것이 바람직하고, 6 ∼ 12 중량％ 의 범위 내로 하는 것이 보다 바람직하다. In process III, the slurry containing a seed particle or a seed particle may be added to a nickel complex solution, and a nickel complex solution may be added to the slurry containing a seed particle. The nickel complex mixed in step III is not used for the formation of new nuclei, but is used for growth from seed particles to nickel particles in the following step IV. In other words, as long as the concentration of the nickel complex in the liquid mixture does not exceed the critical concentration for nucleation, the nickel complex is used only for grain growth. Therefore, the quantity of the nickel complex for obtaining the nickel particle of the target particle diameter in process IV can be calculated and computed based on the particle diameter of a seed particle. At this process, the nickel concentration in the nickel complex in a liquid mixture is computable by following formula (1), for example. For example, in the case of obtaining nickel particles having an average particle diameter in the range of 20 to 150 nm using a seed particle having an average particle diameter within the range of 10 to 50 nm and a particle size variation coefficient of 0.2 or less, in the nickel complex in the liquid mixture It is preferable to make nickel concentration into the range of 4 to 13 weight%, for example, and it is more preferable to set it as being in the range of 6 to 12 weight%.

D2 ＝ D1(1 ＋ Y/X)^1/3 … (1)D2 = D1(1 + Y/X) ^1/3 ... (One)

[여기서, 식 (1) 에 있어서, D2 는 니켈 입자의 평균 입자경 (단위 ; ㎚) 이고, D1 은 종 입자의 평균 입자경 (단위 ; ㎚) 이고, Y 는 혼합액 중의 니켈 착물 중의 니켈량 (단위 ; g) 이고, X 는 종 입자 중의 니켈량 (단위 ; g) 이다][Here, in formula (1), D2 is the average particle diameter of nickel particles (unit; nm), D1 is the average particle diameter of seed particles (unit; nm), Y is the amount of nickel in the nickel complex in the liquid mixture (unit; g), and X is the amount of nickel in the seed particle (unit; g)]

[공정 Ⅳ][Process IV]

공정 Ⅳ 는, 공정 Ⅲ 에서 얻은 혼합액 중의 니켈 이온을 가열 환원하고, 상기 종 입자를 핵으로 하여 금속 니켈을 석출·성장시켜 니켈 입자를 형성한다. In step IV, nickel ions in the liquid mixture obtained in step III are reduced by heating, and metallic nickel is precipitated and grown using the seed particles as nuclei to form nickel particles.

＜가열 환원＞<heat reduction>

공정 Ⅳ 에 있어서의 가열 방법은 특별히 제한되지 않고, 예를 들어 오일 배스 등의 열 매체에 의한 가열이어도 되고, 마이크로파 조사에 의한 가열이어도 되지만, 마이크로파 조사에 의한 가열이 바람직하다. 마이크로파 조사에 의한 니켈 착물의 가열은, 니켈 착물의 균일 가열을 가능하게 하고, 또한 에너지를 니켈 착물에 직접 부여할 수 있기 때문에, 급속 가열을 실시할 수 있다. 이로써, 반응액 전체를 원하는 온도로 균일하게 할 수 있어, 니켈 착물 (또는 니켈 이온) 의 환원과 성장을 용액 전체에 있어서 동시에 발생시켜, 결과적으로 입자경 분포가 좁은 단분산의 니켈 입자를 단시간에 용이하게 제조할 수 있다. 마이크로파의 사용 파장은 특별히 한정되는 것이 아니라, 예를 들어 2.45 ㎓ 이다. The heating method in particular in step IV is not restrict|limited, For example, although heating by heating media, such as an oil bath, may be sufficient, and heating by microwave irradiation may be sufficient, the heating by microwave irradiation is preferable. Heating of the nickel complex by microwave irradiation enables uniform heating of the nickel complex, and since energy can be directly applied to the nickel complex, rapid heating can be performed. Thereby, the entire reaction solution can be made uniform at a desired temperature, reduction and growth of the nickel complex (or nickel ions) occur simultaneously throughout the solution, and as a result, monodisperse nickel particles with a narrow particle size distribution can be easily produced in a short time. can be manufactured. The use wavelength of the microwave is not particularly limited, and is, for example, 2.45 GHz.

공정 Ⅳ 에 있어서의 가열 온도는, 얻어지는 니켈 입자의 형상의 편차를 억제한다는 관점에서, 바람직하게는 170 ℃ 이상, 보다 바람직하게는 180 ℃ 이상으로 하는 것이 좋다. 또, 공정 Ⅳ 에 있어서의 가열 온도가 지나치게 낮으면, 니켈 착물로부터 니켈 (0 가) 에 대한 환원 반응 속도가 느려져, 종 입자를 덮는 금속 니켈의 성장이 느려지는 경향이 있다. 가열 온도의 상한은 특별히 없지만, 처리를 능률적으로 실시하는 관점에서는 예를 들어 270 ℃ 이하로 하는 것이 바람직하다. 또, 270 ℃ 를 초과하면 탄화 반응이 진행되어 탄화 니켈이 생성되기 쉬워지기 때문에 바람직하지 않다. The heating temperature in step IV is preferably 170°C or higher, more preferably 180°C or higher from the viewpoint of suppressing variations in the shape of the nickel particles to be obtained. Moreover, when the heating temperature in process IV is too low, the reduction reaction rate with respect to nickel (0 valence) from a nickel complex becomes slow, and there exists a tendency for the growth of metallic nickel which covers a seed particle to become slow. Although there is no upper limit in particular of heating temperature, It is preferable to set it as 270 degrees C or less, for example from a viewpoint of performing a process efficiently. Moreover, when it exceeds 270 degreeC, since carbonization reaction advances and it becomes easy to produce|generate nickel carbide, it is unpreferable.

공정 Ⅳ 에서는, 습식에서의 가열 환원에 의해 얻어진 니켈 입자의 슬러리를, 예를 들어, 정치 분리하여 상청액을 제거한 후, 적당한 용매를 사용하여 세정하고, 건조시킴으로써, 지방족 1 급 모노아민으로 피복된 니켈 입자가 얻어진다. In step IV, nickel coated with an aliphatic primary monoamine is carried out by, for example, static separation of a slurry of nickel particles obtained by heat reduction in wet conditions to remove a supernatant, followed by washing with an appropriate solvent and drying. particles are obtained.

상기 공정 Ⅲ 의 일부분과 공정 Ⅳ 는, 복수 회 반복하여 실시하는 것도 가능하다. 즉, 공정 Ⅳ 를 실시한 후에, 추가로 니켈 착물 용액을 첨가하고, 다시 공정 Ⅳ 를 실시해도 된다. 이 경우에도, 나중에 추가된 니켈 착물은, 새로운 핵의 형성에는 이용되지 않고, 종 입자로부터 니켈 입자로의 성장에 이용된다. 요컨대, 공정 Ⅲ 의 일부분과 공정 Ⅳ 를 반복하여 실시하는 경우에도, 혼합액 중으로의 니켈 착물의 추가 속도가, 입자 성장에 소비되는 속도를 초과하지 않는 한, 니켈 착물의 농도가 핵 형성의 임계 농도를 초과하는 경우는 없기 때문에, 추가된 니켈 착물은 입자 성장에만 이용된다. 따라서, 목적으로 하는 입자경을 얻기 위한 니켈 착물의 양은, 종 입자의 입자경에 기초하여 계산하여 산출할 수 있다. A part of step III and step IV may be repeated a plurality of times. That is, after implementing the process IV, a nickel complex solution may be further added, and you may implement the process IV again. Also in this case, the nickel complex added later is not used for formation of a new nucleus, but is used for growth from a seed particle to a nickel particle. In other words, even when a part of Step III and Step IV are repeatedly carried out, the concentration of the nickel complex does not exceed the critical concentration for nucleation, as long as the rate of addition of the nickel complex into the mixed solution does not exceed the rate consumed for grain growth. Since there is no excess, the added nickel complex is used only for grain growth. Therefore, the quantity of the nickel complex for obtaining the target particle diameter can be calculated and computed based on the particle diameter of a seed particle.

＜니켈 입자＞<Nickel particles>

공정 Ⅳ 에서 얻어지는 니켈 입자는, 예를 들어 구상, 의구상, 장구상, 입방체 모양, 절두 사면체 모양, 쌍각뿔상, 정팔면체 모양, 정십면체 모양, 정이십면체 모양 등의 여러 가지 형상이어도 되지만, 예를 들어 니켈 입자를 전자 부품의 전극에 사용한 경우의 충전 밀도의 향상이라는 관점에서, 구상 또는 의구상이 바람직하고, 구상이 보다 바람직하다. 여기서, 니켈 입자의 형상은, 예를 들어, 주사형 전자 현미경 (SEM) 으로 관찰함으로써 확인할 수 있다. The nickel particles obtained in step IV may have various shapes such as, for example, spherical, pseudospherical, long spherical, cubic, truncated tetrahedral, bipyramid, octahedral, icosahedral, icosahedral, etc. For example, a spherical shape or a pseudospherical shape is preferable from a viewpoint of the improvement of the packing density at the time of using a nickel particle for the electrode of an electronic component, and a spherical shape is more preferable. Here, the shape of a nickel particle can be confirmed by observing, for example with a scanning electron microscope (SEM).

공정 Ⅳ 에서 얻어지는 니켈 입자의 주사형 전자 현미경 관찰에 의한 평균 입자경 (D2) 은, 예를 들어 150 ㎚ 이하가 바람직하고, 100 ㎚ 이하가 보다 바람직하다. 보다 구체적으로는, 니켈 입자의 평균 입자경은, 바람직하게는 20 ∼ 150 ㎚ 의 범위 내, 보다 바람직하게는 20 ∼ 100 ㎚ 의 범위 내가 바람직하다. 또한, 공정 Ⅰ 에서 얻어지는 종 입자의 평균 입자경 (D1) 과 공정 Ⅳ 에서 얻어지는 니켈 입자의 평균 입자경 (D2) 의 관계는, 니켈 입자의 입도 분포를 샤프하게 유지하는 관점에서, 예를 들어 8 ≥ D2/D1 인 것이 바람직하다. 그에 반해, 8 ＜ D2/D1 인 경우에는, 니켈 입자의 입도 분포가 브로드해짐과 함께, 응집 입자가 서서히 발생하여 분산성이 불량해질 우려가 있다. For example, 150 nm or less is preferable and, as for the average particle diameter (D2) by scanning electron microscope observation of the nickel particle obtained in process IV, 100 nm or less is more preferable. More specifically, the average particle diameter of the nickel particles is preferably in the range of 20 to 150 nm, more preferably in the range of 20 to 100 nm. In addition, the relationship between the average particle diameter (D1) of the seed particles obtained in Step I and the average particle diameter (D2) of the nickel particles obtained in Step IV is from the viewpoint of keeping the particle size distribution of the nickel particles sharp, for example, 8 ≥ D2 It is preferably /D1. On the other hand, in the case of 8<D2/D1, while the particle size distribution of a nickel particle becomes broad, there exists a possibility that aggregated particle may generate|occur|produce gradually and dispersibility may become poor.

또, 공정 Ⅳ 에서 얻어지는 니켈 입자는, 입자경의 변동 계수 (CV2) 가 0.2 이하인 것이 바람직하고, 0.15 이하인 것이 보다 바람직하다. CV 값이 0.2 를 초과하면, 예를 들어 MLCC 의 내부 전극용의 도전성 페이스트 재료로서 사용하는 경우에, 전극층의 표면에 요철이 발생하여, 전극층의 박층화 및 다층화가 곤란해지거나, 전기적 특성을 저하시키거나 하는 원인이 되는 경우가 있다. 여기서, 종 입자의 입자경의 변동 계수 (CV1) 와 니켈 입자의 입자경의 변동 계수 (CV2) 의 관계는, 그 비 (CV1/CV2) 가 0.7 이상 1.3 이내의 범위 내인 것이 바람직하다. CV1/CV2 가 0.7 미만이면, 종 입자의 응집, 또는 불균일 혹은 국소적인 가열에 의한 니켈 입자의 조대화가 발생하는 경향이 되고, 1.3 을 초과하면 종 입자의 성장 과정에서의 성장 속도의 편차가 많아지는 경우가 있다. Moreover, it is preferable that the coefficient of variation (CV2) of a particle diameter is 0.2 or less, and, as for the nickel particle obtained by process IV, it is more preferable that it is 0.15 or less. When the CV value exceeds 0.2, for example, when used as a conductive paste material for an internal electrode of MLCC, irregularities are generated on the surface of the electrode layer, making it difficult to thin and multilayer the electrode layer, or reduce the electrical properties It may or may not be the cause. Here, as for the relationship between the coefficient of variation (CV1) of the particle diameter of a seed particle and the coefficient of variation (CV2) of the particle diameter of a nickel particle, it is preferable that the ratio (CV1/CV2) exists in the range of 0.7 or more and 1.3. If CV1/CV2 is less than 0.7, there is a tendency for seed particle agglomeration or coarsening of nickel particles due to non-uniformity or local heating. There are times when you lose.

＜작용＞<action>

본 실시형태의 니켈 입자의 제조 방법에 있어서, 종래의 일단계의 합성법에 비해, 정밀도가 높은 입자경의 제어가 가능해지는 이유는 분명하지 않지만, 이하와 같이 생각하면 합리적 설명이 가능해진다. 종래의 일단계의 합성법, 즉 핵 생성부터 니켈 입자의 성장까지를 원 포트로 실시하는 방법에서는, 그 반응계의 환경 인자 (예를 들어, 반응액의 농도, 교반 조건, 수분, 반응 속도에 영향을 주는 천연물 원료에서 유래하는 미량의 불순물이나 미량 금속의 존재 등) 가, 니켈 입자의 성장에 크게 영향을 주기 때문에 입자경의 제어가 곤란해진다. 한편, 본 실시형태의 니켈 입자의 제조 방법에서는, 반응계의 환경 인자의 영향이 나타나기 쉬운 공정 Ⅰ 에 있어서, 생성되는 종 입자는 입자경이 작기 때문에, 그 만큼 입자경의 편차를 낮게 억제할 수 있다. 그리고, 니켈 입자를 성장시키는 공정 Ⅳ 에 있어서는, 반응계의 환경 인자보다, 종 입자 쪽이 니켈 입자의 성장에 큰 영향을 주는 인자가 되기 때문에, 최종적으로 제조되는 니켈 입자의 입자경을 고정밀도로 제어할 수 있는 것으로 생각된다. In the manufacturing method of the nickel particle of this embodiment, compared with the conventional one-step synthesis method, the reason that control of a particle diameter with high precision becomes possible is not clear, but a rational explanation becomes possible when it considers as follows. In the conventional one-step synthesis method, that is, in a one-pot method from nucleation to growth of nickel particles, environmental factors of the reaction system (e.g., concentration of reaction solution, stirring conditions, moisture, and reaction rate are affected). Since trace amounts of impurities and trace metals derived from natural raw materials) greatly affect the growth of nickel particles, it becomes difficult to control the particle size. On the other hand, in the method for producing nickel particles of the present embodiment, in step I, where the influence of environmental factors in the reaction system is likely to appear, the produced seed particles have a small particle diameter, so that variation in particle diameter can be suppressed low by that amount. And, in step IV of growing nickel particles, seed particles are a factor that has a greater influence on the growth of nickel particles than environmental factors of the reaction system, so that the particle diameter of the nickel particles finally produced can be controlled with high precision. It is thought that there is

이상과 같이, 공정 Ⅰ ∼ 공정 Ⅳ 를 실시함으로써, 평균 입자경이 예를 들어 150 ㎚ 를 밑돌 정도로 작고, 또한, 입자경 분포가 샤프하고, CV 값이 작은 니켈 입자를 안정적으로 제조할 수 있다. 이 니켈 입자는, 예를 들어 적층 세라믹스 콘덴서 (MLCC) 의 내부 전극 형성용 도전성 페이스트 등의 전자 재료로서 바람직하게 이용할 수 있다. As mentioned above, by implementing process I - process IV, an average particle diameter is small enough to be less than 150 nm, and particle diameter distribution is sharp, and can manufacture stably the nickel particle with a small CV value. This nickel particle can be used suitably as electronic materials, such as an electrically conductive paste for internal electrode formation of a multilayer ceramic capacitor (MLCC), for example.

실시예Example

다음으로, 실시예 및 비교예를 들어, 본 발명을 더욱 설명하지만, 본 발명은 이하에 설명하는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하의 실시예에 있어서, 특별히 언급이 없는 한 각종 측정, 평가는 하기에 의한 것이다. Next, although an Example and a comparative example are given and this invention is further demonstrated, this invention is not limited to the Example demonstrated below. In addition, in the following examples, various measurements and evaluation are based on the following unless otherwise indicated.

[평균 입자경의 측정][Measurement of average particle diameter]

SEM (주사형 전자 현미경) 에 의해 시료의 사진을 촬영하여, 그 중에서 무작위로 200 개를 추출하여 각각의 입자경에 대해 면적을 구하고, 진구로 환산했을 때의 입자경을 개수 기준으로 하여 일차 입자의 평균 입자경으로 하였다. 또, CV 값 (변동 계수) 은, (표준 편차) ÷ (평균 입자경) 에 의해 산출하였다. 또한, CV 값이 작을수록, 입자경이 보다 균일한 것을 나타낸다. A photograph of the sample is taken by SEM (scanning electron microscope), 200 pieces are randomly extracted from among them, the area is calculated for each particle diameter, and the average of the primary particles based on the particle diameter converted into a true sphere as the number standard It was set as the particle diameter. In addition, the CV value (coefficient of variation) was computed by (standard deviation) ÷ (average particle diameter). In addition, it shows that a particle diameter is more uniform, so that a CV value is small.

(실시예 1)(Example 1)

＜공정 Ⅰ ; 제 1 니켈 입자의 조제＞<Step I; Preparation of 1st Nickel Particles>

331 g 의 올레일아민에 2.45 g 의 포름산구리 4 수화물과 21.9 g 의 포름산니켈 2 수화물을 첨가하고, 질소 플로 하에서 120 ℃, 20 분 가열함으로써 포름산구리와 포름산니켈을 올레일아민에 용해시켰다. Copper formate and nickel formate were dissolved in oleylamine by adding 2.45 g of copper formate tetrahydrate and 21.9 g of nickel formate dihydrate to 331 g of oleylamine, and heating it under nitrogen flow at 120 degreeC for 20 minutes.

상기 용해액에 마이크로파를 조사하여 190 ℃ 까지 가열하여, 347 g 의 니켈 입자 슬러리 (1-A) 를 조제하였다. 얻어진 니켈 입자 슬러리 (1-A) 의 10 g 을 분취하여, 상청액을 제거한 후, 톨루엔과 메탄올을 사용하여 각각 2 회 세정한 후, 60 ℃ 로 유지되는 진공 건조기로 6 시간 건조시켜 니켈 입자 (1-B) 를 조제하였다. Microwave was irradiated to the said solution, and it heated to 190 degreeC, and the 347-g nickel particle slurry (1-A) was prepared. 10 g of the obtained nickel particle slurry (1-A) was aliquoted, the supernatant was removed, washed twice with toluene and methanol, respectively, and then dried for 6 hours with a vacuum dryer maintained at 60° C., and the nickel particles (1 -B) was prepared.

니켈 입자 (1-B) 의 SEM 사진을 도 1 에 나타낸다. 도 1 을 참조하면, 니켈 입자 (1-B) 의 평균 입자경은 17 ㎚, CV 값은 0.13 이었다. The SEM photograph of the nickel particle (1-B) is shown in FIG. Referring to FIG. 1 , the average particle diameter of the nickel particles (1-B) was 17 nm, and the CV value was 0.13.

＜공정 Ⅱ ; 니켈 착물 용액의 조제＞<Step II; Preparation of Nickel Complex Solution>

6949 g 의 올레일아민에 2611 g 의 아세트산니켈 4 수화물을 첨가하고, 질소 플로 하에서 140 ℃, 4 시간 가열함으로써 니켈 착물 용액을 조제하였다. 2611 g of nickel acetate tetrahydrate was added to 6949 g of oleylamine, and the nickel complex solution was prepared by heating 140 degreeC and 4 hours under nitrogen flow.

＜공정 Ⅲ ∼ Ⅳ ; 혼합액의 조제 및 니켈 입자의 조제＞<Steps III to IV; Preparation of mixed solution and preparation of nickel particles>

상기 니켈 착물 용액에, 337 g 의 니켈 입자 슬러리 (1-A) 를 첨가하고, 교반 후, 마이크로파를 조사하여 225 ℃ 까지 가열하고, 그 온도를 15 분간 유지함으로써 니켈 입자 슬러리 (1-C) 를 조제하였다. 얻어진 니켈 입자 슬러리 (1-C) 를 정치 분리하여 상청액을 제거한 후, 톨루엔과 메탄올을 사용하여 각각 2 회 세정한 후, 60 ℃ 로 유지되는 진공 건조기로 6 시간 건조시켜 니켈 입자 (1-D) 를 조제하였다. 337 g of nickel particle slurry (1-A) is added to the said nickel complex solution, after stirring, it irradiates a microwave and heats to 225 degreeC, By maintaining the temperature for 15 minutes, nickel particle slurry (1-C) prepared. The obtained nickel particle slurry (1-C) was subjected to stationary separation to remove the supernatant, washed twice with toluene and methanol, respectively, and then dried for 6 hours with a vacuum dryer maintained at 60°C to obtain nickel particles (1-D) was prepared.

니켈 입자 (1-D) 의 SEM 사진을 도 2 에 나타낸다. 도 2 를 참조하면, 니켈 입자 (1-D) 의 평균 입자경은 80 ㎚, CV 값은 0.13 이었다. The SEM photograph of the nickel particle (1-D) is shown in FIG. Referring to FIG. 2 , the average particle diameter of the nickel particles (1-D) was 80 nm, and the CV value was 0.13.

(실시예 2)(Example 2)

실시예 1 에 있어서의 포름산구리 4 수화물의 사용량을 0.61 g 으로 변경한 것 이외에, 실시예 1 과 동일하게 하여, 포름산구리와 포름산니켈을 올레일아민에 용해시켰다. Except having changed the usage-amount of the copper formate tetrahydrate in Example 1 into 0.61 g, it carried out similarly to Example 1, and dissolved copper formate and nickel formate in oleylamine.

실시예 1 과 동일하게 하여, 343 g 의 니켈 입자 슬러리 (2-A) 를 얻고, 톨루엔과 메탄올을 사용하여 세정 후, 건조시켜 니켈 입자 (2-B) 를 조제하였다. SEM 사진의 결과로부터 니켈 입자 (2-B) 의 평균 입자경은 45 ㎚, CV 값은 0.12 였다. It carried out similarly to Example 1, the 343 g nickel particle slurry (2-A) was obtained, it dried after washing|cleaning using toluene and methanol, and the nickel particle (2-B) was prepared. From the result of the SEM photograph, the average particle diameter of the nickel particle (2-B) was 45 nm, and the CV value was 0.12.

1977 g 의 도데실아민에 882 g 의 아세트산니켈 4 수화물을 첨가하고, 실시예 1 과 동일하게 하여, 니켈 착물 용액을 조제하였다. 882 g of nickel acetate tetrahydrate was added to 1977 g of dodecylamine, and it carried out similarly to Example 1, and prepared the nickel complex solution.

상기 니켈 착물 용액에, 333 g 의 니켈 입자 슬러리 (2-A) 를 첨가하고, 실시예 1 과 동일하게 하여, 니켈 입자 슬러리 (2-C) 를 얻고, 톨루엔과 메탄올을 사용하여 세정 후, 건조시켜 니켈 입자 (2-D) 를 조제하였다. SEM 사진의 결과로부터 니켈 입자 (2-D) 의 평균 입자경은 141 ㎚, CV 값은 0.14 였다. 333 g of nickel particle slurry (2-A) was added to the said nickel complex solution, it carried out similarly to Example 1, the nickel particle slurry (2-C) was obtained, and after washing|cleaning using toluene and methanol, drying to prepare nickel particles (2-D). From the result of the SEM photograph, the average particle diameter of the nickel particle (2-D) was 141 nm, and the CV value was 0.14.

(실시예 3)(Example 3)

실시예 1 에 있어서의 331 g 의 올레일아민 대신에, 314 g 의 도데실아민을 사용한 것, 그리고 포름산구리 4 수화물 및 포름산니켈 2 수화물의 사용량을 각각 0.49 g, 43.8 g 으로 변경한 것 이외에, 실시예 1 과 동일하게 하여, 포름산구리와 포름산니켈을 도데실아민에 용해시켰다. Instead of 331 g of oleylamine in Example 1, 314 g of dodecylamine was used, and the usage-amounts of copper formate tetrahydrate and nickel formate dihydrate were changed to 0.49 g and 43.8 g, respectively, except that In the same manner as in Example 1, copper formate and nickel formate were dissolved in dodecylamine.

실시예 1 과 동일하게 하여, 342 g 의 니켈 입자 슬러리 (3-A) 를 얻고, 톨루엔과 메탄올을 사용하여 세정 후, 건조시켜 니켈 입자 (3-B) 를 조제하였다. SEM 사진의 결과로부터 니켈 입자 (3-B) 의 평균 입자경은 20 ㎚, CV 값은 0.11 이었다. It carried out similarly to Example 1, the 342g nickel particle slurry (3-A) was obtained, it dried after washing|cleaning using toluene and methanol, and the nickel particle (3-B) was prepared. From the result of the SEM photograph, the average particle diameter of the nickel particle (3-B) was 20 nm, and the CV value was 0.11.

4028 g 의 도데실아민에 1797 g 의 아세트산니켈 4 수화물을 첨가하고, 실시예 1 과 동일하게 하여, 니켈 착물 용액을 조제하였다. 1797 g of nickel acetate tetrahydrate was added to 4028 g of dodecylamine, it carried out similarly to Example 1, and prepared the nickel complex solution.

상기 니켈 착물 용액에, 332 g 의 니켈 입자 슬러리 (3-A) 를 첨가하고, 실시예 1 과 동일하게 하여, 니켈 입자 슬러리 (3-C) 를 얻고, 톨루엔과 메탄올을 사용하여 세정 후, 건조시켜 니켈 입자 (3-D) 를 조제하였다. SEM 사진의 결과로부터 니켈 입자 (3-D) 의 평균 입자경은 63 ㎚, CV 값은 0.10 이었다. 332 g of nickel particle slurry (3-A) was added to the said nickel complex solution, it carried out similarly to Example 1, the nickel particle slurry (3-C) was obtained, and after washing|cleaning using toluene and methanol, drying to prepare nickel particles (3-D). From the results of the SEM photograph, the average particle diameter of the nickel particles (3-D) was 63 nm, and the CV value was 0.10.

(실시예 4)(Example 4)

실시예 1 에 있어서의 331 g 의 올레일아민 대신에, 297 g 의 옥틸아민을 사용한 것, 그리고 포름산구리 4 수화물 및 포름산니켈 2 수화물의 사용량을 각각 0.98 g, 65.7 g 으로 변경한 것 이외에, 실시예 1 과 동일하게 하여, 포름산구리와 포름산니켈을 옥틸아민에 용해시켰다. Instead of 331 g of oleylamine in Example 1, 297 g of octylamine was used, and the usage-amounts of copper formate tetrahydrate and nickel formate dihydrate were changed to 0.98 g and 65.7 g, respectively. In the same manner as in Example 1, copper formate and nickel formate were dissolved in octylamine.

상기 용해액에 마이크로파를 조사하여 170 ℃ 까지 가열하고, 그 온도를 5 분간 유지함으로써, 347 g 의 니켈 입자 슬러리 (4-A) 를 조제하였다. 얻어진 니켈 입자 슬러리 (4-A) 를 실시예 1 과 동일하게 하여 처리하여, 니켈 입자 (4-B) 를 조제하였다. SEM 사진의 결과로부터 니켈 입자 (4-B) 의 평균 입자경은 15 ㎚, CV 값은 0.12 였다. A 347-g nickel particle slurry (4-A) was prepared by irradiating a microwave to the said solution, heating to 170 degreeC, and maintaining the temperature for 5 minutes. The obtained nickel particle slurry (4-A) was carried out similarly to Example 1, it processed, and the nickel particle (4-B) was prepared. From the result of the SEM photograph, the average particle diameter of the nickel particle (4-B) was 15 nm, and the CV value was 0.12.

1050 g 의 옥틸아민에 636 g 의 아세트산니켈 4 수화물을 첨가하고, 질소 플로 하에서 120 ℃, 4 시간 가열함으로써 니켈 착물 용액을 조제하였다. 636 g of nickel acetate tetrahydrate was added to 1050 g of octylamine, and the nickel complex solution was prepared by heating at 120 degreeC and 4 hours under nitrogen flow.

상기 니켈 착물 용액에, 337 g 의 니켈 입자 슬러리 (4-A) 를 첨가하여, 교반 후, 마이크로파를 조사하여 170 ℃ 까지 가열하고, 그 온도를 60 분간 유지함으로써 니켈 입자 슬러리 (4-C) 를 조제하였다. 얻어진 니켈 입자 슬러리 (4-C) 를 실시예 1 과 동일하게 하여 처리하여, 니켈 입자 (4-D) 를 조제하였다. SEM 사진의 결과로부터 니켈 입자 (4-D) 의 평균 입자경은 30 ㎚, CV 값은 0.13 이었다. Nickel particle slurry (4-C) by adding 337 g of nickel particle slurry (4-A) to the said nickel complex solution, irradiating a microwave after stirring to 170 degreeC, and maintaining the temperature for 60 minutes prepared. The obtained nickel particle slurry (4-C) was carried out similarly to Example 1, it processed, and the nickel particle (4-D) was prepared. From the result of the SEM photograph, the average particle diameter of the nickel particle (4-D) was 30 nm, and the CV value was 0.13.

(실시예 5)(Example 5)

실시예 1 에 있어서의 포름산구리 4 수화물을 사용하지 않은 것 이외에, 실시예 1 과 동일하게 하여, 포름산니켈을 올레일아민에 용해시켰다. Nickel formate was dissolved in oleylamine in the same manner as in Example 1 except that the copper formate tetrahydrate in Example 1 was not used.

상기 올레일아민 용액에, 0.11 g 의 질산은을 첨가하여 용해액을 조제 후, 마이크로파를 조사하여 190 ℃ 까지 가열하여, 345 g 의 니켈 입자 슬러리 (5-A) 를 조제하였다. 얻어진 니켈 입자 슬러리 (5-A) 를 실시예 1 과 동일하게 처리하여, 니켈 입자 (5-B) 를 조제하였다. SEM 사진의 결과로부터 니켈 입자 (5-B) 의 평균 입자경은 30 ㎚, CV 값은 0.14 였다. After adding 0.11 g of silver nitrate to the said oleylamine solution and preparing a solution, it irradiated with a microwave and heated to 190 degreeC, and the 345 g of nickel particle slurry (5-A) was prepared. The obtained nickel particle slurry (5-A) was processed similarly to Example 1, and the nickel particle (5-B) was prepared. From the result of the SEM photograph, the average particle diameter of the nickel particle (5-B) was 30 nm, and the CV value was 0.14.

1918 g 의 옥틸아민에 1526 g 의 아세트산니켈 4 수화물을 첨가하고, 질소 플로 하에서 120 ℃, 4 시간 가열함으로써 니켈 착물 용액을 조제하였다. 1526 g of nickel acetate tetrahydrate was added to 1918 g of octylamine, and the nickel complex solution was prepared by heating at 120 degreeC and 4 hours under nitrogen flow.

상기 니켈 착물 용액에, 335 g 의 니켈 입자 슬러리 (5-A) 를 첨가하고, 교반 후, 마이크로파를 조사하여 170 ℃ 까지 가열하고, 그 온도를 60 분간 유지함으로써 니켈 입자 슬러리 (5-C) 를 조제하였다. 얻어진 니켈 입자 슬러리 (5-C) 를 실시예 1 과 동일하게 하여 처리하여, 니켈 입자 (5-D) 를 조제하였다. SEM 사진의 결과로부터 니켈 입자 (5-D) 의 평균 입자경은 112 ㎚, CV 값은 0.15 였다. A nickel particle slurry (5-C) was prepared by adding 335 g of nickel particle slurry (5-A) to the nickel complex solution, and after stirring, heating to 170° C. by irradiating microwaves and maintaining the temperature for 60 minutes. prepared. The obtained nickel particle slurry (5-C) was carried out similarly to Example 1, it processed, and the nickel particle (5-D) was prepared. From the result of the SEM photograph, the average particle diameter of the nickel particle (5-D) was 112 nm, and the CV value was 0.15.

(실시예 6)(Example 6)

실시예 1 에 있어서의 2.45 g 의 포름산구리 4 수화물 대신에, 0.036 g 의 아세트산팔라듐을 사용한 것 이외에, 실시예 1 과 동일하게 하여, 아세트산팔라듐 및 포름산니켈을 올레일아민에 용해시켰다. Instead of 2.45 g of copper formate tetrahydrate in Example 1, except having used 0.036 g of palladium acetate, it carried out similarly to Example 1, and dissolved palladium acetate and nickel formate in oleylamine.

실시예 1 과 동일하게 하여, 344 g 의 니켈 입자 슬러리 (6-A) 를 얻고, 니켈 입자 (6-B) 를 조제하였다. SEM 사진의 결과로부터 니켈 입자 (6-B) 의 평균 입자경은 45 ㎚, CV 값은 0.13 이었다. It carried out similarly to Example 1, the 344g nickel particle slurry (6-A) was obtained, and the nickel particle (6-B) was prepared. From the result of the SEM photograph, the average particle diameter of the nickel particle (6-B) was 45 nm, and the CV value was 0.13.

1216 g 의 올레일아민에 543 g 의 아세트산니켈 4 수화물을 첨가하고, 질소 플로 하에서 140 ℃, 4 시간 가열함으로써 니켈 착물 용액을 조제하였다. 543 g of nickel acetate tetrahydrate was added to 1216 g of oleylamine, and the nickel complex solution was prepared by heating 140 degreeC and 4 hours under nitrogen flow.

상기 니켈 착물 용액에, 334 g 의 니켈 입자 슬러리 (6-A) 를 첨가하고, 실시예 1 과 동일하게 하여, 니켈 입자 슬러리 (6-C) 를 조제하였다. 얻어진 니켈 입자 슬러리 (6-C) 를 실시예 1 과 동일하게 하여 처리하여, 니켈 입자 (6-D) 를 조제하였다. SEM 사진의 결과로부터 니켈 입자 (6-D) 의 평균 입자경은 120 ㎚, CV 값은 0.13 이었다. 334 g of nickel particle slurry (6-A) was added to the said nickel complex solution, and it carried out similarly to Example 1, and prepared the nickel particle slurry (6-C). The obtained nickel particle slurry (6-C) was carried out similarly to Example 1, it processed, and the nickel particle (6-D) was prepared. From the result of the SEM photograph, the average particle diameter of the nickel particle (6-D) was 120 nm, and the CV value was 0.13.

(실시예 7)(Example 7)

330 g 의 올레일아민에 29.7 g 의 아세트산니켈 4 수화물을 첨가하고, 질소 플로 하에서 120 ℃, 20 분 가열함으로써 아세트산니켈을 올레일아민에 용해시켰다. 29.7 g of nickel acetate tetrahydrate was added to 330 g of oleylamine, and nickel acetate was melt|dissolved in oleylamine by heating at 120 degreeC and 20 minutes under nitrogen flow.

상기 올레일아민 용액에, 0.06 g 의 질산은을 첨가하여 용해액을 조제 후, 마이크로파를 조사하여 190 ℃ 까지 가열하여, 346 g 의 니켈 입자 슬러리 (7-A) 를 조제하였다. 얻어진 니켈 입자 슬러리 (7-A) 를 실시예 1 과 동일하게 처리하여, 니켈 입자 (7-B) 를 조제하였다. SEM 사진의 결과로부터 니켈 입자 (7-B) 의 평균 입자경은 19 ㎚, CV 값은 0.11 이었다. After adding 0.06 g of silver nitrate to the said oleylamine solution and preparing the solution, it irradiated with a microwave and heated to 190 degreeC, and the 346 g of nickel particle slurry (7-A) was prepared. The obtained nickel particle slurry (7-A) was processed similarly to Example 1, and the nickel particle (7-B) was prepared. From the result of the SEM photograph, the average particle diameter of the nickel particle (7-B) was 19 nm, and the CV value was 0.11.

5092 g 의 도데실아민에 2670 g 의 아세트산니켈 4 수화물을 첨가하고, 질소 플로 하에서 140 ℃, 4 시간 가열함으로써 니켈 착물 용액을 조제하였다. 2670 g of nickel acetate tetrahydrate was added to 5092 g of dodecylamine, and the nickel complex solution was prepared by heating 140 degreeC and 4 hours under nitrogen flow.

상기 니켈 착물 용액에, 336 g 의 니켈 입자 슬러리 (7-A) 를 첨가하고, 실시예 1 과 동일하게 하여, 니켈 입자 슬러리 (7-C) 를 조제하였다. 얻어진 니켈 입자 슬러리 (7-C) 를 실시예 1 과 동일하게 처리하여, 니켈 입자 (7-D) 를 조제하였다. SEM 사진의 결과로부터 니켈 입자 (7-D) 의 평균 입자경은 85 ㎚, CV 값은 0.11 이었다. 336 g of nickel particle slurry (7-A) was added to the said nickel complex solution, it carried out similarly to Example 1, and prepared the nickel particle slurry (7-C). The obtained nickel particle slurry (7-C) was processed similarly to Example 1, and the nickel particle (7-D) was prepared. From the results of the SEM photograph, the average particle diameter of the nickel particles (7-D) was 85 nm, and the CV value was 0.11.

(실시예 8)(Example 8)

307 g 의 도데실아민에 59.3 g 의 아세트산니켈 4 수화물을 첨가하고, 질소 플로 하에서 120 ℃, 20 분 가열함으로써 아세트산니켈을 도데실아민에 용해시켰다. 59.3 g of nickel acetate tetrahydrate was added to 307 g of dodecylamine, and nickel acetate was dissolved in dodecylamine by heating at 120 degreeC and 20 minutes under nitrogen flow.

상기 도데실아민 용액에, 0.24 g 의 염화백금산 6 수화물을 첨가하여 용해 액을 조제 후, 마이크로파를 조사하여 190 ℃ 까지 가열하여, 348 g 의 니켈 입자 슬러리 (8-A) 를 조제하였다. 얻어진 니켈 입자 슬러리 (8-A) 를 실시예 1 과 동일하게 처리하여, 니켈 입자 (8-B) 를 조제하였다. SEM 사진의 결과로부터 니켈 입자 (8-B) 의 평균 입자경은 31 ㎚, CV 값은 0.14 였다. After adding 0.24 g of chloroplatinic acid hexahydrate to the said dodecylamine solution and preparing a solution, it irradiated with a microwave and heated to 190 degreeC, and 348 g of nickel particle slurry (8-A) was prepared. The obtained nickel particle slurry (8-A) was processed similarly to Example 1, and the nickel particle (8-B) was prepared. From the result of the SEM photograph, the average particle diameter of the nickel particle (8-B) was 31 nm, and the CV value was 0.14.

2730 g 의 옥틸아민에 1653 g 의 아세트산니켈 4 수화물을 첨가하고, 질소 플로 하에서 120 ℃, 4 시간 가열함으로써 니켈 착물 용액을 조제하였다. 1653 g of nickel acetate tetrahydrate was added to 2730 g of octylamine, and the nickel complex solution was prepared by heating at 120 degreeC and 4 hours under nitrogen flow.

상기 니켈 착물 용액에, 338 g 의 니켈 입자 슬러리 (8-A) 를 첨가하고, 교반 후, 마이크로파를 조사하여 170 ℃ 까지 가열하고, 그 온도를 60 분간 유지함으로써 니켈 입자 슬러리 (8-C) 를 조제하였다. 얻어진 니켈 입자 슬러리 (8-C) 를 실시예 1 과 동일하게 하여 처리하여, 니켈 입자 (8-D) 를 조제하였다. SEM 사진의 결과로부터 니켈 입자 (8-D) 의 평균 입자경은 92 ㎚, CV 값은 0.15 였다. A nickel particle slurry (8-C) was prepared by adding 338 g of nickel particle slurry (8-A) to the nickel complex solution, stirring, irradiating microwaves to 170° C., and maintaining the temperature for 60 minutes. prepared. The obtained nickel particle slurry (8-C) was carried out similarly to Example 1, it processed, and the nickel particle (8-D) was prepared. From the results of the SEM photograph, the average particle diameter of the nickel particles (8-D) was 92 nm, and the CV value was 0.15.

(실시예 9)(Example 9)

실시예 8 과 동일하게 하여, 아세트산니켈을 도데실아민에 용해시켰다. In the same manner as in Example 8, nickel acetate was dissolved in dodecylamine.

상기 도데실아민 용액에, 0.29 g 의 염화금산 4 수화물을 첨가하여 용해액을 조제한 후, 마이크로파를 조사하여 190 ℃ 까지 가열하여, 348 g 의 니켈 입자 슬러리 (9-A) 를 조제하였다. 얻어진 니켈 입자 슬러리 (9-A) 를 실시예 8 과 동일하게 처리하여, 니켈 입자 (9-B) 를 조제하였다. SEM 사진의 결과로부터 니켈 입자 (9-B) 의 평균 입자경은 16 ㎚, CV 값은 0.12 였다. After adding 0.29 g of chloroauric acid tetrahydrate to the said dodecylamine solution and preparing the solution, it irradiated with a microwave and heated to 190 degreeC, and 348 g of nickel particle slurry (9-A) was prepared. The obtained nickel particle slurry (9-A) was processed similarly to Example 8, and the nickel particle (9-B) was prepared. From the result of the SEM photograph, the average particle diameter of the nickel particle (9-B) was 16 nm, and the CV value was 0.12.

실시예 8 과 동일하게 하여, 니켈 착물 용액을 조제하였다. It carried out similarly to Example 8, and prepared the nickel complex solution.

상기 니켈 착물 용액에, 338 g 의 니켈 입자 슬러리 (9-A) 를 첨가하고, 실시예 8 과 동일하게 하여, 니켈 입자 슬러리 (9-C) 를 조제하였다. 얻어진 니켈 입자 슬러리 (9-C) 를 실시예 8 과 동일하게 하여 처리하여, 니켈 입자 (9-D) 를 조제하였다. SEM 사진의 결과로부터 니켈 입자 (9-D) 의 평균 입자경은 41 ㎚, CV 값은 0.13 이었다. 338 g of nickel particle slurry (9-A) was added to the said nickel complex solution, and it carried out similarly to Example 8, and prepared the nickel particle slurry (9-C). The obtained nickel particle slurry (9-C) was carried out similarly to Example 8, it processed, and the nickel particle (9-D) was prepared. From the results of the SEM photograph, the average particle diameter of the nickel particles (9-D) was 41 nm, and the CV value was 0.13.

(실시예 10)(Example 10)

287 g 의 옥틸아민에 0.29 g 의 아세트산팔라듐과 89.1 g 의 아세트산니켈 4 수화물을 첨가하고, 질소 플로 하에서 120 ℃, 20 분 가열함으로써 아세트산팔라듐과 아세트산니켈을 옥틸아민에 용해시켰다. 0.29 g of palladium acetate and 89.1 g of nickel acetate tetrahydrate were added to 287 g of octylamine, and palladium acetate and nickel acetate were dissolved in octylamine by heating at 120 degreeC and 20 minutes under nitrogen flow.

상기 용해액에 마이크로파를 조사하여 170 ℃ 까지 가열하고, 그 온도를 5 분간 유지함으로써, 347 g 의 니켈 입자 슬러리 (10-A) 를 조제하였다. 얻어진 니켈 입자 슬러리 (10-A) 를 실시예 1 과 동일하게 처리하여, 니켈 입자 (10-B) 를 조제하였다. SEM 사진의 결과로부터 니켈 입자 (10-B) 의 평균 입자경은 19 ㎚, CV 값은 0.16 이었다. A 347-g nickel particle slurry (10-A) was prepared by irradiating a microwave to the said solution, heating to 170 degreeC, and maintaining the temperature for 5 minutes. The obtained nickel particle slurry (10-A) was processed similarly to Example 1, and the nickel particle (10-B) was prepared. From the results of the SEM photograph, the average particle diameter of the nickel particles (10-B) was 19 nm, and the CV value was 0.16.

1819 g 의 옥틸아민에 954 g 의 아세트산니켈 4 수화물을 첨가하고, 질소 플로 하에서 120 ℃, 4 시간 가열함으로써 니켈 착물 용액을 조제하였다. 954 g of nickel acetate tetrahydrate was added to 1819 g of octylamine, and the nickel complex solution was prepared by heating at 120 degreeC and 4 hours under nitrogen flow.

상기 니켈 착물 용액에, 337 g 의 니켈 입자 슬러리 (10-A) 를 첨가하고, 교반 후, 마이크로파를 조사하여 170 ℃ 까지 가열하고, 그 온도를 60 분간 유지함으로써 니켈 입자 슬러리 (10-C) 를 조제하였다. 얻어진 니켈 입자 슬러리 (10-C) 를 실시예 1 과 동일하게 처리하여, 니켈 입자 (10-D) 를 조제하였다. SEM 사진의 결과로부터 니켈 입자 (10-D) 의 평균 입자경은 77 ㎚, CV 값은 0.14 였다. To the nickel complex solution, 337 g of nickel particle slurry (10-A) is added, and after stirring, microwave is irradiated and heated to 170°C, and the temperature is maintained for 60 minutes to obtain a nickel particle slurry (10-C). prepared. The obtained nickel particle slurry (10-C) was processed similarly to Example 1, and the nickel particle (10-D) was prepared. From the results of the SEM photograph, the average particle diameter of the nickel particles (10-D) was 77 nm, and the CV value was 0.14.

실시예 1 ∼ 10 의 결과를 정리하여 표 1 에 나타낸다. The results of Examples 1 to 10 are summarized and shown in Table 1.

이상, 본 발명의 실시형태를 예시의 목적으로 상세하게 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시형태에 제약되는 것은 아니다. As mentioned above, although embodiment of this invention was described in detail for the purpose of illustration, this invention is not restrict|limited to the said embodiment.

본 국제 출원은 2014년 9월 30일에 출원된 일본 특허 출원 2014-199998호에 기초하는 우선권을 주장하는 것으로, 당해 출원의 전체 내용을 여기에 원용한다.This international application claims the priority based on the JP Patent application 2014-199998 for which it applied on September 30, 2014, The whole content of the said application is used here.

Claims

니켈 입자의 제조 방법으로서, 하기의 공정 Ⅰ ∼ Ⅳ:
Ⅰ) 적어도 카르복실산니켈을 함유하는 금속염과, 지방족 1 급 모노아민을 혼합하여 가열함으로써 종 입자를 형성하는 공정,
Ⅱ) 니켈염과, 지방족 1 급 모노아민을 혼합하여 가열함으로써, 니켈염을 유기 아민에 용해시킨 니켈 착물 용액을 준비하는 공정,
Ⅲ) 상기 종 입자와 상기 니켈 착물 용액을 혼합하여 혼합액을 얻는 공정,
Ⅳ) 상기 혼합액 중의 니켈 이온을 가열 환원하고, 상기 종 입자를 핵으로 하여 금속 니켈을 석출·성장시켜 니켈 입자를 형성하는 공정
을 구비하는 것을 특징으로 하는 니켈 입자의 제조 방법. As a method for producing nickel particles, the following steps I to IV:
I) a step of forming seed particles by mixing and heating a metal salt containing at least nickel carboxylate and an aliphatic primary monoamine;
II) a step of preparing a nickel complex solution in which a nickel salt is dissolved in an organic amine by mixing and heating a nickel salt and an aliphatic primary monoamine;
Ⅲ) a step of mixing the seed particles and the nickel complex solution to obtain a mixed solution;
IV) A step of heating and reducing nickel ions in the liquid mixture to form nickel particles by precipitating and growing metallic nickel using the seed particles as nuclei
A method for producing nickel particles comprising a.

제 1 항에 있어서,
주사형 전자 현미경 관찰에 의한, 상기 종 입자의 평균 입자경 (D1) 이 10 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하의 범위 내이고, 상기 니켈 입자의 평균 입자경 (D2) 이 20 ㎚ 이상 150 ㎚ 이하의 범위 내이고, 또한, 8 ≥ D2/D1 인 니켈 입자의 제조 방법. The method of claim 1,
By scanning electron microscope observation, the average particle diameter (D1) of the seed particles is in the range of 10 nm or more and 50 nm or less, and the average particle diameter (D2) of the nickel particles is 20 nm or more and 150 nm or less; Also, a method for producing nickel particles in which 8 ≥ D2/D1.

제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 종 입자의 입자경의 변동 계수 (CV1) 및 상기 니켈 입자의 입자경의 변동 계수 (CV2) 가 모두 0.2 이하이고, 그 비 (CV1/CV2) 가 0.7 이상 1.3 이내의 범위 내인 니켈 입자의 제조 방법. 3. The method according to claim 1 or 2,
A method for producing nickel particles, wherein the coefficient of variation (CV1) of the particle diameter of the seed particle and the coefficient of variation (CV2) of the particle diameter of the nickel particle are both 0.2 or less, and the ratio (CV1/CV2) is within the range of 0.7 or more and 1.3.

제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 공정 Ⅱ 에서 사용하는 상기 지방족 1 급 모노아민은, 탄소수가 6 이상 20 이하의 범위 내인 니켈 입자의 제조 방법. 3. The method according to claim 1 or 2,
The method for producing nickel particles, wherein the aliphatic primary monoamine used in the step II has 6 or more and 20 or less carbon atoms.

제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 금속염이, 카르복실산니켈과, 구리, 은, 금, 백금 및 팔라듐에서 선택되는 1 종 이상의 금속의 염을 함유하는 니켈 입자의 제조 방법. 3. The method according to claim 1 or 2,
The manufacturing method of the nickel particle in which the said metal salt contains nickel carboxylate, and the salt of 1 or more types of metal selected from copper, silver, gold|metal|money, platinum, and palladium.

제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 공정 Ⅰ 및 상기 공정 Ⅳ 의 가열을 마이크로파에 의해 실시하는 니켈 입자의 제조 방법. 3. The method according to claim 1 or 2,
A method for producing nickel particles in which the heating in the step I and the step IV is performed by microwaves.