KR102295753B1

KR102295753B1 - 도포 장치 및 도포 방법

Info

Publication number: KR102295753B1
Application number: KR1020200004776A
Authority: KR
Inventors: 유키오 도미후지; 무네아키 오에; 아키히토 시오타; 게이고 스즈키
Original assignee: 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
Priority date: 2019-02-08
Filing date: 2020-01-14
Publication date: 2021-08-30
Also published as: TW202030026A; TWI741426B; JP2020127916A; KR20200097640A; CN111545381A; CN111545381B; JP6831406B2

Abstract

[과제] 상방을 향해서 기체의 분출구를 갖는 복수의 개구부와 상기 기체의 흡인구를 갖는 복수의 개구부를 갖는 도포 스테이지에 의해 기판을 부상시킨 상태로 이동시키면서 당해 기판의 상면에 처리액을 공급하여 도포하는 도포 장치에 있어서, 도포 불균일을 억제한다.
[해결 수단] 도포 부상 영역, 상류측 부상 영역 및 하류측 부상 영역은 모두 복수의 개구부를 이동 방향을 따라서 늘어놓은 개구행을 수평면 내에 있어서 이동 방향과 직교하는 열 방향으로 배열하여 기판을 부상시키고, 도포 부상 영역, 상류측 부상 영역 및 하류측 부상 영역 중 적어도 1개에 있어서, 개구행마다, 개구행을 구성하는 복수의 개구부는 열 방향으로 분산하여 배치되어 있다.

Description

도포 장치 및 도포 방법{COATING APPARATUS AND COATING METHOD}

이 발명은, 도포 스테이지에 의해 부상되는 기판을 이동하면서, 당해 기판의 상면에 처리액을 공급하여 도포하는 도포 장치 및 도포 방법에 관한 것이다. 또한, 상기 기판에는, 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등의 FPD용 유리 기판, 반도체 웨이퍼, 포토마스크용 유리 기판, 컬러 필터용 기판, 기록 디스크용 기판, 태양 전지용 기판, 전자 페이퍼용 기판 등의 정밀 전자 장치용 기판, 반도체 패키지용 기판이 포함된다.

반도체 장치나 액정 표시 장치 등의 전자 부품 등의 제조 공정에서는, 기판의 상면에 처리액을 공급하여 도포하는 도포 장치가 이용된다. 예를 들어 일본국 특허공개 2018-43200호 공보에 기재된 도포 장치는, 기판을 스테이지로부터 부상시킨 상태로 당해 기판을 스테이지의 길이 방향으로 이동시키면서 당해 기판의 상면에 대해서 처리액을 노즐의 토출구로부터 공급하여 기판의 거의 전체에 처리액을 도포한다.

스테이지로부터 기판을 부상시키기 위해서, 기체를 분출하는 분출구를 갖는 개구부가 복수 개 스테이지에 설치되어 있고, 각 분출구로부터 상방으로 고압의 기체를 분출하여, 그 기체 압력에 의해서 기판을 수평 자세로 띄우고 있다. 그리고, 스테이지의 폭 방향의 양측에 배치된 기판 이동부가 스테이지 상에서 떠 있는 기판을 유지하여 스테이지의 길이 방향으로 기판을 이동시킨다. 스테이지 중 노즐의 하방에 위치하는 영역에서는, 노즐의 토출구와 기판의 상면의 간격, 이른바 도포 갭을 고정밀도로 규정하기 위해서, 당해 영역에서는 상기 분출구에 혼재시켜 기체를 흡인하는 흡인구를 갖는 개구부도 다수 설치되어 있다. 보다 상세하게는, 복수의 개구부가 스테이지의 상면에 있어서 매트릭스형상으로 규칙적으로 설치되어 있다. 이로써, 노즐의 하방에서는, 기판은 스테이지의 상면에 근접하게 된 상태, 예를 들어 수십 미크론 정도의 갭으로 안정적으로 부상된다.

이와 같이 노즐의 하방에서는, 기판은 스테이지의 상면과 근접하고 있다. 이로 인해, 기판은 스테이지로부터 열 전사를 받아 온도 변화가 생기기 쉽다. 게다가, 스테이지의 상면 전체에는, 개구부가 스테이지의 길이 방향(기판의 이동 방향)을 행으로 하고, 기판의 폭 방향을 열로 하는 2차원 매트릭스형상으로 배치되어 있다. 이로 인해, 스테이지의 상면을 길이 방향으로 이동하는 기판에 있어서는, 개구부의 상방을 연속적으로 통과하는 스트라이프형상의 부위에서는 분출구나 흡인구의 존재에 의해 비교적 낮은 온도가 되는 한편, 그 이외의 부위에서는 스테이지로부터 열 전사를 강하게 받아 비교적 높은 온도가 된다. 이와 같이 스테이지로부터 기판으로의 열 영향이 기판의 폭 방향에 치우쳐, 온도 불균일이 발생하고 있다. 그 결과, 기판의 이동 방향과 평행한 방향으로 연장되는 도포 불균일이 발생하는 경우가 있었다.

이 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 상방을 향해서 기체를 분출하는 분출구를 갖는 복수의 개구부와 기체를 흡인하는 흡인구를 갖는 복수의 개구부를 갖는 도포 스테이지에 의해 기판을 부상시킨 상태로 상기 기판을 이동시키면서 당해 기판의 상면에 처리액을 공급하여 도포하는 도포 장치 및 도포 방법에 있어서, 도포 불균일의 발생을 억제하는 것을 목적으로 한다.

이 발명의 일 양태는, 도포 장치로서, 상방을 향해서 기체를 분출하는 분출구를 갖는 복수의 개구부와 기체를 흡인하는 흡인구를 갖는 복수의 개구부를 가지고, 복수의 개구부의 상방에 기판을 부상시키는 도포 스테이지와, 도포 스테이지 상에서 부상하는 기판을 이동 방향으로 이동시키는 기판 이동부와, 기판 이동부에 의해 이동 방향으로 이동하게 되는 기판의 상면에 처리액을 공급하여 도포하는 노즐을 구비하고, 도포 스테이지는, 노즐의 하방에 위치하는 도포 부상 영역과, 이동 방향에 있어서 도포 부상 영역의 상류측에 위치하는 상류측 부상 영역과, 이동 방향에 있어서 도포 부상 영역의 하류측에 위치하는 하류측 부상 영역을 가지며, 도포 부상 영역, 상류측 부상 영역 및 하류측 부상 영역은 모두 복수의 개구부를 이동 방향을 따라서 늘어놓은 개구행을 수평면 내에 있어서 이동 방향과 직교하는 열 방향으로 배열하여 기판을 부상시키고, 도포 부상 영역, 상류측 부상 영역 및 하류측 부상 영역 중 적어도 1개에 있어서, 개구행마다, 개구행을 구성하는 복수의 개구부는 열 방향으로 분산하여 배치되어 있는 것을 특징으로 하고 있다.

또, 이 발명의 다른 양태는, 도포 방법으로서, 상방을 향해서 기체를 분출하는 분출구를 갖는 복수의 개구부와 기체를 흡인하는 흡인구를 갖는 복수의 개구부를 갖는 부상 스테이지에 의해 복수의 개구부의 상방에 기판을 부상시키면서 이동 방향으로 이동시키는 제1 공정과, 이동 방향으로 이동하게 되는 기판의 상면에 노즐로부터 처리액을 공급하여 도포하는 제2 공정을 구비하고, 제1 공정에서는, 노즐의 하방에 위치하는 도포 부상 영역과, 이동 방향에 있어서 도포 부상 영역의 상류측에 위치하는 상류측 부상 영역과, 이동 방향에 있어서 도포 부상 영역의 하류측에 위치하는 하류측 부상 영역 전부에서 복수의 개구부를 이동 방향을 따라서 늘어놓은 개구행을 수평면 내에 있어서 이동 방향과 직교하는 열 방향으로 배열하며, 게다가 도포 부상 영역, 상류측 부상 영역 및 하류측 부상 영역 중 적어도 1개에 있어서, 개구행마다, 개구행을 구성하는 복수의 개구부를 열 방향으로 분산하여 배치한 부상 스테이지에 의해 기판을 부상시키고 있는 것을 특징으로 하고 있다.

이와 같이 구성된 발명에서는, 도포 부상 영역, 상류측 부상 영역 및 하류측 부상 영역 중 적어도 1개에서는, 개구행마다, 개구행을 구성하는 복수의 개구부가 열 방향으로 분산하여 배치되어 있다. 이로 인해, 부상 스테이지의 상면 중 개구부가 설치되어 있지 않은 영역(이하 「비개구 영역」이라고 한다)과 기판이 근접하여 당해 비개구 영역으로부터 기판으로 열 전사될 기회도 분산되어, 열 방향(기판의 폭 방향)에 있어서의 열 영향의 치우침이 줄어들고 있다.

이상과 같이, 도포 부상 영역, 상류측 부상 영역 및 하류측 부상 영역 중 적어도 1개에 있어서, 개구행마다, 개구행을 구성하는 복수의 개구부는 열 방향으로 분산하여 배치하고 있기 때문에, 온도 불균일을 억제하고, 도포 불균일의 발생을 억제할 수 있다.

도 1은 본 발명에 따르는 도포 장치의 제1 실시 형태의 전체 구성을 모식적으로 도시한 도면이다.
도 2는 기판 처리 장치를 연직 상방으로부터 본 평면도이다.
도 3은 도 2로부터 도포 기구를 떼어낸 평면도이다.
도 4는 도포 스테이지에서의 개구부의 배치 구조를 모식적으로 도시한 도면이다.
도 5는 개구부의 배치 구조에 따른 도포 특성의 변화를 도시한 그래프이다.
도 6은 본 발명에 따르는 도포 장치의 제2 실시 형태에 있어서의 도포 스테이지에서의 개구부의 배치 구조를 모식적으로 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명에 따르는 도포 장치의 제3 실시 형태에 있어서의 도포 스테이지에서의 개구부의 배치 구조를 모식적으로 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명에 따르는 도포 장치의 제4 실시 형태에 있어서의 도포 스테이지에서의 개구부의 배치 구조를 모식적으로 도시한 도면이다.
도 9는 본 발명에 따르는 도포 장치의 제5 실시 형태에 있어서의 도포 스테이지에서의 개구부의 배치 구조를 모식적으로 도시한 도면이다.
도 10은 본 발명에 따르는 도포 장치의 제6 실시 형태에 있어서의 도포 스테이지에서의 개구부의 배치 구조를 모식적으로 도시한 도면이다.
도 11은 본 발명에 따르는 도포 장치의 제7 실시 형태에 있어서의 도포 스테이지에서의 개구부의 배치 구조를 모식적으로 도시한 도면이다.

＜제1 실시 형태＞

도 1은 본 발명에 따르는 도포 장치의 제1 실시 형태의 전체 구성을 모식적으로 도시한 도면이다. 또, 도 2는 도포 장치를 연직 상방으로부터 본 평면도이다. 또한, 도 3은 도 2로부터 도포 기구를 떼어낸 평면도이다. 이 도포 장치(1)는, 도 1의 좌측으로부터 우측을 향해 수평 자세로 반송되는 기판(S)의 상면(Sf)에 도포액을 본 발명의 「처리액」의 일례로서 공급하여 도포하는 슬릿 코터이다. 또한, 이하의 각 도면에 있어서 장치 각 부의 배치 관계를 명확하게 하기 위해서, 기판(S)의 반송 방향을 「X 방향」이라고 하고, 도 1의 좌측으로부터 우측을 향하는 수평 방향을 「＋X 방향」이라고 칭하며, 역방향을 「-X 방향」이라고 칭한다. 또, X 방향과 직교하는 수평 방향(Y) 중, 장치의 정면측을 「-Y 방향」이라고 칭함과 더불어, 장치의 배면측을 「＋Y 방향」이라고 칭한다. 또한, 연직 방향(Z)에 있어서의 상측 방향 및 하측 방향을 각각 「＋Z 방향」 및 「-Z 방향」이라고 칭한다.

우선 도 1을 이용하여 이 도포 장치(1)의 구성의 개요를 설명하고, 그 후에 각 부의 보다 상세한 구조에 대해 설명한다. 또한, 도포 장치(1)의 기본적인 구성이나 동작 원리는, 본원 출원인이 앞서 개시한 일본국 특허 제5346643호에 기재된 것과 공통되어 있다. 그래서, 본 명세서에서는, 도포 장치(1)의 각 구성 중 이들 공지 문헌에 기재된 것과 동일한 구성을 적용 가능한 것, 및 이들 문헌의 기재로부터 구조를 용이하게 이해할 수 있는 것에 대해서는 상세한 설명을 생략하고, 본 실시 형태의 특징적인 부분을 주로 설명하는 것으로 한다.

도포 장치(1)에서는, 기판(S)의 이동 방향(X)을 따라서, 입력 컨베이어(100), 입력 이재부(2), 부상 스테이지부(3), 출력 이재부(4), 출력 컨베이어(110)가 이 순서대로 근접하여 배치되어 있고, 이하에 상술하는 바와 같이, 이들에 의해 대략 수평 방향으로 연장되는 기판(S)의 이동 경로가 형성되어 있다. 또한, 이하의 설명에 있어서 기판(S)의 이동 방향(X)과 관련지어 위치 관계를 나타낼 때, 「기판(S)의 이동 방향(X)에 있어서의 상류측」을 간단히 「상류측」으로, 또 「기판(S)의 이동 방향(X)에 있어서의 하류측」을 간단히 「하류측」으로 생략하는 경우가 있다. 이 예에서는, 어느 기준 위치에서 볼 때 상대적으로 (-X)측이 「상류측」, (＋X)측이 「하류측」에 상당한다.

처리 대상인 기판(S)은 도 1의 좌측으로부터 입력 컨베이어(100)에 반입된다. 입력 컨베이어(100)는, 롤러 컨베이어(101)와, 이것을 회전 구동시키는 회전 구동 기구(102)를 구비하고 있고, 롤러 컨베이어(101)의 회전에 의해 기판(S)은 수평 자세로 하류측, 즉 (＋X) 방향으로 반송된다. 입력 이재부(2)는, 롤러 컨베이어(21)와, 이것을 회전 구동시키는 기능 및 승강시키는 기능을 갖는 회전·승강 구동 기구(22)를 구비하고 있다. 롤러 컨베이어(21)가 회전함으로써, 기판(S)은 또한 (＋X) 방향으로 이동하여 부상 스테이지부(3)를 향해서 반송된다. 또, 롤러 컨베이어(21)가 승강함으로써 기판(S)의 연직 방향 위치가 변경된다. 이와 같이 구성된 입력 이재부(2)에 의해, 기판(S)은 입력 컨베이어(100)로부터 부상 스테이지부(3)에 이재된다.

부상 스테이지부(3)는, 기판의 이동 방향(X)을 따라서 3분할된 평판형상의 스테이지를 구비한다. 즉, 부상 스테이지부(3)는 입구 부상 스테이지(31), 도포 스테이지(32) 및 출구 부상 스테이지(33)를 구비하고 있고, 이들 각 스테이지의 상면은 서로 동일 평면의 일부를 이루고 있다. 입구 부상 스테이지(31) 및 출구 부상 스테이지(33)의 각각의 상면에는 부상 제어 기구(35)로부터 공급되는 압축 공기를 분출하는 분출구를 갖는 개구부가 매트릭스형상으로 다수 설치되어 있고, 분출되는 기류로부터 부여되는 부력에 의해 기판(S)이 부상한다. 이렇게 하여 기판(S)의 하면이 스테이지 상면으로부터 이격한 상태로 수평 자세로 지지된다. 기판(S)의 하면과 스테이지 상면의 거리, 즉 부상량은, 예를 들어 10마이크로미터 내지 500마이크로미터로 할 수 있다. 이들 입구 부상 스테이지(31) 및 출구 부상 스테이지(33)의 구체적 구성으로는, 예를 들어 일본국 특허 제5346643호에 기재된 것을 적용 가능하다.

한편, 도포 스테이지(32)의 상면에서는, 압축 공기를 분출하는 분출구를 갖는 개구부(후에 설명하는 도 4 중의 부호 321)와, 기판(S)의 하면과 스테이지 상면 사이의 공기를 흡인하는 흡인구를 갖는 개구부(후에 설명하는 도 4 중의 부호 322)가 교호로 배치되어 있다. 부상 제어 기구(35)가 분출구로부터의 압축 공기의 분출량과 흡인구로부터의 흡인량을 제어함으로써, 기판(S)의 하면과 도포 스테이지(32)의 상면의 거리가 정밀하게 제어된다. 이로써, 도포 스테이지(32)의 상방을 통과하는 기판(S)의 상면(Sf)의 연직 방향 위치가 규정값에 제어된다. 또한, 도포 스테이지(32)에 있어서의 개구부의 배치에 대해서는, 후에 상술하는 바와 같이, 종래 장치와 크게 다르다.

또한, 입구 부상 스테이지(31)에는, 리프트 핀이 배치되어 있고, 부상 스테이지부(3)에는 이 리프트 핀을 승강시키는 리프트 핀 구동 기구(34)가 설치되어 있다.

입력 이재부(2)를 통해 부상 스테이지부(3)에 반입되는 기판(S)은, 롤러 컨베이어(21)의 회전에 의해 (＋X) 방향으로의 추진력이 부여되어, 입구 부상 스테이지(31) 상에 반송된다. 입구 부상 스테이지(31), 도포 스테이지(32) 및 출구 부상 스테이지(33)는 기판(S)을 부상 상태로 지지하나, 기판(S)을 수평 방향으로 이동시키는 기능을 갖고 있지 않다. 부상 스테이지부(3)에 있어서의 기판(S)의 반송은, 입구 부상 스테이지(31), 도포 스테이지(32) 및 출구 부상 스테이지(33)의 하방에 배치된 기판 이동부(5)에 의해 행해진다.

기판 이동부(5)는, 기판(S)의 하면 주연부에 부분적으로 맞닿음으로써 기판(S)을 하방으로부터 지지하는 척 기구(51)와, 척 기구(51) 상단의 흡착 부재(다음의 도 3 중의 부호 513)에 설치된 흡착 패드 및 흡착 홈(도시 생략)에 부압을 부여하여 기판(S)을 흡착 유지시키는 기능 및 척 기구(51)를 X 방향으로 왕복 주행시키는 기능을 갖는 흡착·주행 제어 기구(52)를 구비하고 있다. 척 기구(51)가 기판(S)이나 더미판을 유지한 상태에서는, 기판(S)의 하면이나 더미판의 하면은 부상 스테이지부(3)의 각 스테이지의 상면보다 높은 위치에 위치하고 있다. 따라서, 기판(S)은, 척 기구(51)에 의해 주연부가 흡착 유지되면서, 부상 스테이지부(3)로부터 부여되는 부력에 의해 전체적으로 수평 자세를 유지한다.

입력 이재부(2)로부터 부상 스테이지부(3)에 반입되어 부상 스테이지부(3)에 의해 스테이지 상면으로부터 부상된 기판(S)을 척 기구(51)가 유지하고, 그 상태로 척 기구(51)가 (＋X) 방향으로 이동함으로써, 기판(S)이 입구 부상 스테이지(31)의 상방으로부터 도포 스테이지(32)의 상방을 경유하여 출구 부상 스테이지(33)의 상방으로 이동된다. 당해 기판(S)은, 출구 부상 스테이지(33)의 (＋X)측에 배치된 출력 이재부(4)에 수도된다.

출력 이재부(4)는, 롤러 컨베이어(41)와, 이것을 회전 구동시키는 기능 및 승강시키는 기능을 갖는 회전·승강 구동 기구(42)를 구비하고 있다. 롤러 컨베이어(41)가 회전함으로써, 기판(S)에 (＋X) 방향으로의 추진력이 부여되어, 기판(S)은 이동 방향(X)을 따라서 더욱 반송된다. 또, 롤러 컨베이어(41)가 승강함으로써 기판(S)의 연직 방향 위치가 변경된다. 그리고, 출력 이재부(4)에 의해, 기판(S)은 출구 부상 스테이지(33)의 상방으로부터 출력 컨베이어(110)에 이재된다.

출력 컨베이어(110)는, 롤러 컨베이어(111)와, 이것을 회전 구동시키는 회전 구동 기구(112)를 구비하고 있고, 롤러 컨베이어(111)의 회전에 의해 기판(S)은 더욱 (＋X) 방향으로 반송되어, 최종적으로 도포 장치(1) 밖으로 밀려나온다. 또한, 입력 컨베이어(100) 및 출력 컨베이어(110)는 도포 장치(1)의 구성의 일부로서 설치되어도 되나, 도포 장치(1)와는 별체인 것이어도 된다. 또 예를 들어, 도포 장치(1)의 상류측에 설치되는 다른 유닛의 기판 불출 기구가 입력 컨베이어(100)로서 이용되어도 된다. 또, 도포 장치(1)의 하류측에 설치되는 다른 유닛의 기판 받아들임 기구가 출력 컨베이어(110)로서 이용되어도 된다.

이와 같이 하여 이동되는 기판(S)의 이동 경로 상에, 기판(S)의 상면(Sf)에 도포액을 도포하기 위한 도포 기구(7)가 배치되어 있다. 도포 기구(7)는, Y 방향으로 연장 설치된 토출구(도시 생략)를 갖는 노즐(71)과, 노즐(71)에 대해 메인터넌스를 행하기 위한 메인터넌스 유닛(75)을 구비하고 있다. 노즐(71)에서는, 토출구가 노즐 본체의 하부에 하향으로 개구하여 설치되고, 도시하지 않은 도포액 공급부로부터 도포액의 공급을 받아 토출구로부터 도포액이 토출된다.

노즐(71)은, 위치 결정 기구(73)에 의해 X 방향 및 Z 방향으로 이동 위치 결정 가능하게 되어 있다. 위치 결정 기구(73)에 의해, 노즐(71)이 도포 스테이지(32)의 상방의 도포 위치(점선으로 나타내는 위치)에 위치 결정된다. 도포 위치에 위치 결정된 노즐(71)로부터 도포액이 토출되어, 도포 스테이지(32)와의 사이를 반송되어 오는 기판(S)에 도포된다. 이렇게 하여 기판(S)의 상면(Sf)으로의 도포액의 도포가 행해진다.

메인터넌스 유닛(75)은, 노즐(71)을 세정하기 위한 세정액을 저류하는 배트(751)와, 예비 토출 롤러(752)와, 노즐 클리너(753)와, 예비 토출 롤러(752) 및 노즐 클리너(753)의 동작을 제어하는 메인터넌스 제어 기구(754)를 구비하고 있다. 메인터넌스 유닛(75)의 구체적 구성으로는, 예를 들어 일본국 특허공개 2010-240550호 공보에 기재된 구성을 적용하는 것이 가능하다.

노즐(71)이 예비 토출 롤러(752)의 상방이고 토출구가 예비 토출 롤러(752)의 상면에 대향하는 위치(예비 토출 위치)에서는, 노즐(71)의 토출구로부터 예비 토출 롤러(752)의 상면에 대해서 도포액이 토출된다. 노즐(71)은, 도포 위치에 위치 결정되기에 앞서 예비 토출 위치에 위치 결정되고, 토출구로부터 소정량의 도포액을 토출하여 예비 토출 처리를 실행한다. 이와 같이 도포 위치로 이동시키기 전의 노즐(71)에 예비 토출 처리를 행하게 함으로써, 도포 위치에서의 도포액의 토출을 그 초기 단계부터 안정시킬 수 있다.

메인터넌스 제어 기구(754)가 예비 토출 롤러(752)를 회전시킴으로써, 토출 된 도포액은 배트(751)에 저류된 세정액에 혼합되어 회수된다. 또, 노즐(71)이 노즐 클리너(753)의 상방 위치(세정 위치)에 있는 상태에서는, 노즐 클리너(753)가 세정액을 토출하면서 Y 방향으로 이동함으로써, 노즐(71)의 토출구 및 그 주위에 부착된 도포액이 씻어내어진다.

또, 위치 결정 기구(73)는, 노즐(71)을 세정 위치보다 하방이고 노즐 하단이 배트(751) 내에 수용되는 위치(대기 위치)에 위치 결정하는 것이 가능하다. 노즐(71)을 이용한 도포 처리가 실행되지 않을 때에는, 노즐(71)은 이 대기 위치에 위치 결정된다. 또한, 도시를 생략하고 있으나, 대기 위치에 위치 결정된 노즐(71)에 대해 토출구에 있어서의 도포액의 건조를 방지하기 위한 대기 포드가 배치되어도 된다.

이 외, 도포 장치(1)에는, 장치 각 부의 동작을 제어하기 위한 제어 유닛(9)이 설치되어 있다. 제어 유닛(9)은 소정의 제어 프로그램이나 각종 데이터를 기억하는 기억 수단, 이 제어 프로그램을 실행함으로써 장치 각 부에 소정의 동작을 실행시키는 CPU 등의 연산 수단, 사용자나 외부 장치와의 정보 교환을 담당하는 인터페이스 수단 등을 구비하고 있다.

도 4는 도포 스테이지에서의 개구부의 배치 구조를 모식적으로 도시한 도면이고, (a)란에서는 종래예에서 채용하고 있던 배치 구조가 도시되는 한편, (b)란에서는 본 실시 형태에서 채용하고 있던 배치 구조가 도시되어 있다. 또한, (a)란 및 (b)란에서는, 상단의 도면에 있어서 이동 방향(X)으로 늘어선 개구행(후에 상술한다)의 일렬분이 파선에 의해 도시되고, 당해 일렬분의 개구행을 확대한 것이 중단에 도시되며, 그 중 이동 방향(X)의 최상류측의 개구행을 확대한 것이 하단에 도시되어 있다. 또, 도 4에 있어서는, 이해의 용이의 목적으로, 필요에 따라서 도포 스테이지(32)의 각 부의 치수나 수를 과장하거나 또는 간략화하여 그리고 있다. 이하, 도 4를 참조하면서 도포 스테이지(32)에 있어서의 개구부의 배치를 상세하게 설명한다.

본 실시 형태에서는, 도 4에 도시한 바와 같이, 도포 스테이지(32)는, 이동 방향(X)을 따라서 3개의 부상 영역(32A, 32B, 32C)이 설치되어 있다. 이들 중 부상 영역(32B)은 도포 위치에 위치 결정되는 노즐(71)의 하방에 위치하고 있으며, 본 발명의 「도포 부상 영역」의 일례에 상당하고 있다. 그래서, 이하의 설명에 있어서는, 부상 영역(32B)을 「도포 부상 영역(32B)」이라고 칭한다.

또, 이동 방향(X)에 있어서 도포 부상 영역(32B)의 상류측에 위치하는 부상 영역(32A)이 입구 부상 스테이지(31)로부터 반입되어 오는 기판(S)의 도포 스테이지(32)와의 갭을 좁혀 도포 부상 영역(32B)에서 스테이지 상면에 가깝게 하여 도포 부상 영역(32B)으로 보낸다. 이와 같이 부상 영역(32A)은 본 발명의 「상류측 부상 영역」의 일례에 상당하고 있다. 그래서, 이하의 설명에 있어서는, 부상 영역(32A)을 「상류측 부상 영역(32A)」이라고 칭한다.

또한, 이동 방향(X)에 있어서 도포 부상 영역(32B)의 하류측에 위치하는 부상 영역(32C)이 도포 부상 영역(32B)으로부터 이동 방향(X)으로 이동되는 기판(S)의 도포 스테이지(32)와의 갭을 넓혀 출구 부상 스테이지(33)에서 스테이지 상면으로부터 멀리해 출구 부상 스테이지(33)로 보낸다. 이와 같이 부상 영역(32C)은 본 발명의 「하류측 부상 영역」의 일례에 상당하고 있다. 그래서, 이하의 설명에 있어서는, 부상 영역(32C)을 「하류측 부상 영역(32C)」이라고 칭한다.

도포 스테이지(32)에서는, 도포 스테이지(32)와 기판(S)의 갭을 고정밀도로 제어하기 위해서, 상류측 부상 영역(32A), 도포 부상 영역(32B) 및 하류측 부상 영역(32C)의 전부에 있어서, 압축 공기를 분출하는 분출구를 갖는 개구부(321)와 기판(S)의 하면과 스테이지 상면 사이의 공기를 흡인하는 흡인구를 갖는 개구부(322)를 복수 개 배치하고 있다. 보다 구체적으로는, 개구부(321, 322)를 이동 방향(X)을 따라서 늘어놓은 개구행(323)이 이동 방향(X)과 직교하는 열 방향(Y)으로 배열되고 있다. 단, 도포 부상 영역(32B)에 있어서는, 상류측 부상 영역(32A) 및 하류측 부상 영역(32C)보다 더욱 고정밀도로 갭 제어할 필요가 있기 때문에, 도 4에 도시한 바와 같이, 이동 방향(X)에 있어서의 개구행(323)에서의 개구부(321, 322)의 피치 및 열 방향(Y)에 있어서의 개구행(323)의 피치는 상류측 부상 영역(32A) 및 하류측 부상 영역(32C)에서의 피치보다 짧게 설정되어 있다. 또한, 이하에 있어서, 개구부(321, 322)를 구별하지 않고 설명하는 경우에는, 「개구부(320)」라고 칭한다.

여기서 도 4의 (a)란에 도시한 바와 같이, 일본국 특허공개 2018-43200호 공보에 기재된 종래예와 동일하게, 개구행(323)의 전부에 있어서 개구행(323)을 구성하는 복수의 개구부(320)를 이동 방향(X)에 일렬로 배치해도 된다. 이 경우, 도 4의 (a)란의 중단에 도시한 바와 같이, 이동 방향(X)으로 늘어선 개구행(323)에서는, 전체 개구부(320)가 열 방향(Y)에 있어서 동일한 열 위치(Py1)에 배치된다. 이로 인해, 도포 스테이지(32)의 스테이지 상면에 근접하면서 스테이지 상면의 상방을 이동 방향(X)으로 이동하는 기판(S) 중 당해 열 위치(Py1)에 대향하는 스트라이프형상의 부위에서는 개구부(320)의 상방을 연속적으로 통과하게 되어, 분출구나 흡인구의 존재에 의해 비교적 낮은 온도가 된다. 한편, 열 위치(Py1)에 인접하는 열 위치에 대향하는 기판 부위에서는, 개구부(320)로부터 벗어난 스테이지 상면의 상방을 연속적으로 통과하게 되어, 스테이지 상면으로부터의 열 전사를 강하게 받아 비교적 높은 온도가 된다. 이와 같이 도포 스테이지(32)로부터 기판(S)으로의 열 영향이 열 방향(Y), 즉 기판(S)의 폭 방향에 치우쳐, 온도 불균일이 발생한다. 그 결과, 예를 들어 도 5의 (a)란에 도시한 바와 같이, 실제로 기판(S)의 상면(Sf)에 도포된 도포액의 막 두께를 계측하면, 기판(S)의 폭 방향(Y)에 있어서 막 두께는 일정한 막 두께 범위(T1≤막 두께≤T2)에 들어가지만, 막 두께가 열 방향(Y)에 있어서의 개구행(323)의 피치에 대응한 주기로 변동하고 있고, 기판(S)의 이동 방향(X)과 평행한 방향으로 연장되는 도포 불균일이 확인되었다.

그래서, 본 실시 형태에서는, 종래예와 동일하게, 도포 부상 영역(32B)에서는 개구행(323)을 열 방향(Y)에 협(狹)피치로 배열함과 더불어 상류측 부상 영역(32A) 및 하류측 부상 영역(32C)에서는 개구행(323)을 열 방향(Y)으로 광(廣)피치로 배열하고 있지만, 각 개구행(323)에 있어서 개구부(320)의 배열을 다르게 하고 있다. 보다 상세하게는, 도 4의 (b)란에 도시한 바와 같이, 상류측 부상 영역(32A)에서는, 각 개구행(323)에 있어서 개구부(320)가 이동 방향(X)에 대해서 경사진 경사 방향(동 도면 중의 점선(Da)으로 나타내는 방향)으로 광피치로 배열되어 있고, 이로 인해, 동 도면의 (b)란 중의 하단에 도시한 바와 같이, 각 개구행(323)에서는, 개구부(320)는 열 방향(Y)에 있어서 개구행(323)을 구성하는 개구부(320)의 개수(동 실시 형태에서는, 9개)로 분산되어 있다. 즉, 열 방향(Y)에 있어서의 개구부(320)의 위치는 각각 상이한 열 위치(Py1~Py9)로 되어 있다. 이 점에 대해서는, 하류측 부상 영역(32C)에 있어서도 상류측 부상 영역(32A)과 동일하다. 또, 도포 부상 영역(32B)에 있어서는, 각 개구행(323)에 있어서 개구부(320)가 이동 방향(X)에 대해서 경사진 경사 방향(동 도면 중의 점선(Db)으로 나타내는 방향)으로 협피치로 배열되어 있는 점을 제외하고, 상류측 부상 영역(32A)과 동일하다. 또한, 본 실시 형태에서는, 상류측 부상 영역(32A)에서의 개구부(320)의 경사각(θa)(이동 방향(X)에 대한 점선(Da)의 경사 각도), 도포 부상 영역(32B)에서의 개구부(320)의 경사각(θb)(이동 방향(X)에 대한 점선(Db)의 경사 각도) 및 하류측 부상 영역(32C)에서의 개구부(320)의 경사각(θc)(이동 방향(X)에 대한 점선(Dc)의 경사 각도)는, 이하의 관계식

｜θa｜=｜θc｜＞｜θb｜…식 (1)

을 만족하도록 설정되어 있다.

이와 같이 모든 부상 영역(32A~32C)에서는, 개구행(323)마다, 개구행(323)을 구성하는 복수의 개구부(320)가 열 방향(Y)으로 분산하여 배치되어 있다. 이로 인해, 도포 스테이지(32)의 상면 중 개구부(320)가 설치되어 있지 않은 비개구 영역과 기판(S)이 근접하여 당해 비개구 영역으로부터 기판(S)으로 열 전사될 기회도 열 방향(Y)으로 분산되어, 기판(S)의 폭 방향(열 방향(Y)과 평행한 방향)에 있어서의 열 영향의 치우침이 줄어들고 있다.

이러한 기술적 특징을 갖는 도포 장치(1)에서는, 제어 유닛(9)이 미리 기억된 처리 프로그램을 실행하여 각 부를 제어함으로써, 다음과 같이 하여 기판(S)의 상면에 도포액을 도포한다. 즉, 도포 지령이 부여되면, 입력 컨베이어(100)로부터 부상 스테이지부(3)에 도포 전의 기판(S)이 이재된다. 한편, 메인터넌스 유닛(75)에 있어서, 노즐(71)에 대해서 예비 토출 처리가 실행된다. 그 후에, 노즐(71)이 도포 부상 영역(32B)의 상방의 도포 위치(도 1의 점선 위치)로 이동되고, 토출구(도시 생략)를 연직 하방을 향해서 위치 결정되어 정지한다. 또, 노즐(71)의 이동과 동시 혹은 전후하여, 기판(S)이 이동 방향(X)으로 부상 이동되고, 기판(S)의 상면(Sf) 중 처음에 도포해야 할 영역이 도포 위치에 위치한 시점에서 기판 이동이 정지되며, 기판(S)은 정지 상태가 된다(제1 공정). 그것에 계속해서, 노즐(71)의 토출구를 기판(S)의 상면에 근접시킨 상태로 일정 시간 동안에 제어 유닛(9)은 일정량의 도포액을 노즐(71)에 압송하여 비드(기판(S)의 상면(Sf) 상에서의 액 고임)를 형성한다.

그리고, 이동 방향(X)으로의 기판(S)의 이동과, 노즐(71)로부터의 도포액의 토출이 실행되고, 기판(S)의 상면(Sf)으로의 도포액의 도포가 실행된다(제2 공정). 이것은, 기판(S)의 상면(Sf) 전체 혹은 일부(유효 도포면)에 도포액이 공급될 때까지 계속되고, 도포 처리가 완료한 시점에서는, 기판(S)의 상면(Sf) 중 마지막에 도포해야 할 영역이 도포 위치에 위치한 상태로 기판(S)의 이동은 정지되며, 기판(S)은 정지한다. 이 후, 노즐(71)이 도포 위치로부터 메인터넌스 유닛(75)을 향해서 이동된다. 한편, 도포액이 도포된 기판(S)은 다시 이동 방향(X)으로 이동되어, 출력 이재부(4)를 통해 도포 장치(1)로부터 반출된다.

이와 같이 도포 장치(1)에서는, 도포 스테이지(32)에 의해 부상하게 된 상태로 기판(S)을 이동 방향(X)으로 이동시키면서 노즐(71)로부터 기판(S)의 상면(Sf)에 도포액을 공급하여 도포하고 있다. 이로 인해, 기판(S)은 도포 스테이지(32)에 근접하여 도포 스테이지(32)로부터의 열 전사를 받으나, 상기한 바와 같이 본 실시 형태에서는, 비개구 영역으로부터 기판(S)으로 열 전사될 기회도 열 방향(Y)으로 분산되어, 기판(S)의 폭 방향(열 방향(Y)과 평행한 방향)에 있어서의 열 영향의 치우침이 적다. 따라서, 도포 불균일을 억제할 수 있다. 실제로 도포 장치(1)에 의해 도포된 도포액의 막 두께를 계측하면, 예를 들어 도 5의 (b)란에 도시한 바와 같이, 기판(S)의 폭 방향(Y)에 있어서 막 두께는 일정한 막 두께 범위(T1≤막 두께≤T2)에 들어감과 더불어 막 두께의 변동이 억제되어 있고, 본 실시 형태에 따르는 도포 장치(1)를 이용함으로써 도포 불균일을 억제하여 양호한 도포액의 액막을 형성하는 것이 가능하다는 것이 확인되어 있다.

또, 도포 처리를 행할 때에, 기판(S)의 이동을 일시적으로 정지시켜, 기판(S)의 일부를 도포 스테이지(32) 상에서 부상시킨 채로 정지시킬 필요가 있다. 이 정지 상태에 있어서는, 기판(S)의 특정 부위(도포 스테이지(32)의 상방에서 대기하고 있는 부위)에 대한 도포 스테이지(32)로부터의 열 전사가 이동시보다 많아지는데, 상기한 개구부(320)의 배치 구조를 채용하고 있기 때문에 기판(S)의 폭 방향에 있어서의 열 영향의 치우침을 억제하여 도포 불균일을 효과적으로 억제할 수 있다.

＜제2 실시 형태＞

도 6은 본 발명에 따르는 도포 장치의 제2 실시 형태에 있어서의 도포 스테이지에서의 개구부의 배치 구조를 모식적으로 도시한 도면이다. 이 제2 실시 형태가 제1 실시 형태와 크게 다른 점은, (1) 도포 부상 영역(32B)에서의 개구부(320)의 배치 구조와, (2) 상류측 부상 영역(32A) 및 하류측 부상 영역(32C)에서의 개구부(320)의 분산 상태이며, 그 외에 대해서는 제1 실시 형태와 동일하다. 그래서, 이하에 있어서는 차이점을 중심으로 설명하고, 동일 구성에 대해서는 동일 부호를 붙여 설명을 생략한다.

우선 차이점 (1)에 대해 설명한다. 제1 실시 형태에서는, 도포 부상 영역(32B)에서의 개구부(320)의 경사각(θb)을 제로 이외의 값으로 설정하고 있는데, 제2 실시 형태에서는 경사각(θb)을 제로로 설정하고 있다. 즉, 제2 실시 형태에서의 도포 부상 영역(32B)에 대해서는, 종래예와 동일하게, 각 개구행(323)에 있어서 개구부(320)가 이동 방향(X)에 협피치로 배열됨과 더불어 복수의 개구행(323)이 열 방향(Y)에 협피치로 배열되어 있으며, 복수의 개구부(320)가 기판(S)의 이동 방향(X)을 행으로 하고, 열 방향(기판(S)의 폭 방향)(Y)을 열로 하는 2차원 매트릭스형상으로 배치되어 있다. 또한, 이러한 배치 구성을 제1 실시 형태의 도포 부상 영역(32B)에 적용하는 것은 가능하다.

다음으로, 차이점 (2)에 대해 설명한다. 제1 실시 형태에서는, 각 개구행(323)에 있어서 개구부(320)의 열 위치를 서로 다르게 하여 열 방향(Y)에 개구부(321, 322)를 분산시키고 있다. 이에 비해, 제2 실시 형태에서는, 도 6에 도시한 바와 같이, 상류측 부상 영역(32A) 중의 각 개구행(323)에 있어서 개구부(320)를 3개의 배열 그룹(G1~G3)으로 구획하여 나누고 있다. 각 배열 그룹(G1~G3)은, 도 6의 하단의 도면에 도시한 바와 같이, 인접하는 3개의 개구부(320)는 이동 방향(X)과 평행한 방향으로 배열되어 있지만, 열 방향(Y)에 있어서의 배열 그룹(G1~G3)의 위치는 각각 열 위치(Py1~Py3)이며, 서로 상이하다. 또, 하류측 부상 영역(32C)에 있어서도 동일한 개구부(320)의 배치 구조를 갖고 있다. 이로 인해, 제1 실시 형태와 동일하게, 상류측 부상 영역(32A) 및 하류측 부상 영역(32C)에서는, 개구행(323)마다, 개구행(323)을 구성하는 복수의 개구부(320)가 열 방향(Y)으로 분산하여 배치되어 있고, 비개구 영역으로부터 기판(S)으로 열 전사될 기회도 열 방향(Y)으로 분산되어 있다. 따라서, 기판(S)의 폭 방향(열 방향(Y)과 평행한 방향)에 있어서의 열 영향의 치우침이 적어, 도포 불균일을 억제할 수 있다.

＜제3 실시 형태＞

도 7은 본 발명에 따르는 도포 장치의 제3 실시 형태에 있어서의 도포 스테이지에서의 개구부의 배치 구조를 모식적으로 도시한 도면이다. 상기 제2 실시 형태에서는, 상류측 부상 영역(32A)과 하류측 부상 영역(32C)을 동일 구성으로 하고 있다. 즉, 제2 실시 형태에서는, 하류측 부상 영역(32C) 중의 각 개구행(323)에 있어서 개구부(320)는 3개의 배열 그룹으로 구획하여 나눠지고, 각 배열 그룹의 열 위치는 각각 「Py1」, 「Py2」, 「Py3」으로 되어 있다. 따라서, 상류측 부상 영역(32A)의 3개의 배열 그룹과 하류측 부상 영역(32C)의 3개의 배열 그룹은 1대 1로 대응하면서 이동 방향(X)으로 늘어서 있다.

이에 비해, 제3 실시 형태에서는, 도 7에 도시한 바와 같이, 하류측 부상 영역(32C) 중의 각 개구행(323)에 있어서 개구부(320)는 3개의 배열 그룹(G4~G6)으로 구획하여 나눠지고, 게다가 배열 그룹(G4~G6)의 열 위치는 각각 상류측 부상 영역(32A)측의 열 위치(Py1~Py3)와 상이한 열 위치(Py4~Py6)로 되어 있다. 이와 같이 개구부(320)를 배치함으로써, 상류측 부상 영역(32A)과 하류측 부상 영역(32C) 사이에서 개구부(320)가 열 방향(Y)으로 겹쳐지는 것을 회피할 수 있다. 그 결과, 열 방향(Y)에 있어서 도포 스테이지(32)에서의 개구부(320)의 분산의 정도를 높일 수 있고, 도포 불균일을 보다 효과적으로 억제할 수 있다. 또한, 이와 같이 개구부(320)의 열 위치를 부상 영역마다 다르게 한다고 하는 기술 사항에 대해서는, 상기 제1 실시 형태나 후에 설명하는 제4 실시 형태 내지 제7 실시 형태에 대해서 적용해도 된다.

＜제4 실시 형태＞

도 8은 본 발명에 따르는 도포 장치의 제4 실시 형태에 있어서의 도포 스테이지에서의 개구부의 배치 구조를 모식적으로 도시한 도면이다. 상기 제2 실시 형태에서는, 상류측 부상 영역(32A)과 하류측 부상 영역(32C)을 동일 구성으로 하고 있다. 이에 비해, 도 8에 도시한 바와 같이, 도포 부상 영역(32B)을 사이에 두고 상류측 부상 영역(32A)과 하류측 부상 영역(32C)이 대칭이 되도록 개구부(320)를 설치해도 된다. 이러한 구성을 갖는 제4 실시 형태에 있어서도, 제1 실시 형태와 동일한 작용 효과가 얻어진다.

＜제5 실시 형태＞

상기 제2 실시 형태 내지 제4 실시 형태에서는, 각 개구행(323)에 있어서, 개구부(320)를 3개의 배열 그룹(G1~G3)에 할당하고 있는데, 할당수는 이것에 한정되는 것이 아니며, 2, 4 내지 최대수(개구행(323)을 구성하는 개구부(320)의 개수) 중 어느 하나로 설정해도 된다(또한, 최대수로 할당한 것은 제1 실시 형태에 상당한다). 이하, 할당수를 「2」로 설정한 경우에 대해 도 9를 참조하면서 설명한다.

도 9는 본 발명에 따르는 도포 장치의 제5 실시 형태에 있어서의 도포 스테이지에서의 개구부의 배치 구조를 모식적으로 도시한 도면이다. 이 제5 실시 형태가 제2 실시 형태와 크게 다른 것은, 상류측 부상 영역(32A) 및 하류측 부상 영역(32C)에서의 개구부(320)의 할당수가 「2」로 되어 있는 점이며, 그 외에 대해서는 제2 실시 형태와 동일하다.

제5 실시 형태에서는, 도 9에 도시한 바와 같이, 상류측 부상 영역(32A) 중의 각 개구행(323)에 있어서 개구부(320)를 2개의 배열 그룹(G1, G2)으로 구획하여 나누고 있다. 보다 상세하게는, 도 9의 하단의 도면에 도시한 바와 같이, 개구부(321, 322)가 이동 방향(X)을 따라서 지그재그형상으로 배치되어 있으며, 열 방향(Y)에 있어서 상류측(동 도면의 하측)에서 이동 방향(X)과 평행하게 배열된 개구부(322)에 의해 배열 그룹(G1)이 구성되는 한편, 열 방향(Y)에 있어서 하류측(동 도면에 있어서 상측)에서 이동 방향(X)과 평행하게 배열된 개구부(321)에 의해 배열 그룹(G2)이 구성되어 있다. 그리고, 열 방향(Y)에 있어서의 배열 그룹(G1, G2)의 위치는 각각 열 위치(Py1, Py2)이며, 서로 상이하다. 또, 하류측 부상 영역(32C)에 있어서도 동일한 개구부(320)의 배치 구조를 갖고 있다. 이로 인해, 제2 실시 형태와 동일한 작용 효과가 얻어진다.

＜제6 실시 형태＞

상기 제1 실시 형태 내지 제5 실시 형태에서는, 상류측 부상 영역(32A), 도포 부상 영역(32B) 및 하류측 부상 영역(32C) 중 어느 것에 있어서나, 서로 열 방향(Y)에 인접하는 개구행(323)을 이동 방향(X)에 있어서 맞추고 있는데, 어느 한 부상 영역에 있어서 인접하는 개구행(323)을 이동 방향(X)에 어긋나게 배치해도 된다. 예를 들어 제1 실시 형태에 있어서 도포 부상 영역(32B)에서 서로 열 방향(Y)에 인접하는 개구행(323)을 이동 방향(X)에 피치 절반만큼 어긋나게 배치하고, 개구부(320)를 지그재그형상으로 배치해도 된다(도 10 참조).

＜제7 실시 형태＞

상기 제1 실시 형태 내지 제6 실시 형태에서는, 각 개구행(323)에 있어서 개구부(321, 322)를 교호로 배치하고 있는데, 예를 들어 도 11에 도시한 바와 같이, 서로 열 방향(Y)에 인접하는 개구행(323) 중 한쪽을 개구부(321)로 구성하고, 다른쪽을 개구부(322)로 구성해도 된다.

＜그 외＞

또한, 본 발명은 상기한 실시 형태에 한정되는 것이 아니고, 그 취지를 일탈하지 않는 한에 있어서 상술한 것 이외에 여러 가지의 변경을 행하는 것이 가능하다. 예를 들어 상기 제1 실시 형태(도 4의 (b)란), 제6 실시 형태(도 10) 및 제7 실시 형태(도 11)에서는, 상기 관계식 (1)을 만족하도록 경사각(θa~θc)이 각각 설정되어 있는데, 경사각(θa~θc)의 대소 및 경사 방향에 대해서는 임의이다.

또, 상기 제2 실시 형태 내지 제5 실시 형태에서는, 도포 부상 영역(32B)에서의 개구부(320)의 경사각(θb)을 제로로 설정하고 있는데, 제1 실시 형태 등과 동일하게, 도포 부상 영역(32B)에서의 개구부(320)의 경사각(θb)을 제로 이외의 값으로 설정해도 된다.

이 발명은, 도포 스테이지에 의해 부상된 기판을 이동시키면서, 당해 기판의 상면에 처리액을 공급하여 도포하는 도포 기술 전반에 적용 가능하다.

1…도포 장치
5…기판 이동부
32…도포 스테이지
32A…상류측 부상 영역
32B…도포 부상 영역
32C…하류측 부상 영역
71…노즐
320, 321, 322…개구부
323…개구행
Py1~Py9…열 위치
S…기판
Sf…(기판의)상면
X…이동 방향
Y…열 방향

Claims

상방을 향해서 기체를 분출하는 분출구를 갖는 복수의 개구부와 기체를 흡인하는 흡인구를 갖는 복수의 개구부를 가지고, 상기 복수의 개구부의 상방에 기판을 부상시키는 도포 스테이지와,
상기 도포 스테이지 상에서 부상하는 상기 기판을 이동 방향으로 이동시키는 기판 이동부와,
상기 기판 이동부에 의해 상기 이동 방향으로 이동하게 되는 상기 기판의 상면에 처리액을 공급하고 도포하는 노즐을 구비하고,
상기 도포 스테이지는, 상기 노즐의 하방에 위치하는 도포 부상 영역과, 상기 이동 방향에 있어서 상기 도포 부상 영역의 상류측에 위치하는 상류측 부상 영역과, 상기 이동 방향에 있어서 상기 도포 부상 영역의 하류측에 위치하는 하류측 부상 영역을 가지며,
상기 도포 부상 영역, 상기 상류측 부상 영역 및 상기 하류측 부상 영역은 모두 복수의 개구부를 상기 이동 방향을 따라서 늘어놓은 개구행을 수평면 내에 있어서 상기 이동 방향과 직교하는 열 방향으로 배열하여 상기 기판을 부상시키고,
상기 도포 부상 영역에 있어서, 상기 복수의 개구행이 상기 이동 방향에 대해 경사 없이 배치되며,
상기 상류측 부상 영역과 상기 하류측 부상 영역에 있어서, 상기 복수의 개구행이 상기 개구행에 있어서 상기 개구부가 3개의 배열 그룹으로 구분되고, 각 배열 그룹이 상기 이동 방향과 평행한 방향으로 배열되며, 상기 열 방향에 있어서의 각 배열 그룹의 위치가 서로 상이한 것을 특징으로 하는 도포 장치.
상방을 향해서 기체를 분출하는 분출구를 갖는 복수의 개구부와 기체를 흡인하는 흡인구를 갖는 복수의 개구부를 가지고, 상기 복수의 개구부의 상방에 기판을 부상시키는 도포 스테이지와,
상기 도포 스테이지 상에서 부상하는 상기 기판을 이동 방향으로 이동시키는 기판 이동부와,
상기 기판 이동부에 의해 상기 이동 방향으로 이동하게 되는 상기 기판의 상면에 처리액을 공급하고 도포하는 노즐을 구비하고,
상기 도포 스테이지는, 상기 노즐의 하방에 위치하는 도포 부상 영역과, 상기 이동 방향에 있어서 상기 도포 부상 영역의 상류측에 위치하는 상류측 부상 영역과, 상기 이동 방향에 있어서 상기 도포 부상 영역의 하류측에 위치하는 하류측 부상 영역을 가지며,
상기 도포 부상 영역, 상기 상류측 부상 영역 및 상기 하류측 부상 영역은 모두 복수의 개구부를 상기 이동 방향을 따라서 늘어놓은 개구행을 수평면 내에 있어서 상기 이동 방향과 직교하는 열 방향으로 배열하여 상기 기판을 부상시키고,
상기 도포 부상 영역에 있어서, 상기 복수의 개구행이 상기 이동 방향에 대해 경사 없이 배치되며,
상기 상류측 부상 영역에 있어서, 상기 복수의 개구행이 상기 개구행에 있어서 상기 개구부가 3개의 배열 그룹으로 구분되고, 각 배열 그룹이 상기 이동 방향과 평행한 방향으로 배열되며, 상기 열 방향에 있어서의 각 배열 그룹의 위치가 서로 상이하고,
상기 하류측 부상 영역에 있어서, 각 개구행에 있어서 상기 개구부가 3개의 배열 그룹으로 구분되며, 각 배열 그룹의 열 위치가 각각 상류측 부상 영역측의 열 위치와 상이한 것을 특징으로 하는 도포 장치.
상방을 향해서 기체를 분출하는 분출구를 갖는 복수의 개구부와 기체를 흡인하는 흡인구를 갖는 복수의 개구부를 가지고, 상기 복수의 개구부의 상방에 기판을 부상시키는 도포 스테이지와,
상기 도포 스테이지 상에서 부상하는 상기 기판을 이동 방향으로 이동시키는 기판 이동부와,
상기 기판 이동부에 의해 상기 이동 방향으로 이동하게 되는 상기 기판의 상면에 처리액을 공급하고 도포하는 노즐을 구비하고,
상기 도포 스테이지는, 상기 노즐의 하방에 위치하는 도포 부상 영역과, 상기 이동 방향에 있어서 상기 도포 부상 영역의 상류측에 위치하는 상류측 부상 영역과, 상기 이동 방향에 있어서 상기 도포 부상 영역의 하류측에 위치하는 하류측 부상 영역을 가지며,
상기 도포 부상 영역, 상기 상류측 부상 영역 및 상기 하류측 부상 영역은 모두 복수의 개구부를 상기 이동 방향을 따라서 늘어놓은 개구행을 수평면 내에 있어서 상기 이동 방향과 직교하는 열 방향으로 배열하여 상기 기판을 부상시키고,
상기 도포 부상 영역에 있어서, 상기 복수의 개구행이 상기 이동 방향에 대해 경사 없이 배치되며,
상기 상류측 부상 영역과 상기 하류측 부상 영역에 있어서, 상기 복수의 개구행이 상기 개구행에 있어서 상기 개구부가 3개의 배열 그룹으로 구분되고, 각 배열 그룹이 상기 이동 방향과 평행한 방향으로 배열되며, 상기 열 방향에 있어서의 각 배열 그룹의 위치가 서로 상이하고, 상기 도포 부상 영역을 사이에 두고 상기 상류측 부상 영역과 상기 하류측 부상 영역이 대칭인 것을 특징으로 하는 도포 장치.
상방을 향해서 기체를 분출하는 분출구를 갖는 복수의 개구부와 기체를 흡인하는 흡인구를 갖는 복수의 개구부를 가지고, 상기 복수의 개구부의 상방에 기판을 부상시키는 도포 스테이지와,
상기 도포 스테이지 상에서 부상하는 상기 기판을 이동 방향으로 이동시키는 기판 이동부와,
상기 기판 이동부에 의해 상기 이동 방향으로 이동하게 되는 상기 기판의 상면에 처리액을 공급하고 도포하는 노즐을 구비하고,
상기 도포 스테이지는, 상기 노즐의 하방에 위치하는 도포 부상 영역과, 상기 이동 방향에 있어서 상기 도포 부상 영역의 상류측에 위치하는 상류측 부상 영역과, 상기 이동 방향에 있어서 상기 도포 부상 영역의 하류측에 위치하는 하류측 부상 영역을 가지며,
상기 도포 부상 영역, 상기 상류측 부상 영역 및 상기 하류측 부상 영역은 모두 복수의 개구부를 상기 이동 방향을 따라서 늘어놓은 개구행을 수평면 내에 있어서 상기 이동 방향과 직교하는 열 방향으로 배열하여 상기 기판을 부상시키고,
상기 도포 부상 영역에 있어서, 상기 복수의 개구행이 상기 이동 방향에 대해 경사 없이 배치되며,
상기 상류측 부상 영역과 상기 하류측 부상 영역에 있어서, 상기 복수의 개구행이 상기 개구행에 있어서 상기 개구부가 2개의 배열 그룹으로 구분되고, 각 배열 그룹이 상기 이동 방향과 평행한 방향으로 배열되며, 상기 열 방향에 있어서의 각 배열 그룹의 위치가 서로 상이한 것을 특징으로 하는 도포 장치.
청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 복수의 열 위치에 할당하여 배치된 상기 개구행은 상기 이동 방향에 대해서 경사져서 배치되어 있는, 도포 장치.
청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 복수의 개구행에서는, 상기 분출구를 갖는 상기 개구부와 상기 흡인구를 갖는 상기 개구부가 교호로 배치되어 있는, 도포 장치.
청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 열 방향에 있어서 서로 인접하는 2개의 상기 개구행 중 한쪽에는 상기 분출구를 갖는 상기 개구부가 배치되고, 다른쪽에는 상기 흡인구를 갖는 상기 개구부가 배치되어 있는, 도포 장치.
상방을 향해서 기체를 분출하는 분출구를 갖는 복수의 개구부와 기체를 흡인하는 흡인구를 갖는 복수의 개구부를 갖는 부상 스테이지에 의해 상기 복수의 개구부의 상방에 기판을 부상시키면서 이동 방향으로 이동시키는 제1 공정과,
상기 이동 방향으로 이동하게 되는 상기 기판의 상면에 노즐로부터 처리액을 공급하여 도포하는 제2 공정을 구비하고,
상기 제1 공정에서는, 상기 노즐의 하방에 위치하는 도포 부상 영역과, 상기 이동 방향에 있어서 상기 도포 부상 영역의 상류측에 위치하는 상류측 부상 영역과, 상기 이동 방향에 있어서 상기 도포 부상 영역의 하류측에 위치하는 하류측 부상 영역 전부에서 복수의 개구부를 상기 이동 방향을 따라서 늘어놓은 개구행을 수평면 내에 있어서 상기 이동 방향과 직교하는 열 방향으로 배열하며, 게다가, 상기 도포 부상 영역에 있어서, 상기 복수의 개구행이 상기 이동 방향에 대해 경사 없이 배치되고, 상기 상류측 부상 영역과 상기 하류측 부상 영역에 있어서, 상기 복수의 개구행이 상기 개구행에 있어서 상기 개구부가 3개의 배열 그룹으로 구분되며, 각 배열 그룹이 상기 이동 방향과 평행한 방향으로 배열되고, 상기 열 방향에 있어서의 각 배열 그룹의 위치가 서로 상이한, 상기 부상 스테이지에 의해 상기 기판을 부상시키고 있는 것을 특징으로 하는 도포 방법.
상방을 향해서 기체를 분출하는 분출구를 갖는 복수의 개구부와 기체를 흡인하는 흡인구를 갖는 복수의 개구부를 갖는 부상 스테이지에 의해 상기 복수의 개구부의 상방에 기판을 부상시키면서 이동 방향으로 이동시키는 제1 공정과,
상기 이동 방향으로 이동하게 되는 상기 기판의 상면에 노즐로부터 처리액을 공급하여 도포하는 제2 공정을 구비하고,
상기 제1 공정에서는, 상기 노즐의 하방에 위치하는 도포 부상 영역과, 상기 이동 방향에 있어서 상기 도포 부상 영역의 상류측에 위치하는 상류측 부상 영역과, 상기 이동 방향에 있어서 상기 도포 부상 영역의 하류측에 위치하는 하류측 부상 영역 전부에서 복수의 개구부를 상기 이동 방향을 따라서 늘어놓은 개구행을 수평면 내에 있어서 상기 이동 방향과 직교하는 열 방향으로 배열하며, 게다가, 상기 도포 부상 영역에 있어서, 상기 복수의 개구행이 상기 이동 방향에 대해 경사 없이 배치되고, 상기 상류측 부상 영역에 있어서, 상기 복수의 개구행이 상기 개구행에 있어서 상기 개구부가 3개의 배열 그룹으로 구분되며, 각 배열 그룹이 상기 이동 방향과 평행한 방향으로 배열되고, 상기 열 방향에 있어서의 각 배열 그룹의 위치가 서로 상이하며, 상기 하류측 부상 영역에 있어서, 각 개구행에 있어서 상기 개구부가 3개의 배열 그룹으로 구분되고, 각 배열 그룹의 열 위치가 각각 상류측 부상 영역측의 열 위치와 상이한, 상기 부상 스테이지에 의해 상기 기판을 부상시키고 있는 것을 특징으로 하는 도포 방법.
상방을 향해서 기체를 분출하는 분출구를 갖는 복수의 개구부와 기체를 흡인하는 흡인구를 갖는 복수의 개구부를 갖는 부상 스테이지에 의해 상기 복수의 개구부의 상방에 기판을 부상시키면서 이동 방향으로 이동시키는 제1 공정과,
상기 이동 방향으로 이동하게 되는 상기 기판의 상면에 노즐로부터 처리액을 공급하여 도포하는 제2 공정을 구비하고,
상기 제1 공정에서는, 상기 노즐의 하방에 위치하는 도포 부상 영역과, 상기 이동 방향에 있어서 상기 도포 부상 영역의 상류측에 위치하는 상류측 부상 영역과, 상기 이동 방향에 있어서 상기 도포 부상 영역의 하류측에 위치하는 하류측 부상 영역 전부에서 복수의 개구부를 상기 이동 방향을 따라서 늘어놓은 개구행을 수평면 내에 있어서 상기 이동 방향과 직교하는 열 방향으로 배열하며, 게다가, 상기 도포 부상 영역에 있어서, 상기 복수의 개구행이 상기 이동 방향에 대해 경사 없이 배치되고, 상기 상류측 부상 영역과 상기 하류측 부상 영역에 있어서, 상기 복수의 개구행이 상기 개구행에 있어서 상기 개구부가 3개의 배열 그룹으로 구분되며, 각 배열 그룹이 이동 방향과 평행한 방향으로 배열되고, 열 방향에 있어서의 각 배열 그룹의 위치가 서로 상이하며, 상기 도포 부상 영역을 사이에 두고 상기 상류측 부상 영역과 상기 하류측 부상 영역이 대칭인, 상기 부상 스테이지에 의해 상기 기판을 부상시키고 있는 것을 특징으로 하는 도포 방법.
상방을 향해서 기체를 분출하는 분출구를 갖는 복수의 개구부와 기체를 흡인하는 흡인구를 갖는 복수의 개구부를 갖는 부상 스테이지에 의해 상기 복수의 개구부의 상방에 기판을 부상시키면서 이동 방향으로 이동시키는 제1 공정과,
상기 이동 방향으로 이동하게 되는 상기 기판의 상면에 노즐로부터 처리액을 공급하여 도포하는 제2 공정을 구비하고,
상기 제1 공정에서는, 상기 노즐의 하방에 위치하는 도포 부상 영역과, 상기 이동 방향에 있어서 상기 도포 부상 영역의 상류측에 위치하는 상류측 부상 영역과, 상기 이동 방향에 있어서 상기 도포 부상 영역의 하류측에 위치하는 하류측 부상 영역 전부에서 복수의 개구부를 상기 이동 방향을 따라서 늘어놓은 개구행을 수평면 내에 있어서 상기 이동 방향과 직교하는 열 방향으로 배열하며, 게다가, 상기 도포 부상 영역에 있어서, 상기 복수의 개구행이 상기 이동 방향에 대해 경사 없이 배치되고, 상기 상류측 부상 영역과 상기 하류측 부상 영역에 있어서, 상기 복수의 개구행이 상기 개구행에 있어서 상기 개구부가 2개의 배열 그룹으로 구분되며, 각 배열 그룹이 상기 이동 방향과 평행한 방향으로 배열되고, 상기 열 방향에 있어서의 각 배열 그룹의 위치가 서로 상이한, 상기 부상 스테이지에 의해 상기 기판을 부상시키고 있는 것을 특징으로 하는 도포 방법.