JP6831406B2 - 塗布装置および塗布方法 - Google Patents
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Description
この発明の第2態様は、塗布装置であって、上方に向けて気体を噴出する噴出口を有する複数の開口部と気体を吸引する吸引口を有する複数の開口部とを有し、複数の開口部の上方に基板を浮上させる塗布ステージと、塗布ステージ上で浮上する基板を移動方向に移動させる基板移動部と、基板移動部により移動方向に移動させられる基板の上面に処理液を供給して塗布するノズルと、を備え、塗布ステージは、ノズルの下方に位置する塗布浮上領域と、移動方向において塗布浮上領域の上流側に位置する上流側浮上領域と、移動方向において塗布浮上領域の下流側に位置する下流側浮上領域とを有し、塗布浮上領域、上流側浮上領域および下流側浮上領域はいずれも複数の開口部を移動方向に沿って並べた開口行を水平面内において移動方向と直交する列方向に配列して基板を浮上させ、塗布浮上領域において、複数の開口行が移動方向に対して傾斜なしで配置され、上流側浮上領域において、複数の開口行が開口行において開口部を3つの配列グループに区分され、各配列グループが移動方向と平行な方向に配列され、列方向における各配列グループの位置が相互に異なり、下流側浮上領域において、各開口行において開口部が3つの配列グループに区分けされ、配列グループの列位置がそれぞれ上流側浮上領域側の列位置と異なっていることを特徴としている。
この発明の第3態様は、塗布装置であって、上方に向けて気体を噴出する噴出口を有する複数の開口部と気体を吸引する吸引口を有する複数の開口部とを有し、複数の開口部の上方に基板を浮上させる塗布ステージと、塗布ステージ上で浮上する基板を移動方向に移動させる基板移動部と、基板移動部により移動方向に移動させられる基板の上面に処理液を供給して塗布するノズルと、を備え、塗布ステージは、ノズルの下方に位置する塗布浮上領域と、移動方向において塗布浮上領域の上流側に位置する上流側浮上領域と、移動方向において塗布浮上領域の下流側に位置する下流側浮上領域とを有し、塗布浮上領域、上流側浮上領域および下流側浮上領域はいずれも複数の開口部を移動方向に沿って並べた開口行を水平面内において移動方向と直交する列方向に配列して基板を浮上させ、塗布浮上領域において、複数の開口行が移動方向に対して傾斜なしで配置され、上流側浮上領域と下流側浮上領域において、複数の開口行が開口行において開口部を3つの配列グループに区分され、各配列グループが移動方向と平行な方向に配列され、列方向における各配列グループの位置が相互に異なり、塗布浮上領域を挟んで上流側浮上領域と下流側浮上領域とが対称であることを特徴としている。
この発明の第4態様は、塗布装置であって、上方に向けて気体を噴出する噴出口を有する複数の開口部と気体を吸引する吸引口を有する複数の開口部とを有し、複数の開口部の上方に基板を浮上させる塗布ステージと、塗布ステージ上で浮上する基板を移動方向に移動させる基板移動部と、基板移動部により移動方向に移動させられる基板の上面に処理液を供給して塗布するノズルと、を備え、塗布ステージは、ノズルの下方に位置する塗布浮上領域と、移動方向において塗布浮上領域の上流側に位置する上流側浮上領域と、移動方向において塗布浮上領域の下流側に位置する下流側浮上領域とを有し、塗布浮上領域、上流側浮上領域および下流側浮上領域はいずれも複数の開口部を移動方向に沿って並べた開口行を水平面内において移動方向と直交する列方向に配列して基板を浮上させ、塗布浮上領域において、複数の開口行が移動方向に対して傾斜なしで配置され、上流側浮上領域と下流側浮上領域において、複数の開口行が開口行において開口部を2つの配列グループに区分され、各配列グループが移動方向と平行な方向に配列され、列方向における各配列グループの位置が相互に異なることを特徴としている。
この発明の第6態様は、塗布方法であって、上方に向けて気体を噴出する噴出口を有する複数の開口部と気体を吸引する吸引口を有する複数の開口部とを有する浮上ステージにより複数の開口部の上方に基板を浮上させながら移動方向に移動させる第1の工程と、移動方向に移動させられる基板の上面にノズルから処理液を供給して塗布する第2の工程と、を備え、第1の工程では、ノズルの下方に位置する塗布浮上領域と、移動方向において塗布浮上領域の上流側に位置する上流側浮上領域と、移動方向において塗布浮上領域の下流側に位置する下流側浮上領域との全部で複数の開口部を移動方向に沿って並べた開口行を水平面内において移動方向と直交する列方向に配列し、しかも塗布浮上領域において、複数の開口行が移動方向に対して傾斜なしで配置され、上流側浮上領域において、複数の開口行が開口行において開口部を3つの配列グループに区分され、各配列グループが移動方向と平行な方向に配列され、列方向における各配列グループの位置が相互に異なり、下流側浮上領域において、各開口行において開口部が3つの配列グループに区分けされ、配列グループの列位置がそれぞれ上流側浮上領域側の列位置と異なっている、浮上ステージにより基板を浮上させていることを特徴としている。
この発明の第7態様は、塗布方法であって、上方に向けて気体を噴出する噴出口を有する複数の開口部と気体を吸引する吸引口を有する複数の開口部とを有する浮上ステージにより複数の開口部の上方に基板を浮上させながら移動方向に移動させる第1の工程と、移動方向に移動させられる基板の上面にノズルから処理液を供給して塗布する第2の工程と、を備え、第1の工程では、ノズルの下方に位置する塗布浮上領域と、移動方向において塗布浮上領域の上流側に位置する上流側浮上領域と、移動方向において塗布浮上領域の下流側に位置する下流側浮上領域との全部で複数の開口部を移動方向に沿って並べた開口行を水平面内において移動方向と直交する列方向に配列し、しかも塗布浮上領域において、複数の開口行が移動方向に対して傾斜なしで配置され、上流側浮上領域と下流側浮上領域において、複数の開口行が開口行において開口部を3つの配列グループに区分され、各配列グループが移動方向と平行な方向に配列され、列方向における各配列グループの位置が相互に異なり、塗布浮上領域を挟んで上流側浮上領域と下流側浮上領域とが対称である、浮上ステージにより基板を浮上させていることを特徴としている。
この発明の第8態様は、塗布方法であって、上方に向けて気体を噴出する噴出口を有する複数の開口部と気体を吸引する吸引口を有する複数の開口部とを有する浮上ステージにより複数の開口部の上方に基板を浮上させながら移動方向に移動させる第1の工程と、移動方向に移動させられる基板の上面にノズルから処理液を供給して塗布する第2の工程と、を備え、第1の工程では、ノズルの下方に位置する塗布浮上領域と、移動方向において塗布浮上領域の上流側に位置する上流側浮上領域と、移動方向において塗布浮上領域の下流側に位置する下流側浮上領域との全部で複数の開口部を移動方向に沿って並べた開口行を水平面内において移動方向と直交する列方向に配列し、しかも塗布浮上領域において、複数の開口行が移動方向に対して傾斜なしで配置され、上流側浮上領域と下流側浮上領域において、複数の開口行が開口行において開口部を2つの配列グループに区分され、各配列グループが移動方向と平行な方向に配列され、列方向における各配列グループの位置が相互に異なる、浮上ステージにより基板を浮上させていることを特徴としている。
図1は本発明に係る塗布装置の第1実施形態の全体構成を模式的に示す図である。また、図2は塗布装置を鉛直上方から見た平面図である。さらに、図3は図2から塗布機構を取り外した平面図である。この塗布装置1は、図1の左手側から右手側に向けて水平姿勢で搬送される基板Sの上面Sfに塗布液を本発明の「処理液」の一例として供給して塗布するスリットコータである。なお、以下の各図において装置各部の配置関係を明確にするために、基板Sの搬送方向を「X方向」とし、図1の左手側から右手側に向かう水平方向を「+X方向」と称し、逆方向を「−X方向」と称する。また、X方向と直交する水平方向Yのうち、装置の正面側を「−Y方向」と称するとともに、装置の背面側を「+Y方向」と称する。さらに、鉛直方向Zにおける上方向および下方向をそれぞれ「+Z方向」および「−Z方向」と称する。
|θa|=|θc|>|θb| … 式(1)
を満足するように設定されている。
図6は本発明に係る塗布装置の第2実施形態における塗布ステージでの開口部の配置構造を模式的に示す図である。この第2実施形態が第1実施形態と大きく相違している点は、(1)塗布浮上領域32Bでの開口部320の配置構造と、(2)上流側浮上領域32Aおよび下流側浮上領域32Cでの開口部320の分散状態とであり、その他については第1実施形態と同一である。そこで、以下においては相違点を中心に説明し、同一構成については同一符号を付して説明を省略する。
図7は本発明に係る塗布装置の第3実施形態における塗布ステージでの開口部の配置構造を模式的に示す図である。上記第2実施形態では、上流側浮上領域32Aと下流側浮上領域32Cとを同一構成を有している。つまり、第2実施形態では、下流側浮上領域32C中の各開口行323において開口部320は3つの配列グループに区分けされ、各配列グループの列位置はそれぞれ「Py1」、「Py2」、「Py3」となっている。したがって、上流側浮上領域32Aの3つの配列グループと下流側浮上領域32Cの3つの配列グループとは1対1で対応しながら移動方向Xに並んでいる。
図8は本発明に係る塗布装置の第4実施形態における塗布ステージでの開口部の配置構造を模式的に示す図である。上記第2実施形態では、上流側浮上領域32Aと下流側浮上領域32Cとを同一構成を有している。これに対し、図8に示すように、塗布浮上領域32Bを挟んで上流側浮上領域32Aと下流側浮上領域32Cとが対称となるように開口部320を設けてもよい。このような構成を有する第4実施形態においても、第1実施形態と同様の作用効果が得られる。
上記第2実施形態ないし第4実施形態では、各開口行323において、開口部320を3つの配列グループG1〜G3に振り分けているが、振り分け数はこれに限定されるものではなく、2、4ないし最大数(開口行323を構成する開口部320の個数)のいずれかに設定してもよい(なお、最大数に振り分けたものは第1実施形態に相当する)。以下、振り分け数を「2」に設定した場合について図9を参照しつつ説明する。
上記第1実施形態ないし第5実施形態では、上流側浮上領域32A、塗布浮上領域32Bおよび下流側浮上領域32Cのいずれにおいても、互いに列方向Yに隣接する開口行323を移動方向Xにおける揃えているが、いずれかの浮上領域において隣接する開口行323を移動方向Xにずらして配置してもよい。例えば第1実施形態において塗布浮上領域32Bで互いに列方向Yに隣接する開口行323を移動方向Xに半ピッチだけずれて配置し、開口部320をジグザグ状に配置してもよい(図10参照)。
上記第1実施形態ないし第6実施形態では、各開口行323において開口部321、322を交互に配置しているが、例えば図11に示すように、互いに列方向Yに隣接する開口行323のうちの一方を開口部321で構成し、他方を開口部322で構成してもよい。
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば上記第1実施形態(図4の(b)欄)、第6実施形態(図10)および第7実施形態(図11)では、上記関係式(1)を満足するように傾斜角θa〜θcがそれぞれ設定されているが、傾斜角θa〜θcの大小および傾斜方向については任意である。
5…基板移動部
32…塗布ステージ
32A…上流側浮上領域
32B…塗布浮上領域
32C…下流側浮上領域
71…ノズル
320,321,322…開口部
323…開口行
Py1〜Py9…列位置
S…基板
Sf…(基板の)上面
X…移動方向
Y…列方向
Claims (11)
- 上方に向けて気体を噴出する噴出口を有する複数の開口部と気体を吸引する吸引口を有する複数の開口部とを有し、前記複数の開口部の上方に基板を浮上させる塗布ステージと、
前記塗布ステージ上で浮上する前記基板を移動方向に移動させる基板移動部と、
前記基板移動部により前記移動方向に移動させられる前記基板の上面に処理液を供給して塗布するノズルと、を備え、
前記塗布ステージは、前記ノズルの下方に位置する塗布浮上領域と、前記移動方向において前記塗布浮上領域の上流側に位置する上流側浮上領域と、前記移動方向において前記塗布浮上領域の下流側に位置する下流側浮上領域とを有し、
前記塗布浮上領域、前記上流側浮上領域および前記下流側浮上領域はいずれも複数の開口部を前記移動方向に沿って並べた開口行を水平面内において前記移動方向と直交する列方向に配列して前記基板を浮上させ、
前記塗布浮上領域において、前記複数の開口行が前記移動方向に対して傾斜なしで配置され、
前記上流側浮上領域と前記下流側浮上領域において、前記複数の開口行が前記開口行において前記開口部を3つの配列グループに区分けされ、各配列グループが前記移動方向と平行な方向に配列され、前記列方向における各配列グループの位置が相互に異なっている
ことを特徴とする塗布装置。 - 上方に向けて気体を噴出する噴出口を有する複数の開口部と気体を吸引する吸引口を有する複数の開口部とを有し、前記複数の開口部の上方に基板を浮上させる塗布ステージと、
前記塗布ステージ上で浮上する前記基板を移動方向に移動させる基板移動部と、
前記基板移動部により前記移動方向に移動させられる前記基板の上面に処理液を供給して塗布するノズルと、を備え、
前記塗布ステージは、前記ノズルの下方に位置する塗布浮上領域と、前記移動方向において前記塗布浮上領域の上流側に位置する上流側浮上領域と、前記移動方向において前記塗布浮上領域の下流側に位置する下流側浮上領域とを有し、
前記塗布浮上領域、前記上流側浮上領域および前記下流側浮上領域はいずれも複数の開口部を前記移動方向に沿って並べた開口行を水平面内において前記移動方向と直交する列方向に配列して前記基板を浮上させ、
前記塗布浮上領域において、前記複数の開口行が前記移動方向に対して傾斜なしで配置され、
前記上流側浮上領域において、前記複数の開口行が前記開口行において前記開口部を3つの配列グループに区分され、各配列グループが前記移動方向と平行な方向に配列され、前記列方向における各配列グループの位置が相互に異なり、
前記下流側浮上領域において、各開口行において前記開口部が3つの配列グループに区分けされ、各配列グループの列位置がそれぞれ上流側浮上領域側の列位置と異なっている
ことを特徴とする塗布装置。 - 上方に向けて気体を噴出する噴出口を有する複数の開口部と気体を吸引する吸引口を有する複数の開口部とを有し、前記複数の開口部の上方に基板を浮上させる塗布ステージと、
前記塗布ステージ上で浮上する前記基板を移動方向に移動させる基板移動部と、
前記基板移動部により前記移動方向に移動させられる前記基板の上面に処理液を供給して塗布するノズルと、を備え、
前記塗布ステージは、前記ノズルの下方に位置する塗布浮上領域と、前記移動方向において前記塗布浮上領域の上流側に位置する上流側浮上領域と、前記移動方向において前記塗布浮上領域の下流側に位置する下流側浮上領域とを有し、
前記塗布浮上領域、前記上流側浮上領域および前記下流側浮上領域はいずれも複数の開口部を前記移動方向に沿って並べた開口行を水平面内において前記移動方向と直交する列方向に配列して前記基板を浮上させ、
前記塗布浮上領域において、前記複数の開口行が前記移動方向に対して傾斜なしで配置され、
前記上流側浮上領域と前記下流側浮上領域において、前記複数の開口行が前記開口行において前記開口部を3つの配列グループに区分され、各配列グループが前記移動方向と平行な方向に配列され、前記列方向における各配列グループの位置が相互に異なり、前記塗布浮上領域を挟んで前記上流側浮上領域と前記下流側浮上領域とが対称である
ことを特徴とする塗布装置。 - 上方に向けて気体を噴出する噴出口を有する複数の開口部と気体を吸引する吸引口を有する複数の開口部とを有し、前記複数の開口部の上方に基板を浮上させる塗布ステージと、
前記塗布ステージ上で浮上する前記基板を移動方向に移動させる基板移動部と、
前記基板移動部により前記移動方向に移動させられる前記基板の上面に処理液を供給して塗布するノズルと、を備え、
前記塗布ステージは、前記ノズルの下方に位置する塗布浮上領域と、前記移動方向において前記塗布浮上領域の上流側に位置する上流側浮上領域と、前記移動方向において前記塗布浮上領域の下流側に位置する下流側浮上領域とを有し、
前記塗布浮上領域、前記上流側浮上領域および前記下流側浮上領域はいずれも複数の開口部を前記移動方向に沿って並べた開口行を水平面内において前記移動方向と直交する列方向に配列して前記基板を浮上させ、
前記塗布浮上領域において、前記複数の開口行が前記移動方向に対して傾斜なしで配置され、
前記上流側浮上領域と前記下流側浮上領域において、前記複数の開口行が前記開口行において前記開口部を2つの配列グループに区分され、各配列グループが前記移動方向と平行な方向に配列され、前記列方向における各配列グループの位置が相互に異なる
ことを特徴とする塗布装置。 - 請求項1ないし4のいずれか一項に記載の塗布装置であって、
前記複数の列位置に振り分けて配置された前記開口行は前記移動方向に対して傾斜して配置されている塗布装置。 - 請求項1ないし5のいずれか一項に記載の塗布装置であって、
前記複数の開口行では、前記噴出口を有する前記開口部と前記吸引口を有する前記開口部とが交互に配置されている塗布装置。 - 請求項1ないし6のいずれか一項に記載の塗布装置であって、
前記列方向において互いに隣接する2つの前記開口行のうちの一方では前記噴出口を有する前記開口部が配置され、他方では前記吸引口を有する前記開口部が配置されている塗布装置。 - 上方に向けて気体を噴出する噴出口を有する複数の開口部と気体を吸引する吸引口を有する複数の開口部とを有する浮上ステージにより前記複数の開口部の上方に基板を浮上させながら移動方向に移動させる第1の工程と、
前記移動方向に移動させられる前記基板の上面にノズルから処理液を供給して塗布する第2の工程と、を備え、
前記第1の工程では、前記ノズルの下方に位置する塗布浮上領域と、前記移動方向において前記塗布浮上領域の上流側に位置する上流側浮上領域と、前記移動方向において前記塗布浮上領域の下流側に位置する下流側浮上領域との全部で複数の開口部を前記移動方向に沿って並べた開口行を水平面内において前記移動方向と直交する列方向に配列し、しかも前記塗布浮上領域において、前記複数の開口行が前記移動方向に対して傾斜なしで配置され、前記上流側浮上領域と前記下流側浮上領域において、前記複数の開口行が前記開口行において前記開口部を3つの配列グループに区分けされ、各配列グループが前記移動方向と平行な方向に配列され、前記列方向における各配列グループの位置が相互に異なっている、前記浮上ステージにより前記基板を浮上させている
ことを特徴とする塗布方法。 - 上方に向けて気体を噴出する噴出口を有する複数の開口部と気体を吸引する吸引口を有する複数の開口部とを有する浮上ステージにより前記複数の開口部の上方に基板を浮上させながら移動方向に移動させる第1の工程と、
前記移動方向に移動させられる前記基板の上面にノズルから処理液を供給して塗布する第2の工程と、を備え、
前記第1の工程では、前記ノズルの下方に位置する塗布浮上領域と、前記移動方向において前記塗布浮上領域の上流側に位置する上流側浮上領域と、前記移動方向において前記塗布浮上領域の下流側に位置する下流側浮上領域との全部で複数の開口部を前記移動方向に沿って並べた開口行を水平面内において前記移動方向と直交する列方向に配列し、しかも前記塗布浮上領域において、前記複数の開口行が前記移動方向に対して傾斜なしで配置され、前記上流側浮上領域において、前記複数の開口行が前記開口行において前記開口部を3つの配列グループに区分され、各配列グループが前記移動方向と平行な方向に配列され、前記列方向における各配列グループの位置が相互に異なり、前記下流側浮上領域において、各開口行において前記開口部が3つの配列グループに区分けされ、各配列グループの列位置がそれぞれ上流側浮上領域側の列位置と異なっている、前記浮上ステージにより前記基板を浮上させている
ことを特徴とする塗布方法。 - 上方に向けて気体を噴出する噴出口を有する複数の開口部と気体を吸引する吸引口を有する複数の開口部とを有する浮上ステージにより前記複数の開口部の上方に基板を浮上させながら移動方向に移動させる第1の工程と、
前記移動方向に移動させられる前記基板の上面にノズルから処理液を供給して塗布する第2の工程と、を備え、
前記第1の工程では、前記ノズルの下方に位置する塗布浮上領域と、前記移動方向において前記塗布浮上領域の上流側に位置する上流側浮上領域と、前記移動方向において前記塗布浮上領域の下流側に位置する下流側浮上領域との全部で複数の開口部を前記移動方向に沿って並べた開口行を水平面内において前記移動方向と直交する列方向に配列し、しかも前記塗布浮上領域において、前記複数の開口行が前記移動方向に対して傾斜なしで配置され、前記上流側浮上領域と前記下流側浮上領域において、前記複数の開口行が前記開口行において前記開口部を3つの配列グループに区分され、各配列グループが移動方向と平行な方向に配列され、列方向における各配列グループの位置が相互に異なり、前記塗布浮上領域を挟んで前記上流側浮上領域と前記下流側浮上領域とが対称である、前記浮上ステージにより前記基板を浮上させている
ことを特徴とする塗布方法。 - 上方に向けて気体を噴出する噴出口を有する複数の開口部と気体を吸引する吸引口を有する複数の開口部とを有する浮上ステージにより前記複数の開口部の上方に基板を浮上させながら移動方向に移動させる第1の工程と、
前記移動方向に移動させられる前記基板の上面にノズルから処理液を供給して塗布する第2の工程と、を備え、
前記第1の工程では、前記ノズルの下方に位置する塗布浮上領域と、前記移動方向において前記塗布浮上領域の上流側に位置する上流側浮上領域と、前記移動方向において前記塗布浮上領域の下流側に位置する下流側浮上領域との全部で複数の開口部を前記移動方向に沿って並べた開口行を水平面内において前記移動方向と直交する列方向に配列し、しかも前記塗布浮上領域において、前記複数の開口行が前記移動方向に対して傾斜なしで配置され、前記上流側浮上領域と前記下流側浮上領域において、前記複数の開口行が前記開口行において前記開口部を2つの配列グループに区分され、各配列グループが前記移動方向と平行な方向に配列され、前記列方向における各配列グループの位置が相互に異なる、前記浮上ステージにより前記基板を浮上させている
ことを特徴とする塗布方法。
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