KR101623411B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상체 및 상기 상체 아래에 상기 상체와 결합되는 하체를 가지고, 상기 상체와 상기 하체의 조합에 의해 생성된 처리 공간을 가지는 하우징과 상기 상체와 결합되며 상기 처리 공간 내에서 기판의 가장 자리를 지지하는 지지 유닛과 상기 처리 공간으로 유체를 공급하는 유체 공급 유닛과 상기 상체와 상기 하체의 접촉면에 제공되어 상기 처리 공간을 외부로부터 실링하는 실링 부재와 그리고 상기 실링 부재와 상기 지지 유닛의 사이에 설치되는 차단 플레이트를 포함하되 상기 차단 플레이트는 상기 실링 부재와 대향되게 제공되는 기판 처리 장치를 포함한다.

Description

기판 처리 장치{Apparatus for treating a substrate}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판을 세정하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자는, 실리콘 웨이퍼와 같은 기판에 대해 사진 공정(photo process), 식각 공정(etching process), 이온 주입 공정(ion implantation process) 그리고 증착 공정(Deposition process) 등과 같은 다양한 공정을 통해 형성된다.
그리고, 각각의 공정을 수행하는 과정에서 파티클(particle), 유기오염물, 금속불순물 등의 다양한 이물질이 발생하게 된다. 이러한 이물질들은 기판에 결함(defect)을 일으켜 반도체소자의 성능 및 수율에 직접적인 영향을 미치는 요인으로 작용하므로, 반도체소자의 제조공정에는 이러한 이물질을 제거하기 위한 세정공정이 필수적으로 수반된다.
세정 공정은 약액(chemical)으로 기판상에 오염물질을 제거하는 약액 처리 공정, 순수(pure water)로 기판 상에 잔류하는 약액을 제거하는 세척 공정(wet cleaning process), 그리고 건조 유체를 공급하여 기판 표면에 잔류하는 순수를 건조하는 위한 건조 공정(drying process)을 포함한다.
과거에는 순수가 남아 있는 기판 상으로 가열된 질소가스를 공급하여 건조 공정을 수행하였다. 그러나 기판 상에 형성된 패턴의 선폭이 좁아지고 종횡비가 커짐에 따라 패턴 사이에 순수의 제거가 잘 이루어지지 않는다. 이를 위해 최근에는 순수에 비해 휘발성이 크고 표면장력이 낮은 이소프로필 알코올(isopropyl alcohol)과 같은 액상의 유기용제로 기판 상에서 순수를 치환하고, 이후에 가열된 질소 가스를 공급하여 기판을 건조하고 있다.
그러나 비극성인 유기용제와 극성인 순수가 혼합이 잘 이루어지지 않으므로, 순수를 액상의 유기용제로 치환하기 위해서는 장시간 동안 많은 양의 액상의 유기용제를 공급하여야 한다.
종래의 건조공정은 기판 상의 순수를 비교적 표면장력이 작은 이소프로필 알코올 등의 유기용제로 치환한 뒤 이를 증발시키는 방식으로 이루어져왔다.
그러나, 이러한 건조방식은 유기용제를 이용하더라도 선폭 30nm 이하의 미세한 회로패턴을 가지는 반도체소자에 대해서는 여전히 도괴현상(pattern collapse)을 유발하기 때문에, 최근 이러한 문제점을 극복할 수 있는 초임계 건조공정(supercritical drying process)이 기존의 건조공정을 대체해 나가고 있는 추세이다.
한편, 도 1은 초임계 건조공정을 수행하는 기판 처리 장치(10)를 개략적으로 보여주는 도면이다. 기판 처리 장치(10)는 챔버(12), 지지 유닛(14) 그리고 실링 부재(16)를 포함한다. 초임계 건조공정은 초임계 유체를 사용하여 공정 중 내부의 압력이 높게 유지된다. 따라서, 챔버(12)는 상부와 하부가 밀착되어 제공되나, 외부와의 접촉 차단을 위해 별도의 실링 부재(16)가 제공된다.
다만, 초임계 건조공정에서 유기용제를 제거하는 과정에서 챔버(12) 내부에 제공된 실링 부재(16)로 유기용제가 유입될 수 있다. 이렇게 유입된 유기용제는 파티클이 되어 실링 부재(16) 주변으로 쌓이게 된다.
초임계 건조공정이 끝난 후 처리된 기판(S)을 외부로 반송하기 위해 챔버(12)는 개방된다. 이 때, 내부와 외부의 압력차이로 인해 실링 부재(16) 주위에 파티클이 내부로 유입될 수 있다. 내부로 유입되는 과정에서 파티클의 일부는 기판(S)으로 유입된다. 기판(S)으로 유입되는 파티클은 공정의 불량을 초래하여 문제가 된다.
본 발명은 기판의 건조 공정의 효율을 향상시키기 위한 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 기판의 건조 공정 중 발생되는 파티클이 기판이 유입되는 것을 최소화하여 기판의 건조 공정의 효율을 향상시키기 위한 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 기판 처리 장치는 상체 및 상기 상체 아래에 상기 상체와 결합되는 하체를 가지고, 상기 상체와 상기 하체의 조합에 의해 생성된 처리 공간을 가지는 하우징과 상기 상체와 결합되며 상기 처리 공간 내에서 기판의 가장 자리를 지지하는 지지 유닛과 상기 처리 공간으로 유체를 공급하는 유체 공급 유닛과 상기 상체와 상기 하체의 접촉면에 제공되어 상기 처리 공간을 외부로부터 실링하는 실링 부재와 그리고 상기 실링 부재와 상기 지지 유닛의 사이에 설치되는 차단 플레이트를 포함하되 상기 차단 플레이트는 상기 실링 부재와 대향되게 제공될 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 차단 플레이트는 링형상으로 제공될 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 차단 플레이트는 상기 상체에 설치되며, 상기 하체의 내측 상면보다 아래까지 돌출될 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 지지 유닛은 상기 상체로부터 아래쪽으로 연장되어 제공되는 수직부와 상기 수직부의 끝단에서 상기 하우징의 안쪽으로 연장되며, 기판의 저면을 지지하는 수평부를 포함할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 유체 공급 유닛은 상기 지지 유닛에 지지된 기판의 상면으로 직접 상기 유체를 공급하는 상부 유체 공급부를 포함할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 유체 공급 유닛에서 공급되는 상기 유체는 초임계 유체일 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 기판 처리 장치는 상부가 개방된 처리 공간을 가지는 하체와 상기 하체와 결합되며 상기 하체의 상면을 덮는 상체를 포함하는 하우징과 상기 상체와 결합되며 상기 처리 공간 내에서 기판의 가장 자리를 지지하는 지지 유닛과 상기 처리 공간으로 유체를 공급하는 유체 공급 유닛과 그리고 상기 상체와 상기 하체의 접촉면에 제공되어 상기 처리 공간을 외부로부터 실링하는 실링 부재를 포함하되 상기 상체는 상기 하체의 내측 상면으로부터 아래까지 상기 처리 공간으로 돌출되고, 상기 지지 유닛에 놓이는 기판과 대향되는 돌출부를 포함할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 돌출부 가장자리에는 복수의 홈의 형성되고, 상기 지지 유닛은 상기 홈에 설치될 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 지지 유닛은 상기 상체로부터 아래쪽으로 연장되어 제공되는 수직부와 상기 수직부의 끝단에서 상기 하우징의 안쪽으로 연장되며, 기판의 저면을 지지하는 수평부를 포함할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 유체 공급 유닛은 상기 지지 유닛에 지지된 기판의 상면으로 직접 상기 유체를 공급하는 상부 유체 공급부를 포함할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 유체 공급 유닛에서 공급되는 상기 유체는 초임계 유체일 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 기판 처리 장치는 하부가 개방된 처리 공간을 가지는 상체와 상기 상체와 결합되며 상기 상체의 하면과 결합하는 하체를 포함하는 하우징과 상기 하체와 결합되며 상기 처리 공간 내에서 기판의 가장 자리를 지지하는 지지 유닛과 상기 처리 공간으로 유체를 공급하는 유체 공급 유닛과 그리고 상기 상체와 상기 하체의 접촉면에 제공되어 상기 처리 공간을 외부로부터 실링하는 실링 부재을 포함하되 상기 실링 부재는 상기 지지 유닛보다 아래쪽에 위치할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 지지 유닛은 상기 하체로부터 위로 연장되어 제공되는 수직부와 상기 수직부와 연결되어 기판의 하면을 지지하는 수평부를 포함할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 기판 처리 장치는 상기 지지 유닛에 놓이는 기판에 대향되며, 상기 지지 유닛의 하부에 위치하는 배기 부재를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 유체 공급 유닛에서 공급되는 상기 유체는 초임계 유체일 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 의하면, 초임계 유체를 이용한 기판 건조 공정에서 기판 건조 공정의 효율을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 초임계 유체을 이용한 기판 건조 공정에서 공정 중 실링 부재 주위에서 발생되는 파티클이 기판으로 유입되는 것을 최소화할 수 있다.
도 1은 일반적으로 초임계 공정을 수행하는 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 2는 본 발명에 일 실시예에 따른 기판 처리 설비를 보여주는 평면도이다.
도 3은 도 2의 제1공정 챔버를 보여주는 단면도이다.
도 4는 도 2의 제2공정 챔버를 보여주는 단면도이다.
도 5는 도 2의 제2공정 챔버의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.
도 6은 도 2의 제2공정 챔버의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.
도 7은 도 4의 제2공정 챔버에서 실링 부재 주위에 파티클의 이동을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 8은 도 5의 제2공정 챔버에서 실링 부재 주위에 파티클의 이동을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 9는 도 6의 제2공정 챔버에서 실링 부재 주위에 파티클의 이동을 보여주는 개략적으로 보여주는 도면이다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
이하에서는 본 발명에 따른 기판 처리 설비(100)에 관하여 설명한다.
기판 처리 설비(100)는 초임계 유체를 공정 유체로 이용하여 기판(S)을 처리하는 초임계 공정을 수행할 수 있다.
여기서, 기판(S)은 반도체 소자나 평판 디스플레이(FPD: flat panel display) 및 그 밖에 박막에 회로패턴이 형성된 물건의 제조에 이용되는 기판을 모두 포함하는 포괄적인 개념이다. 이러한 기판(S)의 예로는, 실리콘 웨이퍼를 비롯한 다양한 웨이퍼, 유리기판, 유기기판 등이 있다.
초임계 공정은 초임계 유체의 특성을 이용하여 수행되며, 그 대표적인 예로는, 초임계 건조공정과 초임계 식각공정이 있다. 이하에서는 초임계 공정에 관하여 초임계 세정 공정을 기준으로 설명하기로 한다. 다만, 이는 설명의 용이를 위한 것에 불과하므로, 기판 처리 설비(100)는 초임계 세정 공정 이외의 다른 초임계 공정을 수행할 수 있다.
초임계 건조공정은 초임계 유체로 기판(S)의 회로패턴에 잔류하는 유기용제를 용해하여 기판(S)을 건조시키는 방식으로 수행된다. 초임계 건조공정은 건조효율이 우수할 뿐 아니라 도괴현상을 방지할 수 있는 장점이 있다. 초임계 건조공정에 이용되는 초임계 유체로는 유기용제와 혼화성(混和性)이 있는 물질을 사용할 수 있다. 예를 들어, 초임계 이산화탄소(scCO2: supercritical carbon dioxide)가 초임계 유체로 사용될 수 있다.
이하에서는 본 발명에 따른 기판 처리 설비(100)의 일 실시예에 관하여 설명한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 설비(100)는 초임계 건조공정을 포함하여 세정공정을 수행할 수 있다.
도 2는 본 발명에 일 실시예에 따른 기판 처리 설비를 보여주는 평면도이다.
도 2를 참조하면, 기판 처리 설비(100)는 인덱스 모듈(1000)과 공정 모듈(2000)을 포함한다.
인덱스 모듈(1000)은 외부로부터 기판(S)을 반송 받아 공정 모듈(2000)로 기판(S)을 반송한다. 공정모듈(2000)은 초임계 건조공정을 수행할 수 있다.
인덱스 모듈(1000)은 설비 전방 단부 모듈(EFEM: equipment front end module)로서, 로드포트(1100)와 이송 프레임(1200)을 포함한다.
로드포트(1100)에는 기판(S)이 수용되는 용기(C)가 놓인다. 용기(C)로는 전면 개방 일체형 포드(FOUP: front opening unified pod)가 사용될 수 있다. 용기(C)는 오버헤드 트랜스퍼(OHT: overhead transfer)에 의해 외부로부터 로드포트(1100)로 반입되거나 로드포트(1100)로부터 외부로 반출될 수 있다.
이송 프레임(1200)은 로드포트(1100)에 놓인 용기(C)와 공정 모듈(2000) 간에 기판(S)을 반송한다. 이송 프레임(1200)은 인덱스 로봇(1210)과 인덱스 레일(1220)을 포함한다. 인덱스 로봇(1210)은 인덱스 레일(1220) 상에서 이동하며 기판(S)을 반송할 수 있다.
공정 모듈(2000)은 버퍼 챔버(2100), 이송 챔버(2200), 제1공정 챔버(3000) 그리고 제2공정 챔버(4000)를 포함한다.
버퍼 챔버(2100)는 인덱스 모듈(1000)과 공정 모듈(2000) 간에 반송되는 기판(S)이 임시로 머무르는 공간을 제공한다. 버퍼 챔버(2100)에는 버퍼 슬롯이 제공될 수 있다. 버퍼 슬롯에는 기판(S)이 놓인다. 예를 들어, 인덱스 로봇(1210)은 기판(S)을 용기(C)로부터 인출하여 버퍼 슬롯에 놓을 수 있다. 이송 챔버(2200)의 이송 로봇(2210)은 버퍼 슬롯에 놓인 기판(S)을 인출하여 이를 제1공정 챔버(3000)나 제2공정 챔버(4000)로 반송할 수 있다. 버퍼 챔버(2100)에는 복수의 버퍼 슬롯이 제공되어 복수의 기판(S)이 놓일 수 있다.
이송 챔버(2200)는 그 둘레에 배치된 버퍼 챔버(2100), 제1공정 챔버(3000) 그리고 제2공정 챔버(4000)간에 기판(S)을 반송한다. 이송 챔버(2200)는 이송 로봇(2210)과 이송 레일(2220)을 포함한다. 이송 로봇(2210)은 이송 레일(2220) 상에서 이동하며 기판(S)을 반송할 수 있다.
제1공정 챔버(3000)와 제2공정 챔버(4000)는 세정 공정을 수행할 수 있다. 세정 공정은 제1공정 챔버(3000)와 제2공정 챔버(4000)에서 순차적으로 수행될 수 있다. 예를 들어, 제1공정 챔버(3000)에서는 세정 공정 중 케미컬 공정, 린스 공정 그리고 유기용제 공정이 수행된다. 이 후, 제2공정 챔버(4000)에서는 초임계 건조 공정이 수행될 수 있다.
제1공정 챔버(3000)와 제2공정 챔버(4000)는 이송 챔버(2200)의 측면에 배치된다. 예를 들어, 제1공정 챔버(3000)와 제2공정 챔버(4000)는 이송 챔버(2200)의 다른 측면에 서로 마주보도록 배치될 수 있다.
공정 모듈(2000)에는 제1공정 챔버(3000)와 제2공정 챔버(4000)가 복수로 제공될 수 있다. 복수의 공정 챔버들(3000, 4000)은 이송 챔버(2200)의 측면에 일렬로 배치되거나 또는 상하로 적층되어 배치되거나 또는 이들의 조합에 의해 배치될 수 있다.
제1공정 챔버(3000)와 제2공정 챔버(4000)의 배치는 상술한 예로 한정되지 않으며, 기판 처리 설비(100)의 풋프린트나 공정효율 등과 같은 다양한 요소를 고려하여 적절히 변경될 수 있다.
이하에서는 제1공정 챔버에 관하여 설명한다.
도 3은 도 2의 제1공정 챔버의 단면도이다.
제1공정 챔버(3000)는 케미컬 공정, 린스 공정 그리고 유기용제 공정을 수행할 수 있다. 제1공정 챔버(3000)는 이들 공정 중 일부의 공정만을 선택적으로 수행할 수도 있다. 여기서, 케미컬 공정은 기판(S)에 세정제를 제공하여 기판(S) 상의 이물질을 제거하는 공정이다. 린스 공정은 기판(S)에 린스제를 제공하여 기판(S) 상에 잔류하는 세정제를 세척하는 공정이다. 유기용제 공정은 기판(S)에 유기용제를 제공하여 기판(S)의 회로패턴 사이에 잔류하는 린스제를 표면장력이 낮은 유기용제로 치환하는 공정이다.
도 3을 참조하면, 제1공정 챔버(3000)는 지지 부재(3100), 노즐 부재(3200) 그리고 회수 부재(3300)를 포함한다.
지지 부재(3100)는 기판(S)을 지지한다. 지지 부재(3100)는 지지된 기판(S)을 회전시킬 수 있다. 지지 부재(3100)는 지지 플레이트(3110), 지지 핀(3111), 척 핀(3112), 회전 축(3120) 그리고 회전 구동기(3130)를 포함한다.
지지 플레이트(3110)는 기판(S)과 동일 또는 유사한 형상의 상면을 가진다. 지지 플레이트(3110)의 상면에는 지지 핀(3111)과 척 핀(3112)이 형성된다. 지지 핀(3111)은 기판(S)의 저면을 지지한다. 척 핀(3112)은 지지된 기판(S)을 고정할 수 있다.
지지 플레이트(3110)의 하부에는 회전 축(3120)이 연결된다. 회전 축(3120)은 회전 구동기(3130)로부터 회전력을 전달받아 지지 플레이트(3110)를 회전시킨다. 이에 따라 지지 플레이트(3110)에 안착된 기판(S)이 회전할 수 있다. 척 핀(3112)은 기판(S)이 정위치를 이탈하는 것을 방지한다.
노즐 부재(3200)는 기판(S)에 처리액를 분사한다. 노즐 부재(3200)는 노즐(3210), 노즐 바(3220), 노즐 축(3230) 그리고 노즐 축 구동기(3240)를 포함한다.
노즐(3210)은 지지 플레이트(3110)에 안착된 기판(S)에 처리액을 분사한다. 처리액은 세정제, 린스제 또는 유기용제일 수 있다. 세정제는 과산화수소(H2O2)용액이나 과산화수소용액에 암모니아(NH4OH), 염산(HCl) 또는 황산(H2SO4)를 혼합한 용액 또는 불산(HF)용액 등이 사용될 수 있다. 린스제는 순수가 사용될 수 있다. 유기용제는 이소프로필알코올을 비롯하여 에틸글리콜(ethyl glycol), 1-프로파놀(propanol), 테트라하이드로프랑(tetra hydraulic franc), 4-하이드록시(hydroxyl), 4-메틸(methyl), 2-펜타논(pentanone), 1-부타놀(butanol), 2-부타놀, 메탄올(methanol), 에탄올(ethanol), n-프로필알코올(n-propyl alcohol), 디메틸에틸(dimethylether)의 용액이나 가스가 사용될 수 있다.
노즐(3210)은 노즐 바(3220)의 일단 저면에 형성된다. 노즐 바(3220)는 노즐 축(3230)에 결합된다. 노즐 축(3230)은 승강 또는 회전할 수 있도록 제공된다. 노즐 축 구동기(3240)는 노즐 축(3230)을 승강 또는 회전시켜 노즐(3210)의 위치를 조절할 수 있다.
회수 부재(3300)는 기판(S)에 공급된 처리액을 회수한다. 노즐 부재(3200)에 의해 기판(S)에 처리액가 공급되면, 지지 부재(3100)는 기판(S)을 회전시켜 기판(S)의 전 영역에 처리액이 균일하게 공급되도록 할 수 있다. 기판(S)이 회전하면 기판(S)으로부터 처리액아 비산한다. 비산하는 처리액은 회수 부재(3300)에 의해 회수될 수 있다.
회수 부재(3300)는 회수통(3310), 회수 라인(3320), 승강바(3330) 그리고 승강 구동기(3340)를 포함한다.
회수통(3310)은 지지 플레이트(3110)를 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 회수통(3310)은 복수로 제공될 수 있다. 복수의 회수통(3310)은 상부에서 볼 때 차례로 지지 플레이트(3110)로부터 멀어지는 링 형상으로 제공된다. 지지 플레이트(3110)로부터 먼 거리에 있는 회수통(3310)일수록 그 높이가 높게 제공된다. 회수통(3310) 사이의 공간에는 기판(S)으로부터 비산되는 처리액이 유입되는 회수구(3311)가 형성된다.
회수통(3310)의 하면에는 회수 라인(3320)이 형성된다. 회수 라인(3320)은 회수통(3310)으로 회수된 처리액을 재생하는 처리액재생시스템(미도시)로 공급한다.
승강바(3330)는 회수통(3310)에 연결된다. 승강바(3330)는 승강 구동기(3340)로부터 동력을 전달받아 회수통(3310)을 상하로 이동시킨다. 승강바(3330)는 회수통(3310)이 복수인 경우 최외곽에 배치된 회수통(3310)에 연결될 수 있다. 승강 구동기(3340)는 승강바(3330)를 통해 회수통(3310)을 승강시켜 복수의 회수구(3311) 중 비산하는 처리액가 유입되는 회수구(3311)를 조절할 수 있다.
이하에서는 제2공정 챔버(4000)에 관하여 설명한다.
제2공정 챔버(4000)는 초임계 유체를 이용하여 초임계 건조공정을 수행할 수 있다. 제2공정 챔버(4000)에서 수행되는 공정은 초임계 건조공정 이외에 다른 초임계 공정일 수도 있으며, 제2공정 챔버(4000)는 초임계 유체 대신 다른 공정유체를 이용하여 공정을 수행할 수도 있을 것이다.
이하에서는 제2공정 챔버의 일 실시예에 관하여 설명한다.
도 4는 도 2의 제2공정 챔버의 일 실시예의 단면도이다.
도 4를 참조하면, 제2공정 챔버(4000)는 하우징(4100), 승강 유닛(4200), 지지 유닛(4300), 히터(4400), 유체 공급 유닛(4500), 블로킹 부재(4600), 배기 부재(4700) 실링 부재(4800) 그리고 차단 플레이트(4900)를 포함한다.
하우징(4100)는 초임계 건조공정이 수행되는 처리 공간을 제공한다. 하우징(4100)은 임계압력 이상의 고압을 견딜 수 있는 재질로 제공된다.
하우징(4100)은 상체(4110)과 하체(4120)을 포함한다. 하체(4120)는 상체(4110)의 아래에서 상체(4110)와 결합되어 제공된다. 상체(4110)와 하체(4120)의 조합으로 생성된 공간은 기판 처리 공정을 수행하는 처리 공간으로 제공된다.
상체(4110)는 외부 구조물에 고정되게 설치된다. 하체(4120)는 상체(4110)에 대해 승강가능하게 제공된다. 하체(4120)는 하강하여 상체(4110)로부터 이격되면 제2공정 챔버(4000)의 내부에 처리 공간이 개방된다. 개방된 처리 공간으로 기판(S)이 제2공정 챔버(4000)의 내부 공간으로 반입되거나 내부 공간으로부터 반출될 수 있다. 여기서, 제2공정 챔버(4000)로 반입되는 기판(S)은 제1공정 챔버(3000)에서 유기용제 공정을 거쳐 유기용제가 잔류하는 상태일 수 있다. 하체(4120)가 상승하여 상체(4110)에 밀착되면 제2공정 챔버(4000)의 내부에 처리 공간이 밀폐된다. 밀페된 처리 공간에서는 초임계 건조공정이 수행될 수 있다. 상술한 예와 달리 하우징(4100)에서 하체(4120)가 고정 설치되고, 상체(4110)가 승강되는 구조로 제공될 수도 있다.
승강 유닛(4200)는 하체(4120)를 승강시킨다. 승강 유닛(4200)은 승강 실린더(4210)와 승강 로드(4220)을 포함한다. 승강 실린더(4210)는 하체(4120)에 결합되어 상하 방향의 구동력을 발생시킨다. 승강 실린더(4210)는 초임계 건조공정이 수행되는 동안 제2공정 챔버(4000) 내부의 임계압력 이상의 고압을 이기고, 상체(4110)과 하체(4120)를 밀착시켜 제2공정 챔버(4000)를 밀폐시킬 수 있는 정도의 구동력을 발생시킨다. 승강로드(4220)는 그 일단이 승강 실린더(4210)에 삽입되어 수직상방으로 연장되어 타단이 상체(4110)에 결합된다. 승강 실린더(4210)에서 구동력이 발생 시, 승강 실린더(4210)와 승강 로드(4220)가 상대적으로 승강되어 승강 실린더(4210)에 결합된 하체(4120)가 승강될 수 있다. 승강 실린더(4210)에 의해 하체(4120)가 승강하는 동안 승강 로드(4220)는 상체(4110)과 하체(4120)가 수평방향으로 움직이는 것을 방지하고, 승강 방향을 안내하여, 상체(4110)와 하체(4120)가 서로 정위치에서 이탈하는 것을 방지할 수 있다.
지지 유닛(4300)은 하우징(4100)의 처리 공간에 위치하며 기판(S)을 지지한다. 지지 유닛(4300)은 상체(4110)에 결합된다. 지지 유닛(4300)은 수직부(4320)와 수평부(4310)를 포함한다.
수직부(4320)는 상체(4110)의 하면에 설치된다. 수직부(4320)는 상체(4110)의 아래쪽으로 연장되어 제공된다. 수직부(4320)의 끝단은 수평부(4310)와 수직으로 결합된다. 수평부(4310)는 수직부(4320)의 끝단에서 하우징(4100)의 안쪽으로 연장되어 제공된다. 수평부(4310)에는 기판(S)이 놓인다. 수평부(4310)는 기판(S)의 가장자리 영역 저면을 지지한다.
지지 유닛(4300)이 기판(S)의 가장자리 영역에 접촉하여 기판(S)을 지지하여 기판(S) 상면 전체영역과 하면의 대부분의 영역에 대해서 초임계 건조공정이 수행될 수 있다. 여기서, 기판(S)은 그 상면이 패턴면이고, 하면이 비패턴면일 수 있다.
지지 유닛(4300)은 상체(4110)에 설치된다. 지지 유닛(4300)은 하체(4120)가 승강하는 동안 비교적 안정적으로 기판(S)을 지지할 수 있다.
지지 유닛(4300)이 설치되는 상체(4110)에는 수평 조정 부재(4111)가 설치된다. 수평 조정 부재(4111)는 상체(4110)의 수평도를 조정한다. 상체(4110)의 수평도가 조정되어, 상체(4110)에 설치된 지지 유닛(4300)에 안착된 기판(S)의 수평이 조절된다.
초임계 건조공정에서 기판(S)이 기울면, 기판(S)에 잔류하는 유기용제가 경사면을 타고 흘러 기판(S)의 특정부분이 건조되지 않거나 과건조(過乾燥)되어 기판(S)이 손상될 수 있다. 수평 조정 부재(4111)는 기판(S)의 수평을 맞추어 이러한 문제점을 방지한다. 상체(4110)가 승강되고 하체(4120)가 고정되어 설치되거나, 지지 유닛(4300)이 하체(4120)에 설치되는 경우에는 수평 조정 부재(4111)는 하체(4120)에 설치될 수도 있다.
히터(4400)는 제2공정 챔버(4000)의 내부를 가열한다. 히터(4400)는 제2공정 챔버(4000) 내부에 공급된 초임계 유체를 임계온도 이상으로 가열하여 초임계 유체 상으로 유지한다. 히터(4400)는 초임계 유체가 액화된 경우에는 다시 초임계 유체가 되도록 초임계 유체를 가열할 수 있다. 히터(4400)는 상체(4110) 및 하체(4120) 중 적어도 하나의 벽 내에 매설되어 설치된다. 히터(4400)는, 외부로부터 전원을 받아 열을 발생시킨다.
유체 공급 유닛(4500)는 제2공정 챔버(4000)로 유체를 공급한다. 공급되는 유체는 초임계 유체일 있다. 일 예로 공급되는 초임계 유체는 이산화 탄소일 수 있다.
유체 공급 유닛(4500)은 상부 유체 공급부(4510), 하부 유체 공급부(4520), 공급 라인(4550) 그리고 밸브(4570)를 포함한다.
상부 유체 공급부(4510)는 기판(S)의 상면에 직접 초임계 유체를 공급한다. 상부 유체 공급부(4510)는 상체(4110)에 연결되어 제공된다. 상부 유체 공급 부(4510)는 기판(S)의 중앙 상면에 대향되는 상체(4110)에 연결되어 제공된다.
하부 유체 공급부(4520)는 기판(S)의 하면에 초임계 유체를 공급한다. 하부 유체 공급부(4520)는 하체(4120)에 연결되어 제공된다. 하부 유체 공급부(4520)는 기판(S)의 중앙 하면에 대향되는 하체(4120)에 연결되어 제공된다.
상부 유체 공급부(4510)와 하부 유체 공급부(4520)에서 분사되는 초임계 유체는 기판(S)의 중앙영역으로 도달하여 가장자리 영역으로 퍼지면서 기판(S)의 전 영역에 균일하게 제공된다.
공급 라인(4550)은 상부 유체 공급부(4510)와 하부 유체 공급부(4520)와 연결된다. 공급 라인(4550)은 외부로부터 초임계 유체를 공급받아 상부 유체 공급부(4510)와 하부 유체 공급부(4520)에 초임계 유체를 공급한다.
밸브(4570)는 공급 라인(4550)에 설치된다. 밸브(4570)는 상부 유체 공급부(4510)와 하부 유체 공급부(4520)에 공급되는 초임계 유체의 유량을 조절한다. 밸브(4570)는 별도의 제어기(미도시)에 의해서 하우징(4100) 내부로 공급되는 유량 조절이 가능하다.
유체 공급 유닛(4500)은 먼저 하부 유체 공급부(4520)에서 초임계 유체를 공급할 수 있다. 이 후, 상부 유체 공급부(4510)가 초임계 유체를 공급할 수 있다. 초임계 건조공정은 초기에 제2공정 챔버(4000)의 내부가 임계압력에 미달한 상태에서 진행될 수 있다. 제2공정 챔버(4000) 내부가 임계얍력 미달시 내부로 공급되는 초임계 유체는 액화될 수 있다. 초임계 유체가 액화되면 중력에 의해 기판(S)으로 낙하하여 기판(S)을 손상시킬 수 있다.
따라서, 하부 유체 공급부(4520)에서 먼저 초임계 유체를 공급한다. 제2공정 챔버(4000)로 초임계 유체가 공급되고 난 후 내부 압력은 임계 압력에 도달한다. 제2공정 챔버(4000)의 내부 압력이 임계압력에 도달하고 난 후 상부 유체 공급부(4510)에서 초임계 유체를 공급한다. 하부 유체 공급부(4520)에서 상부 유체 공급부(4510)보다 먼저 초임계 유체를 공급하여 초임계 유체가 액화되어 기판(S)으로 낙하하는 것을 방지할 수 있다.
블로킹 부재(4600)는 유체 공급 유닛(4500)에서 공급되는 초임계 유체가 기판(S)의 하면에 직접 분사되는 것을 방지한다. 블로킹 부재(4600)는 블로킹 플레이트(4610)와 지지대(4620)를 포함한다.
블로킹 플레이트(4610)는 하우징(4100) 내부에 처리 공간에 위치한다. 블로킹 플레이트(4610)는 지지 유닛(4300)과 하부 유체 공급부(4520) 사이에 배치된다. 블로킹 플레이트(4610) 원형의 판 형상으로 제공될 수 있다. 블로킹 플레이트(4610)의 반경은 기판(S)과 유사하거나 더 크게 제공될 수 있다. 블로킹 플레이트(4610)는 지지 유닛(4300)에 놓이는 기판(S)의 하면에 위치하여 하부 유체 공급부(4520)를 통해 공급되는 초임계 유체가 기판(S)의 하면에 직접적으로 분사되는 것을 방지할 수 있다. 블로킹 플레이트(4610)의 반경이 기판(S)과 유사하거나 더 크게 제공되는 경우에는 초임계 유체가 기판(S)에 직접 분사되는 것을 완벽히 차단할 수 있다.
이와는 달리 블로킹 플레이트(4610)의 반경은 기판(S)보다 작게 제공될 수도 있다. 이 경우 초임계 유체가 기판(S)에 직접 분사되는 것을 차단한다. 또한, 초임계 유체의 유속을 최소한으로 저하시켜 기판(S)에 초임계 유체가 비교적 쉽게 도달할 수 있게 한다. 블로킹 플레이트(4610)의 반경이 기판(S)보다 작게 제공되는 경우 기판(S)에 대한 초임계 건조공정이 효과적으로 진행될 수 있다.
지지대(4620)는 블로킹 플레이트(4610)를 지지한다. 지지대(4620)는 블로킹 플레이트(4610)의 후면을 지지한다. 지지대(4620)는 하우징(4100)의 하부벽에 설치되어 수직으로 제공된다. 지지대(4620)와 블로킹 플레이트(4610)는 별도의 결합없이 블로킹 플레이트(4610)의 중력에 의해 지지대(4620)에 놓여지도록 설치될 수 있다.
이와는 달리, 지지대(4620)와 블로킹 플레이트(4610)가 너트나 볼트 등의 결합수단에 의해 결합될 수 있다. 또는 지지대(4620)와 블로킹 플레이트(4610)는 일체로 제공될 수도 있다.
배기 부재(4700)는 제2공정 챔버(4000)로부터 초임계 유체를 배기한다. 배기 부재(4700)는 초임계 유체를 배기하는 배기 라인(4750)에 연결될 수 있다. 이때, 배기 부재(4700)에는 배기 라인(4750)으로 배기하는 초임계 유체의 유량을 조절하는 밸브(미도시)가 설치될 수 있다. 배기 라인(4750)을 통해 배기되는 초임계 유체는 대기 중으로 방출되거나 또는 초임계 유체 재생 시스템(미도시)로 공급될 수 있다. 배기 부재(4700)는 하체(4120)에 결합될 수 있다.
초임계 건조공정의 후기에는 제2공정 챔버(4000)로부터 초임계 유체가 배기되어 그 내부압력이 임계압력 이하로 감압되어 초임계 유체가 액화될 수 있다. 액화된 초임계 유체는 중력에 의해 하체(4120)에 형성된 배기 부재(4700)를 통해 배출될 수 있다.
실링 부재(4800)는 처리공간을 외부로부터 실링한다. 실링 부재(4800)는 상체(4110)와 하체(4120)의 접촉면에 제공된다. 일 예로, 실링 부재(4800)는 링 형상의 오링으로 제공될 수 있다.
차단 플레이트(4900)는 파티클로부터 기판(S)이 오염되는 것을 방지한다. 차단 플레이트(4900)는 상체(4110)에 결합되어 제공된다. 차단 플레이트(4900)는 링형상으로 제공된다. 차단 플레이트(4900)는 실링 부재(4800)와 지지 유닛(4300) 사이에 설치된다. 차단 플레이트(4900)는 실링 부재(4800)와 대향되게 제공된다. 차단 플레이트(4900)는 상체(4110)의 아래로 연장되어 제공된다. 차단 플레이트(4900)는 하체(4120)의 내측 상면(4121)보다 아래까지 돌출되어 제공된다.
도 7은 도 4의 제2공정 챔버에서 실링 부재 주위에 파티클의 이동을 개략적으로 보여주는 도면이다. 화살표는 파티클의 이동 경로를 개략적으로 표현한 것이다. 이를 참조하면, 기판 처리 공정 중에는 파티클이 발생할 수 있다. 파티클은 이소프로필알코올(IPA: isopropylalcohol)일 수 있다. 발생된 파티클은 실링 부재(4800)에 쌓여 있을 수 있다. 초임계 건조 공정 후 하우징(4100)의 내부를 감압시 파티클의 내부와 외부의 압력 차이로 기판(S)으로 파티클이 침투될 수 있다.
다만, 실링 부재(4800)과 지지 유닛(4300) 사이에 차단 플레이트(4900)의 제공으로 초임계 건조공정 완료후 기판(S)에 파티클이 유입되는 것을 최소화 할 수 있어 기판 세정 공정의 효율을 향상시킬 수 있다.
도 5는 도 2의 제2공정 챔버의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.
이하, 도 5를 참조하면, 제2공정 챔버(5000)는 하우징(5100), 승강 유닛(5200), 지지 유닛(5300), 히터(5400), 유체 공급 유닛(5500), 블로킹 부재(5600), 배기 부재(5700) 그리고 실링 부재(5800)를 포함한다.
도 5의 제2공정 챔버(5000)의 승강 유닛(5200), 지지 유닛(5300), 히터(5400), 유체 공급 유닛(5500), 블로킹 부재(5600), 배기 부재(5700) 그리고 실링 부재(5800)는 도 4의 제2공정 챔버(4000)의 승강 유닛(4200), 지지 유닛(4300), 히터(4400), 유체 공급 유닛(4500), 블로킹 부재(4600), 배기 부재(7700) 그리고 실링 부재(5400)와 대체로 동일하게 제공된다.
하우징(5100)는 초임계 건조공정이 수행되는 처리 공간을 제공한다. 하우징(5100)은 임계압력 이상의 고압을 견딜 수 있는 재질로 제공된다.
하우징(5100)은 상체(5110)과 하체(5120)을 포함한다. 하체(5120)는 상부가 개방된 공간을 가진다. 상체(5110)는 하체(5120)의 상부와 결합한다. 상체(5110)는 하체(5120)의 상면을 덮는다. 상체(5110)와 하체(5120)의 조합으로 생성된 공간은 기판 처리 공정을 수행하는 처리 공간으로 제공된다.
상체(5110)는 고정되어 설치된다. 하체(5120)는 승강할 수 있다. 하체(5120)는 하강하여 상체(5110)로부터 이격되면 제2공정 챔버(5000)의 내부에 처리 공간이 개방된다. 개방된 처리 공간으로 기판(S)이 제2공정 챔버(5000)의 내부 공간으로 반입되거나 내부 공간으로부터 반출될 수 있다. 여기서, 제2공정 챔버(5000)로 반입되는 기판(S)은 제1공정 챔버(3000)에서 유기용제 공정을 거쳐 유기용제가 잔류하는 상태일 수 있다. 하체(5120)가 상승하여 상체(5110)에 밀착되면 제2공정 챔버(5000)의 내부에 처리 공간이 밀폐된다. 밀페된 처리 공간에서는 초임계 건조공정이 수행될 수 있다. 상술한 예와 달리 하우징(5100)에서 하체(5120)가 고정 설치되고, 상체(5110)가 승강되는 구조로 제공될 수도 있다.
상체(5110)는 돌출부(5130)와 홈(5150)을 포함한다. 돌출부(5130)는 아래방향으로 돌출되어 제공된다. 돌출부(5130)는 지지 유닛(5300)에 놓이는 기판(S)과 대향되게 제공된다. 돌출부(5130)는 하체(5120)의 내측 상면(5121) 아래까지 돌출되어 제공된다. 돌출부(5130)는 파티클이 기판(S)에 침투되는 것을 방지한다.
홈(5150)의 돌출부(5130)의 가장자리에 제공된다. 홈(5150)은 복수개가 제공될 수 있다. 홈(5150)에는 지지 유닛(5300)이 설치된다. 홈(5150)과 인접하여 실링 부재(5800)가 제공된다.
도 8은 도 5의 제2공정 챔버에서 실링 부재 주위에 파티클의 이동을 개략적으로 보여주는 도면이다. 화살표는 파티클의 이동 경로를 개략적으로 표현한 것이다. 이를 참조하면, 기판 처리 공정 중에는 파티클이 발생할 수 있다. 발생된 파티클은 실링 부재(5800)에 쌓여 있을 수 있다. 초임계 건조 공정 후 하우징(5100)의 내부를 감압시 파티클의 내부와 외부의 압력 차이로 기판(S)으으로 파티클이 유입될 수 있다.
다만, 상체(5110)에 돌출부(5130)와 홈(5150)을 제공하여 기판(S)에 파티클이 유입되는 것을 최소화 할 수 있어 기판 세정 공정의 효율을 향상시킬 수 있다.
도 6은 도 2의 제2공정 챔버의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.
이하, 도 6를 참조하면, 제2공정 챔버(6000)는 하우징(6100), 승강 유닛(6200), 지지 유닛(6300), 히터(6400), 유체 공급 유닛(6500), 블로킹 부재(6600), 배기 부재(6700) 그리고 실링 부재(6800)를 포함한다.
도 6의 제2공정 챔버(6000)의 하우징(6100), 승강 유닛(6200), 히터(6400), 유체 공급 유닛(6500) 그리고 블로킹 부재(6600)는 도 4의 제2공정 챔버(4000)의 하우징(4100), 승강 유닛(4200), 히터(4400), 유체 공급 유닛(4500) 그리고 블로킹 부재(4600)와 대체로 동일하게 제공된다.
지지 유닛(6300)은 하우징(6100)의 처리 공간에 위치하며 기판(S)을 지지한다. 지지 유닛(6300)은 하체(6120)에 결합된다. 지지 유닛(6300)은 수직부(6320)와 수평부(6310)를 포함한다.
수직부(6320)는 하체(6120)의 하부벽에 설치된다. 수직부(6320)는 하체(6310)의 위쪽으로 연장되어 제공된다. 수직부(6320)의 끝단은 수평부(6310)와 수직으로 결합된다. 수평부(6310)는 수직부(6320)의 끝단에서 하우징(6100)의 바깥쪽으로 연장되어 제공된다. 수평부(6310)에는 기판(S)이 놓인다. 수평부(6310)는 기판(S)의 가장자리 영역 저면을 지지한다.
지지 유닛(6300)이 기판(S)의 가장자리 영역에 접촉하여 기판(S)을 지지하여 기판(S) 상면 전체영역과 하면의 대부분의 영역에 대해서 초임계 건조공정이 수행될 수 있다. 여기서, 기판(S)은 그 상면이 패턴면이고, 하면이 비패턴면일 수 있다.
지지 유닛(6300)의 하부에는 배기 부재(6700)가 위치한다. 배기 부재(6700)는 지지 유닛(6300)에 놓이는 기판(S)과 대향된다. 배기 부재(6700)는 하체(6120)에 형성될 수 있다. 초임계 건조공정의 후기에는 제2공정 챔버(6000)로부터 초임계 유체가 배기되어 그 내부압력이 임계압력 이하로 감압되어 초임계 유체가 액화될 수 있다. 액화된 초임계 유체는 중력에 의해 하체(6120)에 형성된 배기 부재(6700)를 통해 배출될 수 있다.
실링 부재(6800)는 처리 공간을 외부로부터 실링한다. 실링 부재(6800)는 상체(6110)와 하체(6120)의 접촉면에 제공된다. 실링 부재(6800)는 지지 유닛(6300)보다 아래쪽에 위치한다. 일 예로 실링 부재(6800)는 링 형상의 오링으로 제공될 수 있다.
도 9는 도 6의 제2공정 챔버에서 실링 부재 주위에 파티클의 이동을 보여주는 개략적으로 보여주는 도면이다. 화살표는 파티클의 이동 경로를 개략적으로 표현한 것이다. 이를 참조하면, 기판 처리 공정 중에는 파티클이 발생할 수 있다. 발생된 파티클은 실링 부재(6800)에 쌓여 있을 수 있다. 초임계 건조 공정 후 하우징(6100)의 내부를 감압시 파티클의 내부와 외부의 압력 차이로 처리 공간으로 파티클이 유입될 수 있다.
다만, 실링 부재(6800)가 지지 유닛(6300)보다 낮은 곳에 위치하여 기판(S)에 파티클이 유입되는 것을 최소화 할 수 있어 기판 세정 공정의 효율을 향상시킬 수 있다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
100: 기판 처리 설비 1000: 인덱스 모듈
2000: 공정 모듈 3000: 제1공정 챔버
4000: 제2공정 챔버 4100: 하우징
4200: 승강 유닛 4300: 지지 유닛
4400: 히터 4500: 유체 공급 유닛
4600: 블로킹 부재 4700: 배기 부재
4800: 실링 부재 4900: 차단 플레이트

Claims (15)

  1. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    상체 및 상기 상체 아래에 상기 상체와 결합되는 하체를 가지고, 상기 상체와 상기 하체의 조합에 의해 생성된 처리 공간을 가지는 하우징;과
    상기 상체와 결합되며 상기 처리 공간 내에서 기판의 가장 자리를 지지하는 지지 유닛:과
    상기 처리 공간으로 유체를 공급하는 유체 공급 유닛;과
    상기 상체와 상기 하체의 접촉면에 제공되어 상기 처리 공간을 외부로부터 실링하는 실링 부재와; 그리고
    상기 실링 부재와 상기 지지 유닛의 사이에 설치되는 차단 플레이트를 포함하되,
    상기 차단 플레이트는 상기 실링 부재와 대향되게 제공되며,
    상기 차단 플레이트는 상기 상체에 설치되며, 상기 하체의 내측 상면보다 아래까지 돌출되는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 차단 플레이트는 링형상으로 제공되는 기판 처리 장치.
  3. 삭제
  4. 제2항에 있어서,
    상기 지지 유닛은,
    상기 상체로부터 아래쪽으로 연장되어 제공되는 수직부와;
    상기 수직부의 끝단에서 상기 하우징의 안쪽으로 연장되며, 기판의 저면을 지지하는 수평부를 포함하는 기판 처리 장치.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 유체 공급 유닛은 상기 지지 유닛에 지지된 기판의 상면으로 직접 상기 유체를 공급하는 상부 유체 공급부를 포함하는 기판 처리 장치.
  6. 제1항, 제2항, 제4항, 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유체 공급 유닛에서 공급되는 상기 유체는 초임계 유체인 기판 처리 장치.
  7. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    상부가 개방된 처리 공간을 가지는 하체와 상기 하체와 결합되며 상기 하체의 상면을 덮는 상체를 포함하는 하우징과;
    상기 상체와 결합되며 상기 처리 공간 내에서 기판의 가장 자리를 지지하는 지지 유닛:과
    상기 처리 공간으로 유체를 공급하는 유체 공급 유닛;과 그리고
    상기 상체와 상기 하체의 접촉면에 제공되어 상기 처리 공간을 외부로부터 실링하는 실링 부재를 포함하되,
    상기 상체는 상기 하체의 내측 상면으로부터 아래까지 상기 처리 공간으로 돌출되고, 상기 지지 유닛에 놓이는 기판과 대향되는 돌출부를 포함하고,
    상기 돌출부 가장자리에는 복수의 홈이 형성되고, 상기 지지 유닛은 상기 홈에 설치되고,
    상기 홈은 상기 지지 유닛에 놓이는 기판의 가장자리보다 더 외측에 제공되는 기판 처리 장치.
  8. 삭제
  9. 제7항에 있어서,
    상기 지지 유닛은,
    상기 상체로부터 아래쪽으로 연장되어 제공되는 수직부와
    상기 수직부의 끝단에서 상기 하우징의 안쪽으로 연장되며, 기판의 저면을 지지하는 수평부를 포함하는 기판 처리 장치.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 유체 공급 유닛은 상기 지지 유닛에 지지된 기판의 상면으로 직접 상기 유체를 공급하는 상부 유체 공급부를 포함하는 기판 처리 장치.
  11. 제7항, 제9항, 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유체 공급 유닛에서 공급되는 상기 유체는 초임계 유체인 기판 처리 장치.

  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 삭제
  15. 삭제
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