KR101314689B1 - 아이소플라본의 나노입자를 포함하는 국소용 조성물 - Google Patents

아이소플라본의 나노입자를 포함하는 국소용 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 아이소플라본 나노입자 조성물을 포함하는 국소용 조성물에 관한 것이다. 아이소플라본 나노입자 조성물은 나노입자 형태의 아이소플라본 및 바람직하게는 담체를 함유한다. 상기 국소용 조성물에서는, 아이소플라본이 더 큰 입자로 재결정화되는 것이 배제된다.

Description

아이소플라본의 나노입자를 포함하는 국소용 조성물{TOPICAL COMPOSITIONS COMPRISING NANOPARTICLES OF AN ISOFLAVONE}
본 발명은 아이소플라본을 포함하는 국소용 조성물에 관한 것이다. 국소용 조성물은 나노입자 형태의 아이소플라본 및 선택적으로 담체를 포함하는 아이소플라본 나노입자 조성물을 포함한다. 국소용 조성물은 특히 화장품 조성물 또는 약학 조성물이다. 아이소플라본 나노입자 조성물을 포함하는 국소용 조성물에서는, 아이소플라본이 더 큰 입자로 재결정화되는 것이 저지된다. 아이소플라본은 바람직하게는 제니스테인이다.
아이소플라본은 플라보노이드에 속하는 식물성 염료의 한 부류이다. 하기의 아이소플라본이 특히 중요하다:
Figure 112007093745324-pct00001
5 7 3' 4'
1 아이소플라본 H H H H
2 다이드제인 H OH H OH
3 제니스테인 OH OH H OH
4 프루네틴 OH OCH3 H OH
5 바이오카닌 A OH OH H OCH3
6 오로볼 OH OH OH OH
7 산탈 OH OCH3 OH OH
8 프라텐세인 OH OH OH OCH3
가장 중요한 아이소플라본의 하나는 제니스테인이다.
제니스테인은 항균 활성을 갖는, 공지된 약학적 및 미용 활성 성분이다. 제니스테인은 칼모듈린-길항물질이며, 제니스테인의 효소-억제 활성, 예를 들면, 티로신 키나제, 도파-카복실라제 등에 대한 효소-억제 활성이 특히 중요하다. 제니스테인은 또한 살충제에 사용될 수 있다. 제니스테인의 화학명은 4',5,7-트라이하이드록시아이소플라본이며, 상기 화합물은 대두 생성물과 같은 천연 생성물로부터의 정제에 의해 수득할 수 있으나(예를 들면, 문헌 [Biochem. Biophys. Res. Commun., 179:661-667, 1991]), 또한 당해 분야에 공지된 방법에 의해 화학적으로 합성될 수 있다. 제니스테인은 많은 공급처로부터 고순도로 상업적으로 시판된다. 제니스테인의 화학 구조는 다음과 같다:
Figure 112007093745324-pct00002
많은 출판물들이 제니스테인 및 그의 용도에 관한 것이며, 상기 분야에서 많은 특허 및 특허출원들 중 최근 3가지만 들자면, 예를 들면, US-A 5,824,702 호, WO 03/068218 호 또는 US-A 5,948,814 호를 언급할 수 있다.
제니스테인은 통상적으로, 예를 들면, WO 2004/009576 호에 개시된 바와 같은 방법에 따라 결정성 분말 형태로 생성된다. 상기 분말 형태는 매우 불량한 유동성을 갖는다. 불량한 분말 유동성은 분말이 자유롭게 유동해야 하는 정제 및 다른 적용 형태를 제조하는데 결정 분말을 사용하는 것을 어렵게 만든다. 다른 아이소플라본으로 제형을 제조하고자 하는 경우에도 동일한 문제가 야기된다.
제니스테인 및 그의 용도를 기술하고 있는 많은 문헌들에도 불구하고, 현재 판매되는 제니스테인 함유 국소용 조성물은 단지 매우 저농도, 예를 들면, 0.01 중량% 이하의 제니스테인 만을 함유하거나, 또는 제니스테인을 위한 유기 가용화제 또는 용매, 예를 들면, 에탄올을 함유한다. 그러나, 유기 용매는 피부 자극을 야기할 수 있으므로, 가능하다면 국소용 조성물에 에탄올과 같은 유기 용매의 존재는 배제되어야 한다. 아무튼, 유기 가용화제의 존재하에서조차 단지 매우 소량의 제니스테인만이 화장품 조성물에 혼입될 수 있다.
용매로서 물만을 기재로 하고 보다 고농도의 상업적으로 시판하는 제니스테인, 예를 들면, 0.1 중량% 이상, 특히 0.2 중량% 이상, 또는 0.5 중량% 이상의 제니스테인을 함유하는 국소용 조성물을 제조하고자 하는 경우, 상기 국소용 조성물은 저장시에 모래같이 된다. 상기 모래같은 국소용 조성물을 피부에 적용하면 자극을 야기할 수 있으며, 특히 조성물이 화장품 조성물인 경우, 소비자의 호응도는 낮다. 또한, 모래같이 됨과 동시에, 저장시에 수성 국소 제형중 제니스테인의 활성이 감소될 수 있다.
수-불용성 약학 활성 화합물의 나노현탁액 및 상기 나노현탁액의 제조 방법은 당해 분야에 공지되어 있으며, 예를 들면, US-A 5,858,410 호 및 US-A 5,145,684 호를 들 수 있다. 이들 문헌은 나노현탁액의 형태로 제공될 수 있는 많은 가능한 활성 성분들을 개시하고 있으나, 제니스테인에 대해서는 언급이 없다. 두 문헌 모두 주로 약물의 생체이용률을 증가시키는 방법에 관한 것이며, 국소용 조성물 및 국소용 조성물에서 일어나는 문제는 다루지 않고 있다.
또한, 약물 나노입자 또는 마이크론 크기의 약물 입자에 관한 여러 분석 논문, 예를 들면, 논문 [Advanced Drug Delivery Reivews, 47, 3-19, 2001]이 존재한다. 상기 문헌은 나노입자 형태로 약물을 제공하면 약물의 포화 용해도 및 해리 속도를 증가시킬 수 있음을 개시하고 있다. 상기 문헌은 주로 경구 또는 비경구 투여용의 수-불용성 약물의 생체이용률에 관한 것이다. 국소 제형 및 국소 제형에서 일어날 수 있는 문제는 개시하지 않고 있다. 제니스테인도 개시되지 않았다.
또 다른 분석 논문 [Pharmaceutical Development and Technology, Vol. 9, No. 1, pages 1-13, 2004]은 마이크론 크기의 약물 입자를 생성하는 다양한 방법 및 그의 이점과 단점들을 비교하고 있다. 상기 문헌에 따르면, 건조한 소(小) 입자의 생성이 여전히 난제이며, 특히 분자적으로 분산된 약물의 결합에 의해서가 아니라 보다 큰 건조 입자들의 분쇄에 의해 소 입자를 제조하는 경우 일어나는 여러 문제를 고찰하고 있다. 상기 문헌은 일반적으로 미세화 약물을 정맥내, 국소, 경구 또는 안과 조성물에 사용할 수 있다고 언급하고 있지만, 주 초점은 수용성이 불량한 약물의 건식 폐 투여 및 생체이용률 개선에 관한 것이다. 상기 일반적 정보와는 별개로, 국소용 조성물도 언급되지 않고 제니스테인도 언급되지 않았다.
WO 99/38509 호는, 예를 들면, 제니스테인을 양친매성 담체와 커플링시켜 제조된 미셀(micelle)을 개시하고 있다. 상기 미셀은 약 100 nm의 평균 직경을 가지며 식품 보조제로 적합하다. 상기 문헌에 개시된 양친매성 담체는 전체 또는 부분 수소화된 다양한 식물성유로부터 수득된 바와 같은 필수적으로 폴리에틸렌글라이콜화된 지방산 글리세라이드이다. WO 99/38509 호는 국소용 조성물 또는 화장품 조성물 또는 국소용 조성물에서 발생하는 문제들은 개시하지 않고 있다.
국소 적용을 위한 미세화 물질의 사용과 관련된 특정 문제는 온도 차이에 노출될 때 상기 물질의 재결정화 가능성이다. 상기 온도 차이는 일부 물질을 재결정화시킴으로써 거대 결정을 갖는 허용되지 않는 모래같은 제형을 다시 생성시킬 수 있다.
도 1은 실온에서 6 개월 저장후, 안정화된 제니스테인 나노입자를 갖는 제형 #1의 현미경 검사결과를 나타낸 것이다.
도 2는 실온에서 6 개월 저장후, 통상적인 결정성 제니스테인을 사용한 제형 #2의 현미경 검사결과를 나타낸 것이다.
도 3은 5 ℃/43 ℃에서(각 온도에서 24 시간의 주기) 저장후, 안정화된 제니스테인 나노입자를 갖는 제형 #3의 현미경 검사결과를 나타낸 것이다.
도 4는 5 ℃/43 ℃에서(각 온도에서 24 시간의 주기) 저장후, 통상적인 결정 성 제니스테인을 갖는 제형 #4의 현미경 검사결과를 나타낸 것이다.
도 5(a) 내지 (c)는 각각 0.3%, 0.5%, 1.0% 농도에서 실시예 3의 조성물의 스윙(swing) 시험의 결과를 나타낸 것이다.
도 6(a) 내지 (c)는 각각 0.3%, 0.5%, 1.0% 농도에서 실시예 6의 조성물의 스윙 시험의 결과를 나타낸 것이다.
도 7(a) 내지 (c)는 각각 0.3%, 0.5%, 1.0% 농도에서 건식 분쇄후의 실시예 7의 조성물의 스윙 시험의 결과를 나타낸 것이다.
도 8(a) 내지 (c)는 각각 0.3%, 0.5%, 1.0% 농도에서 실시예 7의 최종 생성물의 스윙 시험 결과를 나타낸 것이다.
본 발명의 목적은 바람직하게는 에탄올을 함유하지 않고 바람직하게는 또한 다른 유기 용매도 함유하지 않고, 아이소플라본, 특히 제니스테인을 0.01 중량% 이상, 바람직하게는 훨씬 더 이상, 예를 들면, 0.3 중량% 이상의 고농도로 함유하는 국소용 수성 조성물, 특히 국소용 수성 화장품 조성물, 보다 바람직하게는 크림 및 에멀전을 제공하는 것이다. 상기 조성물은 저장시 3 개월 이상동안, 바람직하게는 6 개월 이상, 보다 바람직하게는 1 년 이상 안정해야 하며 이 기간동안 모래같은 느낌을 나타내지 않아야 한다. 제형 구조는 또한 온도 변화에 대해 안정될 수 있어야 하며 "스윙" 시험을 통과할 수 있어야 한다.
상기 목적은 레이저 회절 기술로 측정할 때 3 ㎛ 미만의 평균 입자 크기 D[4,3]을 갖는 아이소플라본, 예를 들면, 제니스테인의 나노입자 및 선택적으로 담체 및 선택적으로 물을 포함하는 조성물을 국소용 수성 조성물중에 혼입시켜 국소용 조성물에 고농도의 아이소플라본을 제공할 수 있으며 이들 국소용 조성물은 저장시 모래같이 되지 않는다는 예상치 못한 발견을 토대로 달성된다. 상기 국소용 조성물중 아이소플라본(제니스테인)의 활성은 저장시에도 감소하지 않는다. 아이소플라본의 나노입자 및 선택적으로 담체의 조성물은 바람직하게는 아이소플라본과 담체의 혼합물을 고압하에 균질화시킴으로써 수득된다. 아이소플라본의 나노입자 및 선택적으로 담체의 조성물을 수득하기 위한 특히 바람직한 방법은 교반 비드 밀에서의 분쇄 방법이다.
본 발명에서 유용한 것으로 밝혀지고 아이소플라본이 레이저 회절 기술로 측정할 때 3 ㎛ 미만의 평균 입자 크기 D[4,3]을 갖는, 아이소플라본의 나노입자, 선택적으로 담체 및 선택적으로 물을 포함하는 조성물은, 이들 조성물을 국소용 조성물, 특히 본 발명의 국소용 약학 및 화장품 조성물과 구별하기 위해 아이소플라본(또는 제니스테인) 나노입자 조성물로 지칭한다.
따라서, 본 발명은 바람직하게는 에탄올을 함유하지 않고 아이소플라본 나노입자 조성물을 함유하는 국소용 조성물, 특히 국소용 약학 조성물 및 국소용 화장품 조성물을 제공한다. 본 발명은 또한 아이소플라본 나노입자 조성물 및 상기 아이소플라본 나노입자 조성물을 생성하는 방법을 제공한다.
상기 아이소플라본 나노입자 조성물을 제조하는 방법은 특별히 제한받지는 않지만, 아이소플라본 나노입자 조성물은 바람직하게는 결정성인 아이소플라본, 선택적으로 담체 및 물의 혼합물을 고압 균질기에 적용하는 고압 균질화 방법에 의해 제조되는 것이 바람직하다. 바람직하게는 결정성인 아이소플라본, 선택적으로 담체 및 물의 혼합물을 교반 비드 밀에 적용하는 방법이 특히 바람직하다. 선택적으로 생성된 현탁액을 건조 공정에 가하거나 가하지 않는다.
아이소플라본 나노입자 조성물은 아이소플라본 나노입자 및 선택적으로 담체, 및 그의 제조 직후에, 통상적으로 물을 함유하지만, 물을 제거하는 것이 가능하다. 바람직하게, 상기 조성물은 필수적으로 (i) 아이소플라본 나노입자, 또는 (ii) 아이소플라본 나노입자 및 물, 또는 (iii) 아이소플라본 나노입자 및 담체, 또는 (iv) 아이소플라본 나노입자 및 물 및 담체로 이루어진다.
"필수적으로 이루어진"은 특정 성분 이외의 다른 성분이 10% 이하, 바람직하게는 5% 이하, 보다 바람직하게는 2% 이하로 조성물에 존재하는 것을 의미한다.
아이소플라본은 바람직하게는 WO 99/38509 호에 개시된 바와 같은 미셀의 형태가 아니고, 이런 미셀은 본 발명의 바람직한 방법에 의해서는 생성되지 않고, 본 발명에 따라 사용되는 담체는 바람직하게는 WO 99/38509 호에 개시된 유형의 양친매성 지질 담체, 즉, 포화 또는 모노불포화 폴리에틸렌글라이콜화 지방산 글리세라이드가 아니다.
본 발명은 본 발명의 가장 바람직한 아이소플라본인 제니스테인에 대해 더 기술한다. 그러나, 추가의 설명은 또한 본 발명에 포함되는 다른 아이소플라본에 대해서도 유효하다. 하나보다 많은 아이소플라본, 예를 들면, 제니스테인과 하나 이상의 다른 아이소플라본의 혼합물을 사용하는 것도 또한 가능함은 물론이다. 본원에서 사용된 바와 같이, 용어 "아이소플라본"은 모든 상기 가능성을 포함하는 의미이다.
국소용 조성물, 특히 국소용 약학 조성물 및 국소용 화장품 조성물은 제니스테인이 국소적으로 사용될 수 있는 모든 용도에 유리하게 사용될 수 있다. 조성물에서 제니스테인의 높은 안정성 및 본 발명의 조성물내에 혼입될 수 있는 제니스테인의 고농도로 인해, 본 발명의 국소용 조성물은 제니스테인의 모든 공지된 적용 분야에서 유리하다.
인간 피부에 미용 효과, 특히 노화방지 효과 또는 피부 미백 효과를 달성하기 위한 본 발명의 국소용 화장품 및 약학 조성물의 용도가 특히 바람직하다. 주름 방지 조성물로서 본 발명의 국소용 화장품 및 약학 조성물의 용도도 또한 바람직하며, 특히 상기 조성물은 주름 개선 및 주름 예방을 위해 사용될 수 있다.
또한, 제니스테인은 피부 및 모발을 UV-방사선으로부터 보호할 수 있으며 손상된 피부를 상당히 회복시킬 수 있는 것으로 알려져 있다. 따라서, 본 발명의 국소용 화장품 및 약학 조성물은 또한 바람직하게는 UV-방사선 손상으로부터의 보호 또는 손상된 피부, 특히 UV-방사선에 의해 손상된 피부의 회복에 사용하기 위한 조성물이다. 상기 적용 분야에서, 본 발명의 국소용 화장품 및 약학 조성물은 바람직하게는 또한 하나 이상의 다른 자외선차단제를 함유할 수 있다.
다른 바람직한 사용 분야는 제니스테인이 또한 널리 사용되는 과민성 피부의 치료를 위한 용도이다. 다른 사용 분야는 과다색소침착 피부, 셀룰라이트, 여드름 등의 치료이다.
단독으로 또는 다른 활성 성분과 함께 제니스테인의 사용이 많은 문헌들, 예를 들면, 하기 문헌들에 기술되어 있다: DE 103 01 632, DE 103 01 631, US 2004/034,098, EP 1 243 254, EP 1 104 672, US 6,060,070, US 6,130,254, US 2002/160,965, US 2003/027,772, WO 2004/000242, DE 102 11 192, US 2003/044,438, US 2004/072,764, US 2002/048,798, US 2004/071745, KR 2001/001290, EP 1 508 328, EP 1 473 028, WO 03/051287, US 2003/103,954, WO 02/00183, WO 99/51220, US 6,455,032, US 2005/058,709, US 5,824,702, US 2002/099,095, EP 1 300 138, DE 101 21 375, US 5,952,373, WO 2005/030157, FR 2 859 629, US 2005/037,099, FR 2 856 294, WO 2004/062,635, FR 2 845 900, US 2005/142,081, US 2002/106,388, US 2004/170,655, US 2002/107,282, EP 1 201 227, DE 100 09 424, EP 0 829 261, DE 44 32 947 및 JP 60061513. 본 발명의 국소용 화장품 및 약학 조성물의 유리한 사용 분야와 관련하여서 및 제니스테인과 다른 활성 성분과의 혼합물과 관련하여, 본원에 또한 참고로 인용된 상기 문헌들을 명백히 참고로 한다. 본 발명의 조성물은 특히 고농도의 제니스테인을 특히 유리한 형태로 함유하기 때문에, 제니스테인의 사용과 관련하여 상기 문헌에 기술된 모든 긍정적인 효과들이 또한 본 발명의 제니스테인 조성물에 의해서도 물론 (심지어 고도로) 일어난다.
본 발명의 국소용 화장품 및 약학 조성물은 바람직하게는 피부를 개선하고 재생하기 위해, 천연 노화된 인간 피부에서 콜라겐 감소를 지연시키기 위해, 피부 노화 신호의 개선을 위해, 산화방지 및 라디칼 소거 작용을 자극하는 에스트로겐성 콜라겐 합성을 제공하기 위해, 피부의 광노화를 억제하기 위해서, 및 산화방지 조성물로서 사용될 수 있다.
또한, 제니스테인을 본 발명의 국소용 화장품 또는 약학 조성물의 형태로 환자 피부에 적용하는 경우, 제니스테인의 주름방지 성질 및 지성 피부 및 여드름에 대한 제니스테인의 긍정적 효과가 특히 개선된다.
제니스테인을 본 발명의 국소용 화장품 또는 약학 조성물의 형태로 적용하는 경우, UV-유도성 피부 노화의 방지, 탈모 감소 및 심지어 손상 피부의 회복을 위한 제니스테인-함유 조성물의 효과도 또한 개선된다. 물론, 본 발명의 국소용 화장품 또는 약학 조성물은 과반응성 피부 및 특히 피부 질환, 예를 들면, 습진, 여드름, 헤르페스 바이러스 감염, 건선 또는 경증 피부병을 치료할 뿐 아니라, 피부 염증, 소양증, 민감성 또는 DNA 합성을 치료하고 결핍증을 회복시키는 탁월한 결과하에 사용될 수 있다.
또한, 제니스테인은 항균 활성을 가지므로, 본 발명은 또한 항균제로서, 예를 들면, 특히 표면에 대한 살균 용도와 같은 살균제 용도를 위한 본 발명의 국소용 조성물의 용도에 관한 것이다.
또한, 본 발명의 국소 및 약학 조성물은 조성물중에서 재결정화되지 않기 때문에 선행 기술의 화장품 및 약학 조성물보다 훨씬 고농도로 제니스테인을 함유할 수 있다.
본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물은 제니스테인 및 바람직하게는 담체를 함유한다. 담체는 특별히 제한되지 않으며, 일반적으로 보다 용이하게 취급될 수 있는 분무-건조 분말의 생성을 촉진하기 위해 첨가된다. 담체가 없으면, 분무-건조 분말은 매우 미세하여 낮은 수율 및 많은 분진을 야기한다. 바람직한 태양에서, 담체는 또한, 특히 안정화제가 예를 들어 변성 전분, 셀룰로스 유도체, 검 아카시아, 유단백질인 경우에, 수성 현탁액중에서 나노입자의 응집을 최소화하기 위한 안정화제로서 작용한다. 일반적으로, 담체는 하나 이상의 탄수화물, 하나 이상의 단백질, 또는 탄수화물과 단백질의 혼합물로부터 선택된다. 바람직한 탄수화물은 변성 전분, 솔비톨, 말토스, 말토덱스트린, 검 아카시아, 펙틴, 알기네이트, 구아 검, 잔탄, 셀룰로스 유도체, 예를 들면, 카복시메틸셀룰로스 및 하이드록시프로필메틸셀룰로스 및 그의 혼합물이다. 변성 전분, 및 변성 전분을 포함하는 혼합물이 가장 바람직하며, 변성 전분은 바람직하게는 소수성으로 변성되어 계면활성제로 작용할 수 있는 전분이다. 상기 소수성으로 변성된 전분의 예는 전분 나트륨 옥테닐 석시네이트로서, 이것은, 예를 들면, 미국 뉴저지주의 내셔날 스타치 앤 캄파니(National Starch and Co.)에서 상표명 "캡슐(Capsul)"로 시판된다.
담체가 단백질을 포함하는 경우, 단백질은 바람직하게는 젤라틴, 유단백질, 대두 단백질 및 그의 혼합물로부터 선택된다. 또한, 상기 정의한 바와 같은 하나 이상의 탄수화물과 상기 정의한 바와 같은 하나 이상의 단백질의 혼합물도 경우에 따라 사용할 수 있다.
본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물에 함유되는 바람직한 담체는 또한 제니스테인의 수성 현탁액을 안정화시키는 능력을 갖는 담체이다. 상기 담체는 일반적으로 소수성 부분 및 친수성 부분을 함유하며, 예를 들면, 소수성으로 변성된 전분, 셀룰로스 유도체, 예를 들어, 하이드록시프로필메틸셀룰로스, 검 아카시아 및 유단백질이다. 이들 담체/안정화제는 본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물의 바람직한 성분이다.
그러나, 본 발명에 있어 담체가 또한 반드시 제니스테인의 현탁액에 안정화 기능을 가져야 하는 것은 아님을 주지해야 한다. 본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물은, 이미 현탁액 안정화제를 함유하는(또는 제형화 공정 단독으로 제니스테인 나노입자를 재현탁하기에 적합한) 국소용 약학 또는 화장품 조성물에 사용되므로, 본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물중 현탁액 안정화제의 존재는 절대적으로 필요한 것은 아니다. 그러나, 본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물이 현탁액 안정화 활성을 또한 갖는 담체를 이미 함유하는 경우, 본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물로 제조된 국소용 화장품 또는 약학 조성물에 현탁액 안정화제의 양을 감소시키는 것이 가능할 수 있다.
본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물은 통상적으로 제니스테인, 선택적으로 담체 및 물을 함유하는 수성 현탁액으로 제조된다. 선택적으로, 수성 현탁액은 이어서 분무-건조 또는 동결-건조와 같은 적당한 건조 방법에 적용되어 대부분 또는 모든 물을 제거하고 과립 또는 분말 생성물을 수득한다. 본 발명에 따르면, 두 조성물, 즉 제니스테인, 물 및 선택적으로 담체를 함유하는 수성 현탁액 및 제니스테인 및 선택적으로 담체를 함유하는 건조 조성물이 모두 바람직하다. 따라서, 바람직한 태양에서, 본 발명의 조성물은 제니스테인, 선택적으로 담체, 및 선택적으로 물로 이루어진다. 본원에서 사용된 바와 같은 용어 담체는 상기 정의한 바와 같은 여러 상이한 담체들의 혼합물을 포함함을 주지해야 한다.
본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물이 분말 조성물 또는 과립 조성물인 경우, 이들은 바람직하게는 1 중량% 이상의 제니스테인, 바람직하게는 20 중량% 이상, 보다 바람직하게는 50 중량% 이상의 제니스테인을 포함하며, 90 중량% 이상의 제니스테인도 또한 바람직하다. 제니스테인 나노입자 조성물의 나머지는 선택적인 담체, 및 건조 방법에 따라, 제니스테인 나노입자 조성물로부터 제거되지 않은 잔류수이다. 따라서, 바람직하게, 제니스테인 나노입자 조성물은 99 중량% 이하의 담체, 및 적용가능한 경우, 잔류수, 바람직하게는 80 중량% 이하, 보다 바람직하게는 50 중량% 이하의 담체 및 적용가능한 경우 잔류수를 함유하며, 10 중량% 이하의 담체 및 적용가능한 경우 잔류수도 또한 바람직하다. 바람직하게, 본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물은 1 중량% 이상의 담체 및 적용가능한 경우, 잔류수를 함유하고, 바람직하게는 본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물은 5 중량% 이상의 담체 및 적용가능한 경우, 잔류수를 함유한다. 바람직한 과립 또는 분말 제니스테인 나노입자 조성물은 제니스테인을 1 내지 99 중량%, 15 내지 95 중량%, 30 내지 95 중량%, 50 내지 95 중량%, 70 내지 95 중량%, 70 내지 90 중량%, 90 내지 99 중량%, 90 내지 95 중량%의 양으로 함유하며, 나머지는 담체, 및 적용가능한 경우, 잔류수이다. 물론, 담체를 함유하지 않고 제니스테인 및 적용가능한 경우 잔류수를 함유하는 조성물도 또한 바람직하다. 분말 형태의 제니스테인 나노입자 조성물은 하기에 기술한 수성 현탁액으로부터 통상적인 분무 건조 방법 또는 동결 건조 방법에 의해 제조될 수 있다.
본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물이 제니스테인, 선택적으로 담체 및 물을 함유하는 수성 현탁액의 형태인 경우, 물의 양은 특별히 제한되지 않으나, 일반적으로 이들 수성 조성물은 0.5% 이상, 바람직하게는 3% 이상, 바람직하게는 5% 이상의 제니스테인 및 선택적으로 담체, 보다 바람직하게는 10% 이상, 보다 바람직하게는 20% 이상, 30% 이상, 40% 이상 또는 50% 이상의 제니스테인 및 선택적으로 담체를 함유하고, 나머지는 물이며, 이때 제니스테인 및 담체의 상대량은 상기 또는 하기에 정의한 바와 같다. 수성 현탁액에 존재하는 물의 최소량은 현탁액을 생성하기 위해 필요한 양이다. 본 발명의 수성 현탁액은 제조 공정에서 직접 수득될 수 있으며, 이 경우 현탁액중 고체 입자의 양 및 따라서 현탁액중 물의 양은 현탁액을 제조하기 위해 사용되는 장비에 따라 달라진다. 보다 높은 고체 함량을 제공해야 하는 경우, 필요한 대로, 바람직하게는 일정 온도에서, 예를 들면, 증발에 의해 수성 현탁액으로부터 물을 제거하는 것이 가능하다. 제니스테인 및 선택적으로 담체의 고압 균질화 또는 교반 비드 밀링(습식 분쇄)에 의해 직접 수득된 수성 현탁액이 바람직하며, 상기 현탁액은 통상적으로 40% 이상의 물을 함유한다. 50% 이상의 물을 함유하고 나머지는 제니스테인 및 선택적으로 상기 정의한 바와 같은 상대량의 담체인 수성 현탁액도 또한 바람직하다.
바람직한 조성물은 또한 10 내지 50 중량% 범위 량의 제니스테인, 및 10:1 내지 1:10, 바람직하게는 10:1 내지 1:1 또는 1:1 내지 1:5, 예를 들면, 약 1:2 범위의 제니스테인 대 담체 비의 양의 담체를 함유하고 조성물의 나머지는 물인 조성물, 예를 들면, 25 중량%의 제니스테인, 5 중량%의 담체 및 70 중량%의 물을 함유하는 조성물이다. 10 내지 30 중량%의 제니스테인(15 내지 25 중량%의 제니스테인, 특히 약 20 중량%의 제니스테인이 바람직하다), 15 내지 40 중량%의 담체(20 내지 30 중량%의 담체, 특히 약 25 중량%의 담체가 바람직하다) 및 나머지 물을 함유하는 조성물이 또한 바람직하다.
본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물의 중요한 특징은 3 ㎛ 이하, 바람직하게는 1 ㎛ 이하, 예를 들면, 약 0.5 ㎛의 제니스테인 입자 크기이다. 본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물중 제니스테인의 평균 입자 크기의 바람직한 범위는 0.05 내지 3 ㎛, 보다 바람직하게는 0.05 내지 1 ㎛, 보다 더 바람직하게는 0.05 내지 0.5 ㎛이다. 또한, 0.3 내지 1.0 ㎛의 입자 크기가 바람직하다. 평균 입자 크기의 하한치로서 0.05 대신 0.1을 갖는 상기 범위도 또한 바람직하다. 상기 모든 입자 크기는 평균 입자 크기 D[4,3], 즉, 부피 평균 직경 또는 데 브루케(De Brouckere) 평균 직경이다. 바람직하게, D[3,2]에 따른 제니스테인 입자의 입자 크기는 0.05 내지 0.5, 바람직하게는 0.1 내지 0.2의 범위 이내이며, 이때 D[3,2]는 표면 평균 직경 또는 자우터(Sauter) 평균 직경이다. 본 명세서에 언급된 모든 입자 크기 측정은 영국 맬버른 인스트루먼츠 리미티드(Malvern Instruments Ltd.)의 "마스터사이저(Mastersizer) 2000"을 이용하여 레이저 회절 기술에 의해 수행하였으며, 상기 입자 크기 D[4,3] 및 D[3,2]에 대한 추가의 정보는, 예를 들면, ["Basic principles of particle size analytics", Dr. Alan Rawle, Malvern Intruments Limited, Engima Business Part, Grovewood Road, Malvern, Worcestershire, WR14 1XZ, UK] 및 [Manual of Malvern particle size analyzer]에서 찾을 수 있다.
출원인은 이론에 매이길 원하지 않으며, 본 발명의 담체 함유 제니스테인 나노입자 조성물중의 입자가 제니스테인과 담체의 혼합물을 함유하는지, 즉, 제니스테인과 담체가 동일한 입자에 존재하는지, 또는 제니스테인 입자와 담체 입자가 제니스테인 나노입자 조성물에 독립적으로 존재하는지 여부는 알지 못한다. 제니스테인 나노입자 조성물이 제니스테인으로만 이루어진 입자, 제니스테인과 담체 둘 다를 포함하는 입자, 및 담체만으로 이루어진 입자를 함유하는 것도 또한 가능하다. 모든 이러한 가능성이 본 발명에 포함되며, 본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물이 제니스테인과 담체 둘 다를 함유하는 입자를 포함하는 경우, 상기 입자 크기는 그대로 제니스테인과 담체 둘 다를 포함하는 입자를 말한다.
달리 언급되지 않는 한, 본 출원에서 부 및 퍼센트는 중량에 대한 것이며, 조성물의 중량을 기준으로 한다.
본 발명은 국소용 조성물, 특히 국소용 화장품 및 약학 조성물을 제공하며, 국소용 화장품 조성물이 바람직하다.
본 출원에서 사용된 바와 같이, 용어 "화장품 제제" 또는 "화장품 조성물"은 [Rompp Lexikon Chemie, 10th edition, Georg Thieme Verlag Stuttgart, New York, 1997]의 표제 "화장품(Kosmetika)"하에 정의된 바와 같은 화장품 조성물을 말한다.
본 발명의 화장품 또는 약학 조성물은 화장용 또는 약학적으로 허용되는 부형제 또는 희석제와 함께 본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물을 함유한다. 달리 언급되지 않는 한, 하기에서 언급되는 부형제, 첨가제, 희석제 등은 약학 및 화장품 조성물 둘 다에 적합하다.
바람직하게, 본 발명의 화장품 또는 약학 조성물은 국소용 조성물, 예를 들면, 액체 또는 고체 수중유적형 에멀전, 유중수적형 에멀전, 다중 에멀전, 미세에멀전, PET-에멀전, 비커링(bickering) 에멀전, 하이드로겔, 알콜성 겔, 리포겔, 단일 또는 다중상 용액, 포말, 연고, 반창고, 현탁액, 샴푸, 분말, 크림, 세정제, 비누, 및 펜에 의해, 마스크로서 또는 스프레이로서 적용될 수 있는 다른 통상적인 조성물이다. 수성 현탁액이 가장 바람직하다.
본 발명의 화장품 또는 약학 조성물은 또한 통상적인 화장품 또는 약학 보조제 및 첨가제, 예를 들면, 방부제/산화방지제, 지방 물질/오일, 물, 유기 용매, 실리콘, 증점제, 연화제, 에멀전화제, 자외선차단제, 소포제, 보습제, 방향, 계면활성제, 충전제, 금속이온봉쇄제, 음이온성, 양이온성, 비이온성 또는 양쪽성 중합체 또는 그의 혼합물, 추진제, 산성화 또는 염기성화제, 염료, 착색제, 안료 또는 나노안료, 예를 들면, 자외선을 물리적으로 차단시켜 광보호 효과를 제공하기에 적합한 것들, 또는 화장품 또는 의약품에 통상적으로 배합되는 임의의 다른 성분을 함유할 수 있다.
추가량의 산화방지제/방부제가 일반적으로 바람직하다. 본 발명을 기준으로, 화장품 또는 의약품에 통상적으로 배합되는 모든 공지된 산화방지제를 사용할 수 있다. 다음으로 이루어진 군에서 선택된 산화방지제가 특히 바람직하다: 아미노산(예, 글라이신, 히스티딘, 티로신, 트립토판) 및 그의 유도체, 이미다졸(예, 유로칸산) 및 유도체, 펩타이드, 예를 들면, D,L-카노신, D-카노신, L-카노신 및 유도체(예, 안세린), 카로티노이드, 카로틴(예, α-카로틴, β-카로틴, 라이코펜) 및 유도체, 클로로겐산 및 유도체, 리포산 및 유도체(예, 다이하이드로리포산), 오로티오글루코스, 프로필티오유라실 및 다른 티올(예, 티오레독신, 글루타티온, 시스테인, 시스틴, 시스타민 및 그의 글라이코실-, N-아세틸-, 메틸-, 에틸-, 프로필-, 아밀-, 뷰틸- 및 라우릴-, 팔미토일-; 올레일-, y-리놀레일-, 콜레스테릴- 및 글리세릴에스터) 및 그의 염, 다이라우릴티오다이프로피오네이트, 다이스테아릴티오다이프로피오네이트, 티오다이프로피온산 및 그의 유도체(에스터, 에테르, 펩타이드, 지질, 뉴클레오타이드, 뉴클레오사이드 및 염), 및 매우 낮은 상용가능한 용량(예를 들면, p몰 내지 μ몰/kg)의 설폭시민 화합물(예를 들면, 뷰티오닌설폭시민, 호모시스테인설폭시민, 뷰티오닌설폰, 펜타-, 헥사-, 헵타티오닌설폭시민), 추가로 (금속)-킬레이트제(예를 들면, α-하이드록시지방산, 팜산, 피틴산, 락토페린), β-하이드록시산(예를 들면, 시트르산, 락트산, 말산), 후민산, 갈산, 갈산 추출물, 빌리루빈, 빌리버딘, EDTA, EGTA 및 그의 유도체, 불포화 지방산 및 그의 유도체(예를 들면, γ-리놀레산, 리놀산, 올레산), 폴산 및 그의 유도체, 유비퀴논 및 유비퀴놀 및 그의 유도체, 바이타민 C 및 유도체(예를 들면, 아스코빌팔미테이트 및 아스코빌테트라아이소팔미테이트, Mg-아스코빌포스페이트, Na-아스코빌포스페이트, Na-아스코빌아세테이트), 토코페롤 및 유도체(예를 들면, 바이타민-E 아세테이트), 천연 바이타민 E 혼합물, 바이타민 A 및 유도체(바이타민 A-팔미테이트 및 -아세테이트), 및 코니페릴벤조에이트, 루틴산 및 유도체, α-글라이코실루틴, 페룰산, 퍼퓨릴리덴글루시톨, 카노신, 뷰틸하이드록시톨루엔, 뷰틸하이드록시아니솔, 트라이하이드록시뷰티로페논, 유레아 및 그의 유도체, 만노스 및 유도체, 아연 및 유도체(예, ZnO, ZnSO4), 셀레늄 및 유도체(예, 셀레노메티오닌), 스틸벤 및 유도체(예를 들면, 스틸벤옥사이드, 트랜스-스틸벤옥사이드), 및 언급한 활성 성분들의 적당한 유도체(염, 에스터, 에테르, 당, 뉴클레오타이드, 뉴클레오사이드, 펩타이드 및 지질). 하나 이상의 방부제/산화방지제가 본 발명의 국소용 화장품 또는 약학 조성물의 총 중량의 약 0.01 내지 약 10 중량%의 양으로 존재할 수 있다. 바람직하게, 하나 이상의 방부제/산화방지제는 약 0.1 내지 약 1 중량%의 양으로 존재한다.
전형적으로 국소용 화장품 또는 약학 제형은 또한 표면 활성 성분, 예를 들면, 에멀전화제, 가용화제 등을 함유한다. 에멀전화제는 둘 이상의 비혼화성 성분들이 균질하게 혼합되게 할 수 있다. 또한, 에멀전화제는 조성물을 안정화시키는 작용을 한다. O/W, W/O, O/W/O 또는 W/O/W 에멀전/미세에멀전을 생성하기 위해 본 발명에 사용될 수 있는 에멀전화제로는 솔비탄 올리에이트, 솔비탄 세스퀴올리에이트, 솔비탄 아이소스테아레이트, 솔비탄 트라이올리에이트, 폴리글리세릴-3-다이아이소스테아레이트, 올레산/아이소스테아르산의 폴리글리세롤 에스터, 폴리글리세릴-6 헥사리시놀레이트, 폴리글리세릴-4-올리에이트, 폴리글리세릴-4 올리에이트/PET-8 프로필렌 글라이콜 코코에이트, 올레아미드 DEA, TEA 미리스테이트, TEA 스테아레이트, 마그네슘 스테아레이트, 나트륨 스테아레이트, 칼륨 라우레이트, 칼륨 리시놀레이트, 나트륨 코코에이트, 나트륨 탈로우에이트, 칼륨 카스토레이트, 나트륨 올리에이트 및 그의 혼합물이 포함된다. 다른 적합한 에멀전화제는 포스페이트 에스터 및 그의 염, 예를 들면, 세틸 포스페이트(암피솔(Amphisol, 등록상표) A), 다이에탄올아민 세틸 포스페이트(암피솔(등록상표)), 칼륨 세틸 포스페이트(암피솔(등록상표) K), 나트륨 글리세릴 올리에이트 포스페이트, 수소화 식물성 글리세라이드 포스페이트 및 그의 혼합물이다. 또한, 하나 이상의 합성 중합체를 에멀전화제로 사용할 수 있다. 예를 들면, PVP 에이코센 공중합체, 아크릴레이트/C10-30 알킬 아크릴레이트 가교중합체, 아크릴레이트/스테아레트-20 메타크릴레이트 공중합체, PEG-22/도데실 글라이콜 공중합체, PEG-45/도데실 글라이콜 공중합체 및 그의 혼합물이다. 바람직한 에멀전화제는 세틸 포스페이트(암피솔(등록상표) A), 다이에탄올아민 세틸 포스페이트(암피솔(등록상표)), 칼륨 세틸 포스페이트(암피솔(등록상표) K), PVP 에이코센 공중합체, 아크릴레이트/C10-30-알킬 아크릴레이트 가교중합체, PEG-20 솔비탄 아이소스테아레이트, 솔비탄 아이소스테아레이트 및 그의 혼합물이다. 하나 이상의 에멀전화제는 본 발명의 화장품 또는 약학적 국소용 조성물의 총 중량의 약 0.01 내지 약 20 중량%의 양으로 존재한다. 바람직하게는, 약 0.1 내지 약 10 중량%의 에멀전화제를 사용한다.
국소용 화장품 또는 약학 조성물의 지질 상은 유리하게는 다음으로부터 선택될 수 있다:
광유 및 광랍;
오일, 예를 들면, 카프린산 또는 카프릴산의 트라이글리세라이드 및 피마자유;
오일 또는 왁스 및 기타 천연 또는 합성 오일, 바람직한 태양으로, 알콜, 예를 들면, 아이소프로판올, 프로필렌글라이콜 또는 글리세린에 의한 지방산의 에스터, 또는 카복실산 또는 지방산에 의한 지방 알콜의 에스터;
알킬벤조에이트; 및/또는
실리콘 오일, 예를 들면, 다이메틸폴리실록세인, 다이에틸폴리실록세인, 다이페닐폴리실록세인, 사이클로메티콘 및 그의 혼합물.
본 발명의 화장품 또는 약학 조성물의 에멀전, 미세에멀전, 올레오겔, 수성분산액(hydrodispersion) 또는 유성분산액(lipodispersion)에 혼입될 수 있는 대표적인 지방 물질은 유리하게는 3 내지 30개의 탄소원자를 갖는 포화 및/또는 불포화, 직쇄 또는 분지쇄 알킬 카복실산, 및 3 내지 30개의 탄소원자를 갖는 포화 및/또는 불포화, 직쇄 및/또는 분지쇄 알콜의 에스터, 및 방향족 카복실산 및 3 내지 30개의 탄소원자를 갖는 포화 및/또는 불포화 직쇄 및/또는 분지쇄 알콜의 에스터로부터 선택된다. 상기 에스터는 유리하게는 옥틸팔미테이트, 옥틸코코에이트, 옥틸아이소스테아레이트, 옥틸도데실미리스테이트, 세테아릴아이소노나노에이트, 아이소프로필미리스테이트, 아이소프로필팔미테이트, 아이소프로필스테아레이트, 아이소프로필올리에이트, n-뷰틸스테아레이트, n-헥실라우레이트, n-데실올리에이트, 아이소옥틸스테아레이트, 아이소노닐스테아레이트, 아이소노닐아이소노나노에이트, 2-에틸 헥실팔미테이트, 2-에틸헥실라우레이트, 2-헥실데실스테아레이트, 2-옥틸도데실팔미테이트, 스테아릴헵타노에이트, 올레일올리에이트, 올레일에루케이트, 에루실올리에이트, 에루실에루케이트, 트라이데실스테아레이트, 트라이데실트라이멜리테이트, 및 상기 에스터의 합성, 반합성 및 천연 혼합물, 예를 들면, 호호바 오일로부터 선택될 수 있다.
본 발명의 국소용 화장품 또는 약학 조성물에 사용하기에 적당한 다른 지방 성분으로는 극성 오일, 예를 들면, 레시틴 및 지방산 트라이글리세라이드, 즉, 8 내지 24개 탄소원자, 바람직하게는 12 내지 18개 탄소원자를 갖는 포화 및/또는 불포화 직쇄 또는 분지쇄 카복실산의 트라이글리세롤 에스터가 포함되며, 이때 지방산 트라이글리세라이드는 바람직하게는 합성, 반합성 및 천연 오일(예, 코코글리세라이드, 올리브유, 해바라기유, 대두유, 낙화생유, 평지씨유, 스위트 아몬드유, 야자유, 코코넛유, 피마자유, 수소화 피마자유, 맥아유, 포도씨유, 마카다미아넛트 오일 등); 비극성 오일, 예를 들면, 선형 및/또는 분지쇄 탄화수소 및 왁스, 예를 들면, 광유, 바셀린(페트롤라텀); 파라핀, 스쿠알란 및 스쿠알렌, 폴리올레핀, 수소화 폴리아이소뷰텐 및 아이소헥사데칸, 유리한 폴리올레핀 및 폴리데센; 다이알킬 에테르, 예를 들면, 다이카프릴릴에테르; 선형 또는 환형 실리콘 오일, 예를 들면, 바람직하게는 사이클로메티콘(옥타메틸사이클로테트라실록세인, 세틸다이메티콘, 헥사메틸사이클로트라이실록세인, 폴리다이메틸실록세인, 폴리(메틸페닐실록세인) 및 그의 혼합물로부터 선택된다.
본 발명의 국소용 화장품 또는 약학 조성물에 유리하게 혼입될 수 있는 다른 지방 성분은 아이소에이코산; 네오펜틸글라이콜다이헵타노에이트; 프로필렌글라이콜다이카프릴레이트/다이카프레이트; 카프릴/카프르/다이글리세릴석시네이트; 뷰틸렌글라이콜 카프릴레이트/카프레이트; C12-13-알킬아세테이트; 다이-C12-13 알킬타르트레이트; 트라이아이소스테아린; 다이펜타에리트리틸 헥사카프릴레이트/헥사카프레이트; 프로필렌글라이콜모노아이소스테아레이트; 트라이카프릴린; 다이메틸아이소솔비드이다. C12-15-알킬벤조에이트 및 2-에틸헥실아이소스테아레이트의 혼합물, C12-15-알킬벤조에이트 및 아이소트라이데실아이소노나노에이트의 혼합물, 및 C12-15-알킬벤조에이트, 2-에틸헥실아이소스테아레이트 및 아이소트라이데실아이소노나노에이트의 혼합물이 특히 유리하다.
본 발명의 화장품 또는 약학 조성물의 유성상은 또한 밀랍, 차이나 왁스(china wax), 범블비 왁스(bumblebee wax) 및 다른 곤충들의 왁스 및 쉐어버터(sheabutter) 및 코코아 버터와 같은 천연 식물성 또는 동물성 왁스를 함유할 수 있다.
수화를 유지하거나 피부를 재수화시키기 위해 본 발명의 국소용 화장품 또는 약학 조성물에 보습제를 혼입시킬 수 있다. 보호 코팅을 제공함으로써 물이 피부로부터 증발하는 것을 방지하는 보습제는 연화제로 불린다. 또한, 연화제는 피부 표면상에 연화 또는 진정 효과를 제공하고, 일반적으로 국소 용도에 안전한 것으로 간주된다. 바람직한 연화제로는 광유, 라놀린, 페트롤라텀, 카프르/카프릴산 트라이글리세르알데하이드, 콜레스테롤, 실리콘, 예를 들면, 다이메티콘, 사이클로메티콘, 아몬드유, 호호바유, 아보카도유, 피마자유, 호마유, 해바라기유, 코코넛유 및 포도씨유, 코코아 버터, 올리브유, 알로에 추출물, 지방산, 예를 들면, 올레산 및 스테아르산, 지방 알콜, 예를 들면, 세틸 및 헥사데실(엔제이(ENJAY)), 다이아이소프로필 아디페이트, 하이드록시벤조에이트 에스터, C9-15-알콜의 벤조산 에스터, 아이소노닐 아이소-노나노에이트, 에테르, 예를 들면, 폴리옥시프로피렌 뷰틸 에테르 및 폴리옥시프로필렌 세틸 에테르 및 C12-15-알킬 벤조에이트, 및 그의 혼합물이 포함된다. 가장 바람직한 연화제는 하이드록시벤조에이트 에스터, 알로에 베라, C12-15-알킬 벤조에이트 및 그의 혼합물이다. 연화제는 국소용 화장품 또는 약학 조성물 총 중량의 약 1 내지 약 20 중량%의 양으로 존재한다. 연화제의 바람직한 양은 약 2 내지 약 15 중량%, 가장 바람직하게는 약 4 내지 약 10 중량%이다.
물과 결합하여 피부 표면상에 물을 보유시키는 보습제를 습윤제로 부른다. 글리세린, 폴리프로필렌 글라이콜, 폴리에틸렌 글라이콜, 락트산, 피롤리돈 카복실산, 유레아, 인지질, 콜라겐, 엘라스틴, 세라마이드, 레시틴 솔비톨, PEG-4 및 그의 혼합물과 같은 적당한 습윤제를 본 발명의 국소용 화장품 또는 약학 조성물에 혼입할 수 있다. 또 다른 적당한 보습제는 수용성 및/또는 팽윤성 및/또는 수 겔화 폴리사카라이드 부류의 중합체 보습제, 예를 들면, 히알루론산, 키토산 및/또는, 예를 들면, 솔라비아 에스(SOLABIA S)로부터 퓨코겔(Fucogel, 등록상표) 1000(CAS-Nr. 178463-23-5)로서 시판하는 퓨코스가 풍부한 폴리사카라이드이다. 하나 이상의 습윤제가 선택적으로 본 발명의 화장품 또는 약학 조성물에 약 0.5 내지 약 8 중량%, 바람직하게는 약 1 내지 약 5 중량%의 양으로 존재한다.
본 발명의 바람직한 국소용 화장품 또는 약학 조성물의 수성상은 통상적인 화장품 또는 약학 첨가제, 예를 들면, 알콜, 특히, 저급 알콜, 바람직하게는 에탄올 및/또는 아이소프로판올, 저급 다이올 또는 폴리올 및 그의 에테르, 바람직하게는 프로필렌글라이콜, 글리세린, 에틸렌글라이콜, 에틸렌글라이콜모노에틸- 또는 모노뷰틸 에테르, 프로필렌글라이콜모노메틸- 또는 -모노에틸- 또는 -모노뷰틸 에테르, 다이에틸렌글라이콜모노메틸- 또는 -모노에틸 에테르 및 유사 생성물, 중합체, 발포 안정화제; 전해질 및 특히 하나이상의 증점제를 함유할 수 있다. 그러나, 바람직하게 본 발명의 화장품 또는 약학 조성물은 에탄올을 함유하지 않고, 보다 바람직하게는 알콜을 함유하지 않고, 가장 바람직하게는 유기 용매를 함유하지 않는데, 그 이유는 상기 화합물들이 피부 자극을 유발할 수 있기 때문이다.
생성물의 점조도를 적합하게 만들기 위해 본 발명의 화장품 또는 약학 국소 제형에 사용될 수 있는 증점제로는 카보머, 실리슘다이옥사이드, 마그네슘 및/또는 알루미늄 실리케이트, 밀납, 스테아르산, 스테아릴 알콜 폴리사카라이드 및 그의 유도체, 예를 들면, 잔탄 검, 하이드록시프로필 셀룰로스, 폴리아크릴아마이드, 아크릴레이트 공중합체, 바람직하게는 유형 980, 981, 1382, 2984, 5984의 카보폴 단독 또는 그의 혼합물과 같은 카보머가 포함된다.
성분들을 중화시키기 위해 본 발명의 국소용 화장품 또는 약학 조성물에 포함될 수 있는 적당한 중화제, 예를 들면, 에멀전화제 또는 발포 강화제/안정화제로는 알칼리 수산화물, 예를 들면, 수산화 나트륨 및 칼륨; 유기 염기, 예를 들면, 다이에탄올아민(DEA), 트라이에탄올아민(TEA), 아미노메틸 프로판올 및 그의 혼합물; 아미노산, 예를 들면, 아르기닌 및 라이신 및 이들 중 임의의 혼합물이 포함되나, 이로 한정되지는 않는다. 중화제는 본 발명의 화장품 또는 약학 국소용 조성물에 약 0.01 내지 약 8 중량%, 바람직하게는 1 내지 약 5 중량%의 양으로 존재할 수 있다.
본 발명의 화장품 또는 약학 국소용 조성물로의 전해질 첨가는 소수성 에멀전화제의 양태를 변화시키기 위해 필수적일 수 있다. 따라서, 본 발명의 에멀전/미세에멀전은 바람직하게는 클로라이드, 설페이트, 카보네이트, 보레이트 또는 알루미네이트와 같은 음이온을 포함하는 하나 또는 여러개의 염의 전해질을 함유할 수 있으나, 이로 한정되지는 않는다. 다른 적당한 전해질은 유기 음이온에 근거할 수 있고, 예를 들면, 락테이트, 아세테이트, 벤조에이트, 프로피오네이트, 타르트레이트 및 시트레이트일 수 있으나, 이로 한정되지는 않는다. 양이온으로서, 바람직하게 암모늄, 알킬암모늄, 알칼리- 또는 알칼리토 금속, 마그네슘-, 철- 또는 아연-이온이 선택된다. 특히 바람직한 염은 염화 칼륨 및 나트륨, 황산 마그네슘, 황산 아연 및 그의 혼합물이다. 전해질은 본 발명의 화장품 또는 약학 국소용 조성물에 약 0.01 내지 약 8 중량%의 양으로 존재할 수 있다.
본 발명의 국소용 화장품 또는 약학 조성물은 바람직하게는 로션, 농후 로션, 겔, 크림, 유제, 연고, 분말 또는 고형 튜브 스틱의 형태로 제공될 수 있으며, 선택적으로 에어로졸로 포장될 수 있고, 무스, 폼 또는 스프레이의 형태로 제공될 수 있다. 본 발명에 따른 화장품 또는 약학 국소용 조성물은 또한 용매, 특히 물 또는 지방 물질중 현탁액 또는 분산액의 형태, 또는 달리 에멀전 또는 미세에멀전(특히 O/W 또는 W/O 유형, O/W/O 또는 W/O/W-유형)의 형태, 예를 들면, 크림 또는 유제, 소포성 분산액의 형태, 연고, 겔, 고형 튜브 스틱 또는 에어로졸 무스의 형태일 수 있다. 에멀전은 또한 음이온성, 비이온성, 양이온성 또는 양쪽성 계면활성제를 함유할 수 있다.
본 발명의 화장품 또는 약학적 국소용 조성물의 국소 적용은 바람직하게는 하루에 1회 이상, 예를 들면, 하루에 2회 또는 3회 이상이다. 피부에 적용될 국소용 화장품 또는 약학 조성물의 양은 조성물 중 제니스테인 및 선택적으로 다른 활성 성분의 농도, 및 목적하는 화장 또는 약학적 효과에 따라 달라진다. 예를 들면, 크림이 피부에 적용되도록 적용할 수 있다. 크림은 통상적으로 2 mg 크림/cm2 피부의 양으로 적용된다. 그러나, 피부에 적용되는 화장품 또는 약학적 국소용 조성물의 양은 중요하지 않으며, 적용된 화장품 또는 약학적 국소용 조성물의 특정량을 사용하여 목적하는 효과가 달성될 수 없는 경우, 예를 들면, 보다 많은 화장품 또는 약학 조성물을 적용하거나 또는 보다 많은 제니스테인을 함유하는 화장품 또는 약학 조성물을 적용함으로써 보다 고농도의 제니스테인을 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 화장품 및 약학적 국소용 조성물은 UV-A 및 UV-B 필터를 함유할 수 있다. 본 발명의 화장품 또는 약학적 국소용 조성물과의 혼합에 바람직한 UV-B 또는 광범위 스펙트럼 차단제, 예를 들면, 약 290 내지 340 nm에서 최대 흡수를 갖는 물질의 예는 하기의 유기 및 무기 화합물이다:
아크릴레이트, 예를 들면, 2-에틸헥실 2-사이아노-3,3-다이페닐아크릴레이트(옥토크릴렌, 파르솔(PARSOL, 등록상표) 340), 에틸 2-사이아노-3,3-다이페닐아크릴레이트 등;
캄포 유도체, 예를 들면, 4-메틸 벤질리덴 캄포(파르솔(등록상표) 5000), 3-벤질리덴 캄포, 캄포 벤즈알코늄 메토설페이트, 폴리아크릴아미도메틸 벤질리덴 캄포, 설포 벤질리덴 캄포, 설포메틸 벤질리덴 캄포, 테레프탈리덴 다이캄포 설폰산 등;
신나메이트 유도체, 예를 들면, 옥틸 메톡시신나메이트(파르솔(등록상표) MCX), 에톡시에틸 메톡시신나메이트, 다이에탄올아민 메톡시신나메이트(파르솔(등록상표) 하이드로), 아이소아밀 메톡시신나메이트 등, 및 실록세인에 결합된 신남산 유도체;
p-아미노벤조산 유도체, 예를 들면, p-아미노벤조산, 2-에틸헥실 p-다이메틸아미노벤조에이트, N-옥시프로필렌화 에틸 p-아미노벤조에이트, 글리세릴 p-아미노벤조에이트;
벤조페논, 예를 들면, 벤조페논-3, 벤조페논-4, 2,2',4,4'-테트라하이드록시-벤조페논, 2,2'-다이하이드록시-4,4'-다이메톡시벤조페논 등;
벤잘말론산의 에스터, 예를 들면, 다이(2-에틸헥실) 4-메톡시벤잘말로네이트;
2-(4-에톡시 아닐리노메틸렌)프로페인디오산의 에스터, 예를 들면, 유럽 특허 공개 EP 0895 776 호에 기술된 바와 같은 2-(4-에톡시 아닐리노메틸렌)프로페인디오산 다이에틸 에스터;
유럽 특허 공개 EP 0358584 B1 호, EP 0538431 B1 호 및 EP 0709080 A1 호에 기술된 바와 같은 벤즈말로네이트기를 함유하는 유기실록세인 화합물, 특히 파르솔 SLX;
드로메트리졸 트라이실록세인(멕소릴(Mexoryl) XL);
안료, 예를 들면, 미립자화 TiO2 등. 용어 "미립자화(microparticulated)"는 약 5 내지 약 200 nm, 특히 약 15 내지 약 100 nm의 입자 크기를 말한다. TiO2 입자는 또한 산화 알루미늄 또는 지르코늄과 같은 산화 금속에 의해, 또는 예를 들면, 폴리올, 메티콘, 알루미늄 스테아레이트, 알킬 실레인과 같은 유기 코팅에 의해 코팅될 수 있다. 상기 코팅은 당해 분야에 공지되어 있다;
이미다졸 유도체, 예를 들면, 2-페닐 벤즈이미다졸 설폰산 및 그의 염(파르솔(등록상표) HS). 2-페닐 벤즈이미다졸 설폰산의 염은, 예를 들면, 나트륨- 또는 칼륨염, 암모늄염, 모폴린염과 같은 알칼리염, 모노에탄올아민염, 다이에탄올아민염 등과 같은 1급, 2급 및 3급 아민의 염이다;
살리실레이트 유도체, 예를 들면, 아이소프로필벤질 살리실레이트, 벤질 살리실레이트, 뷰틸 살리실레이트, 옥틸 살리실레이트(네오 헬리오판 오스(NEO HELIOPAN OS)), 아이소옥틸 살리실레이트 또는 호모멘틸 살리실레이트(호모살레이트, 헬리오판(HELIOPAN))등;
트리아진 유도체, 예를 들면, 옥틸 트리아존(유비눌(UVINUL) T-150), 다이옥틸 뷰트아미도 트리아존(우바솔브(UVASORB) HEB), 비스 에톡시페놀 메톡시페닐 트라아진(티노솔브(Tinosorb) S) 등.
본 발명의 화장품 또는 약학적 국소용 조성물에 바람직한 광범위 스펙트럼 또는 UV A 차단제, 즉, 약 320 내지 400 nm에서 최대 흡수를 갖는 물질의 예는 하기의 유기 및 무기 화합물이다:
다이벤조일메테인 유도체, 예를 들면, 4-3급-뷰틸-4'-메톡시다이벤조일-메테인(파르솔(등록상표) 1789), 다이메톡시다이벤조일메테인, 아이소프로필다이벤조일메테인 등;
벤조트리아졸 유도체, 예를 들면, 2,2'-메틸렌-비스-(6-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸뷰틸)-페놀(티노솔브 M) 등;
페닐렌-1,4-비스-벤즈이미다졸설폰산 또는 그의 염, 예를 들면, 2,2-(1,4-페닐렌)-비스-(1H-벤즈이미다졸-4,6-다이설폰산)(네오헬리오판 AP);
아미노 치환된 하이드록시벤조페논, 예를 들면, 유럽 특허 공개 EP 1046391 호에 기술된 바와 같은 2-(4-다이에틸아미노-2-하이드록시-벤조일)-벤조산 헥실에스터;
안료, 예를 들면, 미립자화 ZnO 또는 TiO2 등. 용어 "미립자화"는 약 5 내지 약 200 nm, 특히 약 15 내지 약 100 nm의 입자 크기를 말한다. 입자는 또한 산화 알루미늄 또는 지르코늄과 같은 다른 산화 금속에 의해, 또는, 예를 들면, 폴리올, 메티콘, 알루미늄 스테아레이트, 알킬 실레인과 같은 유기 코팅에 의해 코팅될 수 있다. 상기 코팅은 당해 분야에 공지되어 있다.
다이벤조일메테인 유도체는 제한된 광안정성을 가지므로, 이들 UV-A 차단제를 광안정화시키는 것이 바람직할 수 있다. 따라서, 용어 "통상적인 UV-A 차단제"는 또한, 예를 들면, 유럽 특허 공개 EP-A 0 514 491 호 및 EP-A 0 780 119 호에 기술된 바와 같은 3,3-다이페닐아크릴레이트 유도체; US 특허 제 5,605,680 호에 기술된 바와 같은 벤질리덴 캄포 유도체; 유럽 특허 공개 EP-A 0358584 호, EP-A 0538431 호 및 EP-A 0709080 호에 기술된 바와 같은 벤즈말로네이트기를 함유하는 유기실록세인, 특히 파르솔 SLX에 의해 안정화된 파르솔(등록상표) 1789와 같은 다이벤조일메테인 유도체를 말한다.
본 발명의 조성물에 첨가될 수 있는 UV-A 및 UV-B 필터에 대한 우수한 개관은 또한 DE-A 103 27 432 호에서 찾을 수 있다. 상기 문헌에 개시된 모든 UV-필터 화합물도 또한 본 발명의 조성물에 성분으로 유용하며 본원에 참고로 인용된다.
본 발명의 국소용 화장품 및 약학 조성물은 바람직하게는 0.01% 이상, 바람직하게는 0.1% 이상, 보다 바람직하게는 0.2% 이상의 제니스테인 및 선택적으로 담체의 나노입자를 포함한다. 그러나, 제니스테인 나노입자 조성물을 국소용 화장품 및 약학 조성물에 혼입시킴으로써 달성되는 효과는 0.3% 이상의 제니스테인을 함유하는 약학 및 화장품 조성물에서 가장 두드러지는데, 그 이유는 상기 고농도에서 본 발명의 국소용 약학 및 화장품 조성물이 저장중 제니스테인 나노입자의 입자 크기에 특히 낮은 증가(및 때때로 심지어 감소)를 가져오기 때문이다. 상기 고농도에서의 효과는 0.3% 미만의 저농도에서보다 훨씬 더 두드러지는데, 이것은 선행 기술의 제니스테인 조성물을 사용하여서는 수득될 수 없었던 매우 고농도의 제니스테인을 갖는 화장품 및 약학 조성물의 제공을 가능케 하기 때문에 특히 놀랍고 유리하다. 그러므로, 본 발명의 화장품 및 약학 조성물은 바람직하게는 0.3% 이상, 보다 바람직하게는 0.5% 이상의 농도로 제니스테인 및 선택적으로 담체를 함유하는 나노입자를 함유한다. 하기 범위의 제니스테인 및 선택적으로 담체의 나노입자가 또한 바람직하다: 0.3 내지 3%, 0.3 내지 2%, 0.3 내지 1%, 및 하한치가 0.3% 대신 0.4 또는 0.5%인 상기 범위.
국소용 화장품 및 약학 조성물의 종류 및 국소용 화장품 및 약학 제제의 제조 뿐 아니라 다른 적당한 첨가제에 대하여, 적절한 문헌, 예를 들면, 문헌 [Novak G.A., Die kosmetischen Praparate - Band 2, Die kosmetischen Praparate - Rezeptur, Rohstoffe, wissenschaftliche Grundlagen(Verlag fur Chem. Industrie H. Ziolkowski KG, Augsburg)]을 참조할 수 있다.
조성물은 또한 특히 여드름, 주름, 잔주름, 위축, 염증을 예방 또는 경감하기 위한 하나 이상의 추가의 약학적 또는 화장 활성 성분들, 및 국소 마취제, 인공 탠닝제(tanning agent) 및 촉진제, 항균제 및 항진균제 및 자외선차단 첨가제를 함유할 수 있다.
그 예는 펩타이드(예, 매트릭실(Matrixyl, 등록상표)(펜타펩타이드 유도체)), 글리세롤, 유레아, 구아니딘(예, 아미노 구아니딘); 바이타민 및 그의 유도체, 예를 들면, 아스코브산, 바이타민 A(예, 레티노이드 유도체, 예를 들어, 레티닐 팔미테이트 또는 레티닐 프로피오네이트), 바이타민 E(예, 토코페롤 아세테이트), 바이타민 B3(예, 나이아신아마이드) 및 바이타민 B5(예, 판테놀) 등 및 그의 혼합물, 왁스-계 합성 펩타이드(예, 옥틸 팔미테이트 및 트라이베헤닌 및 솔비탄 아이소스테아레이트 및 팔미토일-올리고펩타이드), 항-여드름 약제(레조르시놀, 살리실산 등); 산화방지제(예, 피토스테롤, 리포산); 플라보노이드(예, 아이소플라본, 피토에스트로겐); 피부 진정 및 치료제, 예를 들면, 알로에 베라 추출물, 알란토인 등; 킬레이트제 및 금속이온봉쇄제; 및 미용 목적에 적합한 약제, 예를 들면, 정유, 방향, 스킨 센세이트(skin sensate), 유백제, 방향족 화합물(예, 정향유, 멘톨, 캄포, 유칼립투스 오일 및 유제놀), 박리 활성제, 항-여드름 활성제, 바이타민 B3 화합물, 산화방지제, 펩타이드, 하이드록시산, 라디칼 소거제, 킬레이트제, 파네솔, 소염제, 국소 마취제, 탠닝 활성제, 피부-미백제, 셀룰라이트 방지제, 플라보노이드, 항균 활성제 및 항진균 활성제, 특히 비사볼롤(bisabolol), 알킬다이올, 예를 들면, 1,2-펜탄다이올, 헥산다이올 또는 1,2-옥탄다이올, 바이타민, 판테놀, 피톨, 피타네트리올, 세라마이드 및 유사세라마이드, 아미노산 및 생물활성 펩타이드, 단백질 가수분해물, AHA 산, 다중불포화 지방산, 식물 추출물, DNA 또는 RNA 및 그의 단편화 생성물 또는 탄수화물, 비오틴, 복합 지방산, 카르니틴, 바이타민 E, A, C, B3, B6, B12, 올리고펩타이드, 카노신, 바이오키노넨, 피토플루엔, 피토엔, 폴산, 및 그의 상응하는 유도체이다.
본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물은 바람직하게는 제니스테인 결정 및 선택적으로 담체를 고압 균질기에서 단편화시켜 수득된다. 본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물은 보다 바람직하게는 제니스테인(특히 제니스테인 결정) 및 선택적으로 담체를 교반 비드 밀에서 분쇄하여 수득된다. 단편화 및 분쇄는 통상적으로 수성 현탁액을 사용하여 수행한다.
적절한 균질기는 선행 기술에서 공지되어 있고 상업적으로 시판하며, 예를 들면, 이스라엘 미그달 하에멕 소재의 비.이.이. 인터내셔날 리미티드(B.E.E. International Ltd.)의 데비(DeBEE) 2000 고압 균질기를 들 수 있다. 균질기는 바람직하게는 500 내지 4000 바, 보다 바람직하게는 500 내지 3000 바, 가장 바람직하게는 500 내지 2000 바의 압력에서 운전된다. 바람직하게, 균질기에는 EP-A 1 008 380 호에 개시된 바와 같은 노즐 시스템이 장착된다.
바람직하게, 제니스테인 및 담체는 고압 균질기를 통해 1 내지 200 회, 보다 바람직하게는 5 내지 100 회, 예를 들면, 5 내지 30 회 순환된다. 필요한 순환 회수는 통상적인 몇몇 실험에 의해 용이하게 찾아낼 수 있다.
특히 바람직한 태양에서, 먼저 담체 없이 제니스테인을 고압 균질기에서, 예를 들면, 5 내지 100 회, 예를 들면, 5 내지 30 회 균질화에 적용한 다음, 담체 용액을 가하고, 예를 들면, 1 내지 50 회, 예를 들어, 1 내지 10 회 균질화를 더 지속한다. 필요한 경우, 순환 회수를 증가시킬 수 있다.
균질화동안 제니스테인 결정은 주로 고압 공정에서 발생된 캐비테이션(cavitation) 및 전단에 의해 단편화되는 것으로 생각되며, 가공되는 수성 나노현탁액은 50% 이하 또는 그 이상의 고체 함량을 가질 수 있다. 수성 나노현탁액은 그대로 본 발명의 약학 또는 화장품 조성물을 제조하기 위해 사용될 수 있거나, 또는 필수적으로 제니스테인, 선택적으로 담체 및 궁극적으로 건조 공정에서 제거되지 않은 잔류수로 이루어진 분말 또는 과립 조성물을 수득하기 위해 먼저 건조 단계에 적용될 수 있다. 건조는 분무-건조 또는 동결-건조와 같은 통상적인 공정에 의해 수행할 수 있다.
본 발명의 제니스테인 나노입자 조성물은 가장 바람직하게는 교반 비드 밀에서 습식 분쇄 공정에 의한 단편화에 의해 수득된다. 적당한 습식 분쇄 밀은 선행 기술에서 공지되어 있고 상업적으로 시판되며, 예를 들면, 독일 95100 셀프 세단스트라세 70 소재의 네취-파인말테크닉 게엠베하(NETZSCH-Feinmahltechnik GmbH)의 네취 LMZ 4 습식 분쇄 밀을 들 수 있다. 바람직하게, 제니스테인 및 선택적으로 담체는 교반 비드 밀을 통해 1 내지 50 회, 보다 바람직하게는 3 내지 40 회, 보다 바람직하게는 5 내지 30 회, 가장 바람직하게는 8 내지 25 회 순환된다.
분쇄 매질은, 예를 들면, 필수적으로 Al2O3, Si3N4, TiO2, WC(텅스텐 카바이드) 또는 ZrO2 또는 이들 화합물의 혼합물로 이루어질 수 있다. 가장 바람직하게는, ZrO2-형 분쇄 매질, 예를 들면, Y2O3로 안정화된 ZrO2 매질을 사용한다.
가공되는 수성 나노현탁액은 25% 이하, 심지어 그 이상의 고체 함량을 가질 수 있다.
본 발명의 바람직한 태양에서, 적절한 건조 조건을 선택함으로써 가능한 한 많이 물을 제거하고, 물 함량은 예를 들면 10% 미만이다.
하기의 실시예는 예시일 뿐이며, 본 발명의 범위를 제한하려는 것이 아니다.
실시예 1
미국 뉴저지주 내셔날 스타치 앤드 케미칼 캄파니(National Starch and Chemical Co.)에서 캡슐(Capsul)이란 상표명하에 시판하는, 8%의 수분 함량을 갖는 전분 나트륨 옥테닐 석시네이트(490 g)를 80 ℃ 탈이온수(490 g)에 용해시켜 전분 나트륨 옥테닐 석시네이트 용액(46%)을 제조하였다.
제니스테인 분말(20 g)을 전분 나트륨 옥테닐 석시네이트 용액(391.4 g) 및 탈이온수(390 g)와 혼합하고, 1500 바의 균질화 압력에서 파이프라인에 약 200 g의 물을 갖는, 130 ㎛ 노즐이 장착된 고압 균질기(데비 2000, 이스라엘 비.이.이. 인터내셔날 리미티드)에 통과시켰다. 균질화동안 배압을 120 바로 고정하였다. 노즐 이후의 제니스테인 현탁액을 열 교환기를 사용하여 약 20 내지 30 ℃로 냉각하였다. 약 20%의 고체 함량을 갖는 현탁액을 목적하는 입자 크기에 도달할 때까지 균질기를 통해 42 회 순환시켰다. 제니스테인 입자 크기를 레이저 회절 기술(마스터사이저 2000, 영국 맬버른 인스트루먼츠 리미티드)에 의해 측정하였으며, 1.469의 굴절율을 기준으로 계산한 결과를 하기 표 I에 나타내었다.
제니스테인의 입자 크기 측정
균질화전 제니스테인 입자 크기 균질화(42회 순환)후 제니스테인 입자 크기
D(v, 0.1) 17.1 ㎛ 0.07 ㎛
D(v, 0.5) 41.9 ㎛ 0.17 ㎛
D(v, 0.9) 91.0 ㎛ 3.65 ㎛
평균 입자 크기 D[4,3] 48.5 ㎛ 0.97 ㎛
평균 입자 크기 D[3,2] 23.1 ㎛ 0.15 ㎛
균질화된 제니스테인 현탁액을 4 바의 노즐 압력을 갖는 니로(Niro) 분무 건조기(GEA 니로 A/S, 덴마크)를 사용하여 건조시켰다. 유입 온도는 약 200 ℃이고, 유출 온도는 약 80 ℃이었다. 분무-건조 분말은 5.87%의 수분 함량하에 약 9.4%의 제니스테인을 함유하였다. 분무-건조 분말을 물에 재-분산시키고 레이저 회절 기술에 의해 제니스테인 입자 크기를 측정하였으며, 결과를 표 II에 나타내었다.
분무-건조된 제니스테인 형태의 입자 크기 측정
균질화(42회 순환) 및 분무-건조후
제니스테인 입자 크기
D(v, 0.1) 0.07 ㎛
D(v, 0.5) 0.16 ㎛
D(v, 0.9) 2.86㎛
평균 입자 크기 D[4,3] 0.83 ㎛
평균 입자 크기 D[3,2] 0.14 ㎛
실시예 2
제니스테인 분말(30 g)을 탈이온수(370 g)와 혼합하고, 1500 바의 균질화 압력에서 파이프라인에 약 200 g의 물을 갖는 고압 균질기(130 ㎛ 노즐 장착; 데비 2000, 이스라엘 비.이.이. 인터내셔날 리미티드)에 통과시켰다. 균질화동안 배압을 120 바로 고정하였다. 노즐 이후의 제니스테인 현탁액을 열 교환기를 사용하여 약 20 내지 30 ℃로 냉각하였다. 약 5%의 고체 함량을 갖는 현탁액을 목적하는 입자 크기에 도달할 때까지 균질기를 통해 40 회 순환시켰다. 제니스테인 입자 크기는 레이저 회절 기술(마스터사이저 2000, 영국 맬버른 인스트루먼츠 리미티드)에 의해 측정하였으며, 1.469의 굴절율을 기준으로 계산한 결과를 하기 표 III에 나타내었다.
제니스테인의 입자 크기 측정
균질화전 제니스테인 입자 크기 균질화(40회 순환)후 제니스테인 입자 크기
D(v, 0.1) 17.1 ㎛ 0.07 ㎛
D(v, 0.5) 41.9 ㎛ 0.16 ㎛
D(v, 0.9) 91.0 ㎛ 2.42 ㎛
평균 입자 크기 D[4,3] 48.5 ㎛ 0.76 ㎛
평균 입자 크기 D[3,2] 23.1 ㎛ 0.14 ㎛
8%의 수분 함량을 갖는 전분 나트륨 옥테닐 석시네이트(490 g)를 80 ℃ 탈이온수(490 g)에 용해시켜 전분 나트륨 옥테닐 석시네이트 용액(46%)을 제조하였다. 전분 나트륨 옥테닐 석시네이트 용액 일부(65 g)를 균질화 공정을 중단하지 않고 40회 순환 종료시 공급 깔때기에서 균질화된 제니스테인 현탁액에 가하고, 혼합물(약 9% 고체 함량)을 고압 균질기에 2회 통과시켰다. 제니스테인 입자 크기를 레이저 회절 기술(마스터사이저 2000, 영국 맬버른 인스트루먼츠 리미티드)에 의해 측정하였으며, 결과를 하기 표 IV에 나타내었다.
제니스테인의 입자 크기 측정
균질화(42회 순환)후 제니스테인 입자 크기
D(v, 0.1) 0.07 ㎛
D(v, 0.5) 0.16 ㎛
D(v, 0.9) 0.93㎛
평균 입자 크기 D[4,3] 0.41 ㎛
평균 입자 크기 D[3,2] 0.14 ㎛
균질화된 제니스테인 현탁액을 4 바의 노즐 압력을 갖는 니로 분무 건조기(GEA 니로 A/S, 덴마크)를 사용하여 건조시켰다. 유입 온도는 약 200 ℃이고, 유출 온도는 약 80 ℃이었다. 분무-건조 분말은 3.24%의 수분 함량하에 약 48.5%의 제니스테인을 함유하였다. 제니스테인 입자 크기를 분무-건조 분말을 물에 재-분산시키고 레이저 회절 기술에 의해 측정하였다. 결과를 표 V에 나타내었다.
분무-건조된 제니스테인 형태의 입자 크기 측정
균질화(42회 순환) 및 분무-건조후
제니스테인 입자 크기
D(v, 0.1) 0.07 ㎛
D(v, 0.5) 0.15 ㎛
D(v, 0.9) 1.14㎛
평균 입자 크기 D[4,3] 0.55 ㎛
평균 입자 크기 D[3,2] 0.14 ㎛
실시예 3
제니스테인 분말(36 g)을 탈이온수(364 g)와 혼합하고, 1500 바의 균질화 압력에서 파이프라인에 약 200 g의 물을 갖는 고압 균질기(130 ㎛ 노즐 장착; 데비 2000, 이스라엘 비.이.이. 인터내셔날 리미티드)에 통과시켰다. 균질화동안 배압을 120 바로 고정하였다. 노즐 이후의 제니스테인 현탁액을 열 교환기를 사용하여 약 20 내지 30 ℃로 냉각하였다. 약 6%의 고체 함량을 갖는 현탁액을 목적하는 입자 크기에 도달할 때까지 균질기를 통해 40 회 순환시켰다. 제니스테인 입자 크기를 레이저 회절 기술(마스터사이저 2000, 영국 맬버른 인스트루먼츠 리미티드)에 의해 측정하였으며, 1.469의 굴절율을 기준으로 계산한 결과를 하기 표 VI에 나타내었다.
제니스테인의 입자 크기 측정
균질화전 제니스테인 입자 크기 균질화(40회 순환)후 제니스테인 입자 크기
D(v, 0.1) 17.1 ㎛ 0.07 ㎛
D(v, 0.5) 41.9 ㎛ 0.16 ㎛
D(v, 0.9) 91.0 ㎛ 2.00 ㎛
평균 입자 크기 D[4,3] 48.5 ㎛ 0.76 ㎛
평균 입자 크기 D[3,2] 23.1 ㎛ 0.14 ㎛
8%의 수분 함량을 갖는 전분 나트륨 옥테닐 석시네이트(490 g)를 80 ℃ 탈이온수(490 g)에 용해시켜 전분 나트륨 옥테닐 석시네이트 용액(46%)을 제조하였다. 전분 나트륨 옥테닐 석시네이트 용액 일부(19.5 g)를 균질화 공정을 중단하지 않고 40회 순환 종료시 공급 깔때기에서 균질화된 제니스테인 현탁액에 가하고, 혼합물(약 7.3% 고체 함량)을 고압 균질기에 2회 통과시켰다. 제니스테인 입자 크기를 레이저 회절 기술(마스터사이저 2000, 영국 맬버른 인스트루먼츠 리미티드)에 의해 측정하였으며, 결과는 하기 표 VII에 나타내었다.
제니스테인의 입자 크기 측정
균질화(42회 순환)후 제니스테인 입자 크기
D(v, 0.1) 0.07 ㎛
D(v, 0.5) 0.16 ㎛
D(v, 0.9) 0.91㎛
평균 입자 크기 D[4,3] 0.40 ㎛
평균 입자 크기 D[3,2] 0.14 ㎛
균질화된 제니스테인 현탁액을 4 바의 노즐 압력을 갖는 니로 분무 건조기(GEA 니로 A/S, 덴마크)를 사용하여 건조시켰다. 유입 온도는 약 200 ℃이고, 유출 온도는 약 80 ℃이었다. 분무-건조 분말은 2.31%의 수분 함량하에 약 78.2%의 제니스테인을 함유하였다. 분무-건조 분말을 물에 재-분산시키고 레이저 회절 기술에 의해 제니스테인 입자 크기를 측정하였다. 결과를 표 VIII에 나타내었다.
분무-건조된 제니스테인 형태의 입자 크기 측정
균질화(42회 순환) 및 분무-건조후
제니스테인 입자 크기
D(v, 0.1) 0.07 ㎛
D(v, 0.5) 0.16 ㎛
D(v, 0.9) 0.97㎛
평균 입자 크기 D[4,3] 0.43 ㎛
평균 입자 크기 D[3,2] 0.14 ㎛
실시예 4
제니스테인 분말(120 g)을 탈이온수(280 g)와 혼합하고, 700 바의 균질화 압력에서 파이프라인에 약 200 g의 물을 갖는 고압 균질기(180 ㎛ 노즐 장착; 데비 2000, 이스라엘 비.이.이. 인터내셔날 리미티드)에 통과시켰다. 균질화동안 배압을 120 바로 고정하였다. 노즐 이후의 제니스테인 현탁액을 열 교환기를 사용하여 약 20 내지 30 ℃로 냉각하였다. 약 20%의 고체 함량을 갖는 현탁액을 목적하는 입자 크기에 도달할 때까지 균질기를 통해 20 회 순환시켰다. 제니스테인 입자 크기를 레이저 회절 기술(마스터사이저 2000, 영국 맬버른 인스트루먼츠 리미티드)에 의해 측정하였으며, 1.469의 굴절율을 기준으로 계산한 결과를 하기 표 IX에 나타내었다.
제니스테인의 입자 크기 측정
균질화전 제니스테인 입자 크기 균질화(20회 순환)후 제니스테인 입자 크기
D(v, 0.1) 17.1 ㎛ 0.07 ㎛
D(v, 0.5) 41.9 ㎛ 0.15 ㎛
D(v, 0.9) 91.0 ㎛ 2.62 ㎛
평균 입자 크기 D[4,3] 48.5 ㎛ 0.83 ㎛
평균 입자 크기 D[3,2] 23.1 ㎛ 0.13 ㎛
실시예 5
제니스테인 분말(36 g)을 탈이온수(364 g)와 혼합하고, 1500 바의 균질화 압력에서 파이프라인에 약 200 g의 물을 갖는 고압 균질기(130 ㎛ 노즐 장착; 데비 2000, 이스라엘 비.이.이. 인터내셔날 리미티드)에 통과시켰다. 균질화동안 배압을 120 바로 고정하였다. 노즐 이후의 제니스테인 현탁액을 열 교환기를 사용하여 약 20 내지 30 ℃로 냉각하였다. 약 6%의 고체 함량을 갖는 현탁액을 목적하는 입자 크기에 도달할 때까지 균질기를 통해 40 회 순환시켰다. 제니스테인 입자 크기를 레이저 회절 기술(마스터사이저 2000, 영국 맬버른 인스트루먼츠 리미티드)에 의해 측정하였으며, 1.469의 굴절율을 기준으로 계산한 결과를 하기 표 X에 나타내었다.
제니스테인의 입자 크기 측정
균질화전 제니스테인 입자 크기 균질화(20회 순환)후 제니스테인 입자 크기
D(v, 0.1) 17.8 ㎛ 0.07 ㎛
D(v, 0.5) 41.4 ㎛ 0.16 ㎛
D(v, 0.9) 90.2 ㎛ 0.92 ㎛
평균 입자 크기 D[4,3] 48.5 ㎛ 0.42 ㎛
평균 입자 크기 D[3,2] 23.1 ㎛ 0.14 ㎛
6.18%의 수분 함량을 갖는 말토덱스트린(25 g)를 80 ℃ 탈이온수(27 g)에 용해시켜 말토덱스트린 용액(45%, 52 g)을 제조하였다. 말토덱스트린 용액 일부(19.5 g)를 균질화 공정을 중단하지 않고 40회 순환 종료시 공급 깔때기에서 균질화된 제니스테인 현탁액에 가하고, 혼합물(약 7.3% 고체 함량)을 고압 균질기에 2회 이상 통과시켰다. 제니스테인 입자 크기를 레이저 회절 기술(마스터사이저 2000, 영국 맬버른 인스트루먼츠 리미티드)에 의해 측정하였으며, 결과를 하기 표 XI에 나타내었다.
분무 건조된 제니스테인 형태의 입자 크기 측정
균질화(42회 순환) 및 분무-건조후 제니스테인 입자 크기
D(v, 0.1) 0.07 ㎛
D(v, 0.5) 0.16 ㎛
D(v, 0.9) 0.93㎛
평균 입자 크기 D[4,3] 0.41 ㎛
평균 입자 크기 D[3,2] 0.14 ㎛
균질화된 제니스테인 현탁액을 4 바의 노즐 압력을 갖는 니로 분무 건조기(GEA 니로 A/S, 덴마크)를 사용하여 건조시켰다. 유입 온도는 약 200 ℃이고, 유출 온도는 약 80 ℃이었다. 분무-건조 분말은 약 78.2%의 제니스테인을 함유하였다. 분무-건조 분말을 물에 재-분산시키고 레이저 회절 기술에 의해 제니스테인 입자 크기를 측정하였다. 결과를 하기 표 XII에 나타내었다.
분무-건조된 제니스테인 형태의 입자 크기 측정
균질화(42회 순환) 및 분무-건조후
제니스테인 입자 크기
D(v, 0.1) 0.07 ㎛
D(v, 0.5) 0.15 ㎛
D(v, 0.9) 0.93㎛
평균 입자 크기 D[4,3] 0.41 ㎛
평균 입자 크기 D[3,2] 0.13 ㎛
실시예 6
8%의 수분 함량을 갖는 캡슐(2.8 kg; 내셔날 스타치 앤드 케미칼 캄파니, 미국 뉴저지주)을 70 ℃ 탈이온수(5.7 kg)에 용해시켜 전분 나트륨 옥테닐 석시네이트 용액(30%)을 제조하였다.
제니스테인 분말(3.0 kg)을 전분 나트륨 옥테닐 석시네이트 용액(8.5 kg) 및 탈이온수(9.0 kg)와 혼합하고, Y2O3로 안정화된 ZrO2로 이루어진 0.4 mm ZrO2-형 분쇄 매질을 이용하여 1150 Upm하에 회전하는 교반 비드 밀(네취 유형 LMZ4; 독일 셀프 소재의 네취 게엠베하 앤 캄파니 홀딩 카게)에 통과시켰다. 교반 비드 밀 이후의 제니스테인 현탁액을 열 교환기를 사용하여 40 내지 45 ℃로 냉각시켰다. 약 27%의 고체 함량을 갖는 현탁액을 목적하는 입자 크기에 도달할 때까지 2 시간동안(밀 상에서 11회 순환) 교반 비드 밀을 통해 순환시켰다.
제니스테인 입자 크기를 레이저 회절 기술(마스터사이저 2000, 영국 맬버른 인스트루먼츠 리미티드)에 의해 측정하였으며, 1.469의 굴절율을 기준으로 계산한 결과를 하기 표 XIII에 나타내었다.
제니스테인의 입자 크기 측정
균질화전 제니스테인 입자 크기 균질화(11회 통과)후 제니스테인 입자 크기
D(v, 0.1) 17.8 ㎛ 0.07 ㎛
D(v, 0.5) 41.4 ㎛ 0.16 ㎛
D(v, 0.9) 90.2 ㎛ 0.45 ㎛
평균 입자 크기 D[4,3] 48.5 ㎛ 0.23 ㎛
균질화된 제니스테인 현탁액은 목적하는 적용 분야를 위해 분무 건조되거나, 또는 실시예 2에 기술된 절차를 이용하여 분무 건조될 수 있다.
실시예 7
제니스테인 분말(6 kg)을 건식 분쇄 공정에 의해 제트 밀에서 분쇄하였다. 적합한 밀: 0.5 바의 제트 압력 및 20.000 Upm의 시프터 휠(sifter wheel) 속도를 사용하는 호소카와 알파인 캄파니(Hosokawa Alpain Co.)의 알파인(Alpine) 100 AFG. 상기 제니스테인을 비교 목적으로 도 7에 나타낸 "스윙" 시험에 사용하였다.
8%의 수분 함량을 갖는 전분 나트륨 옥테닐 석시네이트(6.0 kg; 내셔날 스타치 앤드 케미칼 캄파니, 미국 뉴저지주)를 70 ℃ 탈이온수(6.1 kg)에 용해시켜 전분 나트륨 옥테닐 석시네이트 용액(48%)을 제조하였다.
분쇄된 제니스테인 분말(6.0 kg)을 전분 나트륨 옥테닐 석시네이트 용액(12.1 kg) 및 탈이온수(24 kg)와 혼합하고, 700 바의 균질화 압력에서 EP 1 008 380 A2 호에 기술된 바와 같은 혼합 장치가 장착된 고압 균질기에 통과시켰다. 노즐 이후의 제니스테인 현탁액을 열 교환기를 사용하여 약 20 내지 30 ℃로 냉각시켰다. 약 20%의 고체 함량을 갖는 현탁액을 목적하는 입자 크기에 도달할 때까지(최종 제니스테인) 균질기를 통해 12 회 순환시켰다. 도 8에 예시된 바와 같이, 제니스테인 입자 크기를 레이저 회절 기술(마스터사이저 2000, 영국 맬버른 인스트루먼츠 리미티드)에 의해 측정하였으며, 1.469의 굴절율을 기준으로 계산한 결과를 하기 표 XIV에 나타내었다.
제니스테인의 입자 크기 측정
분쇄 및 균질화전 제니스테인 입자 크기 분쇄 및 균질화후 제니스테인 입자 크기
D(v, 0.1) 17.8 ㎛ 0.07 ㎛
D(v, 0.5) 41.4 ㎛ 0.18 ㎛
D(v, 0.9) 90.2 ㎛ 1.38 ㎛
평균 입자 크기 D[4,3] 48.5 ㎛ 0.53 ㎛
균질화후 제니스테인을 또한 "스윙" 시험에 사용하였으며, 결과는 도 8에 나타내었다.
균질화된 분산액을 약 40 바의 노즐 압력을 갖는 멀티 스테이지 분무 건조기(Multi Stage Spray dryer)를 사용하여 분무 건조시켰다. 유입 온도는 약 160 ℃이고, 유출 온도는 약 80 ℃이었으며, 내부 유동층의 유입 공기 온도는 약 50 ℃이었다. 제니스테인 입자 크기를 레이저 회절 기술(마스터사이저 2000, 영국 맬버른 인스트루먼츠 리미티드)에 의해 측정하였으며, 1.469의 굴절율을 기준으로 계산한 결과를 하기 표 XV에 나타내었다.
제니스테인의 입자 크기 측정
분쇄 및 균질화전 제니스테인 입자 크기 분쇄, 균질화 및 분무 건조후 제니스테인 입자 크기
D(v, 0.1) 17.8 ㎛ 0.08 ㎛
D(v, 0.5) 41.4 ㎛ 0.19 ㎛
D(v, 0.9) 90.2 ㎛ 1.84 ㎛
평균 입자 크기 D[4,3] 48.5 ㎛ 0.65 ㎛
실시예 8
상이한 제니스테인 형태를 갖는 O/W 에멀전
#1 #2
성 분 %(w/w) %(w/w)
글리세릴 미리스테이트 5.00 4.00
세틸 알콜 2.00 2.00
스테아레트-2 2.00 2.00
스테아레트-21 2.00 2.00
아이소프로필 미리스테이트 10.00 5.00
카프릴/카프르산 트라이글리세라이드 8.00
BHT 0.05 0.05
다이메티콘 - 2.00
페녹시에탄올 및 메틸파라벤 및 에틸파라벤 및 뷰틸파라벤 및 프로필파라벤 및 아이소뷰틸파라벤 0.80 0.80
제니스테인 나노입자의 수성 현탁액
(5.5% 제니스테인 함유, 약 0.4 ㎛)		 5.00 -
제니스테인(결정성, 약 12 ㎛) - 0.10
물 100까지 100까지
폴리솔베이트 20 1.00
프로필렌 글라이콜 5.00 4.00
에톡시다이글라이콜 8.00 10.00
폴리아크릴아마이드 및 C13-14 아이소파라핀 및 라우레트-7 2.00 1.00
트라이에탄올 아민(10%) 0.33 0.29
이나트륨 EDETA 0.10 0.10
전형적인 화장품 제형에서의 통상적인 결정성 형태에 비해 나노입자로 이루어진 제니스테인 형태를 사용하는 것의 이점이 도 1 및 도 2에 예시되어 있다. 활성 성분을 함유하는 화장품 제형은 실온에서 1 년이상 동안 상이한 온도에서 저장시 안정해야 한다. 안정성 관찰에서 모니터된 하나의 중요한 파라미터는 현미경하에서의 화장품 제형의 외관이다. 가용화되기 어려운 활성 성분을 함유하는 화장품 제형은 저장시 매우 빈번히, 때로는 단지 수일이내에 결정이 나타난다. 이러한 현상은 5 ℃에서 저장된 제형을 관찰함으로써 훨씬 더 명백해진다. 도 2에 예시된 바와 같이 상기 거대 결정이 나타난 제형에는 많은 결점이 있는데, 상기 도 2는 실온에서 6 개월 저장후 통상적인 결정성 제니스테인을 사용한 제형 #2의 현미경 검사, 예를 들면, 피부에 대한 활성 성분의 감소된 생체이용률 및 피부에 적용시 화장품 소비자가 그 존재를 감지할 위험성을 나타내고 있다. 실온에서 6 개월 저장후 안정화된 제니스테인 나노입자를 갖는 제형 #1의 현미경 검사를 나타낸 도 1에 예시된 바와 같이, 안정화된 제니스테인 나노입자를 갖는 동일한 화장품 제제는 실온에서 6 개월 저장후에도 완전히 안정하다.
실시예 9
상이한 제니스테인 형태를 갖는 O/W 에멀전
#3 #4
성 분 %(w/w) %(w/w)
글리세릴 미리스테이트 4.00 4.00
세틸 알콜 2.00 2.00
스테아레트-2 2.00 2.00
스테아레트-21 2.00 2.00
아이소프로필 미리스테이트 5.00 5.00
카프릴/카프르산 트라이글리세라이드 8.00 8.00
BHT 0.05 0.05
다이메티콘 2.00 2.00
페녹시에탄올 및 메틸파라벤 및 에틸파라벤 및 뷰틸파라벤 및 프로필파라벤 및 아이소뷰틸파라벤 0.80 0.80
제니스테인 나노입자의 수성 현탁액
(5.5% 제니스테인 함유, 약 0.4 ㎛)		 5.45 -
제니스테인(결정성, 약 12 ㎛) - 0.30
물 100까지 100까지
프로필렌 글라이콜 4.00 4.00
폴리아크릴아마이드 및 C13-14 아이소파라핀 및 라우레트-7 1.00 1.00
수산화칼륨(10%) 0.15 0.15
이나트륨 EDETA 0.10 0.10
통상적인 결정성 제니스테인에 비해 제니스테인 나노입자에 의해 수득되는 이점을 더 예시하기 위해, 상기 설명한 화장품 제형(#3 및 #4)을 매우 까다로운 안정성 시험에 적용하였다: 제형을 3 주동안 24 시간마다 5 ℃에서 43 ℃로 변하는 온도에서 저장하였다. 현미경하에 제형의 외관을 관찰하고 도 3에 나타내었는데, 도 3은 5 ℃/43 ℃에서(각 온도에서 24 시간의 주기) 19 일 저장후 안정화된 제니스테인 나노입자를 갖는 제형 #3의 현미경 검사결과를 나타내고, 도 4는 5 ℃/43 ℃에서(각 온도에서 24 시간의 주기) 19 일 저장후 통상적인 결정성 제니스테인을 갖는 제형 #4의 현미경 검사결과를 나타내고 있다.
동일 제제중의 통상적인 결정성 제니스테인이 거대 결정을 형성한 것을 예시하는 도 4와 대조적으로, 도 3에 예시되듯이, 제니스테인 나노입자는 화장품 제제중에 매우 미세하게 분산된다.
실시예 10
분산 시스템에서 강제로 결정화시키기 위해, 온도를 자체-정의된 시간프레임에 걸쳐 자체-정의된 순서로 변화시키는 시험을 이용하였다. 상기 시험은 "스윙" 시험(온도 변화 시험)이라 부른다. 상기 시험의 목적은 보다 고온에서 소 입자를 용해시키고 저온에서 강제로 재결정화시키는 것이다. 그러나, 상기 시험은 또한 제형이 안정한지를 나타내는 스트레스 시험 방법이다. 하기의 제형을 "스윙" 시험에 사용하였다.
상태 성분 함량
o 카프릴/카프르산 트라이글리세라이드 8.00%
o 아이소프로필 미리스테이트 5.00%
o 글리세릴 미리스테이트 4.00%
o 세틸 알콜 2.00%
o 다이메티콘 2.00%
o 스테아레트-2 2.00%
o 스테아레트-21 2.00%
o 페녹시에탄올 및 메틸파라벤 및 에틸파라벤 및 뷰틸파라벤 0.80%
o BHT 0.05%
w 물 100%까지
w 프로필렌 글라이콜 4.00%
w 에데타 BD 0.10%
t 폴리아크릴아마이드 및 C13-14 아이소파라핀 및 라우레트-7 1.00%
g 제니스테인 0.1%-1.0%
b 수산화칼륨 10% 용액 0.15%
제조 설명:
오일- 및 수성 상(o + w)을 따로따로 70 ℃(± 5 ℃)까지 가열하고 함께 가하였다. 증점제(t)를 중간 교반하에 가하였다. 혼합물을 24,000 RPM에서 울트라-튜랙스(Ultra-Turrax) T25 균질기를 사용하여 30 초간 균질화시켰다. 에멀전을 중간정도로 교반하면서(편자형 혼합기, 120 RPM) 45 ℃ ± 5 ℃로 서서히 냉각시켰다. 상기 온도에서 염기(b)를 가하여 pH 값을 pH 6.5 내지 7.0으로 조정하였다. 제니스테인(g)을 여전히 유동성인 에멀전에 가하고 울트라-튜랙스 T25 균질기를 사용하여 24,000 RPM으로 30 초간 다시 균질화시켜 혼입시켰다. 제형을 중간정도로 교반하면서(편자형 혼합기, 120 RPM) 25 ℃ ± 5 ℃로 냉각시켰다.
표준 안정성 평가:
표준 안정성 시험에 다음의 조건을 이용하였다: 배합된 화장품 샘플을 5 ℃ ± 2 ℃, 주위 온도(예를 들면, 20 내지 25 ℃) 및 43 ℃ ± 2 ℃에서 저장하고, 검사시점은 2 주, 6 주, 3 개월, 6 개월 및 12 개월 후였다. 몇몇 샘플은 3 개월 이전에는 결정 성장을 나타내지 않았고, 이는 추가의 형태 안정성에 대해 언급할 수 없는 오랜 기간이 경과함을 의미한다.
"스윙" 시험에 의한 안정성 평가:
강제로 상기 결정화를 진행하기 위해, "스윙" 시험을 이용하였으며, 최소 및 최대 온도로 5 ℃ 및 43 ℃를 선택하였다. 각각의 온도를 24 시간의 기간동안 유지하였다. 상기 시험 기간은 처음에는 20 일로 고정하였고, 이는 샘플을 10 회의 냉각/가열 순서(= 1 주기)로 시험하였음을 의미한다.
도 5 내지 7은 "스윙" 시험의 결과를 나타내고 있다. 제니스테인-함유 에멀전은 하기에 기술하는 바와 같은 제니스테인 나노입자 조성물을 사용하여 전술한 바와 같이 제조하였다. 하기의 제니스테인 샘플 및 농도를 사용하였으며, 에멀전은 제조 직후 및 샘플을 "스윙" 시험의 10회 주기에 적용한 후에 측정하였다:
도 5(a): 0.3% 농도의 실시예 3의 조성물;
도 5(b): 0.5% 농도의 실시예 3의 조성물;
도 5(c): 1.0% 농도의 실시예 3의 조성물;
도 6(a): 0.3% 농도의 실시예 6의 조성물;
도 6(b): 0.5% 농도의 실시예 6의 조성물;
도 6(c): 1.0% 농도의 실시예 6의 조성물;
도 7(a): 0.3% 농도의, 제트 밀에서 건식 분쇄후 실시예 7의 조성물;
도 7(b): 0.5% 농도의, 제트 밀에서 건식 분쇄후 실시예 7의 조성물;
도 7(c): 1.0% 농도의, 제트 밀에서 건식 분쇄후 실시예 7의 조성물;
도 8(a): 0.3% 농도의, 실시예 7에서 기술한 바와 같은 실시예 7 최종 생성물의 조성물;
도 8(b): 0.5% 농도의, 실시예 7에서 기술한 바와 같은 실시예 7 최종 생성물의 조성물;
도 8(c): 1.0% 농도의, 실시예 7에서 기술한 바와 같은 실시예 7 최종 생성물의 조성물.
배율은 모든 도면에서 동일하였으며, 500 ㎛의 거리를 도 5(a)에 나타내었다.
"스윙" 시험의 엄격한 조건하에서조차 본 발명의 국소용 화장품 조성물은 0.3 내지 1.0%의 매우 고농도에서도 입자 크기에 어떤 증가도 나타내지 않음을 알 수 있다. "스윙" 시험은 사실상 입자 크기 또는 입자 분포에 어떤 영향도 미치지 않는다.
그와 대조적으로, 분쇄 또는 균질화전의 제니스테인을 사용한 도 7에서는, 입자 크기가 "스윙" 시험동안 상당히 변화되었다. 거대 결정이 생성되고 10 주기후에 결정 덩어리들을 볼 수 있다.

Claims (26)

  1. 레이저 회절 기술에 의해 측정할 때 0.05 ㎛ 이상 3 ㎛ 미만의 평균 입자 크기 D[4,3]을 갖는 결정형 아이소플라본 나노입자를 포함하는 아이소플라본 나노입자 조성물을 포함하는 국소용 조성물.
  2. 청구항 2은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제 1 항에 있어서,
    아이소플라본 나노입자 조성물이 추가로 하나 이상의 담체를 포함하는 국소용 조성물.
  3. 청구항 3은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제 1 항에 있어서,
    결정형 아이소플라본 나노입자가 레이저 회절 기술에 의해 측정할 때 1 ㎛ 이하의 평균 입자 크기 D[4,3]을 갖는 것을 특징으로 하는 국소용 조성물.
  4. 청구항 4은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제 3 항에 있어서,
    결정형 아이소플라본 나노입자가 레이저 회절 기술에 의해 측정할 때 0.5 ㎛ 이하의 평균 입자 크기 D[4,3]을 갖는 것을 특징으로 하는 국소용 조성물.
  5. 삭제
  6. 청구항 6은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제 2 항에 있어서,
    담체가 탄수화물, 단백질 및 그의 혼합물로부터 선택되는 국소용 조성물.
  7. 청구항 7은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제 6 항에 있어서,
    탄수화물이 변성 전분, 솔비톨, 말토스, 말토덱스트린, 검 아카시아, 펙틴, 알기네이트, 구아 검, 잔탄, 셀룰로스 유도체 및 그의 혼합물로부터 선택되는 국소용 조성물.
  8. 청구항 8은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제 6 항에 있어서,
    단백질이 젤라틴, 유단백질, 대두단백질 및 그의 혼합물로부터 선택되는 국소용 조성물.
  9. 제 1 항 내지 제 4 항 및 제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    국소용 약학 또는 화장품 조성물인 국소용 조성물.
  10. 청구항 10은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제 9 항에 있어서,
    화장품 조성물인 국소용 조성물.
  11. 제 1 항 내지 제 4 항 및 제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    조성물의 중량을 기준으로 0.01 중량% 이상의 농도로 결정형 아이소플라본 나노입자를 함유하는 국소용 조성물.
  12. 청구항 12은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제 11 항에 있어서,
    조성물의 중량을 기준으로 0.3 중량% 이상의 농도로 결정형 아이소플라본 나노입자를 함유하는 국소용 조성물.
  13. 제 1 항 내지 제 4 항 및 제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    아이소플라본이 제니스테인인 국소용 조성물.
  14. 청구항 14은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제 1 항 내지 제 4 항 및 제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    에탄올을 함유하지 않는 국소용 조성물.
  15. 삭제
  16. 삭제
  17. 삭제
  18. 제 9 항에 있어서,
    인간 피부상의 미용 효과, 노화-방지 또는 주름-방지 효과 달성, 피부 미백, 자외선 손상에 대한 보호, 또는 손상된 피부의 재생을 위한 국소용 조성물.
  19. 제 9 항에 있어서,
    인간 피부의 미용 효과, 노화-방지 또는 주름-방지 효과, 피부 미백 달성, 자외선 손상에 대한 보호, 또는 손상된 피부의 재생을 위해 증가되거나 연장된 효과를 달성하기 위한 국소용 조성물.
  20. 제 9 항에 있어서,
    피부 노화를 치료 또는 예방하기 위한 국소용 조성물.
  21. 제 9 항에 있어서,
    항균 활성을 제공하기 위한 국소용 조성물.
  22. 결정형 아이소플라본으로 이루어진 나노입자, 담체 및 물로 필수적으로 이루어진 아이소플라본 나노입자 조성물로서, 담체가 소수성으로 변성된 전분이고, 나노입자 조성물의 나노입자가 레이저 회절에 의해 측정할 때 0.05 ㎛ 이상 3 ㎛ 미만의 평균 입자 크기 D[4,3]을 갖는 아이소플라본 나노입자 조성물.
  23. 청구항 23은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제 22 항에 있어서,
    아이소플라본이 제니스테인인 아이소플라본 나노입자 조성물.
  24. 청구항 24은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제 22 항에 있어서,
    10 내지 30 중량%의 결정형 아이소플라본, 15 내지 40 중량%의 담체를 함유하고 나머지가 물인 아이소플라본 나노입자 조성물.
  25. 결정형 아이소플라본과 담체의 수성 현탁액을 교반 비드 밀에서 습식 분쇄에 의해 단편화시키는, 제 22 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 정의된 바와 같은 아이소플라본 나노입자 조성물의 제조 방법.
  26. 청구항 26은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제 25 항에 있어서,
    ZrO2-형 분쇄 매질을 사용하는 방법.
KR1020077030504A 2005-06-29 2006-01-31 아이소플라본의 나노입자를 포함하는 국소용 조성물 KR101314689B1 (ko)

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