KR101891349B1

KR101891349B1 - 도포 처리 장치

Info

Publication number: KR101891349B1
Application number: KR1020120116530A
Authority: KR
Inventors: 요시히로 가와구찌; 미쯔히로 사까이
Original assignee: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Priority date: 2011-10-21
Filing date: 2012-10-19
Publication date: 2018-08-24
Also published as: CN103056067A; JP2013089900A; TW201318715A; KR20130044172A; TWI546127B; JP5912403B2

Abstract

처리 동작의 택트 타임을 단축할 수 있고, 또한 노즐의 메인터넌스 처리에 기인하는 피처리 기판의 오염을 방지한다. 피처리 기판(G)의 폭방향으로 연장되는 토출구를 갖고, 상기 처리 스테이지 상의 상기 기판의 상방을 기판 반송 방향을 따라 이동되는 동시에, 상기 토출구로부터 상기 기판 상에 처리액을 토출하는 노즐(31)과, 상기 노즐을 승강 이동 가능하며, 상기 노즐을 기판 반송 방향 상류측 또는 하류측을 향해서 이동 가능한 노즐 이동 수단(32)과, 기판 반송로(4)의 하방에 설치되고, 상기 노즐의 토출구의 상태를 조정하는 노즐 메인터넌스 수단(35)과, 상기 기판 반송로에 있어서 상기 처리 스테이지의 상류측 또는 하류측에 소정 길이의 빈 구간(d)을 출몰 가능하게 형성 가능한 빈 구간 형성 수단(21, 22, 23A, 23B, 30)을 구비한다.

Description

도포 처리 장치{COATING TREATMENT APPARATUS}

본 발명은 피처리 기판에 처리액을 도포하는 도포 처리 장치에 관한 것으로, 특히 처리 동작의 택트 타임을 단축하고, 또한 노즐의 메인터넌스 처리에 기인하는 피처리 기판의 오염을 방지할 수 있는 도포 처리 장치에 관한 것이다.

예를 들어, FPD(플랫 패널 디스플레이)의 제조에 있어서는, 소위 포토리소그래피 공정에 의해 회로 패턴을 형성하는 것이 행해지고 있다.

이 포토리소그래피 공정에서는, 글래스 기판 등의 피처리 기판에 소정의 막을 성막한 후, 처리액인 포토레지스트(이하, 레지스트라함)가 도포되어 레지스트막(감광막)이 형성된다. 그리고, 회로 패턴에 대응해서 상기 레지스트막이 노광되고, 이것이 현상 처리되어, 패턴 형성된다.

이와 같은 포토리소그래피 공정에 있어서, 피처리 기판에 레지스트액을 도포해서 레지스트막을 형성하는 방법으로서, 슬릿 형상의 노즐 토출구로부터 레지스트액을 띠형상으로 토출하여, 레지스트를 기판 상에 도포하는 방법이 있다.

이 방법을 사용한 종래의 레지스트 도포 장치에 대해서, 도 11을 사용해서 간단하게 설명한다. 도 11에 도시하는 레지스트 도포 장치(200)는 X방향으로 길게 연장설치된 스테이지(201)와, 이 스테이지(201)의 상방에 배치되는 레지스트 공급 노즐(202)과, 이 레지스트 공급 노즐(202)을 이동시키는 노즐 이동 수단(203)을 구비하고 있다.

상기 스테이지(201)의 상면에는, 복수의 가스 분사구(210)와 가스 흡인구(211)가 설치되어 있다. 기판(G)은, 가스 분사구(210)로부터 분사된 가스에 의해, 또는 상기 분사된 가스가 가스 흡인구(211)로부터 흡인되어 형성되는 가스류에 의해 스테이지 상에 부상하도록 되어 있다.

또한, 레지스트 공급 노즐(202)에는, 기판의 폭방향으로 연장되는 미소 간극을 갖는 슬릿 형상의 토출구(202a)가 설치되고, 레지스트액 공급원(204)으로부터 공급된 레지스트액을 토출구(202a)로부터 토출하도록 이루어져 있다.

또한, 스테이지(201) 상에 부상하는 기판(G)은, 그 좌우 양측이 한쌍의 기판 반송부(205)에 의해 보유지지되고, 기판 반송부(205)는 스테이지(201)의 좌우 양측에 부설된 한쌍의 레일(206)을 따라(X방향으로) 이동 가능하게 되어 있다.

또한, 스테이지(201) 상의 기판 반입 영역(201a) 및 기판 반출 영역(201b)에는 각각 복수의(도면에서는 4개의) 승강 가능한 리프트 핀(207)이 설치되고, 이 레지스트 도포 장치(200)로의 기판(G)의 반입출시에 기판(G)은 리프트 핀(207) 상에 일시적으로 적재되도록 되어 있다.

이와 같이 구성된 레지스트 도포 장치(200)에 있어서, 기판(G)으로의 레지스트액의 도포 처리는 다음과 같이 행해진다.

우선, 기판 반입 영역(201a)에 있어서 리프트 핀(207)이 상방으로 돌출되고, 도포 처리전의 기판(G)이 반송 로봇의 아암(도시하지 않음)에 의해 상기 리프트 핀(207) 상에 적재된다.

이어서, 기판(G)의 좌우 테두리부가 기판 반송부(205)에 의해 보유지지된다. 여기서, 기판(G)의 하면에는 가스 분사구(210)로부터의 가스 분사가 분사되어, 기판(G)은 스테이지(201) 상에 부상된 상태로 된다.

그리고, 리프트 핀(207)이 하강하면, 기판(G)은 기판 반송부(205)에 의해 기판 처리 영역(201c)으로 이동된다.

기판 처리 영역(201c)에 있어서는, 기판(G)은 소정의 속도로 X방향으로 반송된다. 그것에 대해서, 기판 상방에 배치된 레지스트 공급 노즐(202)은 노즐 이동 수단(203)에 의해 기판 반송 방향과는 역의 방향으로 이동되고, 그것과 동시에 기판면에 대하여 레지스트액을 토출한다. 또한, 이 기판 처리 영역(201c)에서는, 가스 분사구(210)로부터 분사된 가스가 가스 흡인구(211)에 흡인되어서 스테이지 상에 소정의 가스류가 형성되어 있고, 기판(G)은 그 가스류 상에서 안정된 상태로 부상 반송된다.

기판 상에 레지스트막이 형성된 기판(G)은 기판 반송부(205)에 의해 기판 반출 영역(201b)까지 반송되고, 거기에서 리프트 핀(207)이 상승하는 동시에, 가스 분사구(210)로부터의 가스 분사가 정지된다. 또한, 기판(G)은 기판 반출 영역(201b)에 있어서, 리프트 핀(207)에 의해 지지되고, 기판 반송부(205)에 의한 보유지지 상태가 해제된다.

그리고, 레지스트막이 형성된 기판(G)은 반송 로봇의 반송 아암(도시하지 않음)에 의해 후단의 처리 장치로 반출된다.

또한, 이와 같은 레지스트 도포 장치(200)에 대해서는 특허문헌 1에 개시되어 있다.

일본 특허 출원 공개 제2010-80983호 공보

상기와 같이 레지스트 도포 장치(200)의 구성에 있어서는, 스테이지(201)에 대하여 기판(G)을 반입출할 때에 리프트 핀(207)이 승강 이동되고, 리프트 핀(207) 상에 기판(G)이 일시적으로 적재된다. 또한, 기판 반입 영역(201a)의 리프트 핀(207)에 기판(G)을 적재할 때 및 기판 반출 영역(201b)의 리프트 핀(207)에 적재된 기판(G)을 반출할 때, 반송 로봇의 아암(도시하지 않음)이 구동되고, 상기 아암에 의해 기판(G)이 반송된다.

그러나, 이와 같은 구성에 있어서는, 기판 처리 영역(201c)으로의 기판 반입시 및 스테이지(201)로부터의 기판 반출시에, 기판 반송이 지연되는 과제가 있었다. 그로 인해, 기판 반입출시에 발생하는 피처리 기판의 체류 시간을 저감하고, 처리 동작의 택트 타임을 단축할 수 있는 구성이 요구되고 있었다.

상기 과제를 해결하는 것으로서, 종래부터, 롤러 반송 등에 의해 피처리 기판을 수평한 상태로, 또한 수평 방향으로(이하, 이것을 평류로 기재함) 반입하고, 평류 반송하면서 기판 폭방향으로 연장되는 노즐 토출구로부터 레지스트액을 기판 상에 토출해서 도포하고, 평류 반송에 의해 후단으로 반출하는 구성이 있다. 상기 구성의 경우, 기판 반입출시에 기판이 체류하는 경우가 없고, 처리 동작의 택트 타임을 단축할 수 있다.

그러나, 그러한 구성에 있어서는, 노즐은 기판 반송 방향으로 이동 가능한 구성이기 때문에, 노즐의 메인터넌스 처리(노즐 토출구에 부착하는 레지스트액의 상태를 조정하는 프라이밍 처리 등)를 행하는 노즐 대기부가 기판 반송로 상에 배치된다. 그로 인해, 노즐의 메인터넌스 처리를 행할 때, 노즐 토출구에 부착되어 건조된 레지스트의 파티클 등이 하방으로 떨어지고, 기판 반송로에 부착되어 피처리 기판을 오염시킬 우려가 있었다.

본 발명은, 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 감안해서 이루어진 것으로, 피처리 기판에 처리액을 도포하는 도포 처리 장치에 있어서, 처리 동작의 택트 타임을 단축할 수 있고, 또한 노즐의 메인터넌스 처리에 기인하는 피처리 기판의 오염을 방지할 수 있는 도포 처리 장치를 제공한다.

상술한 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 관한 도포 처리 장치는, 피처리 기판이 수평으로 반송되는 기판 반송로 상에 처리 스테이지가 설치되고, 상기 처리 스테이지 상의 상기 기판에 처리액을 도포하는 도포 처리 장치이며, 상기 피처리 기판의 폭방향으로 연장되는 토출구를 갖고, 상기 처리 스테이지 상의 상기 기판의 상방을 기판 반송 방향을 따라 이동됨과 함께, 상기 토출구로부터 상기 기판 상에 처리액을 토출하는 노즐과, 상기 노즐을 승강 이동 가능하며, 또한 상기 노즐을 기판 반송 방향 상류측 또는 하류측을 향해 이동 가능한 노즐 이동 수단과, 상기 기판 반송로의 하방에 설치되고, 상기 노즐의 토출구의 상태를 조정하는 노즐 메인터넌스 수단과, 상기 기판 반송로에 있어서 상기 처리 스테이지의 상류측 또는 하류측에 소정 길이의 빈 구간을 출몰 가능하게 형성 가능한 빈 구간 형성 수단을 구비하고, 상기 노즐은 상기 노즐 이동 수단에 의해 이동되고, 상기 빈 구간 형성 수단에 의해 형성된 상기 기판 반송로의 빈 구간을 통해서, 상기 노즐 메인터넌스 수단에 액세스하는 것에 특징을 갖는다.

또한, 상기 빈 구간 형성 수단은, 상기 기판 반송로에 있어서 상기 처리 스테이지의 상류측 또는 하류측에 고정되어, 기판 반송 방향에 소정 길이 연장설치된 제1 기판 반송부와, 기판 반송로에 있어서 상기 제1 기판 반송부의 위치와, 상기 제1 기판 반송부에 대하여 상류측 또는 하류측에 인접하는 위치 사이에서 이동 가능하게 설치되고, 기판 반송 방향으로 소정 길이 연장설치된 제2 기판 반송부와, 상기 제2 기판 반송부를 기판 반송 방향을 따라 이동시키는 제1 진퇴 수단을 구비하고, 상기 기판 반송로에 있어서 상기 제2 기판 반송부가 상기 제1 기판 반송부의 위치에 있는 것에 의해, 상기 기판 반송로의 빈 구간이 형성되는 것이 바람직하다.

이렇게 구성함으로써, 노즐의 프라이밍 처리 등의 메인터넌스 처리를 행할 때, 노즐 토출구에 부착하여 건조된 처리액의 파티클 등이 하방으로 떨어져도, 기판 반송로에 부착되는 경우가 없고, 피처리 기판의 오염을 방지할 수 있다.

또한, 상기 처리 스테이지의 적재면에 대하여 상대적으로 승강 가능하게 설치되고, 상승 위치에 있어서 상기 기판을 수평으로 반송 가능한 제3 기판 반송부와, 상기 스테이지의 적재면에 대하여 상기 제3 기판 반송부를 상대적으로 승강시킴으로써 상기 기판을 상기 제3 반송부 상 또는 상기 스테이지의 적재면 상에 적재하는 제2 진퇴 수단을 더 구비하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 기판 처리부에 있어서, 상기 스테이지의 적재면에는, 상기 제2 진퇴 수단에 의해 상기 제3 기판 반송부가 하강했을 때, 상기 제3 기판 반송부를 수용 가능한 홈부가 설치되어 있는 것이 바람직하다.

이렇게 구성함으로써, 처리 스테이지 상이 빈 상태인 경우, 그 전후의 기판 반송로 상에 피처리 기판을 체류시키지 않고 처리 스테이지에 대하여 피처리 기판을 반입출할 수 있고, 처리 동작의 택트 타임을 단축할 수 있다.

본 발명에 따르면, 피처리 기판에 처리액을 도포하는 도포 처리 장치에 있어서, 처리 동작의 택트 타임을 단축할 수 있고, 또한 노즐의 메인터넌스 처리에 기인하는 피처리 기판의 오염을 방지할 수 있는 도포 처리 장치를 얻을 수 있다.

도 1은 본 발명의 도포 처리 장치의 전체 구성을 도시하고, 제1 상태를 도시하는 평면도.
도 2는 도 1의 도포 처리 장치의 제2 상태를 도시하는 평면도.
도 3은 도 1의 제1 상태에 대응하는 측면도.
도 4는 도 2의 제2 상태에 대응하는 측면도.
도 5는 도 1의 도포 처리 장치가 구비하는 기판 반출부의 롤러 반송부의 일부 확대 평면도.
도 6은 도 1의 도포 처리 장치에 의한 글래스 기판에 대한 처리액의 도포 처리의 상태 천이를 도시하는 측면도.
도 7은 도 6에 이어지는 상태 천이를 도시하는 측면도.
도 8은 도 1의 도포 처리 장치에 의한 글래스 기판에 대한 처리액의 도포 처리의 흐름을 도시하는 플로우.
도 9는 도 1의 도포 처리 장치가 갖는 노즐 대기부 및 노즐에 대한 메인터넌스 작업을 설명하기 위한 측면도.
도 10은 도 1의 도포 처리 장치가 갖는 노즐 대기부 및 노즐에 대한 메인터넌스 작업을 설명하기 위한 도면이며, 도 9와는 다른 상태를 도시하는 측면도.
도 11은 종래의 레지스트 도포 장치의 개략 구성을 설명하기 위한 사시도.

이하, 본 발명의 도포 처리 장치에 관한 일 실시형태를 도면에 기초하여 설명한다. 도 1 및 도 2는 본 발명의 도포 처리 장치의 전체 구성을 도시하는 평면도면이며, 도 1은 제1 상태를 도시하고, 도 2는 제2 상태를 도시한다. 또한, 도 3은 도 1의 제1 상태에 대응하는 측면도이며, 도 4는 도 2의 제2 상태에 대응하는 측면도이다.

도시하는 도포 처리 장치(100)는, 피처리 기판인 예를 들어 글래스 기판(G)을 적재해서 소정의 처리를 실시하기 위한 기판 처리부(1)와, 기판 처리부(1)에 글래스 기판(G)을 반입하는 기판 반입부(2)와, 기판 처리부(1)로부터 글래스 기판(G)을 반출하는 기판 반출부(3)를 구비한다.

기판 반입부(2)와 기판 처리부(1)와 기판 반출부(3)는 가대(50) 상에 기판 반송 방향(A)을 따라 순서대로 배치되고, 그것에 의해 기판 반송로(4)가 형성되어 있다.

기판 반입부(2)는 기판 반송 방향(A)을 따라 부설된 롤러 반송부(5)를 갖고 있다. 롤러 반송부(5)는 글래스 기판(G)의 좌우 테두리부를 하방으로부터 지지해 반송하는 것이며, 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이 기판 반송로(4)의 좌우 양측에 있어서, 각각 기판 반송 방향(A)을 따라 병렬로 소정 길이의 롤러 축(6)이 회전 가능하게 복수 설치되어 있다. 또한, 각 롤러 축(6)에는, 기판 하면을 지지해 반송하기 위한 롤러(7)가 설치되어 있다.

상기 롤러 축(6)은, 그 일단부측이 결합하는 구동축(8)의 회전에 의해 기판(G)을 반송하는 방향으로 회전 동작하고, 기판 반송로(4)의 좌우 양측에 설치된 상기 구동축(8)은 각각 구동 모터(M1, M2)에 의해 회전 구동하도록 구성되어 있다.

또한, 이 기판 반입부(2)에는, 전단의 처리 장치(도시하지 않음)로부터 예를 들어 롤러 반송에 의해 글래스 기판(G)이 반입되고, 기판 반입부(2)에서는, 구동 모터(M1, M2)를 구동함으로써 롤러 축(6)을 회전시켜, 글래스 기판(G)을 반송하도록 되어 있다.

기판 처리부(1)는, 가대(50) 상에 기판(G)을 적재하기 위한 스테이지부(10)(처리 스테이지)가 설치되고, 그 주위에 롤러 반송부(11)(제3 기판 반송부)가 설치되어 있다.

스테이지부(10)는 평면에서 보아서 대략 직사각 형상이며, 그 기판 적재면(상면)은 기판(G)의 피처리면이 휘는 경우 없이 적재 가능한 크기로 형성되어 있다. 또한, 스테이지부(10)의 기판 적재면(상면)에 있어서, 그 좌우 태두리부에는, 기판 폭방향으로 소정의 길이를 갖는 복수의 홈부(10a)가 기판 반송 방향을 따라 병렬로 형성되어 있다[도면에서는 한쪽측에 5개의 홈부(10a)]. 이 홈부(10a)는 스테이지부(10)의 적재면(상면)측 및 측면측으로부터 오목 형성되고, 상기 롤러 반송부(11)가 갖는 소정 길이의 롤러 축(12) 및 그것에 설치된 롤러(13)가 수용 가능한 형상으로 이루어져 있다.

상기 롤러 축(12)은, 기판 반송로(4)의 좌우 양측에 있어서, 각각 기판 반송 방향(A)을 따라 병렬로 회전 가능하게 복수 설치되어 있다. 상기 롤러 축(12)은, 그 일단부측이 결합하는 구동축(14)의 회전에 의해 기판(G)을 반송하는 방향으로 회전 동작하고, 기판 반송로(4)의 좌우 양측에 설치된 한쌍의 구동축(14)은 각각 구동 모터(M3, M4)에 의해 회전 구동하도록 구성되어 있다.

또한, 롤러 반송부(11)에 있어서, 스테이지부(10)의 전후측에는, 각각 기판(G)의 폭보다도 길게 형성되는 동시에 상기 한쌍의 구동축(14)의 어느 하나에 결합하고, 상기 구동 모터(M3, M4)에 의해 회전 구동하는 롤러 축(15) 및 그것에 설치된 롤러(16)가 배치되어 있다.

또한, 도 3 및 도 4에 도시한 바와 같이, 상기 롤러 반송부(11)는 프레임 부재(17)에 의해 하방으로부터 지지되어 있다.

상기 프레임 부재(17)는 실린더(18a)에 대하여 피스톤 축(18b)이 진퇴 이동하는 에어 실린더(18)에 의해 승강 이동 가능하게 이루어져 있다. 에어 실린더(18)는 스테이지부(10)의 중앙부 하방에 배치되어 있다.

이 구성에 있어서, 상기 에어 실린더(18)에 의해 롤러 반송부(11)가 상승 위치에 배치되면, 스테이지부(10)의 좌우 양측에 배치된 롤러 축(12)이 스테이지부(10)에 대하여 상승하고, 롤러(13)에 의해 기판(G)이 반송 가능한 상태로 된다.

한편, 롤러 반송부(11)가 하강 위치에 배치되면, 상기 롤러 축(12)은 하강 이동해서 스테이지부(10)의 홈부(10a) 내에 수용되고, 기판(G)이 스테이지부(10)의 상면에 적재되는 상태로 된다. 또한, 프레임 부재(17)와 에어 실린더(18)에 의해 제2 진퇴 수단이 구성되어 있다.

또한, 기판 반출부(3)는, 도 3 및 도 4에 도시한 바와 같이 프레임 부재(19) 상에 롤러 반송부(20)가 설치되어 있다. 이 롤러 반송부(20)는 기판 반송 방향(A)으로 신축 가능하게 구성되어 있다. 구체적으로는, 도 2 및 도 5[기판 반출부(3)의 롤러 반송부(20)의 일부 확대 평면도]에 도시한 바와 같이, 롤러 반송부(20)에 있어서는, 기판 처리부(1)의 기판 반송 방향 하류측에 인접하고, 기판 반송 방향(A)으로 소정의 길이 연장되는 복수(도면에서는 4개)의 리니어 가이드 레일(21)이 기판 폭방향으로 병렬로 설치되어 있다.

상기 복수의 리니어 가이드 레일(21)은 각각 긴 판형상으로 형성되고, 그 레일면이 측방을 면하도록 세워 설치되어 있다. 상기 리니어 가이드 레일(21)의 레일면에는, 리니어 가이드 레일(21)과 대략 동일한 길이의 긴 판형상의 슬라이더(22)가 기판 반송 방향(A)을 따라 미끄럼 이동 가능하게 결합하는 상태로 설치되어 있다.

또한, 상기 리니어 가이드 레일(21)에는, 슬라이더(22)와의 결합면과는 반대측의 측면에, 기판 반송 방향을 따라 복수의 롤러(23A)가 각각 회전 가능하게 설치되어 있다. 또한, 상기 슬라이더(22)에는, 상기 리니어 가이드 레일(21)과의 결합면과는 반대측의 측면에, 기판 반송 방향을 따라 복수의 롤러(23B)가 각각 회전 가능하게 설치되어 있다. 상기 롤러(23A, 23B)는 기판 반송로(4)의 일부를 구성하고 있다.

이 구성에 의해 롤러 반송부(20)는 롤러(23A, 23B)에 의해 구성되는 반송로를 기판 반송 방향(A)을 따라 신축시키는 것이 가능하게 되어 있다. 또한, 리니어 가이드 레일(21) 및 롤러(23A)에 의해 제1 기판 반송부가 구성되고, 슬라이더(22) 및 롤러(23B)에 의해 제2 기판 반송부가 구성된다.

또한, 기판 폭방향으로 병렬로 배치된 복수의 리니어 가이드 레일(21)의 선단부 및 후단부의 하부는 기판 폭방향으로 연장되는 프레임 부재(24)에 연결되고, 상기 복수의 리니어 가이드 레일(21)에 대응하는 복수의 슬라이더(22)의 선단부는 기판 폭방향으로 연장되는 프레임 부재(25)에 연결되어 있다.

도 5에 도시한 바와 같이 상기 복수의 리니어 가이드 레일(21)에 대하여, 복수의 슬라이더(22)는 에어 실린더(30)(제1 진퇴 수단)에 의해 기판 반송 방향(A)을 따라 전후 이동하도록 이루어져 있다. 즉, 에어 실린더(30)는 피스톤 축(30a)과 실린더(30b)를 갖고, 피스톤 축(30a)의 선단이 슬라이더(22)에 연결된 상기 프레임 부재(25)에 접속되고, 실린더(30b)가 리니어 가이드 레일(21)에 연결된 상기 프레임 부재(24)에 고정되어 있다.

이에 의해, 에어 실린더(30)의 피스톤 축(30a)이 실린더(30b)에 대하여 진퇴 동작함으로써, 리니어 가이드 레일(21)에 대하여 슬라이더(22)가 기판 반송 방향(A)을 따라 이동한다. 구체적으로는, 리니어 가이드 레일(21)에 대하여 슬라이더(22)가 전진 위치에 있을 때는(도 2 및 도 4의 신장 상태), 롤러 반송부(20)로부터 후단으로의 기판 반송이 가능한 상태로 된다. 또한, 리니어 가이드 레일(21)에 대하여 슬라이더(22)가 후퇴 위치에 있을 때는(도 1 및 도 3의 완전 축소 상태), 기판 반송로(4)에 기판 반송 방향(A)을 따라 소정 길이의 빈 구간(d)이 형성된다. 또한, 상기 리니어 가이드 레일(21), 슬라이더(22), 롤러(23A, 23B) 및 에어 실린더(30)에 의해 빈 공간 형성 수단이 구성된다.

또한, 상기 기판 반출부(3)에 있어서, 상기 리니어 가이드 레일(21)보다도 기판 반송 방향 하류측의 가대(50) 상에는, 노즐 선단의 토출구의 상태를 조정하는 프라이밍 처리 등의 메인터넌스 처리를 행하기 위한 노즐 대기부(35)(노즐 메인터넌스 수단)가 설치되어 있다. 이 노즐 대기부(35)는, 프라이밍 처리를 위한 프라이밍 롤러 등이 배치된 프라이밍 처리부(도시하지 않음), 노즐 선단을 시너 등의 용제로 세정하는 노즐 세정부(도시하지 않음), 노즐 선단의 건조를 방지하기 위해서 노즐 선단을 용제 분위기에 노출시킨 상태로 보유지지하는 용제 분위기실(도시하지 않음) 등이 배치되어 있다.

또한, 상기한 바와 같이, 리니어 가이드 레일(21)에 대하여 슬라이더(22)가 후퇴 위치에 있을 때는(도 1 및 도 3의 완전 축소 상태), 기판 반송로(4)에 기판 반송 방향(A)을 따라 소정 길이의 빈 구간이 형성되기 때문에, 그 빈 구간을 통해 상방으로부터 상기 노즐 대기부(35)에 액세스하는 것이 가능하게 되어 있다.

한편, 리니어 가이드 레일(21)에 대하여 슬라이더(22)가 전진 위치에 있을 때는(도 2 및 도 4의 신장 상태), 상기 노즐 대기부(35)의 상방을 슬라이더(22)가 덮고, 완전하게 형성된 기판 반송로(4)의 하방에 상기 노즐 대기부(35)가 위치하는 상태로 된다.

또한, 도 3 및 도 4에 도시한 바와 같이 기판 반송로(4)의 상방에는, 기판 폭방향으로 연장되는 슬릿 형상의 토출구(31a)를 갖는 노즐(31)이 기판 반송로(4) 상에 설치되어 있다(도 1 및 도 2에 있어서는 도시 생략). 이 노즐(31)은 노즐 이동 수단(32)에 의해, 승강 이동 가능하게 되고, 또한 기판 반송 방향 상류측 또는 하류측을 향해 기판 반송로(4) 상을 이동 가능하게 되어 있다.

이 노즐(31)은, 기판 처리부(1)의 처리 스테이지부(10) 상에 적재된 글래스 기판(G)에 대하여 처리액을 토출하고, 도포하기 위해서 설치되고, 스테이지부(10) 상의 글래스 기판(G)에 대하여, 기판 반송 방향 상류측을 향해, 또는 하류측을 향해 처리액을 토출하면서 주사 가능하게 이루어져 있다.

이어서, 이렇게 구성된 도포 처리 장치(100)에 의한 글래스 기판(G)에 대한 처리액의 도포 처리에 대해서 도 6 및 도 7의 상태 천이를 도시하는 측면도 및 도 8의 플로우를 따라 설명한다.

우선, 도 6의 (a)에 도시한 바와 같이 1장째의 글래스 기판(G1)이 기판 반입부(2)에 롤러 반송된다(도 8의 스텝 S1). 이때, 기판 반출부(3)에는 기판 반송로(4)의 빈 공간(d)이 형성되고, 이 빈 공간(d)을 통해 노즐(31)이 노즐 대기부(35)에 배치되어 있다. 또한, 기판 처리부(1)에 있어서 롤러 반송부(11)가 상승 위치로 되어, 스테이지부(10) 상을 기판 반송 가능한 상태로 된다.

이어서, 도 6의 (b)에 도시한 바와 같이 기판 처리부(1)에 글래스 기판(G1)이 반송되고, 도 6(c)에 도시한 바와 같이 롤러 반송부(11)가 하강해서 글래스 기판(G1)이 스테이지부(10) 상에 적재된다(도 8의 스텝 S2).

글래스 기판(G1)이 스테이지부(10) 상에 적재되면, 도 6의 (d)에 도시한 바와 같이 노즐(31)은 상승 이동되고, 도 6의 (e)에 도시한 바와 같이 노즐(31)이 글래스 기판(G1) 상을 기판 반송 방향으로 주사하면서 기판 상에 처리액을 토출한다(도 8의 스텝 S3). 또한, 기판 반입부(2)에는 다음 글래스 기판(G2)이 반입된다.

또한, 글래스 기판(G1)으로의 처리액의 도포 처리가 완료되면, 도 7의 (a)에 도시한 바와 같이 기판 처리부(1)의 롤러 반송부(11)가 상승 위치로 되어, 글래스 기판(G1)을 반송 가능한 상태로 된다. 또한, 기판 반출부(3)에 있어서 리니어 가이드 레일(21)에 대하여 슬라이더(22)가 전진하고, 롤러(23A)와 그것에 이어지는 롤러(23B)에 의한 롤러 반송부(20)가 형성된다(도 8의 스텝 S4).

이에 의해, 도 7의 (b)에 도시한 바와 같이, 글래스 기판(G1)은 기판 처리부(1)로부터 기판 반출부(3)로 반송된다(도 8의 스텝 S5). 또한, 기판 반입부(2)의 글래스 기판(G2)은 기판 처리부(1)로 반입된다.

또한, 도 7의 (c)에 도시한 바와 같이, 글래스 기판(G1)이 기판 반출부(3)로부터 후단으로 반출되면, 노즐(31)은 노즐 대기부(35)의 상방으로 이동되고, 그 후 리니어 가이드 레일(21)에 대하여 슬라이더(22)가 후퇴한다(도 8의 스텝 S6).

그것에 의하여, 도 6의 (a) 내지 (e)에 도시한 바와 같이 빈 구간(d)이 형성되고, 노즐(31)은 하강하고, 빈 구간(d)을 통해 노즐 대기부(35)에 액세스하고, 노즐 토출구(31a)의 프라이밍 처리 등의 메인터넌스 처리가 행해진다(도 8의 스텝 S7).

또한, 이때 도 6의 (b)에 도시하는 스텝의 상태로 되고, 그 후 처리 기판 매수가 소정수에 도달할 때까지, 도 6의 (b) 내지 도 7의 (c)의 처리가 반복된다(도 8의 스텝 S8).

이상과 같이, 본 발명에 관한 실시형태에 따르면, 글래스 기판(G)이 롤러 반송에 의해 평류로 기판 처리부(1)에 반입되고, 기판 처리부(1)의 롤러 반송부(11)가 하강해서 스테이지부(10) 상에 적재되고, 노즐(31)에 의해 기판 상에 처리액이 도포된다. 또한, 스테이지부(10) 상의 글래스 기판(G)은 다시 롤러 반송부(11)가 상승함으로써 기판 반출부(3)에 반출된다. 이 구성에 의해, 스테이지부(10) 상이 빈 상태인 경우, 그 전후의 기판 반입부(2) 및 기판 반출부(3)에 글래스 기판(G)이 체류하는 경우가 없어, 처리 동작의 택트 타임을 단축할 수 있다.

또한, 상기 실시형태에 따르면, 글래스 기판(G)에 처리액을 도포하는 기판 처리부(1)의 기판 반송 방향 하류측에 배치된 기판 반출부(3)에 있어서, 롤러 반송부(20)에 의해 형성되는 기판 반송로(4)에, 기판 반송 방향을 따라 소정 길이의 빈 구간(d)이 출몰 가능하게 설치된다. 또한, 상기 롤러 반송부(20)에 의해 형성되는 기판 반송로(4)의 하방에 노즐 대기부(35)가 설치되고, 상기 빈 구간(d)이 형성됨으로써, 빈 구간(d)을 통해 노즐(31)이 노즐 대기부(35)에 액세스 가능하게 된다.

이에 의해, 노즐(31)의 프라이밍 처리 등의 메인터넌스 처리를 행할 때, 노즐 토출구에 부착하여 건조된 레지스트의 파티클 등이 하방으로 떨어져도, 기판 반송로(4)에 부착되는 경우가 없어, 글래스 기판(G)의 오염을 방지할 수 있다.

또한, 상기 실시형태에 있어서는, 기판 처리부(1)에 있어서, 높이가 고정된 스테이지부(10)에 대하여 롤러 반송부(11)를 승강 이동시키는 구성으로 했지만, 본 발명에 관한 도포 처리 장치에 있어서는, 이에 한정되는 것이 아니고, 롤러 반송부(11)의 높이를 고정하고, 그것에 대해서 스테이지부(10)를 승강 이동시키는 구성[즉, 스테이지부(10)에 대하여 상대적으로 롤러 반송부(11)가 승강 이동한다]으로 해도 좋다.

또한, 상기 실시형태에 있어서는, 기판 반출부(3)의 롤러 반송부(20)로 이루어지는 기판 반송로(4)에 빈 구간(d)을 형성하는 것으로 했지만, 이에 한정되지 않고, 기판 처리부(1)의 기판 반송 방향 상류측인 기판 반입부(2)에 빈 구간(d)을 형성하도록 해도 좋다.

그 경우, 기판 반입부(2)에 있어서, 롤러 반송부(5)로 이루어지는 기판 반송로(4)의 하방에 노즐 대기부(35)가 설치되고, 상기 빈 구간(d)을 통해 노즐(31)이 노즐 대기부(35)에 액세스하는 구성으로 된다.

또한, 상기 실시형태에 있어서는, 롤러 반송에 의해 글래스 기판(G)을 평류 반송하는 것으로 했지만, 벨트 컨베이어에 의해 평류 반송하는 구성이여도 좋다.

또한, 상기 실시형태에 도시한 구성에 추가하여, 도 9 및 도 10에 도시한 바와 같이 기판 반출부(3)의 후단에, 롤러 반송부(41)와 그것에 이어지는 롤러 반송부(42)를 설치하고, 상기 롤러 반송부(41)가 롤러 반송부(42)측을 축으로 도 10에 도시한 바와 같이 상방으로 회전하는 구성으로 해도 좋다. 이 경우, 에어 실린더(43)를 동력원으로 해서, 작업원(45)의 조작에 의해 롤러 반송부(41)가 회전하는 구성으로 하는 것이 바람직하다.

이 구성에 따르면, 도 10에 도시한 바와 같이 작업원(45)이 노즐 대기부(35)에 대하여 용이하게 액세스할 수 있고, 노즐 대기부(35)에 대한 메인터넌스 작업이 용이하게 된다.

또한, 도 10에 도시한 바와 같이, 노즐 대기부(35)에 있어서, 노즐(31)을 보유지지하는 용제 분위기실(35a)이 전후로 슬라이드하는 구성이면, 도 10에 도시한 바와 같이 작업원(45)이 용이하게 노즐(31)을 메인터넌스할 수 있다. 이 경우, 노즐(31)을 새롭게 교환할 경우 등, 프레임(46)에 설치한 전동 호이스트(44) 등에 의해(중량의 큼) 노즐(31)을 들어 올림으로써, 작업을 용이하게 할 수 있다.

1 : 기판 처리부
2 : 기판 반입부
3 : 기판 반출부
4 : 기판 반송로
5 : 롤러 반송부
10 : 스테이지부(처리 스테이지)
11 : 롤러 반송부
17 : 프레임 부재(제2 진퇴 수단)
18 : 에어 실린더(제2 진퇴 수단)
20 : 롤러 반송부
21 : 리니어 가이드 레일(제1 기판 반송부, 빈 공간 형성 수단)
22 : 슬라이더(제2 기판 반송부, 빈 공간 형성 수단)
23A : 롤러(제1 기판 반송부, 빈 공간 형성 수단)
23B : 롤러(제2 기판 반송부, 빈 공간 형성 수단)
30 : 에어 실린더(제1 진퇴 수단, 빈 공간 형성 수단)
31 : 노즐
31a : 노즐 토출구
32 : 노즐 이동 수단
35 : 노즐 대기부(노즐 메인터넌스 수단)
100 : 도포 처리 장치
d : 빈 공간
G : 글래스 기판(피처리 기판)

Claims

피처리 기판이 수평으로 반송되는 기판 반송로 상에 처리 스테이지가 설치되고, 상기 처리 스테이지 상의 상기 기판에 처리액을 도포하는 도포 처리 장치에 있어서,
상기 피처리 기판의 폭방향으로 연장되는 토출구를 갖고, 상기 처리 스테이지 상의 상기 기판의 상방을 기판 반송 방향을 따라 이동됨과 함께, 상기 토출구로부터 상기 기판 상에 처리액을 토출하는 노즐과,
상기 노즐을 승강 이동 가능하며, 또한 상기 노즐을 기판 반송 방향 상류측 또는 하류측을 향해서 이동 가능한 노즐 이동 수단과,
상기 기판 반송로에 있어서 상기 처리 스테이지의 하류측에 소정 길이의 빈 구간을 출몰 가능하게 형성하는 빈 구간 형성 수단과,
상기 기판 반송로의 상기 빈 구간의 하방에 설치되고, 상기 노즐의 토출구의 상태를 조정하는 노즐 메인터넌스 수단을 구비하고,
상기 노즐은 상기 노즐 이동 수단에 의해 이동되고, 상기 빈 구간 형성 수단에 의해 형성된 상기 기판 반송로의 빈 구간을 통해, 상기 노즐 메인터넌스 수단에 액세스하는 것을 특징으로 하는, 도포 처리 장치.
제1항에 있어서, 상기 빈 구간 형성 수단은,
상기 기판 반송로에 있어서 상기 처리 스테이지의 하류측에 고정되고, 기판 반송 방향으로 소정 길이 연장설치된 제1 기판 반송부와, 기판 반송로에 있어서 상기 제1 기판 반송부의 위치와, 상기 제1 기판 반송부에 대하여 하류측에 인접하는 위치와의 사이에서 이동 가능하게 설치되고, 기판 반송 방향으로 소정 길이 연장설치되는 제2 기판 반송부와, 상기 제2 기판 반송부를 기판 반송 방향을 따라 이동시키는 제1 진퇴 수단을 구비하고,
상기 기판 반송로에 있어서 상기 제2 기판 반송부가 상기 제1 기판 반송부의 위치에 있는 것에 의해, 상기 기판 반송로의 빈 구간이 형성되는 것을 특징으로 하는, 도포 처리 장치.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 처리 스테이지의 적재면에 대하여 상대적으로 승강 가능하게 설치되고, 상승 위치에 있어서 상기 기판을 수평으로 반송 가능한 제3 기판 반송부와,
상기 스테이지의 적재면에 대하여 상기 제3 기판 반송부를 상대적으로 승강시킴으로써 상기 기판을 상기 제3 기판 반송부 상 또는 상기 스테이지의 적재면 상에 적재하는 제2 진퇴 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는, 도포 처리 장치.
제3항에 있어서,
상기 스테이지의 적재면에는, 상기 제2 진퇴 수단에 의해 상기 제3 기판 반송부가 하강했을 때, 상기 제3 기판 반송부를 수용 가능한 홈부가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는, 도포 처리 장치.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 기판 반송로는, 롤러 반송에 의해 상기 피처리 기판을 수평으로 반송하는 것을 특징으로 하는, 도포 처리 장치.