KR100887226B1 - 초음파 진동 생성 장치 및 방법 그리고 웨이퍼 세정 장치및 방법 - Google Patents
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Abstract
초음파 진동 생성 장치 및 방법은 진동 발생부에서 발생된 초음파 진동이 전달 부재의 물질층을 지나도록 하여 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절한다. 웨이퍼 세정 장치 및 방법은 세정액 공급부에서 세정액을 웨이퍼로 공급하고, 초음파 진동 발생부가 초음파 진동을 발생하며, 초음파 진동을 전달 부재의 물질층을 지나도록 하여 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절하며, 세기 및 방향이 조절된 초음파 진동이 세정액으로 전달된다.
Description
본 발명은 초음파 진동 생성 장치 및 방법 그리고 웨이퍼 세정 장치 및 방법에 관한 것으로, 웨이퍼를 세정하기 위한 세정액을 진동하기 위한 초음파 진동 생성 장치 및 방법 그리고 웨이퍼 세정 장치 및 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 장치는 증착, 포토리소그래피, 식각, 연마, 세정 및 건조 등과 같은 단위 공정들의 반복적인 수행에 의해 제조된다. 상기 단위 공정들 중에서 세정 공정은 각각의 단위 공정들을 수행하는 동안 웨이퍼의 표면에 부착되는 이물질 또는 불필요한 막을 제거하는 공정이다. 최근, 상기 세정 공정은 웨이퍼 상에 형성되는 패턴이 미세화되고, 패턴의 종횡비(aspect ratio)가 커짐에 따라 점차 중요도가 높아지고 있다.
종래 기술에 따르면 상기 세정 공정을 수행하는 웨이퍼 세정 장치는 상기 웨이퍼 상으로 세정액을 공급하는 세정액 공급부 및 상기 세정액에 초음파 진동을 인가하는 초음파 진동부를 포함한다.
상기 초음파 진동부는 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 변화시키지 않고 단순히 상기 세정액으로 전달한다. 따라서, 상기 초음파 진동의 세기가 불균일한 경우 상기 웨이퍼가 불균일하게 세정될 수 있다.
또한, 상기 웨이퍼 상으로 제공된 세정액의 두께가 얇아 상기 초음파 진동의 세기가 큰 경우 상기 웨이퍼 상에 형성된 패턴이 손상될 수 있다.
본 발명은 세정액으로 인가되는 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절할 수 있는 초음파 진동 생성 장치를 제공한다.
본 발명은 세정액으로 인가되는 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절할 수 있는 초음파 진동 생성 방법을 제공한다.
본 발명은 상기 초음파 진동 생성 장치를 포함하는 웨이퍼 세정 장치를 제공한다.
본 발명은 상기 초음파 진동 생성 방법을 포함하는 웨이퍼 세정 방법을 제공한다.
본 발명에 따른 초음파 진동 생성 장치는 초음파 진동을 발생하는 초음파 진동 발생부 및 상기 초음파 진동 발생부의 단부에 구비되고, 내부에 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절하는 물질층을 가지며, 상기 초음파 진동을 웨이퍼를 세정하기 위한 세정액으로 전달하는 전달 부재를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 물질층은 고체, 액체 및 기체 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 물질층의 개수, 두께 및 폭 중 적어도 하나를 변화시켜 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절할 수 있다.
본 발명에 따른 초음파 진동 생성 방법은 초음파 진동을 발생하고, 상기 초 음파 진동을 물질층으로 통과시켜 상기 초음파 진동이 세기 및 방향이 조절하여 수행된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 물질층은 고체, 액체 및 기체 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 초음파 진동의 세기 및 방향의 조절은 상기 물질층의 개수, 두께 및 폭 중 적어도 하나를 변화시켜 이루어질 수 있다.
본 발명에 따른 웨이퍼 세정 장치는 웨이퍼의 상부에 구비되며, 상기 웨이퍼로 상기 웨이퍼를 세정하기 위한 세정액을 공급하는 세정액 공급부와, 상기 웨이퍼 상부에 구비되며, 초음파 진동을 발생하는 초음파 진동 발생부 및 상기 초음파 진동 발생부의 단부에 구비되고, 내부에 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절하는 물질층을 가지며, 상기 초음파 진동을 상기 세정액으로 전달하는 전달 부재를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 물질층은 고체, 액체 및 기체 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 세정액으로 전달되는 초음파 진동의 세기 및 방향이 상기 웨이퍼 상에 형성된 패턴의 형태와 대응하도록 상기 물질층의 개수, 두께 및 폭 중 적어도 하나가 변화될 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 상기 전달 부재는 상기 초음파 진동부와 일체로 형성될 수 있다.
본 발명에 따른 웨이퍼 세정 방법은 웨이퍼 상에 세정액을 공급하고, 초음파 진동을 발생하고, 상기 초음파 진동을 물질층으로 통과시켜 상기 초음파 진동의 세기 및 방향이 조절하고, 상기 세기 및 방향이 조절된 초음파 진동을 상기 세정액으로 전달하여 수행된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 물질층은 고체, 액체 및 기체 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 세정액으로 전달되는 초음파 진동의 세기 및 방향이 상기 웨이퍼 상에 형성된 패턴의 형태와 대응하도록 상기 물질층의 개수, 두께 및 폭 중 적어도 하나를 변화시킬 수 있다.
본 발명에 따르면, 전달 부재에 구비되는 고체, 액체 및 기체 중 어느 하나로 이루어지는 물질층의 개수, 두께 및 폭을 조절하여 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절할 수 있다. 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절하여 웨이퍼 상의 세정액으로 인가할 수 있으므로, 상기 웨이퍼를 용이하게 세정할 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 세정 장치 및 방법에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유 사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 초음파 진동 생성 장치(100)를 설명하기 위한 단면도이고, 도 2 내지 도 4는 도 1에 도시된 전달 부재(120)의 다른 예를 설명하기 위한 단면도들이다.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 상기 초음파 진동 생성 장치(100)는 초음파 진동부(120) 및 전달 부재(120)를 포함한다.
상기 초음파 진동 발생부(110)는 세정할 웨이퍼의 상방에 구비되며, 초음파 진동을 발생한다. 상기 초음파 진동 발생부(110)의 예로는 전기적인 에너지를 물리적인 진동 에너지로 변환시키는 압전 변환기(piezoelectric transducer)를 들 수 있다.
상기 전달 부재(120)는 상기 초음파 진동 발생부(110)의 단부에 구비된다. 상기 전달 부재(120)는 상기 웨이퍼(W)와 동일한 크기의 원판 형태를 가지거나 상기 웨이퍼(W)의 지름과 동일한 길이의 바 형태를 가질 수 있다. 상기 전달 부재(120)는 상기 초음파 진동 발생부(110)와 일체로 형성될 수 있다. 상기 전달 부재(120)는 상기 웨이퍼 상으로 제공된 세정액과 접촉한다. 따라서, 상기 전달 부재(120)는 상기 초음파 진동 발생부(110)에서 발생된 초음파 진동을 상기 세정액으로 전달한다. 상기 초음파 진동은 상기 세정액을 교반시켜 상기 웨이퍼 상에 존재하는 파티클 등의 이물질을 용이하게 제거할 수 있다.
상기 전달 부재(120)의 재질의 예로는 석영(quartz), 사파이어(sapphire), 탄화규소(silicon carbide), 질화붕소(boron nitride), 탄소유리(vitreous cabon) 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 복합적으로 사용될 수 있다.
상기 전달 부재(120)는 내부에 물질층(122)을 포함한다. 상기 물질층(122)은 고체, 액체 및 기체 중 어느 하나의 물질을 포함할 수 있다. 상기 물질층(122)의 재질과 상기 전달 부재(122)의 재질은 서로 다르다. 상기 물질층(122)과 상기 전달 부재(122)에서 상기 초음파 진동이 다르게 전달되므로 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절할 수 있다. 상기 물질층(122)의 개수, 두께 및 폭은 각각 조절하여 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절할 수 있다.
일 예로, 도 1에 도시된 바와 같이 상기 물질층(122)의 개수는 단수이거나, 도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이 상기 물질층(122)의 개수는 다수일 수 있다. 상기 물질층(122)의 개수가 다수인 경우, 각 물질층(122)은 상기 고체, 액체 및 기체 중 어느 하나의 물질일 수 있다. 즉, 각 물질층(122)은 동일한 물질을 포함하거나, 다른 물질을 포함할 수 있다. 상기 다수의 물질층(122)은 상기 웨이퍼(W)의 상부면과 수직한 방향으로 배치될 수 있다. 상기 다수의 물질층(122)은 상기 웨이퍼(W)의 상부면과 평행한 방향으로 배치될 수 있다. 따라서, 상기 물질층(122)의 개수 및 상기 물질층(122)을 형성하는 물질에 따라 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 다양하게 조절할 수 있다.
다른 예로, 상기 물질층(122)의 두께는 균일하거나 불균일할 수 있다. 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이 상기 물질층(122)의 두께가 균일한 경우, 상기 물질층(122)은 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 일정하게 변화시킬 수 있다. 도 4에 도시된 바와 같이 상기 물질층(122)의 두께가 불균일한 경우, 상기 물질층(122)은 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 다양하게 변화시켜 상기 초음파 진동을 집속, 분산 또는 차단할 수 있다.
또 다른 예로, 상기 물질층(122)의 폭은 상기 전달 부재(120)의 폭과 실질적으로 동일하거나 상기 전달 부재(120)의 폭보다 작을 수 있다. 상기 물질층(122)의 폭이 상기 전달 부재(120)의 폭과 실질적으로 동일한 경우, 상기 물질층(122)은 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 전체적으로 변화시킬 수 있다. 상기 물질층(122)의 폭이 상기 전달 부재(120)의 폭보다 작은 경우, 상기 물질층(122)은 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 부분적으로 변화시킬 수 있다.
상기 물질층(122)의 개수, 두께 및 폭은 상기 웨이퍼(W) 상에 형성된 패턴의 형태에 따라 각각 조절될 수 있다. 예를 들면, 상기 웨이퍼(W)에서 상기 패턴의 형태가 상대적으로 복잡한 부위 또는 상기 패턴의 높이가 상대적으로 낮은 부위는 상기 강한 세기의 초음파 진동이 전달되거나 상기 초음파 진동이 집속되도록 상기 물질층(122)의 개수, 두께 및 폭을 조절한다. 상기 웨이퍼(W)에서 상기 패턴의 형태가 상대적으로 단순한 부위 또는 상기 패턴의 높이가 상대적으로 높은 부위는 상기 약한 세기의 초음파 진동이 전달되거나 상기 초음파 진동이 분산되도록 상기 물질층(122)의 개수, 두께 및 폭을 조절한다.
상기와 같이 상기 전달 부재(120)를 통해 상기 세정액으로 인가되는 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절할 수 있다. 따라서, 상기 전달 부재(120)는 상기 웨이퍼(W)를 세정하기 위한 최적의 초음파 진동을 상기 세정액으로 전달할 수 있다.
또한, 상기 웨이퍼(W) 상의 세정액 두께가 상대적으로 얇더라도 상기 물질층(122)이 상기 세정액의 두께를 보상하므로, 상기 초음파 진동에 의해 상기 웨이 퍼(W) 상에 형성된 패턴이 손상되는 것을 방지할 수 있다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 초음파 진동 생성 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
도 5를 참조하면, 초음파 진동 발생부(110)를 작동시켜 초음파 진동을 발생한다.(S110)
구체적으로, 압전 변환기와 같은 초음파 진동 발생부(110)에 전원을 인가하여 전기 에너지를 물리적인 진동 에너지로 변환시켜 초음파 진동을 발생한다.
상기 초음파 진동을 상기 전달 부재(120)의 물질층(122)으로 통과시켜 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절한다.(S120)
상기 초음파 진동은 상기 전달 부재(120)의 내부에 구비되며 고체, 액체 및 기체 중 어느 하나로 이루어지는 적어도 하나의 물질층(122)을 지난다. 상기 물질층(122)은 상기 전달 부재(120)와 다른 재질로 이루어지므로, 상기 초음파 진동을 집속, 분산 또는 차단하여 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절할 수 있다. 구체적으로, 상기 물질층(122)의 개수, 두께 및 폭 중 적어도 하나를 조절하여 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절할 수 있다. 예를 들면, 상기 물질층(122)이 단수이거나 다수일 수 있다. 상기 물질층(122)이 다수인 경우, 상기 물질층(122)은 상기 웨이퍼의 상부면과 수직한 방향으로 배치되거나, 상기 웨이퍼의 상부면과 평행한 방향으로 배치될 수 있다. 다른 예로, 상기 물질층(122)이 균일한 두께를 갖거나 불균일한 두께를 가질 수 있다. 또 다른 예로, 상기 물질층(122)은 상기 전달 부재(120)와 동일한 폭을 갖거나 상기 전달 부재(120)보다 작은 폭을 가질 수 있 다.
상기 초음파 진동의 세기 및 방향이 상기 웨이퍼 상에 형성된 패턴의 형태와 대응하도록 상기 물질층(122)의 개수, 두께 및 폭이 조절될 수 있다. 예를 들면, 상기 웨이퍼에서 상기 패턴의 형태가 상대적으로 복잡한 부위 또는 상기 패턴의 높이가 상대적으로 낮은 부위에는 강한 세기의 초음파 진동이 전달되거나 상기 초음파 진동이 집속되도록 상기 물질층(122)의 개수, 두께 및 폭을 조절한다. 상기 웨이퍼에서 상기 패턴의 형태가 상대적으로 단순한 부위 또는 상기 패턴의 높이가 상대적으로 높은 부위에는 약한 세기의 초음파 진동이 전달되거나 상기 초음파 진동이 분산되도록 상기 물질층(122)의 개수, 두께 및 폭을 조절한다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 세정 장치(200)를 설명하기 위한 단면도이다.
도 6을 참조하면, 상기 웨이퍼 세정 장치(200)는 지지부(210), 구동부(220), 세정액 공급부(230), 보울(240), 배출구(250), 초음파 진동부(260) 및 전달 부재(270)를 포함한다.
상기 지지부(210)는 원판 형상을 가지며, 상부면에 세정할 웨이퍼(W)를 지지한다.
상기 구동부(220)는 상기 지지부(210)의 하부에 구비되며, 회전축(222)을 통해 상기 지지부(210)로 회전력을 제공한다. 상기 구동부(220)의 예로는 모터를 들 수 있다.
상기 세정액 공급부(230)는 상기 지지부(210)의 상방에 구비되며, 상기 웨이 퍼(W)의 상부면으로 상기 웨이퍼(W)를 세정하기 위한 세정액을 공급한다. 상기 세정액의 예로는 초순수(deionized water,H2O)를 들 수 있다. 상기 세정액의 다른 예로는 수산화암모늄(NH4OH)과 과산화수소(H2O2) 및 초순수(H2O)와의 혼합액, 불산(HF)과 초순수(H2O)와의 혼합액, 불화암모늄(NH4F)과 불산(HF) 및 초순수(H2O)와의 혼합액, 인산(H3PO4)과 초순수(H2O)와의 혼합액 등을 들 수 있다.
상기 보울(240)은 상기 지지부(210)의 측면을 감싸도록 구비되며, 상기 웨이퍼(W)의 회전에 의해 상기 웨이퍼(W)의 주변 부위로 비산되는 세정액을 차단한다. 상기 보울(240)의 저면 중앙에는 상기 회전축(222)을 구비하기 위한 개구(242)를 갖는다.
상기 배출구(250)는 상기 보울(240)의 저면 일측에 구비되며, 상기 웨이퍼(W)로부터 이탈된 세정액을 외부로 배출한다.
상기 초음파 진동 발생부(260) 및 상기 전달 부재(270)에 대한 구체적인 설명은 도 1 내지 도 4를 참조한 초음파 진동 발생부(110) 및 전달 부재(120)에 대한 설명과 실질적으로 동일하다.
상기 웨이퍼 세정 장치(200)는 상기 전달 부재(270)를 통해 상기 세정액으로 인가되는 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절할 수 있다. 따라서, 상기 전달 부재(270)는 상기 웨이퍼(W)를 세정하기 위한 최적의 초음파 진동을 상기 세정액으로 전달할 수 있다.
또한, 상기 웨이퍼(W) 상의 세정액 두께가 상대적으로 얇더라도 상기 물질층(272)이 상기 세정액의 두께를 보상하므로, 상기 초음파 진동에 의해 상기 웨이 퍼(W) 상에 형성된 패턴이 손상되는 것을 방지할 수 있다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 세정 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
도 6을 참조하면, 지지부(210)상에 세정될 웨이퍼(W)를 장착한다. 구동부(220)를 구동시켜 상기 지지부(210)를 회전시켜 상기 지지부(210)에 장착된 상기 웨이퍼(W)를 회전시킨다. 초음파 진동 발생부(260)를 상기 웨이퍼(W)의 상방에 위치시키고, 상기 전달 부재(270)를 상기 초음파 진동 발생부(260)와 상기 웨이퍼(W) 사이에 위치시킨다. 상기 전달 부재(270)는 상기 초음파 진동 발생부(260)와 고정되거나 일체로 형성되며, 상기 웨이퍼(W)의 상부면과 일정 간격 이격된다. 세정액 공급부(230)에서 상기 웨이퍼(W)의 상부면으로 세정액을 공급한다.(S210)
상기 웨이퍼(W)가 회전되므로 상기 세정액은 상기 전달 부재(270)와 상기 웨이퍼(W) 사이로 제공된다. 상기 웨이퍼 세정 공정이 진행되는 동안, 상기 세정액은 지속적으로 공급되며, 상기 웨이퍼(W)도 지속적으로 회전한다.
이후, 상기 초음파 진동 발생부(260)를 작동시켜 초음파 진동을 발생한다.(S220)
구체적으로, 압전 변환기와 같은 초음파 진동 발생부(260)에 전원을 인가하여 전기 에너지를 물리적인 진동 에너지로 변환시켜 초음파 진동을 발생한다.
상기 초음파 진동을 상기 전달 부재(270)의 물질층(272)으로 통과시켜 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절한다.(S230)
상기 초음파 진동의 세기 및 방향의 조절에 대한 구체적인 설명은 도 5를 참 조한 초음파 진동의 세기 및 방향 조절(S120)에 대한 설명과 실질적으로 동일하다.
상기 세기 및 방향이 조절된 초음파 진동을 상기 전달 부재(270)를 통해 상기 웨이퍼(W) 상의 세정액으로 전달한다.(S240)
상기 세정액으로 전달된 상기 초음파 진동은 상기 세정액을 교반시켜 상기 세정액과 상기 웨이퍼(W) 상에 존재하는 이물질의 화학 반응을 촉진시킨다. 따라서, 상기 초음파 진동은 상기 이물질의 제거 효율을 향상시킨다.
상기 이물질을 포함하는 세정액은 상기 웨이퍼(W)로부터 이탈되어 보울(240)의 측벽에 의해 차단된다. 상기 차단된 세정액은 보울(240)의 저면으로 이동되고, 배출구(250)를 통해 외부로 배출된다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 전달 부재의 내부에 고체, 액체 및 기체 중 어느 하나로 이루어지는 물질층을 구비한다. 상기 물질층의 개수, 두께 및 폭을 조절하여 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절할 수 있다. 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절하여 웨이퍼 상의 세정액으로 인가할 수 있으므로, 상기 웨이퍼를 용이하게 세정할 수 있다.
또한, 상기 웨이퍼 상의 세정액 두께가 얇은 경우, 상기 물질층이 상기 세정액의 두께를 증가시키는 역할을 한다. 그러므로, 상기 초음파 진동에 의해 상기 웨이퍼 상에 형성된 패턴이 손상되는 것을 방지할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역 으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 초음파 진동 생성 장치를 설명하기 위한 단면도이다.
도 2 내지 도 4는 도 1에 도시된 전달 부재의 다른 예를 설명하기 위한 단면도들이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 초음파 진동 생성 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 세정 장치를 설명하기 위한 단면도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 세정 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 초음파 진동 생성 장치 110 : 초음파 진동 발생부
120 : 전달 부재 122 : 물질층
200 : 웨이퍼 세정 장치 210 : 지지부
220 : 구동부 230 : 세정액 공급부
240 : 보울 242 : 개구
250 : 배출구 260 : 초음파 진동 발생부
270 : 전달 부재 272 : 물질층
W : 웨이퍼
Claims (13)
- 초음파 진동을 발생하는 초음파 진동 발생부; 및상기 초음파 진동 발생부의 단부에 구비되고, 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절하기 위해 내부에 개수, 두께 및 폭 중 적어도 하나가 변화되는 물질층을 가지며, 상기 초음파 진동을 웨이퍼를 세정하기 위한 세정액으로 전달하는 전달 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파 진동 생성 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 물질층은 고체, 액체 및 기체 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파 진동 생성 장치.
- 삭제
- 초음파 진동을 발생하는 단계; 및상기 초음파 진동을 개수, 두께 및 폭 중 적어도 하나가 변화되는 물질층으로 통과시켜 상기 초음파 진동이 세기 및 방향이 조절하는 단계를 포함하는 초음파 진동 생성 방법.
- 제4항에 있어서, 상기 물질층은 고체, 액체 및 기체 중 어느 하나를 포함하 는 것을 특징으로 하는 초음파 진동 생성 방법.
- 삭제
- 웨이퍼의 상부에 구비되며, 상기 웨이퍼로 상기 웨이퍼를 세정하기 위한 세정액을 공급하는 세정액 공급부;상기 웨이퍼 상부에 구비되며, 초음파 진동을 발생하는 초음파 진동 발생부; 및상기 초음파 진동 발생부의 단부에 구비되고, 상기 웨이퍼 상에 형성된 패턴의 형태와 대응하도록 상기 초음파 진동의 세기 및 방향을 조절하기 위해 내부에 개수, 두께 및 폭 중 적어도 하나가 변화되는 물질층을 가지며, 상기 초음파 진동을 상기 세정액으로 전달하는 전달 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정 장치.
- 제7항에 있어서, 상기 물질층은 고체, 액체 및 기체 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정 장치.
- 삭제
- 제7항에 있어서, 상기 전달 부재는 상기 초음파 진동부와 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정 장치.
- 웨이퍼 상에 세정액을 공급하는 단계;초음파 진동을 발생하는 단계;상기 초음파 진동을 개수, 두께 및 폭 중 적어도 하나가 변화되는 물질층으로 통과시켜 상기 웨이퍼 상에 형성된 패턴의 형태와 대응하도록 상기 초음파 진동의 세기 및 방향이 조절하는 단계; 및상기 세기 및 방향이 조절된 초음파 진동을 상기 세정액으로 전달하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정 방법.
- 제11항에 있어서, 상기 물질층은 고체, 액체 및 기체 중 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정 방법.
- 삭제
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