KR100870787B1 - 폴리에테르 실록산 공중합체 네트워크 조성물을 사용하는화장용 조성물 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (55)
- 하기 화학식 1의 반응 생성물을 포함하는 화장용 조성물:화학식 1상기 식에서,M은 R1R2R3SiO1/2이고,MH는 R4R5HSiO1/2이고,ME는 R6R7RESiO1/2이고,D는 R8R9SiO2/2이고,DH는 R10HSiO2/2이고,DE는 R11RESiO2/2이고,T는 R12SiO3/2이고,TH는 HSiO3/2이고,TE는 RESiO3/2이고,Q는 SiO4/2이고,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12는 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 1가의 탄화수소 라디칼이고,R4, R5, 및 R10은 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 1가의 탄화수소 라디칼 또는 수소이고,R6, R7, 및 R11은 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 1가의 탄화수소 라디칼이거나 또는 RE이고,RE는 각각 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 하나이상의 옥시란 잔기를 함유하는 1가의 탄화수소 라디칼이고,화학양론적 아래 첨자 a, b, c, d, e, f, g, h, i 및 j는 0이거나 하기 한정 관계를 갖는 양의 수이다: a + b + c >1, b + e + h > 1, c + f + i > 1, 및 b + e + h > c + f + i임.
- 제 1 항에 있어서,RE가 4-비닐 사이클로헥센 옥사이드, 알릴 글리시딜 에테르, 리모넨 옥사이드, 1,2-에폭시-5-헥센, 1,2-에폭시-7-옥텐, 노보르나디엔 모노에폭사이드 및 1,2-에폭시-9-데센으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 2 항에 있어서,R13, R14, R15, R16, R17 및 R18이 수소이고 m 및 n이 0인 조성물.
- 제 3 항에 있어서,RE가 4-비닐 사이클로헥센 옥사이드인 조성물.
- 제 1 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸, C30+ 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 2 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 3 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 4 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 5 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 불연속 상이 물을 포함하고, 연속상이 하기 화학식 1의 반응 생성물을 포함하는 조성물인 수성 유제를 포함하는 화장용 조성물:화학식 1상기 식에서,M은 R1R2R3SiO1/2이고,MH는 R4R5HSiO1/2이고,ME는 R6R7RESiO1/2이고,D는 R8R9SiO2/2이고,DH는 R10HSiO2/2이고,DE는 R11RESiO2/2이고,T는 R12SiO3/2이고,TH는 HSiO3/2이고,TE는 RESiO3/2이고,Q는 SiO4/2이고,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12는 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 1가의 탄화수소 라디칼이고,R4, R5, 및 R10은 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 1가의 탄화수소 라디칼 또는 수소이고,R6, R7, 및 R11은 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 1가의 탄화수소 라디칼이거나 또는 RE이고,RE는 각각 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 하나이상의 옥시란 잔기를 함유하는 1가의 탄화수소 라디칼이고,화학양론적 아래 첨자 a, b, c, d, e, f, g, h, i 및 j는 0이거나 하기 한정 관계를 갖는 양의 수이다: a + b + c >1, b + e + h > 1, c + f + i > 1, 및 b + e + h > c + f + i임.
- 제 11 항에 있어서,RE가 4-비닐 사이클로헥센 옥사이드, 알릴 글리시딜 에테르, 리모넨 옥사이드, 1,2-에폭시-5-헥센, 1,2-에폭시-7-옥텐, 노보르나디엔 모노에폭사이드 및 1,2-에폭시-9-데센으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 12 항에 있어서,R13, R14, R15, R16, R17 및 R18이 수소이고 m 및 n이 0인 조성물.
- 제 13 항에 있어서,RE가 4-비닐 사이클로헥센 옥사이드인 조성물.
- 제 11 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸, C30+ 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 12 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 13 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 14 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 15 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 불연속 상이 물을 포함하고, 연속상이 하기 화학식 1의 반응 생성물을 포함하는 조성물인 수성 유제를 포함하는 화장용 조성물:화학식 1상기 식에서,M은 R1R2R3SiO1/2이고,MH는 R4R5HSiO1/2이고,ME는 R6R7RESiO1/2이고,D는 R8R9SiO2/2이고,DH는 R10HSiO2/2이고,DE는 R11RESiO2/2이고,T는 R12SiO3/2이고,TH는 HSiO3/2이고,TE는 RESiO3/2이고,Q는 SiO4/2이고,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12는 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 1가의 탄화수소 라디칼이고,R4, R5, 및 R10은 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 1가의 탄화수소 라디칼 또는 수소이고,R6, R7, 및 R11은 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 1가의 탄화수소 라디칼이거나 또는 RE이고,RE는 각각 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 하나이상의 옥시란 잔기를 함유하는 1가의 탄화수소 라디칼이고,화학양론적 아래 첨자 a, b, c, d, e, f, g, h, i 및 j는 0이거나 하기 한정 관계를 갖는 양의 수이다: a + b + c >1, b + e + h > 1, c + f + i > 1, 및 b + e + h > c + f + i임.
- 제 21 항에 있어서,RE가 4-비닐 사이클로헥센 옥사이드, 알릴 글리시딜 에테르, 리모넨 옥사이드, 1,2-에폭시-5-헥센, 1,2-에폭시-7-옥텐, 노보르나디엔 모노에폭사이드 및 1,2-에폭시-9-데센으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 22 항에 있어서,R13, R14, R15, R16, R17 및 R18이 수소이고 m 및 n이 0인 조성물.
- 제 23 항에 있어서,RE가 4-비닐 사이클로헥센 옥사이드인 조성물.
- 제 21 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시 아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸, C30+ 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 22 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 23 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 24 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루 오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 25 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 불연속 상이 비수성 하이드록실 용매를 포함하고, 연속상이 하기 화학식 1의 반응 생성물을 포함하는 조성물을 포함하는 비수성 유제를 포함하는 화장용 조성물:화학식 1상기 식에서,M은 R1R2R3SiO1/2이고,MH는 R4R5HSiO1/2이고,ME는 R6R7RESiO1/2이고,D는 R8R9SiO2/2이고,DH는 R10HSiO2/2이고,DE는 R11RESiO2/2이고,T는 R12SiO3/2이고,TH는 HSiO3/2이고,TE는 RESiO3/2이고,Q는 SiO4/2이고,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12는 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 1가의 탄화수소 라디칼이고,R4, R5, 및 R10은 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 1가의 탄화수소 라디칼 또는 수소이고,R6, R7, 및 R11은 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 1가의 탄화수소 라디칼이거나 또는 RE이고,RE는 각각 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 하나이상의 옥시란 잔기를 함유하는 1가의 탄화수소 라디칼이고,화학양론적 아래 첨자 a, b, c, d, e, f, g, h, i 및 j는 0이거나 하기 한정 관계를 갖는 양의 수이다: a + b + c >1, b + e + h > 1, c + f + i > 1, 및 b + e + h > c + f + i임.
- 제 31 항에 있어서,RE가 4-비닐 사이클로헥센 옥사이드, 알릴 글리시딜 에테르, 리모넨 옥사이드, 1,2-에폭시-5-헥센, 1,2-에폭시-7-옥텐, 노보르나디엔 모노에폭사이드 및 1,2-에폭시-9-데센으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 32 항에 있어서,R13, R14, R15, R16, R17 및 R18이 수소이고 m 및 n이 0인 조성물.
- 제 33 항에 있어서,RE가 4-비닐 사이클로헥센 옥사이드인 조성물.
- 제 31 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸, C30+ 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 32 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 각각 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 33 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 34 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 각각 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 35 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시 아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 연속 상이 비수성 하이드록실 용매를 포함하고, 불연속상이 하기 화학식 1의 반응 생성물을 포함하는 조성물인 비수성 유제를 포함하는 화장용 조성물:화학식 1상기 식에서,M은 R1R2R3SiO1/2이고,MH는 R4R5HSiO1/2이고,ME는 R6R7RESiO1/2이고,D는 R8R9SiO2/2이고,DH는 R10HSiO2/2이고,DE는 R11RESiO2/2이고,T는 R12SiO3/2이고,TH는 HSiO3/2이고,TE는 RESiO3/2이고,Q는 SiO4/2이고,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12는 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 1가의 탄화수소 라디칼이고,R4, R5, 및 R10은 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 1가의 탄화수소 라디칼 또는 수소이고,R6, R7, 및 R11은 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 1가의 탄화수소 라디칼이거나 또는 RE이고,RE는 각각 독립적으로 1 내지 60개의 탄소 원자를 갖는 하나이상의 옥시란 잔기를 함유하는 1가의 탄화수소 라디칼이고,화학양론적 아래 첨자 a, b, c, d, e, f, g, h, i 및 j는 0이거나 하기 한정 관계를 갖는 양의 수이다: a + b + c >1, b + e + h > 1, c + f + i > 1, 및 b + e + h > c + f + i임.
- 제 41 항에 있어서,RE가 4-비닐 사이클로헥센 옥사이드, 알릴 글리시딜 에테르, 리모넨 옥사이드, 1,2-에폭시-5-헥센, 1,2-에폭시-7-옥텐, 노보르나디엔 모노에폭사이드 및 1,2-에폭시-9-데센으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 42 항에 있어서,R13, R14, R15, R16, R17 및 R18이 수소이고 m 및 n이 0인 조성물.
- 제 43 항에 있어서,RE가 4-비닐 사이클로헥센 옥사이드인 조성물.
- 제 41 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸, C30+ 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 42 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 43 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 44 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 45 항에 있어서,R1, R2, R3, R8, R9 및 R12가 독립적으로 메틸, 에틸, 이급 부틸, 삼급 부틸, 옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 에테닐, 프로페닐, 부티닐, 하이드록시프로필, 시아노에틸, 부톡시, 2,5,8-트리옥사데카닐, 카복시메틸, 클로로메틸 및 3,3,3-플루오로프로필로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 1 항에 있어서,화장용 조성물이 디오도란트, 발한억제제, 조합된 발한억제성 디오도란트, 면도용 제품, 스킨 로션, 보습제, 토너, 목욕용 제품, 세정제, 헤어 캐어 제품, 샴푸, 컨디셔너, 무스, 스타일링 겔, 헤어 스프레이, 머리 염색제, 머리 착색제, 머리 탈색제, 헤어 웨이빙 제품, 헤어 스트레이트너, 매니큐어 제품 네일 폴리시, 네일 폴리시 제거제, 네일 크림, 네일 로션, 각피 연화제, 보호 크림, 선스크린, 곤충 퇴치제, 노화 방지 제품, 색조 화장품, 립스틱, 화운데이션, 페이스 파우더, 아이 라이너, 아이 새도우, 브러시, 메이크업, 마스카라, 실리콘 성분이 통상적으로 첨가된 개인용 캐어 제제 및 피부에 적용되는 의약 조성물의 국소 적용을 위한 약제 전달 시스템으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 11 항에 있어서,화장용 조성물이 디오도란트, 발한억제제, 조합된 발한억제성 디오도란트, 면도용 제품, 스킨 로션, 보습제, 토너, 목욕용 제품, 세정제, 헤어 캐어 제품, 샴푸, 컨디셔너, 무스, 스타일링 겔, 헤어 스프레이, 머리 염색제, 머리 착색제, 머리 탈색제, 헤어 웨이빙 제품, 헤어 스트레이트너, 매니큐어 제품 네일 폴리시, 네일 폴리시 제거제, 네일 크림, 네일 로션, 각피 연화제, 보호 크림, 선스크린, 곤충 퇴치제, 노화 방지 제품, 색조 화장품, 립스틱, 화운데이션, 페이스 파우더, 아이 라이너, 아이 새도우, 브러시, 메이크업, 마스카라, 실리콘 성분이 통상적으로 첨가된 개인용 캐어 제제 및 피부에 적용되는 의약 조성물의 국소 적용을 위한 약제 전달 시스템으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 21 항에 있어서,화장용 조성물이 디오도란트, 발한억제제, 조합된 발한억제성 디오도란트, 면도용 제품, 스킨 로션, 보습제, 토너, 목욕용 제품, 세정제, 헤어 캐어 제품, 샴푸, 컨디셔너, 무스, 스타일링 겔, 헤어 스프레이, 머리 염색제, 머리 착색제, 머리 탈색제, 헤어 웨이빙 제품, 헤어 스트레이트너, 매니큐어 제품 네일 폴리시, 네일 폴리시 제거제, 네일 크림, 네일 로션, 각피 연화제, 보호 크림, 선스크린, 곤충 퇴치제, 노화 방지 제품, 색조 화장품, 립스틱, 화운데이션, 페이스 파우더, 아이 라이너, 아이 새도우, 브러시, 메이크업, 마스카라, 실리콘 성분이 통상적으로 첨가된 개인용 캐어 제제 및 피부에 적용되는 의약 조성물의 국소 적용을 위한 약제 전달 시스템으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 31 항에 있어서,화장용 조성물이 디오도란트, 발한억제제, 조합된 발한억제성 디오도란트, 면도용 제품, 스킨 로션, 보습제, 토너, 목욕용 제품, 세정제, 헤어 캐어 제품, 샴푸, 컨디셔너, 무스, 스타일링 겔, 헤어 스프레이, 머리 염색제, 머리 착색제, 머리 탈색제, 헤어 웨이빙 제품, 헤어 스트레이트너, 매니큐어 제품 네일 폴리시, 네일 폴리시 제거제, 네일 크림, 네일 로션, 각피 연화제, 보호 크림, 선스크린, 곤충 퇴치제, 노화 방지 제품, 색조 화장품, 립스틱, 화운데이션, 페이스 파우더, 아이 라이너, 아이 새도우, 브러시, 메이크업, 마스카라, 실리콘 성분이 통상적으로 첨가된 개인용 캐어 제제 및 피부에 적용되는 의약 조성물의 국소 적용을 위한 약제 전달 시스템으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
- 제 41 항에 있어서,화장용 조성물이 디오도란트, 발한억제제, 조합된 발한억제성 디오도란트, 면도용 제품, 스킨 로션, 보습제, 토너, 목욕용 제품, 세정제, 헤어 캐어 제품, 샴푸, 컨디셔너, 무스, 스타일링 겔, 헤어 스프레이, 머리 염색제, 머리 착색제, 머리 탈색제, 헤어 웨이빙 제품, 헤어 스트레이트너, 매니큐어 제품 네일 폴리시, 네일 폴리시 제거제, 네일 크림, 네일 로션, 각피 연화제, 보호 크림, 선스크린, 곤충 퇴치제, 노화 방지 제품, 색조 화장품, 립스틱, 화운데이션, 페이스 파우더, 아이 라이너, 아이 새도우, 브러시, 메이크업, 마스카라, 실리콘 성분이 통상적으로 첨가된 개인용 캐어 제제 및 피부에 적용되는 의약 조성물의 국소 적용을 위한 약제 전달 시스템으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 조성물.
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