KR100863049B1 - 기판 반송실 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (10)
- 진공 환경 및 대기 환경 사이에서 기판을 반입 및 반출하는 제 1 로드록실 및 제 2 로드록실과,상기 기판을 처리하는 기판 처리실과,상기 기판을 지지하는 제 1 기판 지지 트레이 및 제 3 기판 지지 트레이와, 상기 제 1 기판 지지 트레이와 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시키는 수평이동기구를 구비하고, 상기 제 1 로드록실과, 상기 제 2 로드록실 및 상기 기판 처리실 사이에서 상기 제 1 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이를 반입 및 반출하는 기판 반송실을 구비하는 기판 처리장치에 있어서,상기 기판 반송실 내의 제 1 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 1 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 제 1 로드록실로 반출하고,상기 제 1 로드록실에서 상기 제 1 기판 지지 트레이에 기판을 설치한 후, 상기 기판이 설치된 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 제 1 로드록실로부터 상기 기판 반송실로 반입하고,상기 기판 반송실 내의 상기 제 2 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 제 2 로드록실로 반출하고,상기 제 2 로드록실에서, 상기 제 3 기판 지지 트레이에 기판을 설치한 후, 상기 기판이 설치된 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 제 2 로드록실로부터 상기 기판 반송실로 반입하고,상기 제 1 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이에 기판이 설치된 상태에서, 상기 기판 반송실 내의 상기 기판 처리실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 1 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 기판 처리실로 반출하고,상기 기판 처리실에서, 상기 제 1 기판 지지 트레이에 설치된 기판을 처리한 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 처리실로부터 상기 기판 반송실로 반입하고,상기 제 1 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이에 기판이 설치된 상태에서, 상기 기판 반송실내의 상기 기판 처리실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 기판 처리실로 반출하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 기판 반송실 내의 상기 제 1 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 1 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 제 1 로드록실로 반출하고,상기 제 1 로드록실에서, 상기 제 1 기판 지지 트레이에 설치된 기판을 반출하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
- 진공 환경 및 대기 환경 사이에서 기판을 반입 및 반출하는 제 1 로드록실 및 제 2 로드록실과,상기 기판을 처리하는 기판 처리실과,상기 기판을 지지하는 제 1 기판 지지 트레이와 제 2 기판 지지 트레이 및 제 3 기판 지지 트레이와, 상기 제 1 기판 지지 트레이와 상기 제 2 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시키는 수평이동기구를 구비하고, 상기 제 1 로드록실과 상기 제 2 로드록실 및 상기 기판 처리실 사이에서 상기 제 1 기판 지지 트레이와 상기 제 2 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이를 반입 및 반출하는 기판 반송실을 구비하는 기판 처리장치에 있어서,상기 기판 반송실 내의 제 1 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 1 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 제 1 로드록실로 반출하고,상기 제 1 로드록실에서, 상기 제 1 기판 지지 트레이에 기판을 설치한 후, 상기 기판이 설치된 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 제 1 로드록실로부터 상기 기판 반송실로 반입하고,상기 기판 반송실 내의 상기 제 2 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 제 2 로드록실로 반출하고,상기 제 2 로드록실에서, 상기 제 3 기판 지지 트레이에 기판을 설치한 후, 상기 기판이 설치된 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 제 2 로드록실로부터 상기 기판 반송실로 반입하고,상기 제 1 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이에 기판이 설치된 상태에서, 상기 기판 반송실 내의 상기 기판 처리실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 1 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 기판 처리실로 반출하고,상기 기판 반송실 내의 상기 제 1 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 2 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 2 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 제 1 로드록실로 반출하고,상기 제 1 로드록실에서, 상기 제 2 기판 지지 트레이에 기판을 설치한 후, 상기 기판이 설치된 상기 제 2 기판 지지 트레이를 상기 제 1 로드록실로부터 상기 기판 반송실로 반입하고,상기 기판 처리실에서, 상기 제 1 기판 지지 트레이에 설치된 기판을 처리한 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 처리실로부터 상기 기판 반송실로 반입하고,상기 제 1 기판 지지 트레이와 상기 제 2 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이에 기판이 설치된 상태에서, 상기 기판 반송실내의 상기 기판 처리실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 기판 처리실로 반출하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
- 제3항에 있어서,상기 기판 반송실내의 상기 제 1 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 1 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 제 1 로드록실로 반출하고,상기 제 1 로드록실에서, 상기 제 1 기판 지지 트레이에 설치된 기판을 반출하고,상기 기판 처리실에서, 상기 제 3 기판 지지 트레이에 설치된 기판을 처리한 후, 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 기판 처리실로부터 상기 기판 반송실로 반입하고,상기 기판 반송실 내의 상기 기판 처리실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 2 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 2 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 기판 처리실로 반출하고,상기 기판 반송실 내의 상기 제 2 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 제 2 로드록실로 반출하고,상기 제 2 로드록실에서, 상기 제 3 기판 지지 트레이에 설치된 기판을 반출하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
- 진공 환경 및 대기 환경 사이에서 기판을 반입 및 반출하는 제 1 로드록실 및 제 2 로드록실과,상기 기판을 처리하는 기판 처리실과,상기 기판을 지지하는 제 1 기판 지지 트레이 및 제 3 기판 지지 트레이와, 상기 제 1 기판 지지 트레이와 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시키는 수평이동기구를 구비하고, 상기 제 1 로드록실과, 상기 제 2 로드록실 및 상기 기판 처리실 사이에서 상기 제 1 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이를 반입 및 반출하는 기판 반송실을 구비하는 기판 처리장치에서 수행되는 기판 처리방법에 있어서,상기 기판 반송실 내의 제 1 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 1 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 제 1 로드록실로 반출하는 단계와,상기 제 1 로드록실에서, 상기 제 1 기판 지지 트레이에 기판을 설치한 후, 상기 기판이 설치된 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 제 1 로드록실로부터 상기 기판 반송실로 반입하는 단계와,상기 기판 반송실 내의 상기 제 2 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 제 2 로드록실로 반출하는 단계와,상기 제 2 로드록실에서, 상기 제 3 기판 지지 트레이에 기판을 설치한 후, 상기 기판이 설치된 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 제 2 로드록실로부터 상기 기판 반송실로 반입하는 단계와,상기 제 1 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이에 기판이 설치된 상태에서, 상기 기판 반송실 내의 상기 기판 처리실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 1 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 기판 처리실로 반출하는 단계와,상기 기판 처리실에서, 상기 제 1 기판 지지 트레이에 설치된 기판을 처리한 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 처리실로부터 상기 기판 반송실로 반입하는 단계와,상기 제 1 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이에 기판이 설치된 상태에서, 상기 기판 반송실내의 상기 기판 처리실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 기판 처리실로 반출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 기판 반송실 내의 상기 제 1 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 1 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 제 1 로드록실로 반출하는 단계와,상기 제 1 로드록실에서, 상기 제 1 기판 지지 트레이에 설치된 기판을 반출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리방법.
- 진공 환경 및 대기 환경 사이에서 기판을 반입 및 반출하는 제 1 로드록실 및 제 2 로드록실과,상기 기판을 처리하는 기판 처리실과,상기 기판을 지지하는 제 1 기판 지지 트레이와 제 2 기판 지지 트레이 및 제 3 기판 지지 트레이와, 상기 제 1 기판 지지 트레이와 상기 제 2 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시키는 수평이동기구를 구비하고, 상기 제 1 로드록실과 상기 제 2 로드록실 및 상기 기판 처리실 사이에서 상기 제 1 기판 지지 트레이와 상기 제 2 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이를 반입 및 반출하는 기판 반송실을 구비하는 기판 처리장치에서 수행되는 기판 처리방법에 있어서,상기 기판 반송실 내의 제 1 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 1 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 제 1 로드록실로 반출하는 단계와,상기 제 1 로드록실에서, 상기 제 1 기판 지지 트레이에 기판을 설치한 후, 상기 기판이 설치된 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 제 1 로드록실로부터 상기 기판 반송실로 반입하는 단계와,상기 기판 반송실 내의 상기 제 2 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 제 2 로드록실로 반출하는 단계와,상기 제 2 로드록실에서, 상기 제 3 기판 지지 트레이에 기판을 설치한 후, 상기 기판이 설치된 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 제 2 로드록실로부터 상기 기판 반송실로 반입하는 단계와,상기 제 1 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이에 기판이 설치된 상태에서, 상기 기판 반송실 내의 상기 기판 처리실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 1 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 기판 처리실로 반출하는 단계와,상기 기판 반송실 내의 상기 제 1 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 2 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 2 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 제 1 로드록실로 반출하는 단계와,상기 제 1 로드록실에서, 상기 제 2 기판 지지 트레이에 기판을 설치한 후, 상기 기판이 설치된 상기 제 2 기판 지지 트레이를 상기 제 1 로드록실로부터 상기 기판 반송실로 반입하는 단계와,상기 기판 처리실에서, 상기 제 1 기판 지지 트레이에 설치된 기판을 처리한 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 처리실로부터 상기 기판 반송실로 반입하는 단계와,상기 제 1 기판 지지 트레이와 상기 제 2 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이에 기판이 설치된 상태에서, 상기 기판 반송실내의 상기 기판 처리실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 기판 처리실로 반출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리방법.
- 제7항에 있어서,상기 기판 반송실내의 상기 제 1 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 1 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 제 1 로드록실로 반출하는 단계와,상기 제 1 로드록실에서, 상기 제 1 기판 지지 트레이에 설치된 기판을 반출하는 단계와,상기 기판 처리실에서, 상기 제 3 기판 지지 트레이에 설치된 기판을 처리한 후, 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 기판 처리실로부터 상기 기판 반송실로 반입하는 단계와,상기 기판 반송실 내의 상기 기판 처리실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 2 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 2 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 기판 처리실로 반출하는 단계와,상기 기판 반송실 내의 상기 제 2 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로부터 상기 제 2 로드록실로 반출하는 단계와,상기 제 2 로드록실에서, 상기 제 3 기판 지지 트레이에 설치된 기판을 반출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리방법.
- 진공 환경 및 대기 환경 사이에서 기판을 반입 및 반출하는 제 1 로드록실 및 제 2 로드록실과;상기 기판을 처리하는 기판 처리실;을 포함하는 기판 처리장치에 사용되는 기판 반송실에 있어서,상기 기판 반송실은,상기 기판을 지지하는 제 1 기판 지지 트레이 및 제 3 기판 지지 트레이와,상기 제 1 기판 지지 트레이와 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시키는 수평이동기구를 구비하고,상기 제 1 로드록실과 상기 제 2 로드록실 및 상기 기판 처리실 사이에서 상기 제 1 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이를 반입하고 반출하며,상기 제 1 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 1 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 제 1 로드록실로 반출하고,상기 제 1 로드록실로 반입된 기판이 설치된 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 제 1 로드록실로부터 반입하고,상기 제 2 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 제 2 로드록실로 반출하고,상기 제 2 로드록실에 반입된 기판이 설치된 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 제 2 로드록실로부터 반입하고,상기 제 1 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이에 기판이 설치된 상태에서, 상기 기판 처리실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 1 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 처리실로 반출하고,상기 기판 처리실에서 처리된 기판이 설치된 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 처리실로부터 반입하고,상기 제 1 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이에 기판이 설치된 상태에서, 상기 기판 처리실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 기판 처리실로 반출하고,상기 제 1 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 1 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 제 1 로드록실로 반출하는 것을 특징으로 하는 기판 반송실.
- 진공 환경 및 대기 환경 사이에서 기판을 반입 및 반출하는 제 1 로드록실 및 제 2 로드록실과;상기 기판을 처리하는 기판 처리실;을 포함하는 기판 처리장치에 사용하는 기판 반송실에 있어서,상기 기판 반송실은,상기 기판을 지지하는 제 1 기판 지지 트레이와 제 2 기판 지지 트레이 및 제 3 기판 지지 트레이와,상기 제 1 기판 지지 트레이와 상기 제 2 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시키는 수평이동기구를 구비하고,상기 제 1 로드록실과 상기 제 2 로드록실 및 상기 기판 처리실 사이에서 상기 제 1 기판 지지 트레이와 상기 제 2 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이가 반입 및 반출하고,상기 제 1 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 1 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 제 1 로드록실로 반출하고,상기 제 1 로드록실로 반입된 기판이 설치된 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 제 1 로드록실로부터 반입하고,상기 제 2 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 제 2 로드록실로 반출하고,상기 제 2 로드록실로 반입된 기판이 설치된 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 제 2 로드록실로부터 반입하고,상기 제 1 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이에 기판이 설치된 상태에서, 상기 기판 처리실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 1 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 처리실로 반출하고,상기 제 1 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 2 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 2 기판 지지 트레이를 상기 제 1 로드록실로 반출하고,상기 제 1 로드록실로 반입된 기판이 설치된 상기 제 2 기판 지지 트레이를 상기 제 1 로드록실로부터 반입하고,상기 기판 처리실에서 처리된 기판이 설치된 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 기판 반송실로 반입하고,상기 제 1 기판 지지 트레이와 상기 제 2 기판 지지 트레이 및 상기 제 3 기판 지지 트레이에 기판이 설치된 상태에서, 상기 기판 처리실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 기판 처리실로 반출하고,상기 제 1 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 1 기판 지지 트레이를 이동시킨 후 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 제 1 로드록실로 반출하고,상기 제 1 로드록실에서 기판이 반출된 상기 제 1 기판 지지 트레이를 상기 제 1 로드록실로부터 반입하고,상기 기판 처리실에서 처리된 기판이 설치된 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 기판 처리실로부터 반입하고,상기 기판 처리실과의 사이에서 반입 및 반출된 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 2 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 2 기판 지지 트레이를 상기 기판 처리실로 반출하고,상기 제 2 로드록실과의 사이에서 반입 및 반출되는 위치로 상기 수평이동기구에 의해 상기 제 3 기판 지지 트레이를 이동시킨 후, 상기 제 3 기판 지지 트레이를 상기 제 2 로드록실로 반출하는 것을 특징으로 하는 기판 반송실.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2001-00301053 | 2001-09-28 | ||
JP2001301053A JP4850372B2 (ja) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | 基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20030027835A KR20030027835A (ko) | 2003-04-07 |
KR100863049B1 true KR100863049B1 (ko) | 2008-10-10 |
Family
ID=19121529
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020020058979A KR100863049B1 (ko) | 2001-09-28 | 2002-09-27 | 기판 반송실 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6746239B2 (ko) |
JP (1) | JP4850372B2 (ko) |
KR (1) | KR100863049B1 (ko) |
CN (2) | CN1267771C (ko) |
TW (1) | TW559980B (ko) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060090703A1 (en) * | 2004-11-01 | 2006-05-04 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing method, system and program |
US9700334B2 (en) * | 2004-11-23 | 2017-07-11 | Intuitive Surgical Operations, Inc. | Articulating mechanisms and link systems with torque transmission in remote manipulation of instruments and tools |
KR100928926B1 (ko) * | 2004-12-29 | 2009-11-30 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치의 실 경화공정 중 얼룩무늬 발생을감소시키는 랙 바구조를 가지는 실 경화로 |
US7918940B2 (en) | 2005-02-07 | 2011-04-05 | Semes Co., Ltd. | Apparatus for processing substrate |
JP5014603B2 (ja) * | 2005-07-29 | 2012-08-29 | 株式会社アルバック | 真空処理装置 |
CN101506066B (zh) * | 2006-08-22 | 2012-11-28 | 诺信公司 | 用于在处理***中处理工件的设备和方法 |
CN102190156B (zh) * | 2010-02-10 | 2014-06-25 | 佳能安内华股份有限公司 | 托盘式基板输送***、成膜方法和电子装置的制造方法 |
JP5657376B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2015-01-21 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板搬送装置 |
KR101106741B1 (ko) * | 2011-05-16 | 2012-01-18 | (주)대상이엔지 | 수직타입의 글라스 반송장치 |
CN102502260B (zh) * | 2011-10-18 | 2013-11-06 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 玻璃基板存储搬运***以及玻璃基板存储平台 |
US9004839B2 (en) | 2011-10-18 | 2015-04-14 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Glass substrate storage and transportation system and a glass substrate storage platform |
JP2017513221A (ja) * | 2014-04-02 | 2017-05-25 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 基板処理のためのシステム、基板処理のためのシステム用の真空回転モジュール、及び基板処理システムを操作する方法 |
JP7154986B2 (ja) * | 2018-12-11 | 2022-10-18 | 平田機工株式会社 | 基板搬送装置及び基板搬送システム |
JP7262293B2 (ja) * | 2019-04-26 | 2023-04-21 | 株式会社アルバック | 真空処理装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5971696A (en) * | 1996-10-01 | 1999-10-26 | Tokyo Electron Limited | System for carrying-in of cassette for substrates to be processed |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0680045B2 (ja) | 1983-08-24 | 1994-10-12 | 日産化学工業株式会社 | ピラゾールスルホニルウレア誘導体、その製法および該誘導体を含有する選択性除草剤 |
US5738767A (en) | 1994-01-11 | 1998-04-14 | Intevac, Inc. | Substrate handling and processing system for flat panel displays |
JPH11238785A (ja) * | 1998-02-19 | 1999-08-31 | Sharp Corp | 基板処理装置及び基板処理方法 |
-
2001
- 2001-09-28 JP JP2001301053A patent/JP4850372B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-09-24 CN CNB021323380A patent/CN1267771C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2002-09-24 US US10/252,392 patent/US6746239B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-09-24 CN CNA2006100719903A patent/CN1841697A/zh active Pending
- 2002-09-26 TW TW091122174A patent/TW559980B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-09-27 KR KR1020020058979A patent/KR100863049B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5971696A (en) * | 1996-10-01 | 1999-10-26 | Tokyo Electron Limited | System for carrying-in of cassette for substrates to be processed |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6746239B2 (en) | 2004-06-08 |
CN1841697A (zh) | 2006-10-04 |
JP4850372B2 (ja) | 2012-01-11 |
KR20030027835A (ko) | 2003-04-07 |
TW559980B (en) | 2003-11-01 |
CN1267771C (zh) | 2006-08-02 |
CN1409156A (zh) | 2003-04-09 |
US20030061730A1 (en) | 2003-04-03 |
JP2003109996A (ja) | 2003-04-11 |
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---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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|
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Payment date: 20130924 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150918 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160921 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180918 Year of fee payment: 11 |