JP2000323548A - 真空処理システム - Google Patents
真空処理システムInfo
- Publication number
- JP2000323548A JP2000323548A JP11132560A JP13256099A JP2000323548A JP 2000323548 A JP2000323548 A JP 2000323548A JP 11132560 A JP11132560 A JP 11132560A JP 13256099 A JP13256099 A JP 13256099A JP 2000323548 A JP2000323548 A JP 2000323548A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- vacuum processing
- chamber
- transfer
- glass substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 被処理体を搬送する搬送系の設備コストの削
減及びフットプリントの縮小化を図ることの可能な真空
処理システムを提供する。 【解決手段】 ＬＣＤガラス基板（以下「基板」）１３
０に所定の処理を施す真空処理室１１２ａ，１１２ｂ
と，真空処理室にゲートバルブＧＢを介して接続され，
真空処理室に基板を搬入／搬出する搬送アーム１１４を
有する搬送室１１６と，搬送室にゲートバルブを介して
接続される真空予備室１１８と，複数の基板を順次搬送
する搬送系１２０とを備えた真空処理システム１００に
おいて，搬送系は，所定位置において，基板を上下方向
に移動させて，真空予備室に搬入／搬出する昇降機構１
２４を備えている。かかるシステムによれば，搬送系と
真空処理装置１１０との間に大気ロボットを配設せずと
も，基板の授受を行うことが可能である。
減及びフットプリントの縮小化を図ることの可能な真空
処理システムを提供する。 【解決手段】 ＬＣＤガラス基板（以下「基板」）１３
０に所定の処理を施す真空処理室１１２ａ，１１２ｂ
と，真空処理室にゲートバルブＧＢを介して接続され，
真空処理室に基板を搬入／搬出する搬送アーム１１４を
有する搬送室１１６と，搬送室にゲートバルブを介して
接続される真空予備室１１８と，複数の基板を順次搬送
する搬送系１２０とを備えた真空処理システム１００に
おいて，搬送系は，所定位置において，基板を上下方向
に移動させて，真空予備室に搬入／搬出する昇降機構１
２４を備えている。かかるシステムによれば，搬送系と
真空処理装置１１０との間に大気ロボットを配設せずと
も，基板の授受を行うことが可能である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，真空処理システム
に関する。
に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＣＤガラス基板等の被処理体処理シス
テムには，被処理体の搬送系をライン状に配設し，かか
る搬送系に対し塗布・現像処理装置やエッチング装置と
いった複数の処理装置を並設するものがある。かかる被
処理体処理システムにおける搬送系の一形態として，被
処理体が複数枚収容されたカセットと処理装置との間を
渡り歩くＡＧＶ（ａｕｔｏｍａｔｉｃ ｇｕｉｄｅｄ
ｖｅｈｉｃｌｅ：無人搬送車）が用いられている。
テムには，被処理体の搬送系をライン状に配設し，かか
る搬送系に対し塗布・現像処理装置やエッチング装置と
いった複数の処理装置を並設するものがある。かかる被
処理体処理システムにおける搬送系の一形態として，被
処理体が複数枚収容されたカセットと処理装置との間を
渡り歩くＡＧＶ（ａｕｔｏｍａｔｉｃ ｇｕｉｄｅｄ
ｖｅｈｉｃｌｅ：無人搬送車）が用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで，ＡＧＶによ
る被処理体の搬送には，複数の被処理体の処理の困難さ
や発塵性といった問題点が生じる。このため，その解決
手段として，コンベアなどの被処理体搬送手段と，コン
ベアと処理装置との間で被処理体の授受を行う大気ロボ
ットとを配設する搬送系が用いられている。しかしなが
ら，かかる搬送系では，コンベアの他に大気ロボットを
配設する必要があるため，設備コスト面やフットプリン
トの面で好ましくないという別の問題が生じていた。
る被処理体の搬送には，複数の被処理体の処理の困難さ
や発塵性といった問題点が生じる。このため，その解決
手段として，コンベアなどの被処理体搬送手段と，コン
ベアと処理装置との間で被処理体の授受を行う大気ロボ
ットとを配設する搬送系が用いられている。しかしなが
ら，かかる搬送系では，コンベアの他に大気ロボットを
配設する必要があるため，設備コスト面やフットプリン
トの面で好ましくないという別の問題が生じていた。
【０００４】本発明は，従来の真空処理装置が有する上
記問題点及びその他の問題点に鑑みてなされたものであ
り，本発明の目的は，被処理体を搬送する搬送系の設備
コストの削減及びフットプリントの縮小化を図ることの
可能な，新規かつ改良された真空処理システムを提供す
ることである。
記問題点及びその他の問題点に鑑みてなされたものであ
り，本発明の目的は，被処理体を搬送する搬送系の設備
コストの削減及びフットプリントの縮小化を図ることの
可能な，新規かつ改良された真空処理システムを提供す
ることである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め，請求項１によれば，被処理体に所定の処理を施す少
なくとも一の真空処理室と，前記真空処理室にゲートバ
ルブを介して接続され，前記真空処理室に前記被処理体
を搬入／搬出する搬送アームを有する搬送室と，前記搬
送室にゲートバルブを介して接続される真空予備室と，
複数の被処理体を順次搬送する搬送系とを備えた真空処
理システムにおいて，前記搬送系は，所定位置におい
て，前記被処理体を上下方向および／または水平方向に
移動させて，前記真空予備室に搬入／搬出する移動機構
を備えていることを特徴とする真空処理システムが提供
される。
め，請求項１によれば，被処理体に所定の処理を施す少
なくとも一の真空処理室と，前記真空処理室にゲートバ
ルブを介して接続され，前記真空処理室に前記被処理体
を搬入／搬出する搬送アームを有する搬送室と，前記搬
送室にゲートバルブを介して接続される真空予備室と，
複数の被処理体を順次搬送する搬送系とを備えた真空処
理システムにおいて，前記搬送系は，所定位置におい
て，前記被処理体を上下方向および／または水平方向に
移動させて，前記真空予備室に搬入／搬出する移動機構
を備えていることを特徴とする真空処理システムが提供
される。
【０００６】かかる真空処理システムによれば，搬送系
に被処理体の移動機構を備えたので，搬送系と被処理体
処理装置との間に被処理体授受手段，例えば大気ロボッ
トを配設せずとも，被処理体の搬送系と処理装置との間
の被処理体の授受を行うことが可能である。またこの移
動手段は，後述するように，構造的に大気ロボットより
も安価に製造することができるため，設備コストの削減
に優れた効果を奏する。
に被処理体の移動機構を備えたので，搬送系と被処理体
処理装置との間に被処理体授受手段，例えば大気ロボッ
トを配設せずとも，被処理体の搬送系と処理装置との間
の被処理体の授受を行うことが可能である。またこの移
動手段は，後述するように，構造的に大気ロボットより
も安価に製造することができるため，設備コストの削減
に優れた効果を奏する。
【０００７】上記移動機構の構成の一例としては，請求
項２に記載のように，搬送系の搬送経路中に設けられる
ようにしてもよい。かかる構成によれば，移動手段を配
設するための空間を必要としないため，フットプリント
の縮小化に優れた効果を奏する。
項２に記載のように，搬送系の搬送経路中に設けられる
ようにしてもよい。かかる構成によれば，移動手段を配
設するための空間を必要としないため，フットプリント
の縮小化に優れた効果を奏する。
【０００８】上記移動機構の構成の他の一例としては，
請求項３に記載のように，搬送系の搬送経路に対して待
避位置に設けられているようにしてもよい。かかる構成
によれば，被処理体の処理を搬送経路に対して待避した
位置で行うことができるので，一の被処理体の処理中で
あっても，搬送経路における他の被処理体の搬送を妨げ
ることがないという効果を奏する。
請求項３に記載のように，搬送系の搬送経路に対して待
避位置に設けられているようにしてもよい。かかる構成
によれば，被処理体の処理を搬送経路に対して待避した
位置で行うことができるので，一の被処理体の処理中で
あっても，搬送経路における他の被処理体の搬送を妨げ
ることがないという効果を奏する。
【０００９】さらに移動機構は，請求項４に記載のよう
に，真空予備室を真空排気するときに，真空予備室の一
部分を構成するようにしてもよい。かかる真空処理シス
テムによれば，システム構成を簡略化することができ，
処理時間の短縮化にも優れた効果を奏する。
に，真空予備室を真空排気するときに，真空予備室の一
部分を構成するようにしてもよい。かかる真空処理シス
テムによれば，システム構成を簡略化することができ，
処理時間の短縮化にも優れた効果を奏する。
【００１０】また被処理体は，請求項５に記載のよう
に，載置台に載置された状態で搬送されるとともに，載
置台に載置された状態で真空予備室に搬入／搬出される
ようにしてもよい。かかる構成によれば，被処理体の搬
送及び真空予備室への搬入／搬出を安定した状態で行う
ことが可能である。さらにこの場合，請求項６に記載の
ように，真空予備室を真空排気するときに載置台が真空
予備室の一部を構成するようにすると，システム構成の
簡略化や処理時間の短縮にも優れた効果を奏するので好
ましい。
に，載置台に載置された状態で搬送されるとともに，載
置台に載置された状態で真空予備室に搬入／搬出される
ようにしてもよい。かかる構成によれば，被処理体の搬
送及び真空予備室への搬入／搬出を安定した状態で行う
ことが可能である。さらにこの場合，請求項６に記載の
ように，真空予備室を真空排気するときに載置台が真空
予備室の一部を構成するようにすると，システム構成の
簡略化や処理時間の短縮にも優れた効果を奏するので好
ましい。
【００１１】さらに移動機構は，請求項７に記載のよう
に，載置台を貫通して被処理体を支持する支持ピンを有
するようにしてもよい。かかる構成によれば，載置台に
載置された被処理体を容易に載置台から取り外すことが
でき，処理時間の短縮に優れた効果を奏する。
に，載置台を貫通して被処理体を支持する支持ピンを有
するようにしてもよい。かかる構成によれば，載置台に
載置された被処理体を容易に載置台から取り外すことが
でき，処理時間の短縮に優れた効果を奏する。
【００１２】また，載置台は，請求項８に記載のよう
に，載置している被処理体に関する情報を識別する情報
タグを備えるようにしてもよい。かかる真空処理システ
ムによれば，搬送系の制御を情報タグを用いて容易に行
うことができ，処理の効率化を図ることが可能である。
に，載置している被処理体に関する情報を識別する情報
タグを備えるようにしてもよい。かかる真空処理システ
ムによれば，搬送系の制御を情報タグを用いて容易に行
うことができ，処理の効率化を図ることが可能である。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に添付図面を参照しながら，
本発明にかかる真空処理システムの好適な実施の形態に
ついて詳細に説明する。なお，本明細書及び図面におい
て，実質的に同一の機能構成を有する構成要素について
は，同一の符号を付することにより重複説明を省略す
る。
本発明にかかる真空処理システムの好適な実施の形態に
ついて詳細に説明する。なお，本明細書及び図面におい
て，実質的に同一の機能構成を有する構成要素について
は，同一の符号を付することにより重複説明を省略す
る。
【００１４】（第１の実施の形態）本実施の形態にかか
る真空処理システム１００の全体構成を，図１を参照し
ながら説明する。真空処理システム１００は，被処理体
の一例としてＬＣＤガラス基板の処理を行うシステムで
あり，図１に示したように，真空処理装置１１０と，Ｌ
ＣＤガラス基板を順次搬送する搬送系１２０とを含んで
構成されている。
る真空処理システム１００の全体構成を，図１を参照し
ながら説明する。真空処理システム１００は，被処理体
の一例としてＬＣＤガラス基板の処理を行うシステムで
あり，図１に示したように，真空処理装置１１０と，Ｌ
ＣＤガラス基板を順次搬送する搬送系１２０とを含んで
構成されている。
【００１５】真空処理装置１１０は，図１に示したよう
に，ＬＣＤガラス基板に所定の処理を施す２つの真空処
理室１１２ａ，１１２ｂと，真空処理室１１２ａ，１１
２ｂにゲートバルブＧＢを介して接続され，真空処理室
１１２ａ，１１２ｂにＬＣＤガラス基板１３０を搬入／
搬出する搬送アーム１１４を有する搬送室１１６と，搬
送室１１６にゲートバルブＧＢを介して接続される真空
予備室１１８とにより主に構成されている。なお，真空
処理室の数は２つに限定されるものではなく，処理の種
類やシステム規模等に応じて適宜設計することが可能で
ある。また，真空処理装置１１０を支持する支柱には，
基板ＩＤ読み込みユニット１１９が備えられているが，
これについては後述する。
に，ＬＣＤガラス基板に所定の処理を施す２つの真空処
理室１１２ａ，１１２ｂと，真空処理室１１２ａ，１１
２ｂにゲートバルブＧＢを介して接続され，真空処理室
１１２ａ，１１２ｂにＬＣＤガラス基板１３０を搬入／
搬出する搬送アーム１１４を有する搬送室１１６と，搬
送室１１６にゲートバルブＧＢを介して接続される真空
予備室１１８とにより主に構成されている。なお，真空
処理室の数は２つに限定されるものではなく，処理の種
類やシステム規模等に応じて適宜設計することが可能で
ある。また，真空処理装置１１０を支持する支柱には，
基板ＩＤ読み込みユニット１１９が備えられているが，
これについては後述する。
【００１６】複数のＬＣＤガラス基板を順次搬送する搬
送系１２０は，水平方向にＬＣＤガラス基板１３０を搬
送可能な搬送手段の一例たるレール１２２と，レール１
２２により搬送されたＬＣＤガラス基板１３０を所定位
置において上下方向に移動させる移動手段の一例たる昇
降機構１２４とにより主に構成されている。ＬＣＤガラ
ス基板１３０は，レール１２２上を移動するための車輪
１２７が設けられたトレイ（載置台）１２６に載置され
た状態で搬送される。
送系１２０は，水平方向にＬＣＤガラス基板１３０を搬
送可能な搬送手段の一例たるレール１２２と，レール１
２２により搬送されたＬＣＤガラス基板１３０を所定位
置において上下方向に移動させる移動手段の一例たる昇
降機構１２４とにより主に構成されている。ＬＣＤガラ
ス基板１３０は，レール１２２上を移動するための車輪
１２７が設けられたトレイ（載置台）１２６に載置され
た状態で搬送される。
【００１７】上述のように，ＬＣＤガラス基板１３０
は，レール１２２上を移動するための車輪１２７が設け
られたトレイ１２６に載置された状態で搬送される。ト
レイ１２６は，後述するように，真空予備室１１８を真
空排気するときに，昇降機構１２４により挟み込まれる
ことで，真空予備室１１８の一部を構成する。このよう
に，トレイ１２６は，真空予備室１１８と昇降機構１２
４とに挟み込まれた状態で真空状態を構成しうるよう所
定の大きさ・形状からなる。
は，レール１２２上を移動するための車輪１２７が設け
られたトレイ１２６に載置された状態で搬送される。ト
レイ１２６は，後述するように，真空予備室１１８を真
空排気するときに，昇降機構１２４により挟み込まれる
ことで，真空予備室１１８の一部を構成する。このよう
に，トレイ１２６は，真空予備室１１８と昇降機構１２
４とに挟み込まれた状態で真空状態を構成しうるよう所
定の大きさ・形状からなる。
【００１８】トレイ１２６には，載置されたＬＣＤガラ
ス基板１３０を上方に押圧してＬＣＤガラス基板１３０
の取り外しを容易にするためのリフタピンＰが貫通され
る貫通孔１３５が形成されている。ＬＣＤガラス基板１
３０のトレイ１２６への載置は，ＬＣＤガラス基板１３
０の搬送を安定した状態で行えれば，どのような方法に
より行ってもよい。例えば，トレイ１２６の表面に，Ｌ
ＣＤガラス基板１３０と実質的に同様の形状であって，
トレイ１２６の上面より一段低く形成される収納面が設
けられ，ＬＣＤガラス基板１３０をこの収納面にはめ込
む形で載置するようにしてもよい。
ス基板１３０を上方に押圧してＬＣＤガラス基板１３０
の取り外しを容易にするためのリフタピンＰが貫通され
る貫通孔１３５が形成されている。ＬＣＤガラス基板１
３０のトレイ１２６への載置は，ＬＣＤガラス基板１３
０の搬送を安定した状態で行えれば，どのような方法に
より行ってもよい。例えば，トレイ１２６の表面に，Ｌ
ＣＤガラス基板１３０と実質的に同様の形状であって，
トレイ１２６の上面より一段低く形成される収納面が設
けられ，ＬＣＤガラス基板１３０をこの収納面にはめ込
む形で載置するようにしてもよい。
【００１９】また，トレイ１２６は，載置しているＬＣ
Ｄガラス基板１３０に関する情報を識別する情報タグを
備えている。情報タグには種々考えられるが，例えば，
各ＬＣＤガラス基板ごとに定められる基板ＩＤを付与す
ることができる。そして，真空処理装置１１０を支持す
る支柱には，かかる基板ＩＤを読み込むための基板ＩＤ
読み込みユニット１１９が備えられている。基板ＩＤ読
み込みユニット１１９は，レール１２２上を搬送されて
くるＬＣＤガラス基板１３０が載置されたトレイ１２２
を，真空予備室１１８の直下に到達するまでに認識でき
るように機能する。
Ｄガラス基板１３０に関する情報を識別する情報タグを
備えている。情報タグには種々考えられるが，例えば，
各ＬＣＤガラス基板ごとに定められる基板ＩＤを付与す
ることができる。そして，真空処理装置１１０を支持す
る支柱には，かかる基板ＩＤを読み込むための基板ＩＤ
読み込みユニット１１９が備えられている。基板ＩＤ読
み込みユニット１１９は，レール１２２上を搬送されて
くるＬＣＤガラス基板１３０が載置されたトレイ１２２
を，真空予備室１１８の直下に到達するまでに認識でき
るように機能する。
【００２０】（昇降機構１２４）真空予備室１１９の直
下において，レール１２２の下段に配設される昇降機構
１２４は，搬送されたＬＣＤガラス基板１３０を昇降移
動させるように構成されている。昇降機構１２４の上部
には，処理中に真空予備室１１８の一部分を形成する下
蓋１２４ａが設けられている。下蓋１２４ａの上面に
は，トレイ１２６を貫通して載置されたＬＣＤガラス基
板１３０を上方に押圧してＬＣＤガラス基板１３０の取
り外しを容易にするためのリフタピンＰと，真空予備室
１１８の一部を構成する際に気密性を向上させるための
シール部材（Ｏリング）Ｏとが設けられている。
下において，レール１２２の下段に配設される昇降機構
１２４は，搬送されたＬＣＤガラス基板１３０を昇降移
動させるように構成されている。昇降機構１２４の上部
には，処理中に真空予備室１１８の一部分を形成する下
蓋１２４ａが設けられている。下蓋１２４ａの上面に
は，トレイ１２６を貫通して載置されたＬＣＤガラス基
板１３０を上方に押圧してＬＣＤガラス基板１３０の取
り外しを容易にするためのリフタピンＰと，真空予備室
１１８の一部を構成する際に気密性を向上させるための
シール部材（Ｏリング）Ｏとが設けられている。
【００２１】通常，被処理体搬送系にレールやコンベア
を用いた真空処理システムにおいては，被処理体搬送系
と真空処理装置との間で被処理体の授受を行うための手
段，例えば大気ロボットが必要であるが，本実施の形態
にかかる真空処理システム１００は，かかる大気ロボッ
トを必要としない点で従来のシステムと異なる。大気ロ
ボットの代わりに配設される昇降機構１２４は，例えば
シリンダにより構成することができ，構造的に大気ロボ
ットよりも安価に製造することができるため，設備コス
トの削減に優れた効果を奏する。
を用いた真空処理システムにおいては，被処理体搬送系
と真空処理装置との間で被処理体の授受を行うための手
段，例えば大気ロボットが必要であるが，本実施の形態
にかかる真空処理システム１００は，かかる大気ロボッ
トを必要としない点で従来のシステムと異なる。大気ロ
ボットの代わりに配設される昇降機構１２４は，例えば
シリンダにより構成することができ，構造的に大気ロボ
ットよりも安価に製造することができるため，設備コス
トの削減に優れた効果を奏する。
【００２２】次いで，上記構成からなる真空処理システ
ム１００の動作を図１，図２を参照しながら説明する。
基板ＩＤ読み込みユニット１１９は，レール１２２上を
搬送されてくるＬＣＤガラス基板１３０が収納されたト
レイ１２６に付与されている基板ＩＤの読み込み動作を
行っている。そして，基板ＩＤ読み込みユニット１１９
は，処理要求のなされたＬＣＤガラス基板１３０の基板
ＩＤを認識すると，図示しない制御部に対しそのＬＣＤ
ガラス基板１３０の存在を伝達する。
ム１００の動作を図１，図２を参照しながら説明する。
基板ＩＤ読み込みユニット１１９は，レール１２２上を
搬送されてくるＬＣＤガラス基板１３０が収納されたト
レイ１２６に付与されている基板ＩＤの読み込み動作を
行っている。そして，基板ＩＤ読み込みユニット１１９
は，処理要求のなされたＬＣＤガラス基板１３０の基板
ＩＤを認識すると，図示しない制御部に対しそのＬＣＤ
ガラス基板１３０の存在を伝達する。
【００２３】基板ＩＤ読み込みユニット１１９により，
処理を行うＬＣＤガラス基板１３０の存在が認識される
と，以下の工程に従い，昇降機構１２４によるＬＣＤガ
ラス基板１３０の真空処理装置１１０への搬入動作が開
始される。以下に，昇降機構１２４によるＬＣＤガラス
基板１３０の真空処理装置１１０への搬入／搬出動作に
ついて，図２を参照しながら説明する。
処理を行うＬＣＤガラス基板１３０の存在が認識される
と，以下の工程に従い，昇降機構１２４によるＬＣＤガ
ラス基板１３０の真空処理装置１１０への搬入動作が開
始される。以下に，昇降機構１２４によるＬＣＤガラス
基板１３０の真空処理装置１１０への搬入／搬出動作に
ついて，図２を参照しながら説明する。
【００２４】（１）処理を行うＬＣＤガラス基板１３０
が真空処理装置１１０の昇降機構１２４の直上まで搬送
されると，図示しない制御部の制御により，トレイ１２
６の車輪１２７が駆動を停止し，トレイ１２６は，真空
処理室１１８の直下でかつ昇降機構１２４の直上で停止
する。 （２）次いで，処理を行うＬＣＤガラス基板１３０が載
置されたトレイ１２６は，昇降機構１２４により上方へ
押圧される。これにより，トレイ１２６はＬＣＤガラス
基板１３０を載置したまま真空予備室１１８の方向へと
上昇する。 （３）さらにトレイ１３０は上昇を続け，昇降機構１２
４上部の下蓋１２４ａと真空予備室１１８との間にトレ
イ１２６を挟み込む形で，気密に一体化する。 （４）ＬＣＤガラス基板１３０が真空予備室１１８に搬
入されると，真空予備室１１８内が排気され真空状態と
なる。 （５）ＬＣＤガラス基板１３０は，リフタピンＰにより
上方へと押圧される。上方へ押圧されたＬＣＤガラス基
板１３０とトレイ１２６の上面との間に搬送アーム１１
４の載置部１１４ａが挿入されることで，ＬＣＤガラス
基板１３０はトレイ１２６から取り外される。 （６）次いで，ＬＣＤガラス基板１３０は，搬送アーム
１１４により，真空予備室１１８から搬送室１１６へと
搬送される。 （７）真空予備室１１８と搬送室１１６とを接続してい
るゲートバルブＧＶが閉じられると，ＬＣＤガラス基板
１３０は，真空系の真空処理室１１２ａ，１１２ｂの中
で所定の真空処理が施される。 （８）所定の処理を終えたＬＣＤガラス基板１３０は，
搬送アーム１１４により真空予備室１１８内に留置され
ていたトレイ１２６に載置される。次いで，真空予備室
１１８は大気圧に開放される。この際，昇降機構１２４
はトレイ１２６を上方へ支持しており，下蓋１２４ａの
真空予備室１１８からの落下を防止している。 （９）次いで，昇降機構１２４は，処理済みのＬＣＤガ
ラス基板１３０が載置されたトレイ１２６を下方へ下降
させる。これにより，トレイ１２６はレール１２２上に
載置される。そして，図示しない制御部の制御によりト
レイ１２６の車輪１２７が駆動を再開し，レール１２２
上を搬送される。
が真空処理装置１１０の昇降機構１２４の直上まで搬送
されると，図示しない制御部の制御により，トレイ１２
６の車輪１２７が駆動を停止し，トレイ１２６は，真空
処理室１１８の直下でかつ昇降機構１２４の直上で停止
する。 （２）次いで，処理を行うＬＣＤガラス基板１３０が載
置されたトレイ１２６は，昇降機構１２４により上方へ
押圧される。これにより，トレイ１２６はＬＣＤガラス
基板１３０を載置したまま真空予備室１１８の方向へと
上昇する。 （３）さらにトレイ１３０は上昇を続け，昇降機構１２
４上部の下蓋１２４ａと真空予備室１１８との間にトレ
イ１２６を挟み込む形で，気密に一体化する。 （４）ＬＣＤガラス基板１３０が真空予備室１１８に搬
入されると，真空予備室１１８内が排気され真空状態と
なる。 （５）ＬＣＤガラス基板１３０は，リフタピンＰにより
上方へと押圧される。上方へ押圧されたＬＣＤガラス基
板１３０とトレイ１２６の上面との間に搬送アーム１１
４の載置部１１４ａが挿入されることで，ＬＣＤガラス
基板１３０はトレイ１２６から取り外される。 （６）次いで，ＬＣＤガラス基板１３０は，搬送アーム
１１４により，真空予備室１１８から搬送室１１６へと
搬送される。 （７）真空予備室１１８と搬送室１１６とを接続してい
るゲートバルブＧＶが閉じられると，ＬＣＤガラス基板
１３０は，真空系の真空処理室１１２ａ，１１２ｂの中
で所定の真空処理が施される。 （８）所定の処理を終えたＬＣＤガラス基板１３０は，
搬送アーム１１４により真空予備室１１８内に留置され
ていたトレイ１２６に載置される。次いで，真空予備室
１１８は大気圧に開放される。この際，昇降機構１２４
はトレイ１２６を上方へ支持しており，下蓋１２４ａの
真空予備室１１８からの落下を防止している。 （９）次いで，昇降機構１２４は，処理済みのＬＣＤガ
ラス基板１３０が載置されたトレイ１２６を下方へ下降
させる。これにより，トレイ１２６はレール１２２上に
載置される。そして，図示しない制御部の制御によりト
レイ１２６の車輪１２７が駆動を再開し，レール１２２
上を搬送される。
【００２５】以上説明したように，本実施の形態によれ
ば，昇降機構１２４によりＬＣＤガラス基板１３０を真
空処理装置１１０の真空予備室１１８に搬入／搬出する
よう構成したので，大気ロボットを配設せずとも，真空
処理装置１１０と搬送系１２０との間のＬＣＤガラス基
板１３０の授受を行うことが可能である。またこの昇降
機構１２４は，構造的に大気ロボットよりも安価に製造
することができ，またレール１２２の下段に配設するこ
とができるため，設備コストの削減及びフットプリント
の縮小化に優れた効果を奏する。
ば，昇降機構１２４によりＬＣＤガラス基板１３０を真
空処理装置１１０の真空予備室１１８に搬入／搬出する
よう構成したので，大気ロボットを配設せずとも，真空
処理装置１１０と搬送系１２０との間のＬＣＤガラス基
板１３０の授受を行うことが可能である。またこの昇降
機構１２４は，構造的に大気ロボットよりも安価に製造
することができ，またレール１２２の下段に配設するこ
とができるため，設備コストの削減及びフットプリント
の縮小化に優れた効果を奏する。
【００２６】さらに，昇降機構１２４がＬＣＤガラス基
板１３０を真空予備室１１８に搬入したとき，真空予備
室１１８と一体となって真空予備室１１８の底面を構成
するようにしたので，システム構成を簡略化することが
でき，処理時間の短縮にも優れた効果を奏する。
板１３０を真空予備室１１８に搬入したとき，真空予備
室１１８と一体となって真空予備室１１８の底面を構成
するようにしたので，システム構成を簡略化することが
でき，処理時間の短縮にも優れた効果を奏する。
【００２７】さらにまた，ＬＣＤガラス基板１３０は，
その種別を認識するための基板ＩＤが付与されたトレイ
１２６に載置された状態でレール１２２上を搬送される
ようにし，真空処理装置１１０に基板ＩＤ読み込み装置
１１９を備えたので，搬送系１２０の制御を容易に行う
ことができ，処理の効率化を図ることが可能である。
その種別を認識するための基板ＩＤが付与されたトレイ
１２６に載置された状態でレール１２２上を搬送される
ようにし，真空処理装置１１０に基板ＩＤ読み込み装置
１１９を備えたので，搬送系１２０の制御を容易に行う
ことができ，処理の効率化を図ることが可能である。
【００２８】（第２の実施の形態）本実施の形態にかか
る真空処理システム２００の全体構成を，図３を参照し
ながら説明する。真空処理システム２００は，被処理体
の一例としてＬＣＤガラス基板の処理を行うシステムで
あり，図３に示したように，真空処理装置２１０と，Ｌ
ＣＤガラス基板を順次搬送する搬送系２２０とを含んで
構成されている。
る真空処理システム２００の全体構成を，図３を参照し
ながら説明する。真空処理システム２００は，被処理体
の一例としてＬＣＤガラス基板の処理を行うシステムで
あり，図３に示したように，真空処理装置２１０と，Ｌ
ＣＤガラス基板を順次搬送する搬送系２２０とを含んで
構成されている。
【００２９】真空処理装置２１０は，図３に示したよう
に，ＬＣＤガラス基板に所定の処理を施す２つの真空処
理室２１２ａ，２１２ｂと，真空処理室２１２ａ，２１
２ｂにゲートバルブＧＢを介して接続され，真空処理室
２１２ａ，２１２ｂにＬＣＤガラス基板２３０を搬入／
搬出する搬送アーム２１４を有する搬送室２１６と，搬
送室２１６にゲートバルブＧＢを介して接続される真空
予備室２１８とにより主に構成されている。また，真空
処理装置２１０を支持する支柱には基板ＩＤ読み込みユ
ニット２１９が備えられている。これら真空処理装置２
１０の各構成要素は，上記第１の実施の形態にかかる真
空処理装置１１０の構成要素と実質的に同様であるた
め，その詳細な説明を省略する。
に，ＬＣＤガラス基板に所定の処理を施す２つの真空処
理室２１２ａ，２１２ｂと，真空処理室２１２ａ，２１
２ｂにゲートバルブＧＢを介して接続され，真空処理室
２１２ａ，２１２ｂにＬＣＤガラス基板２３０を搬入／
搬出する搬送アーム２１４を有する搬送室２１６と，搬
送室２１６にゲートバルブＧＢを介して接続される真空
予備室２１８とにより主に構成されている。また，真空
処理装置２１０を支持する支柱には基板ＩＤ読み込みユ
ニット２１９が備えられている。これら真空処理装置２
１０の各構成要素は，上記第１の実施の形態にかかる真
空処理装置１１０の構成要素と実質的に同様であるた
め，その詳細な説明を省略する。
【００３０】複数のＬＣＤガラス基板２３０を搬送する
搬送系２２０は，水平方向にＬＣＤガラス基板２３０を
搬送可能な搬送手段の一例たるレール２２２と，レール
２２２により搬送されたＬＣＤガラス基板２３０を所定
位置において水平方向に移動させる水平移動機構２２５
と，水平移動機構２２５により水平方向に移動されたＬ
ＣＤガラス基板２３０を上下方向に移動させる昇降機構
２２４とにより主に構成されている。ＬＣＤガラス基板
２３０は，レール２２２上を移動するための車輪２２７
が設けられたトレイ（載置台）２２６に載置されて搬送
される。
搬送系２２０は，水平方向にＬＣＤガラス基板２３０を
搬送可能な搬送手段の一例たるレール２２２と，レール
２２２により搬送されたＬＣＤガラス基板２３０を所定
位置において水平方向に移動させる水平移動機構２２５
と，水平移動機構２２５により水平方向に移動されたＬ
ＣＤガラス基板２３０を上下方向に移動させる昇降機構
２２４とにより主に構成されている。ＬＣＤガラス基板
２３０は，レール２２２上を移動するための車輪２２７
が設けられたトレイ（載置台）２２６に載置されて搬送
される。
【００３１】真空処理装置２１０の搬送室２１６と真空
予備室２１８とは，レール２２２と平行に配されてお
り，処理を行うＬＣＤガラス基板２３０は，水平移動機
構２２５によりレール２２２から待避した位置に配設さ
れた真空予備室２１８の直下に移動される。すなわち，
本実施の形態においては，処理を行うＬＣＤガラス基板
２３０が載置されたトレイ２２６は，水平移動機構２２
５により水平方向に移動され，レール２２２に対して待
避位置において真空予備室２１８に搬入されるという点
に特徴がある。
予備室２１８とは，レール２２２と平行に配されてお
り，処理を行うＬＣＤガラス基板２３０は，水平移動機
構２２５によりレール２２２から待避した位置に配設さ
れた真空予備室２１８の直下に移動される。すなわち，
本実施の形態においては，処理を行うＬＣＤガラス基板
２３０が載置されたトレイ２２６は，水平移動機構２２
５により水平方向に移動され，レール２２２に対して待
避位置において真空予備室２１８に搬入されるという点
に特徴がある。
【００３２】上述のように，ＬＣＤガラス基板２３０
は，レール２２２上を移動するための車輪２２７が設け
られたトレイ２２６に載置されて搬送される。トレイ２
２６は，後述のように，ＬＣＤガラス基板２３０を真空
予備室２１８内に搬入したとき，真空予備室２１８の一
部分となって気密に接続される。なお，トレイ２２６の
構成については，上記第１の実施の形態にかかるトレイ
１２６と実質的に同様であるので，その詳細な説明を省
略する。
は，レール２２２上を移動するための車輪２２７が設け
られたトレイ２２６に載置されて搬送される。トレイ２
２６は，後述のように，ＬＣＤガラス基板２３０を真空
予備室２１８内に搬入したとき，真空予備室２１８の一
部分となって気密に接続される。なお，トレイ２２６の
構成については，上記第１の実施の形態にかかるトレイ
１２６と実質的に同様であるので，その詳細な説明を省
略する。
【００３３】また，トレイ２２６には，載置しているＬ
ＣＤガラス基板２３０に関する情報を識別する情報タグ
を備えている。情報タグの一例として，上記第１の実施
の形態と同様に，各ＬＣＤガラス基板ごとに定められる
基板ＩＤが付与されている。そして，真空処理装置２１
０を支持する支柱には，かかる基板ＩＤを読み込むため
の基板ＩＤ読み込みユニット２１９が備えられている。
基板ＩＤ読み込みユニット２１９は，レール２２２上を
搬送されてくるＬＣＤガラス基板２３０が載置されたト
レイ２２６を，水平移動機構２２５の水平位置に到達す
るまでに認識できるように機能する。
ＣＤガラス基板２３０に関する情報を識別する情報タグ
を備えている。情報タグの一例として，上記第１の実施
の形態と同様に，各ＬＣＤガラス基板ごとに定められる
基板ＩＤが付与されている。そして，真空処理装置２１
０を支持する支柱には，かかる基板ＩＤを読み込むため
の基板ＩＤ読み込みユニット２１９が備えられている。
基板ＩＤ読み込みユニット２１９は，レール２２２上を
搬送されてくるＬＣＤガラス基板２３０が載置されたト
レイ２２６を，水平移動機構２２５の水平位置に到達す
るまでに認識できるように機能する。
【００３４】（水平移動機構２２５）水平移動機構２２
５は，搬送されたＬＣＤガラス基板２３０を，水平方
向，すなわち，真空予備室２１８の方向に移動させるよ
うに構成されている。水平移動機構２２５は，レール２
２２上のトレイ２２６を，レール２２２の一部分ごと水
平方向へと移動させる。
５は，搬送されたＬＣＤガラス基板２３０を，水平方
向，すなわち，真空予備室２１８の方向に移動させるよ
うに構成されている。水平移動機構２２５は，レール２
２２上のトレイ２２６を，レール２２２の一部分ごと水
平方向へと移動させる。
【００３５】また，水平移動機構２２５は，レール２２
２の一部分が待避位置へ移動した後の当該部分を補うた
めの予備レール２２２’を備えている。レール２２２の
一部分が水平方向へ移動した後，代わりに予備レール２
２２’が当該部分に組み込まれることにより，一のＬＣ
Ｄガラス基板が処理されている間，他のＬＣＤガラス基
板はレール上を移動することができる。また，かかる構
成によれば，水平移動機構２２５を，ＬＣＤガラス基板
を一時的に格納しておくバッファとして用いることがで
き，ＬＣＤガラス基板間の処理時間のばらつきを軽減さ
せることができる。
２の一部分が待避位置へ移動した後の当該部分を補うた
めの予備レール２２２’を備えている。レール２２２の
一部分が水平方向へ移動した後，代わりに予備レール２
２２’が当該部分に組み込まれることにより，一のＬＣ
Ｄガラス基板が処理されている間，他のＬＣＤガラス基
板はレール上を移動することができる。また，かかる構
成によれば，水平移動機構２２５を，ＬＣＤガラス基板
を一時的に格納しておくバッファとして用いることがで
き，ＬＣＤガラス基板間の処理時間のばらつきを軽減さ
せることができる。
【００３６】（昇降機構２２４）真空予備室２１８の直
下において，レール２２２の下段に配設される昇降機構
２２４は，水平移動機構２２５により待避位置に搬送さ
れたＬＣＤガラス基板２３０を昇降移動させるように構
成されている。昇降機構２２４の構成は，実質的に上記
第１の実施の形態にかかる昇降機構１２４と同様である
ため，その詳細な説明を省略する。
下において，レール２２２の下段に配設される昇降機構
２２４は，水平移動機構２２５により待避位置に搬送さ
れたＬＣＤガラス基板２３０を昇降移動させるように構
成されている。昇降機構２２４の構成は，実質的に上記
第１の実施の形態にかかる昇降機構１２４と同様である
ため，その詳細な説明を省略する。
【００３７】このように，上記構成からなる本実施の形
態にかかる真空処理システム２００は，通常の真空処理
システムにおいて必要とされる大気ロボットを必要とし
ない点で，上記第１の実施の形態にかかる真空処理シス
テム１００と共通している。そしてさらに，本実施の形
態にかかる真空処理システム２００は，レール２２２に
よる通常の搬送経路のほかに，待避位置にトレイを搬送
しうるよう構成されている点に特徴がある。
態にかかる真空処理システム２００は，通常の真空処理
システムにおいて必要とされる大気ロボットを必要とし
ない点で，上記第１の実施の形態にかかる真空処理シス
テム１００と共通している。そしてさらに，本実施の形
態にかかる真空処理システム２００は，レール２２２に
よる通常の搬送経路のほかに，待避位置にトレイを搬送
しうるよう構成されている点に特徴がある。
【００３８】次いで，上記構成からなる真空処理システ
ム２００の動作を，図３を参照しながら説明する。基板
ＩＤ読み込みユニット２１９は，レール２２２上を搬送
されてくるＬＣＤガラス基板２３０が収納されたトレイ
２２６に付与されている基板ＩＤの読み込み動作を行っ
ている。そして，処理要求のなされたＬＣＤガラス基板
２３０の基板ＩＤを認識すると，図示しない制御部に対
しその存在を伝達する。
ム２００の動作を，図３を参照しながら説明する。基板
ＩＤ読み込みユニット２１９は，レール２２２上を搬送
されてくるＬＣＤガラス基板２３０が収納されたトレイ
２２６に付与されている基板ＩＤの読み込み動作を行っ
ている。そして，処理要求のなされたＬＣＤガラス基板
２３０の基板ＩＤを認識すると，図示しない制御部に対
しその存在を伝達する。
【００３９】基板ＩＤ読み込みユニット２１９により，
処理を行うＬＣＤガラス基板２３０の存在が認識される
と，以下の工程に従い，垂直移動手段２２４によるＬＣ
Ｄガラス基板２３０の真空処理装置２１０への搬入動作
が開始される。以下に，水平移動機構２２５によるＬＣ
Ｄガラス基板２３０の真空処理装置２１０への搬入動作
について説明する。
処理を行うＬＣＤガラス基板２３０の存在が認識される
と，以下の工程に従い，垂直移動手段２２４によるＬＣ
Ｄガラス基板２３０の真空処理装置２１０への搬入動作
が開始される。以下に，水平移動機構２２５によるＬＣ
Ｄガラス基板２３０の真空処理装置２１０への搬入動作
について説明する。
【００４０】（１）処理を行うＬＣＤガラス基板２３０
が水平移動手段２２４の真横まで搬送されると，図示し
ない制御部の制御により，トレイ２２６の車輪２２７が
駆動を停止し，トレイ２２６は，垂直移動手段２２４の
真横で停止する。 （２）次いで，処理を行うＬＣＤガラス基板２３０が載
置されたトレイ２２６は，水平移動機構２２５により水
平方向へ移動される。これにより，トレイ２２６は，Ｌ
ＣＤガラス基板２３０を載置したまま真空予備室１１８
の方向へと移動する。 （３）さらにトレイ２３０は移動を続け，図３に示した
ように，真空予備室２１８の直下に搬送される。このと
き，水平移動機構２２５により欠落したレールの一部に
は，予備レール２２２’が連結され，これにより，他の
ＬＣＤガラス基板は，通常通りに搬送を続けることがで
きる。 （４）真空予備室２１８の直下に搬送されたトレイ２２
６は，昇降機構２１５により上方に押圧される。これに
より，トレイ２２６はＬＣＤガラス基板を載置したまま
真空予備室２１８の方向へと上昇する。 （５）トレイ２２６の真空予備室２１８への搬入，真空
処理装置２１０における所定の処理，及び，真空処理装
置２１０からのトレイ２２６の搬出は，上記第１の実施
の形態の場合と実質的に同様である。
が水平移動手段２２４の真横まで搬送されると，図示し
ない制御部の制御により，トレイ２２６の車輪２２７が
駆動を停止し，トレイ２２６は，垂直移動手段２２４の
真横で停止する。 （２）次いで，処理を行うＬＣＤガラス基板２３０が載
置されたトレイ２２６は，水平移動機構２２５により水
平方向へ移動される。これにより，トレイ２２６は，Ｌ
ＣＤガラス基板２３０を載置したまま真空予備室１１８
の方向へと移動する。 （３）さらにトレイ２３０は移動を続け，図３に示した
ように，真空予備室２１８の直下に搬送される。このと
き，水平移動機構２２５により欠落したレールの一部に
は，予備レール２２２’が連結され，これにより，他の
ＬＣＤガラス基板は，通常通りに搬送を続けることがで
きる。 （４）真空予備室２１８の直下に搬送されたトレイ２２
６は，昇降機構２１５により上方に押圧される。これに
より，トレイ２２６はＬＣＤガラス基板を載置したまま
真空予備室２１８の方向へと上昇する。 （５）トレイ２２６の真空予備室２１８への搬入，真空
処理装置２１０における所定の処理，及び，真空処理装
置２１０からのトレイ２２６の搬出は，上記第１の実施
の形態の場合と実質的に同様である。
【００４１】以上説明したように，本実施の形態によれ
ば，水平移動機構２２５及び昇降機構２２４によりＬＣ
Ｄガラス基板２３０を真空処理装置２１０の真空予備室
２１８に搬入／搬出するよう構成したので，大気ロボッ
トを配設せずとも，真空処理装置２１０と搬送系２２０
との間のＬＣＤガラス基板２３０の授受を行うことが可
能である。またこの水平移動機構２２５及び昇降機構２
２４は，構造的に大気ロボットよりも安価に製造するこ
とができるため，設備コストの削減に優れた効果を奏す
る。
ば，水平移動機構２２５及び昇降機構２２４によりＬＣ
Ｄガラス基板２３０を真空処理装置２１０の真空予備室
２１８に搬入／搬出するよう構成したので，大気ロボッ
トを配設せずとも，真空処理装置２１０と搬送系２２０
との間のＬＣＤガラス基板２３０の授受を行うことが可
能である。またこの水平移動機構２２５及び昇降機構２
２４は，構造的に大気ロボットよりも安価に製造するこ
とができるため，設備コストの削減に優れた効果を奏す
る。
【００４２】また，ＬＣＤガラス基板２３０の処理をレ
ール２２２に対して待避した位置で行うことができるの
で，一のＬＣＤガラス基板の処理中であっても，レール
２２２における他のＬＣＤガラス基板の搬送を妨げるこ
とがないという効果を奏する。
ール２２２に対して待避した位置で行うことができるの
で，一のＬＣＤガラス基板の処理中であっても，レール
２２２における他のＬＣＤガラス基板の搬送を妨げるこ
とがないという効果を奏する。
【００４３】さらに，昇降機構２２４がＬＣＤガラス基
板２３０を真空予備室２１８に搬入したとき，真空予備
室２１８と一体となって真空予備室２１８の底面を構成
するようにしたので，システム構成を簡略化することが
でき，処理時間の短縮にも優れた効果を奏する。
板２３０を真空予備室２１８に搬入したとき，真空予備
室２１８と一体となって真空予備室２１８の底面を構成
するようにしたので，システム構成を簡略化することが
でき，処理時間の短縮にも優れた効果を奏する。
【００４４】さらにまた，ＬＣＤガラス基板２３０は，
その種別を認識するための基板ＩＤが付与されたトレイ
２２６に載置された状態でレール２２２上を搬送される
ようにし，真空処理装置２１０に基板ＩＤ読み込み装置
２１９を備えたので，搬送系２２０の制御を容易に行う
ことができ，処理の効率化を図ることが可能である。
その種別を認識するための基板ＩＤが付与されたトレイ
２２６に載置された状態でレール２２２上を搬送される
ようにし，真空処理装置２１０に基板ＩＤ読み込み装置
２１９を備えたので，搬送系２２０の制御を容易に行う
ことができ，処理の効率化を図ることが可能である。
【００４５】以上，添付図面を参照しながら本発明にか
かる真空処理システムの好適な実施形態について説明し
たが，本発明はかかる例に限定されない。当業者であれ
ば，特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内に
おいて各種の変更例または修正例に想到し得ることは明
らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範
囲に属するものと了解される。
かる真空処理システムの好適な実施形態について説明し
たが，本発明はかかる例に限定されない。当業者であれ
ば，特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内に
おいて各種の変更例または修正例に想到し得ることは明
らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範
囲に属するものと了解される。
【００４６】例えば，上記実施の形態においては，被処
理体の搬送手段としてレールを用いた場合の一例につい
て説明したが，本発明はこれに限定されない。例えば，
多数の回転ローラが所定間隔で並設され，その回転ロー
ラの回転駆動により，被処理体を下方から支持して水平
方向に搬送するよう構成されたコンベアを搬送手段とし
て用いてもよい。
理体の搬送手段としてレールを用いた場合の一例につい
て説明したが，本発明はこれに限定されない。例えば，
多数の回転ローラが所定間隔で並設され，その回転ロー
ラの回転駆動により，被処理体を下方から支持して水平
方向に搬送するよう構成されたコンベアを搬送手段とし
て用いてもよい。
【００４７】また，上記実施の形態においては，被処理
体の種別を認識するための基板ＩＤをトレイに付与した
場合の一例につき説明したが，本発明はこれに限定され
ない。例えば，被処理体自体に種別認識のための所定の
処理を施しておくことも可能である。
体の種別を認識するための基板ＩＤをトレイに付与した
場合の一例につき説明したが，本発明はこれに限定され
ない。例えば，被処理体自体に種別認識のための所定の
処理を施しておくことも可能である。
【００４８】さらにまた，上記実施の形態においては，
被処理体の載置台たるトレイが真空予備室の底面の一部
分を構成する場合の一例について説明したが，本発明は
これに限定されない。例えば，トレイが真空処理室の側
面の一部分を構成する場合や，側面及び底面の一部分を
構成する場合であっても同様に本発明は適用可能であ
る。
被処理体の載置台たるトレイが真空予備室の底面の一部
分を構成する場合の一例について説明したが，本発明は
これに限定されない。例えば，トレイが真空処理室の側
面の一部分を構成する場合や，側面及び底面の一部分を
構成する場合であっても同様に本発明は適用可能であ
る。
【００４９】
【発明の効果】以上説明したように，本発明によれば，
移動手段により被処理体を処理装置の真空予備室に搬入
・搬出するよう構成したので，大気ロボット等の被処理
体授受手段を配設せずとも，被処理体の搬送手段と処理
装置との間の被処理体の授受を行うことが可能である。
またこの移動手段は，構造的に安価に製造することがで
き，また搬送手段と一体に配設することができるため，
設備コストの削減及びフットプリントの縮小化に優れた
効果を奏する。
移動手段により被処理体を処理装置の真空予備室に搬入
・搬出するよう構成したので，大気ロボット等の被処理
体授受手段を配設せずとも，被処理体の搬送手段と処理
装置との間の被処理体の授受を行うことが可能である。
またこの移動手段は，構造的に安価に製造することがで
き，また搬送手段と一体に配設することができるため，
設備コストの削減及びフットプリントの縮小化に優れた
効果を奏する。
【図１】発明の第１の実施の形態にかかる真空処理シス
テムの概略を表す説明図である。
テムの概略を表す説明図である。
【図２】図１の真空処理システムの動作を説明するため
の説明図である。
の説明図である。
【図３】発明の第２の実施の形態にかかる真空処理シス
テムの概略を表す説明図である。
テムの概略を表す説明図である。
１００，２００ 真空処理システム １１０，２１０ 真空処理装置 １１２，２１２ 真空処理室 １１４，２１４ 搬送アーム １１６，２１６ 搬送室 １１８，２１８ 真空予備室 １１９，２１９ 基板ＩＤ読み込みユニット １２０，２２０ 搬送系 １２２，２２２ レール １２４，２２４ 昇降機構 １２４ａ 下蓋 １２６，２２６ トレイ １２７，２２７ 車輪 １３０，２３０ ＬＣＤガラス基板 ２２５ 水平移動機構
Claims (8)
- 【請求項１】 被処理体に所定の処理を施す少なくとも
一の真空処理室と；前記真空処理室にゲートバルブを介
して接続され，前記真空処理室に前記被処理体を搬入／
搬出する搬送アームを有する搬送室と；前記搬送室にゲ
ートバルブを介して接続される真空予備室と；複数の被
処理体を順次搬送する搬送系と；を備えた真空処理シス
テムにおいて：前記搬送系は，所定位置において，前記
被処理体を上下方向および／または水平方向に移動させ
て，前記真空予備室に搬入／搬出する移動機構を備えて
いることを特徴とする，真空処理システム。 - 【請求項２】 前記移動機構は，前記搬送系の搬送経路
中に設けられていることを特徴とする，請求項１に記載
の真空処理システム。 - 【請求項３】 前記移動機構は，前記搬送系の搬送経路
に対して待避位置に設けられていることを特徴とする，
請求項１に記載の真空処理システム。 - 【請求項４】 前記移動機構は，前記真空予備室を真空
排気するときに，前記真空予備室の一部を構成すること
を特徴とする，請求項１，２または３のいずれかに記載
の真空処理システム。 - 【請求項５】 前記被処理体は，載置台に載置された状
態で搬送されるとともに，前記載置台に載置された状態
で前記真空予備室に搬入／搬出されることを特徴とす
る，請求項１，２，３または４のいずれかに記載の真空
処理システム。 - 【請求項６】 前記載置台は，前記真空予備室を真空排
気するときに，前記真空予備室の一部を構成することを
特徴とする，請求項５に記載の真空処理システム。 - 【請求項７】 前記移動機構は，前記載置台を貫通して
前記被処理体を支持する支持ピンを有することを特徴と
する，請求項５または６に記載の真空処理システム。 - 【請求項８】 前記載置台は，載置している被処理体に
関する情報を識別する情報タグを備えていることを特徴
とする，請求項５，６または７のいずれかに記載の真空
処理システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13256099A JP4302817B2 (ja) | 1999-05-13 | 1999-05-13 | 真空処理システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13256099A JP4302817B2 (ja) | 1999-05-13 | 1999-05-13 | 真空処理システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000323548A true JP2000323548A (ja) | 2000-11-24 |
| JP4302817B2 JP4302817B2 (ja) | 2009-07-29 |
Family
ID=15084161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13256099A Expired - Fee Related JP4302817B2 (ja) | 1999-05-13 | 1999-05-13 | 真空処理システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4302817B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003515951A (ja) * | 1999-11-30 | 2003-05-07 | ウエファーマスターズ， インコーポレイテッド | ウエハ処理システム |
| JP2005228771A (ja) * | 2004-02-10 | 2005-08-25 | Shinko Electric Co Ltd | 基板搬送方法、及びその装置 |
| JPWO2006046580A1 (ja) * | 2004-10-25 | 2008-08-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 搬送システム、基板処理装置、及び搬送方法 |
| JP2008219032A (ja) * | 2001-08-10 | 2008-09-18 | Asml Holding Nv | レチクルを保護及び搬送する装置及び方法 |
| US7622006B2 (en) | 2001-12-25 | 2009-11-24 | Tokyo Electron Limited | Processed body carrying device, and processing system with carrying device |
| CN103316818A (zh) * | 2013-07-01 | 2013-09-25 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 涂胶处理***和涂胶处理方法 |
| JP2016149437A (ja) * | 2015-02-12 | 2016-08-18 | 株式会社ディスコ | ウェーハ処理システム |
| CN108421679A (zh) * | 2018-05-14 | 2018-08-21 | 苏州固孚智能装备有限公司 | 全自动双真空箱灌胶机 |
| CN114735625A (zh) * | 2022-04-13 | 2022-07-12 | 浙江大学杭州国际科创中心 | 一种非晶碳膜加工用惰性物质植入设备 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6245117A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-02-27 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
| JPS63132443A (ja) * | 1986-11-22 | 1988-06-04 | Tokuda Seisakusho Ltd | ウエハ搬送装置 |
| JPS6444035A (en) * | 1987-08-12 | 1989-02-16 | Hitachi Ltd | Production using single wafer carrier |
| JPH06191639A (ja) * | 1992-10-16 | 1994-07-12 | Commiss Energ Atom | 偏平物品の取扱い装置 |
| JPH07297258A (ja) * | 1994-04-26 | 1995-11-10 | Tokyo Electron Ltd | 板状体の搬送装置 |
| JPH0936198A (ja) * | 1995-07-19 | 1997-02-07 | Hitachi Ltd | 真空処理装置およびそれを用いた半導体製造ライン |
| JPH1150253A (ja) * | 1997-07-31 | 1999-02-23 | Shibaura Eng Works Co Ltd | 真空処理装置 |
-
1999
- 1999-05-13 JP JP13256099A patent/JP4302817B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6245117A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-02-27 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
| JPS63132443A (ja) * | 1986-11-22 | 1988-06-04 | Tokuda Seisakusho Ltd | ウエハ搬送装置 |
| JPS6444035A (en) * | 1987-08-12 | 1989-02-16 | Hitachi Ltd | Production using single wafer carrier |
| JPH06191639A (ja) * | 1992-10-16 | 1994-07-12 | Commiss Energ Atom | 偏平物品の取扱い装置 |
| JPH07297258A (ja) * | 1994-04-26 | 1995-11-10 | Tokyo Electron Ltd | 板状体の搬送装置 |
| JPH0936198A (ja) * | 1995-07-19 | 1997-02-07 | Hitachi Ltd | 真空処理装置およびそれを用いた半導体製造ライン |
| JPH1150253A (ja) * | 1997-07-31 | 1999-02-23 | Shibaura Eng Works Co Ltd | 真空処理装置 |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003515951A (ja) * | 1999-11-30 | 2003-05-07 | ウエファーマスターズ， インコーポレイテッド | ウエハ処理システム |
| JP4717096B2 (ja) * | 2001-08-10 | 2011-07-06 | エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ． | レチクルを保護及び搬送する装置及び方法 |
| JP2008219032A (ja) * | 2001-08-10 | 2008-09-18 | Asml Holding Nv | レチクルを保護及び搬送する装置及び方法 |
| US7622006B2 (en) | 2001-12-25 | 2009-11-24 | Tokyo Electron Limited | Processed body carrying device, and processing system with carrying device |
| JP2005228771A (ja) * | 2004-02-10 | 2005-08-25 | Shinko Electric Co Ltd | 基板搬送方法、及びその装置 |
| JPWO2006046580A1 (ja) * | 2004-10-25 | 2008-08-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 搬送システム、基板処理装置、及び搬送方法 |
| JP4642032B2 (ja) * | 2004-10-25 | 2011-03-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 搬送システム、及び基板処理装置 |
| US8025473B2 (en) | 2004-10-25 | 2011-09-27 | Tokyo Electron Limited | Carrying system, substrate treating device, and carrying method |
| CN103316818A (zh) * | 2013-07-01 | 2013-09-25 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 涂胶处理***和涂胶处理方法 |
| WO2015000237A1 (zh) * | 2013-07-01 | 2015-01-08 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 涂胶处理***和涂胶处理方法 |
| JP2016149437A (ja) * | 2015-02-12 | 2016-08-18 | 株式会社ディスコ | ウェーハ処理システム |
| CN108421679A (zh) * | 2018-05-14 | 2018-08-21 | 苏州固孚智能装备有限公司 | 全自动双真空箱灌胶机 |
| CN108421679B (zh) * | 2018-05-14 | 2024-02-02 | 苏州固孚智能装备有限公司 | 全自动双真空箱灌胶机 |
| CN114735625A (zh) * | 2022-04-13 | 2022-07-12 | 浙江大学杭州国际科创中心 | 一种非晶碳膜加工用惰性物质植入设备 |
| CN114735625B (zh) * | 2022-04-13 | 2024-04-05 | 浙江大学杭州国际科创中心 | 一种非晶碳膜加工用惰性物质植入设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4302817B2 (ja) | 2009-07-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI508217B (zh) | 基板處理裝置 | |
| US6331095B1 (en) | Transportation system and processing apparatus employing the transportation system | |
| TWI719534B (zh) | 基板對準方法、基板對準裝置、基板處理方法、及基板處理裝置 | |
| JP6559087B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3971601B2 (ja) | 基板受渡装置および基板処理装置 | |
| JP2000150400A (ja) | 縦型熱処理装置およびボート搬送方法 | |
| WO2011083525A1 (ja) | 搬送車システム | |
| KR102521418B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 반송 방법 그리고 기판 반송 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체 | |
| TW563184B (en) | Method and apparatus for processing substrates and method for manufacturing a semiconductor device | |
| KR20220137858A (ko) | 기판 처리 장치 | |
| JP4302817B2 (ja) | 真空処理システム | |
| JP5104257B2 (ja) | 基板貼り合せシステム | |
| JP2022083862A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
| JPH1179388A (ja) | ガラス類枚葉処理装置 | |
| JPH1079412A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP4229497B2 (ja) | 基板処理装置および基板の処理方法 | |
| JPWO2008129603A1 (ja) | 基板搬送システム | |
| CN220456371U (zh) | 前开式晶圆传送盒的多层储存及装载*** | |
| JP2013165177A (ja) | ストッカー装置 | |
| JP3683345B2 (ja) | 基板搬入搬出装置 | |
| KR100625310B1 (ko) | 기판 세정 시스템 | |
| JP3205525B2 (ja) | 基板の取出装置，搬入装置及び取出搬入装置 | |
| JP4255676B2 (ja) | 基板運搬装置 | |
| JPH0755533Y2 (ja) | 基板収納用カセットの歪み矯正装置 | |
| CN118255289A (en) | Automatic teaching carrying system and method |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060405 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081219 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090106 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090225 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090421 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090423 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120501 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150501 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |