JP7262293B2 - 真空処理装置 - Google Patents
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- 被処理基板に対して所定の真空処理を連続して施す真空処理装置において、
水平面内で互いに直交する二方向をX軸方向及びY軸方向、X軸方向及びY軸方向に直交する鉛直方向をZ軸方向とし、被処理基板の処理面をZ軸方向に向けた水平姿勢で被処理基板が搬出入されるロードロックチャンバと、
ロードロックチャンバにゲートバルブを介して連設されて、水平姿勢と、処理面が水平方向を向く垂直姿勢との間で被処理基板の姿勢変更を可能とする姿勢変更手段を有する姿勢変更チャンバと、
姿勢変更チャンバに連設されて、垂直姿勢の被処理基板のZ軸回りの回転を可能とする回転手段と、回転手段をX軸方向及びY軸方向の少なくとも一方に所定ストロークで往復動する駆動手段とを有する回転チャンバと、
X軸方向で回転チャンバに連設されて、被処理基板に対して所定の真空処理を施す処理手段を夫々有する複数の処理チャンバと、
X軸方向で回転チャンバから最離間した処理チャンバを中間チャンバとし、中間チャンバに連設されて、Y軸方向一方を向く姿勢で中間チャンバから搬入される被処理基板を、Y軸方向他方を向く姿勢に反転させた状態で中間チャンバに搬出するターンバック手段を有するターンバックチャンバとを備え、
姿勢変更チャンバと回転チャンバとに跨ってのびる少なくとも2本の搬送路が備えられ、
前記姿勢変更チャンバ内に、垂直姿勢の被処理基板をX軸方向前後に移送する移送手段と、姿勢変更手段からX軸方向前方に間隔を存して配置され、処理面に対しその処理範囲を規制するマスクプレートの装着または脱離を可能とする着脱手段とが設けられていることを特徴とする真空処理装置。 - 被処理基板に対して所定の真空処理を連続して施す真空処理装置において、
水平面内で互いに直交する二方向をX軸方向及びY軸方向、X軸方向及びY軸方向に直交する鉛直方向をZ軸方向とし、被処理基板の処理面をZ軸方向に向けた水平姿勢で被処理基板が搬出入されるロードロックチャンバと、
ロードロックチャンバにゲートバルブを介して連設されて、水平姿勢と、処理面が水平方向を向く垂直姿勢との間で被処理基板の姿勢変更を可能とする姿勢変更手段を有する姿勢変更チャンバと、
姿勢変更チャンバに連設されて、垂直姿勢の被処理基板のZ軸回りの回転を可能とする回転手段と、回転手段をX軸方向及びY軸方向の少なくとも一方に所定ストロークで往復動する駆動手段とを有する回転チャンバと、
X軸方向で回転チャンバに連設されて、被処理基板に対して所定の真空処理を施す処理手段を夫々有する複数の処理チャンバと、
X軸方向で回転チャンバから最離間した処理チャンバを中間チャンバとし、中間チャンバに連設されて、Y軸方向一方を向く姿勢で中間チャンバから搬入される被処理基板を、Y軸方向他方を向く姿勢に反転させた状態で中間チャンバに搬出するターンバック手段を有するターンバックチャンバとを備え、
姿勢変更チャンバと回転チャンバとに跨ってのびる少なくとも2本の搬送路が備えられ、
前記姿勢変更チャンバと回転チャンバとの間にマスク着脱チャンバを更に備え、マスク着脱チャンバ内に、前記搬送路に沿って搬送される基板をこの搬送路の長手方向と直交する方向前後に移送する他の移送手段と、処理面に対しその処理範囲を規制するマスクプレートの装着または脱離を可能とする着脱手段とが設けられることを特徴とする真空処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2019086494A JP7262293B2 (ja) | 2019-04-26 | 2019-04-26 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2019086494A JP7262293B2 (ja) | 2019-04-26 | 2019-04-26 | 真空処理装置 |
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JP2020183548A JP2020183548A (ja) | 2020-11-12 |
JP7262293B2 true JP7262293B2 (ja) | 2023-04-21 |
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ID=73045345
Family Applications (1)
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JP2019086494A Active JP7262293B2 (ja) | 2019-04-26 | 2019-04-26 | 真空処理装置 |
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003109996A (ja) | 2001-09-28 | 2003-04-11 | Anelva Corp | 基板搬送室及び基板処理装置 |
JP2005206852A (ja) | 2004-01-20 | 2005-08-04 | Ulvac Japan Ltd | インライン式真空処理装置 |
JP2017506703A (ja) | 2014-02-04 | 2017-03-09 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | キャリアによって支持された基板上に一又は複数の層を堆積させるためのシステム、及び当該システムを使用する方法 |
-
2019
- 2019-04-26 JP JP2019086494A patent/JP7262293B2/ja active Active
Patent Citations (3)
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