KR100669290B1 - 플라즈마 디스플레이 장치 - Google Patents

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마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤
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Abstract

패널(11)에 구동 전류를 공급하는 스위칭 소자(36) ~ 스위칭 소자(39)를 갖는 유지 회로 기판(32 및 33)을 구비하고, 상기 유지 회로 기판(32 및 33)에 상기 구동 전류를 흐르게 하기 위한 제 1 배선 패턴과 상기 제 1 배선 패턴에 대향하도록 형성되는 동시에 상기 제 1 배선 패턴에 흐르는 방향과 역방향으로 상기 구동 전류를 흐르게 하는 제 2 배선 패턴을 배설한다. 이러한 구성에 의해 기생 인덕턴스가 저감되고, 패널의 전압 파형의 울림이 저감되는 플라즈마 디스플레이 장치를 제공한다.
플라즈마, 디스플레이

Description

플라즈마 디스플레이 장치{Plasma display device}
본 발명은 텔레비전 수상기 및 컴퓨터 단말 등의 화상 표시에 사용하는 플라즈마 디스플레이 장치에 관한 것이다.
최근 플라즈마 디스플레이 장치는 시인성(視認性)이 우수한 표시 패널(박형 표시 디바이스)로써 주목받고, 고정밀화 및 대화면화가 진행되고 있다.
이 플라즈마 디스플레이 장치는 크게 구별하여 구동적으로는 AC형과 DC형이 있고, 방전형식으로는 면 방전형과 대향 방전형의 2 종류이다. 고정밀화, 대화면화 및 제조의 간편성으로 현상태로는 AC형 면 방전형의 플라즈마 디스플레이 장치가 주류를 차지하고 있다.
이러한 플라즈마 디스플레이 장치에서는 투명한 한 쌍의 유리 기판을 대향 배치하고, 이 유리 기판 사이에 방전 공간이 형성되도록 한다. 또한, 이 유리 기판에 전극 군을 배치한 플라즈마 디스플레이 패널(이하, 패널이라고 함)과 이 패널을 보호하는 섀시 부재와, 이 섀시 부재에 부착되는 패널에 신호를 인가하여 표시를 수행하는 표시 구동 회로 블록과 패널 모듈을 구성한다. 그래서, 이 패널 모듈을 케이스로 덮는 것에 의해 완성품이 된다.
또한, 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서 표시 패널의 구조에 대하여 도 8 을 사용하여 설명한다. 도 8에 나타낸 것처럼 유리 기판 등의 투명한 전면측의 기판(1) 상에는 주사 전극과 유지 전극의 쌍으로 된 줄무늬 형상의 표시 전극(2)이 복수열 형성된다. 또한, 이 전극 군을 덮도록 유전체층(3)이 형성되고, 이 유전체층(3) 상에는 보호막(4)이 형성되어 있다.
또한, 전면측 기판(1)에 대향하여 배치된 배면측의 기판(5) 상에는 주사 전극 및 유지 전극의 표시 전극(2)과 교차하도록 코팅층(6)으로 덮인 복수열의 줄무늬 형상의 어드레스 전극(7)이 형성되어 있다. 이 어드레스 전극(7) 사이의 코팅층 상에는 어드레스 전극(7)과 평행하게 복수의 격벽(8)이 배치되고, 이 격벽(8)사이의 측면 및 코팅층(6) 표면에 형광체층(9)이 설치되어 있다.
이러한 기판(1)과 기판(5)은 주사 전극 및 유지 전극의 표시 전극(2)과 어드레스 전극(7)이 거의 직교하도록, 미소한 방전 공간을 끼고 대향 배치됨과 동시에 주변이 밀봉된다. 상기 방전 공간에는 헬륨, 네온, 아르곤, 제논 가스 또는 그것들의 일종 또는 혼합가스가 방전 가스로서 봉입되어 있다. 또한, 방전 공간은 격벽(8)에 의해 복수의 구획으로 나누어짐으로써 표시 전극(2)과 어드레스 전극(7)의 교점에 위치하는 복수의 방전 셀이 설치되고, 이 각 방전 셀에는 적색, 녹색 및 청색이 되도록 형광체층(9)이 한 색씩 순차 배치되어 있다.
도 9는 이 패널의 전극 배열을 나타낸다. 도 9에 나타낸 것처럼 주사 전극 및 유지 전극과 어드레스 전극은 M행 ×N열의 매트릭스 구성이다. 행방향으로는 M행의 주사 전극 SCN1~SCNM 및 유지 전극 SUS1~SUSM이 배열되고, 열방향으로는 N열의 어드레스 전극 D1~DN이 배열된다.
이와 같은 전극 구성의 패널에 있어서는 어드레스 전극과 주사 전극의 사이에 펄스가 인가되는 것에 의해 어드레스 전극과 주사 전극의 사이에 어드레스 방전이 이루어지고, 방전 셀이 선택된다. 그래서, 주사 전극과 유지 전극의 사이에 교대로 반전하는 주기적인 유지 펄스가 인가됨으로써 주사 전극과 유지 전극의 사이에 유지 방전이 발생하여 소정의 표시가 이루어진다.
도 10은 이러한 패널을 이용한 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서, 주요 회로 기판의 배치 구조를 나타낸다. 또한, 도 12는 이 플라즈마 표시 장치의 전기적 등가 회로를 나타낸 회로도이다. 도 10에 나타낸 것처럼, 패널(11)은 기계적 강도를 높이기 위해 지지기판(12)에 접착되어 있다. 그래서, 도 12에 나타낸 패널(11) 일측의 주사 전극 군(11a)에는 가요성(flexible) 접속기판(13)을 통해 유지회로 기판(14)이 접속되고, 타측의 유지 전극 군(11b)에는 가요성 접속기판(13)을 통해 유지회로 기판(15)이 접속된다.
유지 회로 기판(14)에는 패널(11)을 구동하기 위한 스위칭 소자(16 및 17) 및 펄스 전류 공급원으로써 평활 캐패시터(18)가 설치되어 있다. 또한, 상기 유지회로 기판(15)에는 패널(11)을 구동하기 위한 스위칭 소자(19 및 20) 및 펄스 전류 공급원으로써 평활 캐패시터(21)가 설치되어 있다.
또한, 유지 회로 기판(14 및 15)은 각각 도전성 지지수단(22)을 통해 도전성 기판(23)에 기계적으로 부착되고, 동시에 전기적으로 접속되어 있다. 더욱이 유지회로 기판(14 및 15)은 전원 회로(24)에 배선 부재(25 및 26)를 통해 접속되고, 이 전원 회로(24)로부터 유지 회로 기판(14 및 15)에 전압이 공급된다.
이 플라즈마 디스플레이 장치에서는 유지 회로 기판(14)과 유지 회로 기판(15)으로부터 교대로 유지 펄스가 출력되고, 도 11에 나타낸 것처럼 주사 전극 군과 유지 전극 군에 유지 펄스가 인가되고, 패널(11)에 구동 전류가 공급된다.
또한, 상술한 기술은 일본 특허 제 2807672호 공보에 기재되어 있다.
그런데, 상기 종래의 플라즈마 디스플레이 장치에서는 도 12에 나타낸 것처럼 선로에 구동전류가 흐른다. 기간 t1은 주사 전극 군(11a)에 유지 펄스를 인가하는 기간이다. 구동 전류는 평활 캐패시터(18)의 플러스측 전극으로부터 스위칭 소자(16)를 거쳐 패널(11)로 흘러 들어간다. 더욱이, 이 구동 전류는 패널(11)로부터 스위칭 소자(20)를 거쳐 도전성 기판(23)을 통해 원래의 평활 캐패시터(18)의 마이너스측 전극으로 입력되어 되돌아온다.
기간 t2는 유지 전극 군(11b)에 유지 펄스를 인가하는 기간이다. 구동 전류는 평활 캐패시터(21)의 플러스측 전극으로부터 스위칭 소자(19)를 거쳐 패널(11)로 흘러 들어간다. 더욱이, 이 구동 전류는 패널(11)로부터 스위칭 소자(17)를 거쳐 도전성 기판(23)을 통해 원래의 평활 캐패시터(21)의 마이너스측 전극으로 입력되어 되돌아온다. 또한, 도 12에 있어서, 용량성 성분(C)이 패널(11)의 각 방전셀에 존재하고, 기생 인덕턴스 L1 ~ L15가 각 부에 존재한다.
그러나, 도 12에 나타낸 것처럼 패널(11)과 유지 회로 기판(14 및 15), 도전성 기판(23)으로 구성된 전류 경로에는 기생 인덕턴스(L1 ~ S15)가 존재한다. 따라서, 패널(11)의 유지 동작에서, di/dt의 큰 구동 전류가 흐르고, 도 11에 나타낸 것처럼 구동 전류가 흐르는 순간에 패널(11)의 전극 군에 인가되는 전압 파형에 큰 울림(ringing)이 발생한다. 이 때문에, 패널(11)에 인가되는 전압이 낮아져 패널(11)의 동작 전압 마진이 좁아지는 문제점이 있었다.
본 발명은 플라즈마 디스플레이 장치의 기생 인덕턴스를 감소하여 패널의 전압 파형의 울림을 감소하는 것이다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치는 패널의 구동 전류를 공급하는 스위칭 소자를 갖는 회로 기판을 구비하고, 이 회로 기판에 구동 전류를 흐르게 하기 위한 제 1 배선 패턴과, 이 제 1 배선 패턴에 대향하도록 형성됨과 동시에 제 1 배선 패턴에 흐르는 방향과는 역방향으로 구동 전류를 흐르게 하는 제 2 배선 패턴을 배설한 것을 특징으로 한다.
도 1 은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 주요부 구조를 나타낸 사시도이다.
도 2 는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 유지 회로 기판에 형성한 배선 패턴을 나타낸 평면도이다.
도 3 은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 다른 유지 회로 기판에 형성한 배선 패턴을 나타낸 평면도이다.
도 4 는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 파형도이다.
도 5 는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 전기적 등가 회로를 나타낸 회로도이다.
도 6 은 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 주요부 구조를 나타낸 사시도이다.
도 7 은 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 전기적 등가 회로를 나타낸 회로도이다.
도 8 은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 사시도이다.
도 9 는 종래의 전기 배선도이다.
도 10 은 종래의 플라즈마 디스플레이 장치를 나타낸 사시도이다.
도 11 은 종래의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 파형도이다.
도 12 는 종래의 플라즈마 디스플레이 장치의 전기적 등가 회로를 나타낸 회로도이다.
이하, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 장치에 대하여 도 1 ~ 도 7의 도면을 참조하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서, 회로 기판의 배치 구조를 나타낸 도면이다.
패널(11)은 도전성 기판에 있는 알루미늄으로 된 섀시 부재(31)에 열전도성 부재를 통해 접착되는 것에 의해 보호되어 있다.
유지 회로 기판(32 및 33)은 섀시 부재(31)에 나사 등의 도전성 지지수단(34)에 의해 부착되고, 패널(11)의 주사 전극 군(11a), 유지 전극 군(11b)에 배선 기판으로서의 복수의 가요성 접속 기판(35)을 통하여 접속되어 있다. 또한, 이 유 지 회로 기판(32 및 33)에는 각각 패널(11)을 구동하기 위해 MOSFET 등으로 된 스위칭 소자(36 ~ 39)와, 펄스 전류 공급원으로서의 평활 캐패시터(40, 41)가 설치되어 배설되어 있다.
도 2는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 유지 회로 기판에 형성한 배선 패턴을 나타낸 평면도이다.
유지 회로 기판(32)은 도 2A에 나타낸 것처럼, 스위칭 소자(36 및 37)나 평활 캐패시터(40)의 설치면 측에 패널(11)의 전극에 접속한 가요성 접속기판(35)이 접속된 제 1 배선 패턴(42)을 형성한다. 또한, 도 2B에 나타낸 것처럼, 반대의 이면측에 이 제 1 배선 패턴(42)에 대향하도록 제 2 배선 패턴(43)을 형성하고 있다. 더욱이, 도 2A에는 설치면측에 평활 캐패시터(40)와 스위칭 소자(36)를 접속하는 제 3 배선 패턴(44)을 형성하고, 도 2B에 나타낸 반대의 배면측에는 이 제 3 배선 패턴(44)에 대향하도록 제 2 배선 패턴(43)과 일체로 제 4 배선 패턴(45)을 형성하고 있다. 또한, 유지 회로 기판(32)의 배선 패턴(43)은 유지 회로 기판(32)을 섀시 부재(31)에 부착하는 나사에 의해 섀시 부재(31)에 접지되어 있다.
도 3은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 다른 유지 회로 기판에 형성하는 배선 패턴을 나타낸 평면도이다.
유지 회로 기판(33)은 도 3A에 나타낸 것처럼, 스위칭 소자(38, 39)나 평활 캐패시터(41)의 설치면 측에 상기 패널(11)의 전극에 접속한 가요성 접속기판(35)이 접속된 제 1 배선 패턴(46)을 형성한다. 또한, 도 3B에 나타낸 것처럼, 반대의 이면측에 이 제 1 배선 패턴(46)에 대향하도록 제 2 배선 패턴(47)을 형성하고 있 다. 더욱이 도 3A에는 설치면 측에 평활 캐패시터(41)와 스위칭 소자(38)를 접속한 제 3 배선 패턴(48)을 형성하고, 도 3B에 나타낸 반대의 배면측에는 이 제 3 배선 패턴(48)에 대향하도록 제 2 배선 패턴(47)과 일체로 제 4 배선 패턴(49)을 형성하고 있다. 또한, 유지 회로 기판(33)의 배선 패턴(47)은 유지 회로 기판(33)을 섀시 부재(31)에 부착하는 나사에 의해 섀시 부재(31)에 접지되어 있다.
도 1에 나타낸 전원 회로(50)는 유지 회로 기판(32 및 33)에 전압을 공급하고, 배선부재(51, 52)를 통해 상기 유지 회로 기판(32 및 33)에 접속되어 있다.
도 4는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 파형도이다.
이와 같은 플라즈마 디스플레이 장치에서, 도 4에 나타낸 것처럼, 유지 회로 기판(32)과 유지 회로 기판(33)으로부터 교대로 유지 펄스가 출력되고, 주사 전극 군과 유지 전극 군에 유지 펄스가 인가되어 패널(11)에 구동 전류가 공급된다. 이 구동 전류는 펄스 파형이며, 큰 di/dt를 갖는다. 42 인치 사이즈의 패널을 예로 들면, 구동 전류의 di/dt는
Figure 112005001019684-pct00001
A/S 정도까지 도달한다.
도 5는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 전기적 등가 회로를 나타낸 회로도이다. 본 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 전류의 경로에 대하여 도 5를 이용하여 설명한다.
기간 t1은 주사 전극 군(11a)에 유지 펄스를 인가하는 기간이다. 플라즈마 디스플레이 장치의 구동 전류는 평활 캐패시터(40)의 플러스측 전극으로부터 기생 인덕턴스 L44를 가진 유지 회로 기판(32)의 배선 패턴(44) 상을 통해 스위칭 소자 (36)로 들어간다. 더욱이 구동 전류는 스위칭 소자(36)로부터 기생 인덕턴스 L42를 가진 유지 회로 기판(32)의 배선 패턴(42) 상을 통해, 기생 인덕턴스 L35를 가진 가요성 접속기판(35)을 거쳐 전극 군의 기생 인덕턴스 L11 및 셀(cell)군의 용량성 성분(C)을 가진 패널(11)에 흘러 들어간다. 다음으로 이 구동 전류는 패널(11)로부터 기생 인덕턴스 L35를 가진 가요성 접속 기판(35)을 거쳐 기생 인덕턴스 L46을 가진 유지 회로 기판(33)의 배선 패턴(46) 상을 통과하고, 스위칭 소자(39)로 들어간다. 더욱이, 이 구동 전류는 스위칭 소자(39)로부터 기생 인덕턴스 L47을 가진 유지 회로 기판(33)의 배선 패턴(47) 상을 통해, 기생 인덕턴스 L34를 가진 나사 등의 도전성 지지 부재(34)를 통해 기생 인덕턴스 L31을 가진 섀시 부재(31)로 흘러 들어간다. 다음으로 이 구동 전류는 섀시 부재(31)로부터 기생 인덕턴스 L34를 가진 도전성 지지 부재(34)를 거쳐 기생 인덕턴스 L43을 가진 유지 회로 기판(32)의 배선 패턴(43) 상을 통해 마지막으로 기생 인덕턴스 L45를 가진 유지 회로 기판(32)의 배선 패턴(45) 상을 통하여, 원래의 평활 캐패시터(40)의 마이너스측 전극으로 되돌아온다. 이와 같은 다수의 기생 인덕턴스가 존재하고 있는 경로를 통하여 플라즈마 장치의 구동 전류는 순행한다.
여기서, 유지 회로 기판(32)에는 도 2에 나타낸 것처럼, 부품 설치면에 평활 캐패시터(40)로부터 스위칭 소자(36)까지의 배선 패턴(44)과, 스위칭 소자(36)로부터 가요성 접속 기판(35)까지의 배선 패턴(42)이 형성되고, 반대측의 납땜 면에 상기 배선 패턴(42 및 44)에 대향하는 각 위치에 도전성 지지 부재(34)로부터 평활 캐패시터(40)까지의 배선 패턴(43 및 45)이 형성된다. 또한, 가요성 접속 기판(35) 을 통하여 패널(11)을 접속하는 각 위치나, 도전성 지지 부재(34)를 통하여 섀시 부재(31)를 접속하는 각 위치가 유지 회로 기판(32)의 같은 단부에 형성된다.
이 구성에 의하여 배선 패턴(44)의 기생 인덕턴스 L44와 배선 패턴(45)의 기생 인덕턴스 L45에 서로에게 역방향의 구동 전류(I1 및 I2)가 근접하여 흐르고, 마이너스의 상호 인덕턴스를 형성하므로, 기생 인덕턴스 L44와 L45는 등가적으로 작게 된다. 또한, 배선 패턴(42)의 기생 인덕턴스 L42와 배선 패턴(43)의 기생 인덕턴스 L43에도 서로에게 역방향의 구동 전류(I1 및 I2)가 근접하여 흐르고, 마이너스의 상호 인덕턴스를 형성하므로, 기생 인덕턴스 L42와 기생 인덕턱스 L43은 등가적으로 작게 된다.
또한, 유지 회로 기판(33)에는 도 3에 나타낸 것처럼 부품 설치면에 평활 캐패시터(41)로부터 스위칭 소자(38)까지의 배선 패턴(48)과, 스위칭 소자(38)로부터 가요성 접속기판(35)까지의 배선 패턴(46)이 형성된다. 반대측의 납땜 면에 상기 배선 패턴(46 및 48)에 대향하는 각 위치에 도전성 지지 부재(34)로부터 평활 캐패시터(41)까지의 배선 패턴(47 및 49)이 형성되어 있다. 또한, 가요성 접속기판(35)을 통하여 패널(11)을 접속하는 각 위치와, 도전성 지지 부재(34)를 통하여 섀시 부재(31)를 접속하는 각 위치가 유지 회로 기판(33)의 같은 단부에 형성되어 있다.
이 구성에 의하여 배선 패턴(46)의 기생 인덕턴스 L46와 배선 패턴(47)의 기생 인덕턴스 L47에 서로에게 역방향의 구동 전류(I3 및 I4)가 근접하여 흐르고, 마이너스의 상호 인덕턴스를 형성하기 때문에, 기생 인덕턴스 L46과 L47은 등가적으로 작게 된다.
동일한 방법으로 기간 t2는 유지 전극 군(11b)에 유지 펄스를 인가하는 기간이다. 플라즈마 장치의 구동 전류는 평활 캐패시터(41)의 플러스측 전극으로부터 기생 인덕턴스 L48을 가진 유지 회로 기판(33)의 배선 패턴(48) 상을 통하여 스위칭 소자(38)로 입력된다. 더욱이, 구동 전류는 스위칭 소자(38)로부터 기생 인덕턴스 L46을 가진 유지 회로 기판(33)의 배선 패턴(46) 상을 통하여 기생 인덕턴스 L35를 가진 가요성 접속 기판(35)을 거쳐 전극 군의 기생 인덕턴스 L11 및 셀군의 용량성 성분(C)을 가진 패널(11)로 흘러들어 간다. 다음으로 이 구동 전류는 패널(11)로부터 기생 인덕턴스 L35를 가진 가요성 접속 기판(35)을 거쳐 기생 인덕턴스 L42를 가진 유지 회로 기판(32)의 배선 패턴(42) 상을 통해 스위칭 소자(37)로 들어간다. 더욱이 이 구동 전류는 스위칭 소자(37)로부터 기생 인덕턴스 L43을 가진 유지 회로 기판(32)의 배선 패턴(43) 상을 통해 기생 인덕턴스 L34를 가진 나사 등의 도전성 지지 부재(34)를 통하여 기생 인덕턴스 L31을 가진 섀시 부재(31)로 흘러 들어간다. 다음으로 이 구동 전류는 섀시 부재(31)로부터 기생 인덕턴스 L34를 가진 도전성 지지 부재(34)를 거쳐 기생 인덕턴스 L47을 가진 유지 회로기판(33)의 배선 패턴(47) 상을 통해 마지막으로 기생 인덕턴스(L49)를 가진 유지 회로 기판(33)의 배선 패턴(49) 상을 지나서 원래의 평활 캐패시터(41)의 마이너스측 전극으로 되돌아온다.
이 구동 전류 경로에도 다수의 기생 인덕턴스가 존재하지만, 여기에도 상술한 바와 같이 상기 기생 인덕턴스에 의한 영향을 감소시키는 것이 가능하다.
즉 유지 회로 기판(33)의 부품면에는 평활 캐패시터(41)로부터 스위칭 소자 (38)까지의 배선 패턴(48)과 스위칭 소자(38)로부터 가요성 접속기판(35)까지의 배선 패턴(46)이 형성되어 있다. 또한, 납땜 면에는 상기 배선 패턴(46 및 48)에 대향하는 각 위치에 도전성 지지 부재(34)로부터 평활 캐패시터(41)까지의 배선 패턴(47 및 49)이 형성되어 있다. 그래서, 가요성 접속기판(35)을 통하여 패널(11)을 접속하는 각 위치와 도전성 지지 부재(34)를 통한 섀시 부재(31)를 접속하는 각 위치가 유지 회로 기판(33)의 같은 단부에 형성되어 있다.
이렇게 해서, 배선 패턴(48)의 기생 인덕턴스 L48과 배선 패턴(49)의 기생 인덕턴스 L49에 서로에게 역방향의 구동 전류(I3 및 I4)가 근접하여 흐르고, 마이너스의 상호 인덕턴스를 형성하기 때문에, 기생 인덕턴스 L48과 기생 인덕턴스 L49는 등가적으로 작게 된다. 또한, 배선 패턴(46)의 기생 인덕턴스 L46과 배선 패턴(47)의 기생 인덕턴스 L47에도 서로에게 역방향의 구동 전류(I3 및 I4)가 근접하여 흐르고, 마이너스의 상호 인덕턴스를 형성하기 때문에, 기생 인덕턴스 L46과 기생 인덕턴스 L47은 등가적으로 작게 된다.
또한, 유지 회로 기판(32)의 부품 실장면에는 가요성 접속 기판(35)으로부터 스위칭 소자(37)까지의 배선 패턴(42)이 형성되어 있다. 또한, 납땜 면에는 상기 배선 패턴(42)에 대향하는 각 위치에 스위칭 소자(37)로부터 도전성 지지 부재(34)까지의 배선 패턴(43)이 형성되어 있다. 그래서, 가요성 접속기판(35)을 통하여 패널(11)을 접속하는 각 위치와 도전성 지지 부재(34)를 통하여 섀시 부재(31)에 접속하는 각 위치가 유지 회로 기판(32)의 같은 단부에 형성된다.
이렇게 해서, 도 2에 나타낸 것처럼 배선 패턴(42)의 기생 인덕턴스 L42와 배선 패턴(43)의 기생 인덕턴스 L43에 서로에게 역방향의 구동 전류(I5 및 I6)가 근접하여 흐르고, 마이너스의 상호 인덕턴스를 형성하기 때문에, 기생 인덕턴스 L42와 기생 인덕턴스 L43은 등가적으로 작게 된다. 따라서, 유지 회로 기판(32 및 33)의 기생 인덕턴스는 상당히 감소한다.
또한, 유지 회로 기판(33)에는 배선 패턴(46)의 기생 인덕턴스 L46과 배선 패턴(47)의 기생 인덕턴스 L47에는 서로에게 역방향으로 흐르는 구동 전류(I7 및 I8)가 근접하여 흐르고, 마이너스의 상호 인덕턴스를 형성하기 때문에, 기생 인덕턴스 L46과 기생 인덕턴스 L47은 등가적으로 작게 된다.
더욱이, 도 5에서 패널(11) 내부의 유지 전극 군에 근접하여 섀시 부재(31)가 설치되어 있다. 도 4에 나타낸 t1 및 t2의 각 기간에 있어서 패널(11)의 전극 군의 기생 인덕턴스 L11과 섀시 부재(31)의 기생 인덕턴스 L31에 서로에게 역방향의 구동 전류가 근접하여 흐르고, 마이너스의 상호 인덕턴스를 형성하므로, 기생 인덕턴스 L11과 기생 인덕턴스 L31은 등가적으로 작게 된다. 즉 패널(11)의 전극 군의 기생 인덕턴스 L11 및 섀시 부재(31)의 기생 인덕턴스 L31은 상당히 감소한다.
이상 설명한 것에서 기생 인덕턴스 L44와 L45, L42와 L43, L48과 L49, L46과 L47 및 L11과 L31은 각각 서로에게 마이너스의 상호 인덕턴스를 형성하고, 구동 전류 경로의 기생 인덕턴스는 상당히 감소한다. 즉 di/dt의 큰 구동 전류가 흐르더라도, 패널(11)의 전극 군에 인가되는 전압 파형의 울림을 작게 억제하는 것이 가능하다.
구체적인 예를 설명하면, 42 인치 크기의 패널의 경우, 종래의 장치로는 울림이 약 50V이다. 그러나, 본 발명에서 회로 기판에 1.6mm의 절연층 두께를 가진 양면 기판을 이용하여 패널의 내부에 부설된 전극 군과 섀시 부재의 간격을 5mm로 한 경우 주사 전극 군 및 유 전극 군의 전압으로 생성한 울림은 약 20V까지 저감된다.
또한, 도 2, 도 3의 예는 회로 기판의 표면과 이면에 형성된 배선 패턴을 거의 같은 형상으로 형성하여 대향 시킨 경우를 나타낸다. 그러나, 배선 패턴의 형상은 여기에 한정되지 않고, 다른 형상의 배선 패턴의 일부가 대향하여 있는 것도 좋다.
예를 들면, 배선 패턴(43)이나 패선 패턴(47)이 납땜 면 전면을 덮은 형상을 하고 있는 경우, 배선 패턴(43 및 47)을 흐르는 구동 전류는 부품면의 배선 패턴(42 및 44)까지는 배선 패턴(46 및 48)과 대향하여 있는 부분을 흐르기 때문에, 본 실시예와 같은 효과가 얻어진다. 또한, 이러한 배선 패턴은 마이너스의 상호 인덕턴스를 형성하여 전류 경로의 임피던스가 가장 낮게 된다.
또한, 본 실시예에는 도전성 지지 부재를 회로 기판의 가요성 접속기판에 있는 단자에만 설치한 경우를 나타내지만, 동시에 회로 기판의 가요성 접속기판으로부터 멀리 있는 단부에도 도전성 지지 부재를 설치하는 것도 좋다. 이러한 경우에도 회로 기판과 도전성 기판의 사이를 흐르는 구동 전류의 대부분은 회로 기판의 배선 패턴 사이 및 패널과 섀시 부재의 사이에 있어서 마이너스의 상호 인덕턴스를 형성하기 쉬운 경로를 흐른다. 즉 구동 전류는 가요성 접속 기판에 있는 단부에 설 치되어 도전성 지지 부재로도 흐르기 때문에 본 실시예와 같은 효과가 얻어진다.
도 6, 도 7에 본 발명의 다른 실시예 따른 플라즈마 디스플레이 장치를 나타낸다. 이 도 6, 도 7에 나타낸 실시예에서는 2층 구조의 배선 패턴을 가진 가요성 접속 기판(53)을 사용한다. 가요성 접속 기판(53)에 설치한 한쪽 배선 패턴(54)은 패널(11)의 전극과 유지 회로 기판(32 및 33)의 배선 패턴(42 및 46)을 접속한다. 또한, 타측의 배선 패턴(55)은 유지 회로 기판(32 및 33)의 배선 패턴(43 및 47)을 섀시 부재(31)에 접지한다.
이 구성에 의해서, 도 7에 나타낸 것처럼 가요성 접속 기판(53)의 1층의 배선 패턴(54)과 2층의 배선 패턴(55)에 역방향의 구동 전류가 흐르고, 마이너스의 상호 인덕턴스를 형성한다. 따라서, 가요성 접속 기판(53)의 1층의 기생 인덕턴스 L54와 2층의 기생 인덕턴스 L55는 등가적으로 작게 되고, 패널(11)의 전극 군에 인가되는 전압 파형의 울림을 더욱 작게 억제하는 것이 가능하다. 42 인치 크기의 패널에 실시한 결과에 의하면, 본 실시예의 구성에 의해 주사 전극 군 및 유지 전극 군의 전압에 발생하는 울림이 약 15V까지 저감된다.
이상과 같이, 본 발명에 의하면 회로 기판의 기생 인덕턴스가 작게 되고 패널에 인가되는 전압 파형의 울림이 저감되며 패널의 동작 전압 마진이 개선된다. 따라서, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치는 텔레비전 수상기 및 컴퓨터 단말 등의 화상 표시에 사용된다.

Claims (8)

  1. 플라즈마 디스플레이 패널의 전극에 구동 전류를 공급하는 스위칭 소자를 갖는 회로기판을 구비하고,
    상기 회로 기판은 상기 전극과 접속하기 위한 제 1 단자,
    접지하기 위한 제 2 단자,
    상기 스위칭 소자의 출력 단자와 상기 제 1 단자 간에 형성된 제 1 배선 패턴,
    상기 스위칭 소자의 접지 단자와 상기 제 2 단자 간에 형성된 제 2 배선 패턴을 가지고,
    상기 제 1 배선 패턴과 상기 제 2 배선 패턴은 서로 대향하도록 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 플라즈마 디스플레이 패널을 지지하는 도전성 기판을 더 구비하고,
    상기 제 2 단자를 상기 도전성 기판에 접속한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 회로 기판과 상기 전극을 접속하는 복수의 배선 기판을 더 구비하고,
    상기 배선 기판에 상기 회로 기판을 도전성 기판에 접지하기 위한 배선 패턴을 설치한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  4. 제 2 항 또는 제 3항에 있어서,
    상기 회로 기판에 상기 스위칭 소자에 접속되는 콘덴서를 설치함과 동시에,
    상기 회로 기판에 상기 콘덴서의 일측 단자와 상기 스위칭 소자의 전원 단자를 접속하는 제 3 배선 패턴과,
    상기 콘덴서의 타측 단자와 상기 스위칭 소자의 상기 접지 단자를 접속하는 제 4 배선 패턴을 형성하고,
    상기 제 4 배선 패턴은 상기 제 3 배선 패턴에 대향하도록 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  5. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 도전성 기판을 상기 플라즈마 디스플레이 패널에 근접하게 대면시켜 배치한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 배선 패턴을 상기 회로 기판의 일측면에 형성하고, 상기 제 2 배선 패턴을 상기 회로 기판의 타측면에 형성한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  7. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 3 배선 패턴을 상기 회로 기판의 일측면에 형성하고, 상기 제 4 배선 패턴을 상기 회로 기판의 타측면에 형성한 플라즈마 디스플레이 장치.
  8. 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,
    상기 전극은 유지 전극 및 주사 전극인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
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