KR100578139B1 - 세정 프로브 및 이를 구비하는 메가소닉 세정 장비 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 세정 용기;상기 세정 용기 내에 위치하며 웨이퍼가 놓이는 회전 테이블;상기 회전 테이블 위에 위치하며 상기 웨이퍼 상의 세정액을 통해 상기 웨이퍼 표면으로 메가소닉 파동을 전달하는 세정 프로브;상기 세정 프로브와 연결되며 메가소닉 파동을 발생시키는 압전변환기; 및상기 웨이퍼 상으로 세정액을 공급할 세정액 공급관을 구비하되,상기 세정 프로브는,상기 압전변환기와 연결되는 후방부;상기 후방부와 반대쪽에 위치하며 상기 웨이퍼 상에 위치하는 전방부; 및상기 후방부와 상기 전방부 사이에 위치하며 상기 웨이퍼의 가장자리 부분 상에 위치하는 돌출부를 구비하며,상기 돌출부는 상기 전방부에 비해 넓은 단면적을 갖는 것을 특징으로 하는 메가소닉 세정 장비.
- 제 1 항에 있어서,상기 돌출부의 단면은 원형인 것을 특징으로 하는 메가소닉 세정 장비.
- 제 2 항에 있어서,상기 돌출부의 단면의 중심과 상기 전방부의 단면의 중심은 일치하는 것을 특징으로 하는 메가소닉 세정 장비.
- 제 2 항에 있어서,상기 돌출부의 단면의 중심과 상기 전방부의 단면의 중심은 불일치하는 것을 특징으로 하는 메가소닉 세정 장비.
- 제 4 항에 있어서,상기 돌출부의 단면의 중심은 상기 전방부의 단면의 중심보다 높게 위치하는 것을 특징으로 하는 메가소닉 세정 장비.
- 제 4 항에 있어서,상기 돌출부의 단면의 중심은 상기 전방부의 단면의 중심보다 낮게 위치하는 것을 특징으로 하는 메가소닉 세정 장비.
- 제 1 항에 있어서,상기 돌출부의 단면은 타원형인 것을 특징으로 하는 메가소닉 세정 장비.
- 제 7 항에 있어서,상기 돌출부의 단면의 중심과 상기 전방부의 단면의 중심은 일치하는 것을 특징으로 하는 메가소닉 세정 장비.
- 제 7 항에 있어서,상기 돌출부의 단면의 중심과 상기 전방부의 단면의 중심은 불일치하는 것을 특징으로 하는 메가소닉 세정 장비.
- 제 9 항에 있어서,상기 돌출부의 단면의 중심은 상기 전방부의 단면의 중심보다 높게 위치하는 것을 특징으로 하는 메가소닉 세정 장비.
- 제 9 항에 있어서,상기 돌출부의 단면의 중심은 상기 전방부의 단면의 중심보다 낮게 위치하는 것을 특징으로 하는 메가소닉 세정 장비.
- 제 1 항에 있어서,상기 세정 프로브는상기 돌출부와 상기 전방부 사이를 연결하는 전방 연결부; 및상기 돌출부와 상기 후방부를 연결하는 후방 연결부를 더 구비하되,상기 전방 연결부와 상기 후방 연결부는 점진적으로 변화하는 폭을 구비하는 것을 특징으로 하는 메가 소닉 세정 장비.
- 제 12 항에 있어서,상기 후방 연결부와 상기 돌출부 사이의 경계는 상기 웨이퍼의 가장자리의 끝단에 또는 가장자리 밖에 위치하는 것을 특징으로 하는 메가 소닉 세정 장비.
- 제 12 항에 있어서,상기 전방 연결부와 상기 돌출부 사이의 경계는 상기 웨이퍼의 반경의 1/2 지점 밖에 위치하는 것을 특징으로 하는 메가 소닉 세정 장비.
- 메가 소닉 파동을 이용하여 웨이퍼를 세정하는 장비에 사용되는 세정 프로브에 있어서,메가소닉 파동을 생성하는 압전변환기와 연결되는 후방부;상기 후방부와 반대쪽에 위치하며 상기 웨이퍼 상에 위치하는 전방부; 및상기 후방부와 상기 전방부 사이에 위치하며 상기 웨이퍼의 가장자리 부분 상에 위치하는 돌출부를 구비하며,상기 돌출부는 상기 전방부에 비해 넓은 단면적을 갖는 것을 특징으로 하는 세정 프로브.
- 제 15 항에 있어서,상기 돌출부의 단면은 원형인 것을 특징으로 하는 세정 프로브.
- 제 16 항에 있어서,상기 돌출부의 단면의 중심과 상기 전방부의 단면의 중심은 일치하는 것을 특징으로 하는 세정 프로브.
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