KR100519707B1 - 양면 동시 발수처리기구 - Google Patents

Abstract

복수의 광학렌즈기재(24)가 배치된 기판홀더(22)가 진공 분위기에서 회전 가능하게 설치되고, 광학렌즈기재의 표면에 발수막을 형성하는 진공처리실(16)이 설치되고, 양면 동시 발수처리기구는 이 진공처리실에 설치된다. 기판홀더(22)에 대하여 상면 발수처리유닛(30)과 하면 발수처리유닛(40)을 설치하고, 광학렌즈기재의 상면에 상면 발수처리유닛에 의해 발수막을 형성하고, 광학렌즈기재의 하면에 하면 발수처리유닛에 의해 발수막을 형성한다. 이 구성으로 광학렌즈기재의 양면에 동시에 발수막을 형성한다. 발수처리용의 막두께 보정기구는 상기 발수처리유닛과 광학렌즈기재의 사이에 구비된 발수막의 막두께 차를 보정하는 막두께 보정판(51,52)으로 구성된다.

Description

양면 동시 발수처리기구 {MECHANISM FOR PERFORMING WATER REPELLENCY PROCESSING ON BOTH SIDES SIMULTANEOUSLY}

본 발명은 안경 플라스틱렌즈와 같은 광학렌즈의 양면에 동시에 발수막(撥水膜)형성처리를 행하고, 또한 광학렌즈의 표면에 발수막을 진공증착(眞空蒸着)으로 성막할 때 표면에서의 막두께를 보정에 의해 균일하게 하는 양면 동시 발수처리기구에 관한 것이다.

안경 플라스틱렌즈와 같은 광학렌즈에서는 그 표면에 반사방지막이 입혀있다. 반사방지막은 일반적으로 ZrO₂나 SiO₂ 등의 무기산화물에 의해 형성되어 있다. 반사방지막을 형성하는 무기산화물은 발수성이나 발유성(撥油性)의 점에서 뒤떨어지므로, 반사방지막이 입혀진 광학렌즈의 표면은 땀이나 지문, 기름류 등에 의한 오점이 부착하기 쉬었다. 또 광학렌즈의 표면에 이들 오점이 일단 부착하면, 당해 오점을 제거하는 것은 곤란했다. 그래서 광학렌즈에서는, 그 표면에 오점방지 특성을 부여하는 것이 바람직했다. 종래에는 이 문제를 해결하기 위해, 광학렌즈 표면의 상기 반사방지막의 위에 발수막을 형성하고 있었다(예를 들면 일본국 특개평 5(1993)-215905호 공보, 일본국 특개소(60(1985)-221470호 공보, 일본국 특개평 4(1992)-218538호 공보). 광학렌즈의 표면에 발수막을 형성하는 방법으로서, 종래에는 디핑(dipping)법, 가열증발을 이용한 진공증착법, CVD법이 이용되고 있었다.

또한 근년에 있어서의 광학렌즈의 제작에서는, 최종공정으로 진공증착법을 이용하여, 렌즈표면에 발수막을 성막하는 기술이 제안되어 있다.

진공증착법에 의한 발수막의 형성에서는 통상, 복수의 광학렌즈기재(로트(lot) 단위)가 원형 평판의 홀더에 세트되어, 홀더를 회전시키면서 로트마다 성막처리가 행해진다.

또한 근년에, 광학렌즈의 표면에 반사방지막을 형성하는 장치로서, 반도체 제조기술의 하나인 스퍼터법을 이용하여 반사방지막을 형성하는 성막장치가 제안되어 있다. 이 스퍼터성막장치에서는, 복수의 광학렌즈를 그 양면이 동시에 스퍼터성막될 수 있도록 렌즈트레이(lens tray) 위에 배치하고, 이 렌즈트레이를 성막실에서 회전 가능하게 배치하고, 상측과 하측에 배치된 타깃(target)에 의해 광학렌즈의 양면을 동시에 스퍼터성막하여 반사방지막을 형성하고 있다.

그리고, 상기와 같이 반사방지막의 성막공정 후에 최종공정으로서 발수막을 형성하는 처리가 행해진다. 양면에 반사방지막이 형성된 복수의 광학렌즈는 상기 렌즈트레이에 세트된 상태대로 스퍼터성막실로부터 반출되고, 그 후 발수막을 형성하기 위한 진공처리실에 반입된다. 광학렌즈의 상태는 수평상태로 유지되는 렌즈트레이에 있어서, 렌즈트레이의 구조상, 렌즈 양면이 상측과 하측에 면한 상태로 지지되고 있다. 따라서, 발수막을 형성하는 최종공정에 있어서도, 광학렌즈의 양면에 동시에 발수막을 성막하는 것이 바람직하다. 이로써, 발수막 형성 처리공정의 효율 향상을 기대할 수 있고, 또한 발수막의 막 성능의 향상을 기대할 수 있다.

또한 종래, 진공증착법에 의한 발수막의 성막은 막두께 분포가 양호하다고 생각되고 있었다. 그러나, 메니스커스(meniscus) 형상 안경렌즈의 박막 형성에 이용하는 경우에는, 렌즈도수의 곡률에는 영향 받지 않는, 한층 정밀도가 높은 균일성을 가지는 막두께 분포가 요구된다. 만일 발수막의 막두께에 불균일이 존재하면, 광학제품간에서 간섭 특성이나 품질에서 불균일이 발생하여, 광학렌즈의 품질 등을 일정 레벨로 유지하는 것이 곤란하게 된다

본 발명의 목적은, 광학렌즈의 양면에 동시에 발수막을 형성하는 처리를 행하여 처리효율을 향상하고, 작업성과 생산성을 개선한 양면 동시 발수처리기구를 제공하는 것에 있다.

본 발명의 다른 목적은, 진공증착법을 이용하여 홀더 위에 세트한 복수의 광학렌즈의 표면에 발수막을 형성할 때, 표면에 형성되는 발수막의 막두께 차를 작게 하여, 막두께 분포를 정밀도 양호하고 균일하게 하는 것에 있다.

도 1은 본 발명이 적용되는 박막형성장치의 전체적 구성을 나타낸 모식도.

도 2는 발수막 형성용 진공실에 세트된 기판홀더를 나타낸 평면도.

도 3은 본 발명의 대표적 실시형태를 나타낸 요부종단면도.

도 4는 상면 발수처리유닛 요부의 확대평면도.

도 5는 도 4에 있어서의 A-A선 단면도.

도 6은 하면 발수처리유닛 요부의 확대평면도.

도 7은 도 6에 있어서의 B-B선 단면도.

도 8은 막두께 보정판의 형상과 배치위치를 나타낸 부분평면도.

도 9는 막두께 보정판의 유무에 따른 효과를 비교하기 위한 표를 나타낸 도면.

복수의 광학렌즈기재가 배치된 기판홀더가 진공 분위기에서 회전 가능하게 설치되고, 광학렌즈기재의 표면에 발수막을 형성하는 진공처리실이 설치된다. 양면 동시 발수처리기구는 이 진공처리실에 설치된다. 양면 동시 발수처리장치는 기판홀더에 대하여 상면 발수처리유닛과 하면 발수처리유닛을 설치하고, 광학렌즈기재의 상면에 상면 발수처리유닛에 의해 발수막을 형성하고, 광학렌즈기재의 하면에 하면 발수처리유닛에 의해 발수막을 형성하도록 구성된다. 이 구성에 따라, 상측과 하측에 설치된 발수처리유닛에 의해 광학렌즈기재의 양면에 동시에 발수막을 형성하는 것이 가능하게 된다.

상기 양면 동시 발수처리기구에 있어서, 상면 발수처리유닛과 하면 발수처리유닛은 각각 발수용 칩과, 이를 가열하는 가열기를 구비하고 있다. 가열기에서 가열된 발수용 칩은 발수물질을 증발하고, 이에 따라 광학렌즈기재의 상면과 하면에 발수물질이 증착되어, 발수막이 형성된다.

또한 상면 발수처리유닛과 하면 발수처리유닛은 각각 온도 측정용 칩과, 이 온도 측정용 칩에 부설(付設)된 열전대(熱電對)와, 이 열전대의 검출신호에 따라 가열기의 가열온도를 제어하는 제어부를 구비한다.

발수용 칩에는 바람직하게는 몰리브덴판 등의 가열용 보드가 부설된다.

상면 발수처리유닛은 아래 쪽으로의 증착을 가능하게 하는 동시에, 발수용 칩과 온도 측정용 칩을 낙하방지기구로 얹어 놓고 또한 광학렌즈기재의 상면에 대향시키도록 구성된 지지용의 스테인레스판을 구비한다. 또, 하면 발수처리유닛은 발수용 칩과 온도 측정용 칩을 얹어 놓는 가열용 보드를 구비하고 있다.

또한, 발수처리용의 막두께 보정기구는 발수처리유닛을 이용하여 진공증착에 따라 광학렌즈기재의 표면에 발수막을 형성하는 진공처리실에서 사용된다. 당해 막두께 보정기구는 상기 발수처리유닛과 광학렌즈기재의 사이에 구비된 발수막의 막두께 차를 보정하는 막두께 보정판에 의해 구성된다.

막두께 보정판은 발수처리유닛으로부터 증발된 발수물질의, 광학렌즈기재에 대한 직접적인 영향을 완화하여, 발수물질을 균일화시킨다. 이로써 복수의 광학렌즈기재에 성막되는 발수막의 막두께 차를 작게 하여, 막두께 분포의 균일성을 높이는 것이 가능하게 된다.

막두께 보정판은 바람직하게는, 광학렌즈기재의 표면은 곡률을 가지고, 또한 복수의 광학렌즈기재가 수평으로 되고 또한 회전상태에 있는 원형 평판의 기판홀더에 대하여, 수평상태에서 동심원(同心圓) 위치로 배치되고, 막두께 보정판은 기판홀더의 주위부와 중심부를 잇는 방향에 배치된 막두께 차 조정용 마스크부재이다.

상기 발수처리유닛은 상면 발수처리유닛과 하면 발수처리유닛으로 이루어지고, 이들 상면 발수처리유닛과 하면 발수처리유닛에 의해 광학렌즈기재의 상하면에 동시에 발수막이 형성되고, 마스크부재는 상측 마스크부재와 하측 마스크부재로 이루어진다.

다음에, 본 발명의 바람직한 실시형태를 첨부도면에 따라 설명한다.

도 1은 본 발명에 관한 양면 동시 발수처리기구가 적용되는 박막형성장치의 전체적 구성을 모식적으로 나타냈다. 이 박막형성장치(10)는 연속식 장치이고, 복수의 진공실(11∼17)이 연속적으로 접속되어 있다.

박막형성장치(10)의 각 진공실은 부설된 진공배기계(20)에 의해 배기되고, 진공상태로 유지되어 있다. 진공실(11∼17)의 각각 사이에는 게이트밸브(21)가 설치되어 있다. 이 구성에 의해, 각 공실(空室)(11)은 입구실, 좌단의 진공실(17)은 출구실, 진공실(12)은 하드(hard)막을 성막하는 진공처리실, 진공실(14)은 반사방지막을 성막하는 진공처리실, 진공실(16)은 발수막을 성막하는 진공처리실이다. 다른 2개의 진공실(13,15)은 성막을 행하는 진공처리실의 사이에 배치된 중간실이다.

상기 박막형성장치(10)에서는 각 진공실(12,14,16)에서 피처리물에 대하여 박막형성처리가 실시된다. 본 실시형태에 있어서, 피처리물은 플라스틱기재(基材)이다. 이 플라스틱기재는 원형의 메니스커스 형상을 가지는 -4.00디옵터(diopter)의 안경 플라스틱렌즈의 기재이고, 광학렌즈의 일예이다. 광학렌즈는 유리재라도 된다. 다수의 플라스틱기재는 렌즈트레이로서 기능하는 기판홀더(22)의 위에 탑재되어 있다. 기판홀더(22)는 바람직하게는 원형 평판의 형상을 가지고, 가로놓기상태(수평상태)로 유지되어 사용된다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 기판홀더(22)는 상하ㆍ수평으로 이동 가능하게 되어 있고, 우단의 게이트밸브(21)를 통해 입구실(11)의 안으로 들어가, 상하가 위치 결정되고, 다음에 도면 중 우에서 좌로 반송되고, 또한 상하가 위치 결정된 후, 좌단의 게이트밸브(21)로부터 외부로 반출된다. 그 동안에, 기판홀더(22)에 탑재된 다수의 플라스틱기재의 양면에 대하여, 진공실(12)에서 하드막 형성, 진공실(14)에서 반사방지막 형성, 진공실(16)에서 발수막 형성이 차례로 행해진다. 기판홀더(22)는 수평상태로 유지되고, 박막형성장치(10)의 각 진공실(11∼17)의 안으로 반송된다. 반송장치로서는, 예를 들면 롤러나 체인 등이 사용된다.

진공실(12)에서는, 예를 들면 CVD법을 이용하여 플라스틱기재의 양면에 동시에 내마모성의 하드막이 성막된다. 진공실(14)에서는, 예를 들면 스퍼터법을 이용하여 플라스틱기재의 양면에 동시에 반사방지막이 성막된다. 또한 진공실(16)에서는 진공 분위기에서 플라스틱기재의 양면에 동시에 발수막이 성막된다. 다음의 설명에서는 진공실(16)에서 행해지는 발수막의 성막에 대하여 상술한다.

양면 동시 발수처리기구는 상기 진공실(16)에 설치된다. 다음에 도 2∼도 7을 참조하여 양면을 동시에 발수처리하는 기구에 대하여 설명한다.

도 2는 진공실(16)에 세트된 기판홀더(22)를 나타낸 평면도이다. 기판홀더(22)는 평면형으로 원형의 평면형상을 가지고, 중심지지부재(23)에 의해 회전 가능하게 부착되어 있다. 발수막을 성막할 때, 기판홀더(22)는 소정의 속도로 회전된 상태에 있다. 기판홀더(22)에는 다수의 플라스틱기재(24)가 탑재되어 있다. 기판홀더(22) 위에서, 다수의 플라스틱기재(24)는 거의 동심원 위치로 배치되어 있다. 기판홀더(22)에 있어서의 플라스틱기재(24)는 도 3에 나타난 바와 같이, 기판홀더(22)에 형성된 지지공(22a)에 배치되고, 그 상면(오목면)과 하면(볼록면)이 각각 상측 공간과 하측 공간에 노출된 상태로 세트되어 있다. 도 3에서 화살표(25)는 기판홀더(22)의 중심부로 향하는 방향을 가리키고 있다.

상기 기판홀더(22)에 세트된 다수의 플라스틱기재(24)에 대하여, 기판홀더(22)의 상측과 하측에 발수처리유닛(30,40)이 배치된다. 도 2에서 점선(26)으로 나타난 개소가 이들 발수처리유닛의 배치장소이다. 양면 동시 발수처리기구는 상측의 발수처리유닛(30)과 하측의 발수처리유닛(40)으로 구성된다. 플라스틱기재(24)의 상면에는 발수처리유닛(30)에 의해 발수막이 성막되고, 그 하면에는 발수처리유닛(40)에 의해 발수막이 성막된다. 따라서, 상측의 발수처리유닛(30)은 상면 발수처리유닛이고, 하측의 발수처리유닛(40)은 하면 발수처리유닛이다. 이와 같이 하여 기판홀더(22)에 배치된 다수의 플라스틱기재(24)의 각각의 상면과 하면에 발수막이 동시에 형성된다.

발수처리유닛(30)은 기판홀더(22)의 상측에 배치된 스테인레스판(31)과, 스테인레스판(31)의 위쪽에 배치된 가열수단으로서의 할로겐램프(32)로 구성된다. 스테인레스판(31)에는 발수용 칩(33)과 그 위에 배치된 가열용 보드인 예를 들면 몰리브덴판(34), 및 열전대(35)를 구비한 온도 측정용 칩(36)이 설치된다. 특히, 바람직한 발수용 칩은 다공성 재료이고, 이 다공성 재료에, 예를 들면 일본국 특개평 5(1993)-215905호 공보에 개시되는 불소화합물의 발수용액을 함침(含浸)시켜 가열함으로써, 적당한 증착속도를 얻는 것이 가능하다. 다공성 재로로 이루어지는 발수용 칩은 보다 구체적으로는, 동 등의 열전도성이 높은 금속분말을 소결(燒結)한 소결필터를 사용하는 것이 바람직하다. 또, 다공성 재료는 적당한 증착속도를 얻는 다고 하는 관점에서 그 메시(mesh)를 40∼200미크론, 바람직하게는 80∼120미크론으로 하는 것이 적당하다.

도 4와 도 5에 본 발명의 특징의 하나인 발수칩 낙하방지의 지지기구와 아래쪽으로의 증착기능을 가지는 상측의 발수처리유닛(30)의 요부 확대도를 나타냈다. 도 4는 평면도, 도 5는 도 4의 A-A선 단면도이다. 스테인레스판(31)에는 발수용 칩(33)의 낙하방지용 단차(段差)를 가지는 원형의 관통공(31a,31b)이 형성되어 있고, 공(孔)(31a)에는 발수용 칩(33)이 낙하하지 않도록 수용되고, 한쪽의 공(31b)에는 발수제가 함침되어 있지 않지만, 발수용 칩(33)과 동일한 다공질재의 칩으로 이루어지는 온도 측정용 칩(36)이 설치되어 있다. 발수용 칩(33)은 공(31a)의 하측 개구부를 통해 플라스틱기재(24)의 상면(오목면)에, 높이 20cm(통상 10∼60cm, 바람직하게는 15∼30cm)의 간격을 두고 대향하여 배치되며, 그 칩(33)의 위쪽에는 몰리브덴의 가열판(34)이 배설되어 있다. 또, 온도 측정용 칩(36)도 마찬가지로 낙하 방지용 단차부를 가지는 공(31b)의 하측 개구부를 통해 플라스틱기재(24)에 대향하여 배치되어 있다. 온도 측정용 칩(36)에 설치된 열전대(35)의 검출신호는 제어부(37)에 입력된다. 제어부(37)는 열전대(35)가 검출하는 분위기 온도에 따라, 할로겐램프(32)의 가열온도를 적절한 온도로 제어한다. 그리고, 할로겐램프(32)에 의해 몰리브덴판(34)을 통해 발수용 칩(33)을 가열하여 발수물질을 아래쪽으로 증발시키는 동시에 몰리브덴판(34)에서의 위쪽으로의 증착을 저지시키고, 이로써 플라스틱기재(24)의 상면에 발수막이 형성된다. 그리고, 본 실시형태에서는 온도 측정용 칩 위에 몰리브덴판을 설치하는 양태는 편의상 생략하고 있지만, 실제는 하측의 발수처리유닛과 동일한 조건으로 설치되어 있는 것으로 한다.

한편, 하측의 발수처리유닛(40)은 기판홀더(22)의 하측에 배치된, 예를 들면 몰리브덴판(41)과, 몰리브덴판(41)의 아래쪽에 배치된 가열수단으로서의 할로겐램프(42)로 구성된다. 몰리브덴판(41)은 가열용 보드로서 기능한다. 몰리브덴판(42)의 위에는 발수용 칩(43)과, 열전대(44)를 구비한 온도 측정용 칩(45)이 설치되고, 이 몰리브덴판(42) 위의 각 부재의 배치만이 상측의 발수처리유닛과는 상이하다.

도 6과 도 7에 상기 발수처리유닛(40)의 요부 확대도를 나타냈다. 도 6은 평면도, 도 7은 도 6의 B-B선 단면도이다. 몰리브덴판(41)의 위에 설치된 발수용 칩(43)과 온도 측정용 칩(45)은 플라스틱기재(24)의 하면(볼록면)에 대향하고 있다. 온도 측정용 칩(45)에 설치된 열전대(44)의 검출신호는 제어부(46)에 입력된다. 제어부(46)는 열전대(44)가 검출하는 분위기 온도에 따라, 할로겐램프(42)의 가열온도를 적절한 온도로 제어한다. 할로겐램프(42)에 의해 몰리브덴판(43)을 통해 발수용 칩(43)을 가열하여 발수물질을 증발시키고, 이로써 플라스틱기재(24)의 하면에 발수막이 형성된다. 이와 같이, 발수기능은 상측의 발수처리유닛과 동일하다.

상기 구성에 의하면, 기판홀더(22)는 회전상태에 있으므로, 상하에 배치된 발수처리유닛(30,40)에 의해, 기판홀더(22) 위의 모든 플라스틱기재(24)의 양면에 발수막을 동시에 동일 제어로 형성할 수 있다. 특히. 플라스틱기재의 상측에 배치되는 상면 발수처리유닛(30)은 전술한 바와 같은 구성을 채용했으므로, 상면측으로부터의 발수처리가 가능하게 되었다. 이상과 같이, 발수막을 성막하는 진공실(16)에서는 기판홀더(22) 위에 탑재된 다수의 플라스틱기재(24)의 양면에 동시에 발수막을 형성할 수 있다.

또, 막두께 보정기구는 발수막 형성장치의 내벽부에 장착되어, 상기 구성을 가지는 발수처리기구와 소정의 위치관계에서 배설된다. 막두께 보정기구는 기판홀더(22)의 상측과 하측에 배치된 막두께 보정판(51,52)에 의해 구성된다. 막두께 보정판(51)은 상기 장치 내부에서는 발수처리유닛(30)과 기판홀더(22)의 사이에 평행으로 배치되고, 막두께 보정판(52)은 발수처리유닛(40)과 기판홀더(22)의 사이에 평행으로 배치된다. 막두께 보정판(51,52)은 기능적으로는, 기판홀더(22)의 회전동작에 의해 발수처리유닛(30,40)의 근처에 도래한 플라스틱기재(24)를 피복하기 위한 마스크부재이다. 도 8에 나타낸 바와 같이, 원하는 피복패턴 형상을 가지는 마스크부재로서 기능하는 막두께 보정판에서 반경방향에 동심원형으로 배열된 플라스틱기재(24)를 부분적으로 피복함으로써, 증발된 발수물질을 부분적으로 차단하고, 각 플라스틱기재(24)의 표면에 퇴적되는 발수막의 막두께를 보정하여, 당해 표면에서의 막두께를 균일하게 하는 것이 가능하게 된다. 막두께 보정판(51,52)은 그 길이방향을 기판홀더(22)의 중심부와 주위부를 잇는 직선의 방향, 즉 경(徑)방향으로 향해 배치되어 있다. 도 8에 있어서, 원(53∼55)은 플라스틱기재(24)가 배치되는 동심원이고, 그 회전에 의한 선속도(線速度)는 외측이 빨라지고 있다.

막두께 차가 생기는 원인의 하나로서는, 발수칩의 증착원(蒸着源)과 렌즈의 상대위치관계(높이 거리를 일정하게 한 경우)가 고려된다. 도 8에서는, 증착원은 3열로 배치한 렌즈의 중간으로부터 약간 외측 근처에 배치되어 있다. 즉, 외측부분에 배치된 렌즈는 선속도가 커지기 때문이고, 또 증착원에 가까운 렌즈부에는 보다 많이 두껍게 성막되므로, 보정판의 면적이 넓어지게 되어 있고, 내측에 배치된 렌즈부에는 거리적으로 멀기 때문에, 가늘고 면적이 작게 되어 있다.

막두께 보정판(41,42)의 평면형상은 통상, 기판홀더의 렌즈와 증착원과의 상대적 위치(높이 거리도 포함함)와 렌즈 배치에 의한 기판홀더의 회전 선속도를 고려하여, 증착원에서 멀어지는 방향으로 선단(先端)이 가늘게 되어 면적이 줄어드는, 경방향으로 소정의 길이를 가지는 도 8에 나타난 형상이 바람직하지만, 특히 이 형상에 한정되는 것이 아니다. 또, 증착원의 배치위치는 렌즈 배열의 중간으로부터 외측 근처, 구체적으로는 중심으로부터 1/2∼2/3 이하 정도가 바람직하다.

이상과 같이, 발수처리기구에 있어서 막두께 보정판을 사용하는 경우와, 당해 막두께 보정판을 사용하지 않는 경우를 비교하면, 당해 보정판을 사용하지 않는 경우에는, 플라스틱기재(24)에서 1열째(내주측)로부터 3열째(외주측)에 도달함에 따라 막두께 얼룩이 발생하여, 발수 성능의 불균일이나 반사방지막의 간섭색의 불균일이 발생한다. 이에 대하여 막두께 보정판을 사용하면, 이와 같은 문제점이 없어져, 막두께 분포가 균일한 발수막의 성막을 행하는 것이 가능하게 된다. 도 9의 표에 막두께 보정판의 유무에 의한 테스트 결과를 나타냈다. 이 표에 있어서, 막두께 보정판을 사용한 경우와 사용하지 않은 경우에는, 특히 성막량이 많은 경우에 차이가 현저해 져, 막두께 보정판을 사용한 경우에는 1열째로부터 3열째의 플라스틱기재에서 접촉각이 균일하게 되고, 또 간섭색의 변화의 차이도 적어진다.

그리고, 막두께 보정기구의 적용은, 본 실시형태에 의한 양면 동시 발수처리기구에 한정되지 않고, 일면 처리기구에도 사용된다.

상기 막두께 보정기구에 의하면, 발수처리에 있어서 진공증착법을 이용하여 광학렌즈기재의 표면에 발수막을 성막하는 경우에, 발수처리유닛과 기판홀더의 사이에 기판홀더 위에 배치된 광학렌즈기재에 대하여 소정의 위치관계에서 막두께 보정판을 배치했으므로, 발수막의 막두께를 균일하게 할 수 있어, 양호한 막두께 분포를 실현할 수 있고, 발수 성능 등의 렌즈 특성을 향상할 수 있다. 특히, 기판홀더에 있어서 다수의 광학렌즈기재를 동심원의 위치관계에서 배치하는 경우에 있어서, 내주측과 외주측에 위치하는 광학렌즈기재의 표면에 성막되는 발수막의 막두께 차이를 작게 하여, 기판홀더(렌즈트레이)를 단위로 하는 로트내의 복수의 광학렌즈기재에 있어서의 막두께 분포를 균일하게 할 수 있다.

광학렌즈기재의 표면에 발수막을 성막하는 진공처리실에 있어서, 상면 발수처리유닛과 하면 발수처리유닛을 설치했으므로, 광학렌즈기재의 양면에 동시에 발수막을 형성하는 처리를 행하는 데 적합하고, 발수막의 성막처리 효율의 향상, 작업성과 생산성의 향상에 적합하다. 또한, 발수처리에 있어서 진공증착법을 이용하여 광학렌즈기재의 표면에 발수막을 성막하는 경우, 광학렌즈기재의 표면에 있어서의 발수막 막두께의 균일화, 발수 성능 등의 렌즈 특성의 향상에 적합하다. 특히, 광학렌즈에서는 메니스커스 형상을 가지는 안경렌즈에 바람직하다.

Claims (8)

1. 복수의 광학렌즈기재(基材)(24)가 배치된 홀더(22)가 진공분위기에서 회전 가능하게 설치되고, 상기 광학렌즈기재(24)의 표면에 발수막(撥水膜)을 형성하는 진공처리실(16)에 있어서,

   상기 홀더(22)에 대하여 상면 발수처리유닛(30)과 하면 발수처리유닛(40)을 설치하여 이루어지고, 상기 광학렌즈기재(24)의 상면에 상기 상면 발수처리유닛(30)에 의해 발수막을 형성하고, 상기 광학렌즈기재(24)의 하면에 상기 하면 발수처리유닛(40)에 의해 발수막을 형성하며,

   상기 상면 발수처리유닛(30)과 하면 발수처리유닛(40)은 각각 발수용 칩(33,34)과, 이를 가열하는 가열기(32,42)를 구비하고,

   상기 상면 발수처리유닛(30)과 하면 발수처리유닛(40)은 각각 온도 측정용 칩(36,45)과, 이 온도 측정용 칩에 부설된 온도검출수단(35,44)과, 이 온도검출수단의 검출신호에 따라 상기 가열기의 가열온도를 제어하는 제어수단(37,46)을 구비하는 것을 특징으로 하는 양면 동시 발수처리기구.
2. 삭제
3. 삭제
4. 제1항에 있어서, 상기 발수용 칩(33,43)에는 가열용 보드(board)(34,41)가 부설되어 있는 것을 특징으로 하는 양면 동시 발수처리기구.
5. 제1항에 있어서, 상기 상면 발수처리유닛(30)은 상기 발수용 칩(33)과 상기 온도 측정용 칩(36)을 얹어 놓고 또한 상기 광학렌즈기재(24)의 상면에 대향시키도록 구성된 지지판(31)을 구비하는 것을 특징으로 하는 양면 동시 발수처리기구.
6. 제1항에 있어서, 상기 하면 발수처리유닛(40)은 상기 발수용 칩(43)과 상기 온도 측정용 칩(45)을 얹어 놓는 가열용 보드(41)를 구비하는 것을 특징으로 하는 양면 동시 발수처리기구.
7. 제1항에 있어서, 상면 및 하면 발수처리유닛(30,40)에 의해 증착으로 광학렌즈기재(24)의 표면에 발수막을 형성하는 진공처리실(16)로 사용되고, 상기 발수처리유닛과 상기 광학렌즈기재의 사이에, 상기 발수막의 막두께 차를 보정하는 막두께 보정판(51,52)을 구비하고,

   상기 광학렌즈기재의 표면은 곡률을 가지고, 또한 복수의 상기 광학렌즈기재가 수평으로 되고 또한 회전상태에 있는 원형 평판의 홀더에, 수평상태에서 동심원(同心圓) 위치로 배치되고,

   상기 막두께 보정판(51,52)은 상기 홀더의 주위부와 중심부를 잇는 방향에 배치된 막두께 차 조정용 마스크부재인

   것을 특징으로 하는 양면 동시 발수처리기구.
8. 제7항에 있어서, 상기 상면 발수처리유닛과 하면 발수처리유닛에 의해 상기 광학렌즈기재의 상하면에 발수막이 형성되고, 상기 마스크부재는 상측 마스크부재(51)와 하측 마스크부재(52)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 양면 동시 발수처리기구.