KR100490631B1 - 플라즈마 디스플레이 패널 및 이의 구동방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 리셋 파형에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 리셋 구간에서 강방전이 일어날 정도로 인가전압을 빠르게 상승 또는 하강시킨 후, 전극을 플로팅시킴으로써 방전 진행 중에 방전 공간의 내부에 인가되는 전압의 크기를 작게 하여 방전이 스스로 소멸하도록 함으로써, 벽전하를 미세하게 제어한다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널 및 이의 구동방법 {A PLASMA DISPLAY PANEL AND A DIRIVING METHOD OF THE SAME}
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel; PDP) 및 이의 구동방법에 관한 것으로, 특히 플라즈마 디스플레이 패널의 리셋 파형의 구동방법 에 관한 것이다.
최근 액정표시장치(liquid crystal display; LCD), 전계 방출 표시장치(field emission display; FED), PDP 등의 평면 표시 장치가 활발히 개발되고 있다. 이들 평면 표시 장치 중에서 PDP는 다른 평면 표시 장치에 비해 휘도 및 발광효율이 높으며 시야각이 넓다는 장점이 있다. 따라서, PDP가 40인치 이상의 대형 표시 장치에서 종래의 CRT(cathode ray tube)를 대체할 표시 장치로서 각광받고 있다.
PDP는 기체 방전에 의해 생성된 플라즈마를 이용하여 문자 또는 영상을 표시하는 평면 표시 장치로서, 그 크기에 따라 수십에서 수백 만개 이상의 픽셀(pixel)이 매트릭스(matrix)형태로 배열되어 있다. 이러한 PDP는 인가되는 구동 전압 파형의 형태와 방전 셀의 구조에 따라 직류형(DC형)과 교류형(AC형)으로 구분된다.
직류형 PDP는 전극이 방전 공간에 그대로 노출되어 있어서 전압이 인가되는 동안 전류가 방전공간에 그대로 흐르게 되며, 이를 위해 전류제한을 위한 저항을 만들어 주어야 하는 단점이 있다. 반면 교류형 PDP에서는 전극을 유전체층이 덮고 있어 자연스러운 캐패시턴스 성분의 형성으로 전류가 제한되며 방전시 이온의 충격으로부터 전극이 보호되므로 직류형에 비해 수명이 길다는 장점이 있다.
도 1은 AC형 플라즈마 디스플레이 패널의 일부 사시도이다.
도 1에 도시한 바와 같이, 제1 기판(1) 위에는 유전체층(2) 및 보호막(3)으로 덮인 주사전극(4)과 유지전극(5)이 쌍을 이루어 평행하게 설치된다. 제2 기판(6) 위에는 절연체층(7)으로 덮인 복수의 어드레스전극(8)이 설치된다. 어드레스전극(8)들 사이에 있는 절연체층(7) 위에는 어드레스 전극(8)과 평행하게 격벽(9)이 형성되어 있다. 또한, 절연체층(7)의 표면 및 격벽(9)의 양측면에 형광체(10)가 형성되어 있다. 제1 기판(1)과 제2 기판(6)은 주사전극(4)과 어드레스전극(8) 및 유지전극(5)과 어드레스전극(8)이 직교하도록 방전공간(11)을 사이에 두고 대향하여 배치되어 있다. 어드레스전극(8)과, 쌍을 이루는 주사전극(4)과 유지전극(5)과의 교차부에 있는 방전공간이 방전셀(12)을 형성한다.
도 2는 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 배열도를 나타낸다.
도2에 도시한 바와 같이, PDP 전극은 m ×n의 매트릭스 구성을 가지고 있으며, 구체적으로 열 방향으로는 어드레스전극(A1~Am)이 배열되어 있고 행방 향으로는 n행의 주사전극(Y1~Yn) 및 유지전극(X1~Xn)이 지그재그로 배열되어 있다. 이하에서는 주사전극을 "Y 전극", 유지전극을 "X 전극"이라 칭한다. 도 2에 도시된 방전셀(12)은 도 1에 도시된 방전셀(12)에 대응한다.
일반적인 PDP의 구동방법에 따르면, 하나의 프레임을 다수의 서브 필드로 나누어 구동하는데, 이때 각 서브 필드는 리셋구간, 어드레스 구간, 유지구간으로 구성된다.
리셋구간(초기화구간)은 이전의 유지 방전의 벽전하 상태를 소거하고, 다음의 어드레스 방전을 안정적으로 수행하기 위해 벽전하를 셋업(setup) 하는 역할을 한다. 즉, 리셋구간은 이어지는 어드레스 구간의 어드레스 동작을 위해 최적의 벽전하 상태를 만들어 주는 역할을 한다.
어드레스 구간은 패널에서 켜지는 셀과 켜지지 않는 셀을 선택하여 켜지는 셀(어드레싱된 셀)에 벽전하를 쌓아두는 동작을 수행하며, 유지 구간은 어드레싱된 셀에 실제로 화상을 표시하기 위한 방전을 수행한다.
종래에는 리셋 구간의 구동방법으로, 미국특허 5,745,086호에 기재된 바와 같이, 램프 파형을 인가하였다.
즉, 종래에는 리셋 구간에서 각 전극의 벽전하를 제어하기 위해 Y 전극에 천천히 상승 또는 하강시키는 상승 램프 및 하강 램프 파형을 인가하였다. 그러나, 종래와 같이 램프 파형을 인가하는 경우에는 벽전하의 제어 정밀도가 램프의 기울기에 강하게 의존하기 때문에, 벽전하를 정밀하게 제어하기 위한 초기화에 상당한 시간이 소요되는 문제점이 있었다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 짧은 시간 내에 초기화를 구현하는 플라즈마 디스플레이 패널 및 이의 구동방법을 제공하기 위한 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 하나의 특징에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법은 제1 전극 및 제2 전극에 의해 정의되는 제1 공간을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법으로서,
상기 제1 전극에 제1 전압을 인가하여 상기 제1 공간을 방전시키는 방전전압 인가 단계: 및 상기 제1 공간을 방전시킨 후, 상기 제1 전극을 플로팅시키는 플로팅 단계를 포함한다.
이때, 상기 제1 전극을 플로팅시키는 구간이 상기 제1 전극에 상기 제1 전압을 인가하는 구간보다 긴 것이 바람직하다.
또한, 상기 방전전압 인가 단계 및 상기 플로팅 단계는 소정 횟수만큼 반복될 수 있다.
한편, 본 발명의 다른 특징에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법은 제1 전극 및 제2 전극에 의해 정의되는 제1 공간을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법으로서, 리셋 구간에서,
(a) 상기 제1 전극에 상승 전압을 인가하여 상기 제1 공간을 방전시키는 단계: (b) 상기 제1 공간을 방전시킨 후, 상기 제1 전극을 플로팅시키는 단계; (c) 상기 제1 전극에 하강 전압을 인가하여 상기 제1 공간을 방전시키는 단계; 및 (d) 상기 제1 공간을 방전시킨 후, 상기 제1 전극을 플로팅시키는 단계를 포함한다.
한편, 본 발명의 또 다른 특징에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법은 제1 전극 및 제2 전극에 의해 정의되는 제1 공간을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법으로서, 리셋 구간에서,
(a) 상기 제1 공간에 제1 방전을 수행하여, 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극에 형성되는 유전체에 벽전하를 축적시키는 단계; (b) 상기 제1 방전을 소멸시키는 단계; (c) 상기 제1 공간에 제2 방전을 수행하여 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극에 형성되는 유전체에 벽전하를 축적시키는 단계; 및 (d) 상기 제2 방전을 소멸시키는 단계를 포함한다.
한편, 본 발명의 또다른 특징에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법은 제1 전극 및 제2 전극에 의해 정의되는 제1 공간을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법으로서, 리셋 구간에서,
(a) 상기 제1 공간에 제1 방전을 수행하여, 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극에 형성된 유전체에 축적되어 있는 벽전하를 감소시키는 단계; (b) 상기 제1 방전을 소멸시키는 단계; (c) 상기 제1 공간에 제2 방전을 수행하여, 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극에 형성된 유전체에 축적되어 있는 벽전하를 감소시키는 단계; 및 (d) 상기 제2 방전을 소멸시키는 단계를 포함한다.
한편, 본 발명의 특징에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은
제1 전극 및 제2 전극; 상기 제1 전극 및 제2 전극에 의해 정의되는 제1 공간; 및 리셋 구간 동안에 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에 구동신호를 보내는 구동회로를 포함하고,
상기 구동회로는 상기 제1 전극에 제1 전압을 인가하여 상기 제1 공간을 방전시킨 후, 상기 제1 전극을 플로팅시키는 것을 특징으로 한다.
한편, 본 발명의 다른 특징에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은
제1 및 제2 기판; 상기 제1 기판에 나란히 형성되는 제1 전극 및 제2 전극;
상기 제2 기판에 형성되는 어드레스 전극; 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에 의해 정의되는 제1 공간; 리셋 구간, 어드레스 구간, 유지 방전 구간 동안에 상기 제1 전극, 상기 제2 전극 및 상기 어드레스 전극에 구동신호를 보내는 구동회로를 포함하고,
상기 구동회로는 리셋 구간에서, 상기 제1 전극에 상승 전압을 인가하여 상기 제1 공간을 방전시킨 후, 상기 제1 전극을 플로팅시키는 것을 특징으로 한다.
이때, 상기 구동회로는 전류원과, 상기 전류원과 상기 제1 전극 사이에 커플링되는 스위치를 포함한다.
한편, 본 발명의 또다른 특징에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은
제1 및 제2 기판; 상기 제1 기판에 나란히 형성되는 제1 전극 및 제2 전극;
상기 제2 기판에 형성되는 어드레스 전극; 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에 의해 정의되는 제1 공간; 리셋 구간, 어드레스 구간, 유지 방전 구간 동안에 상기 제1 전극, 상기 제2 전극 및 상기 어드레스 전극에 구동신호를 보내는 구동회로를 포함하고,
리셋 구간 동안, 상기 구동회로는
상기 제1 전극에 하강 전압을 인가하여 상기 제1 공간을 방전시킨 후, 상기 제1 전극을 플로팅시키는 것을 특징으로 한다.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 구동방법을 상세히 설명한다.
본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법에 따르면, 리셋 구간에서 강방전이 일어날 정도로 인가전압을 빠르게 상승 및 하강시키고, 방전 진행 중에 방전 공간의 내부에 인가되는 전압의 크기를 작게 하여 방전이 스스로 소멸(self-quenching)하도록 함으로써, 벽전하를 제어한다. 이때, 본 발명의 실시예에 따르면, 이러한 방전의 소멸(self-quenching)을 전극의 플로팅 상태를 이용해 구현한다.
방전 공간에 전압을 인가한 후 방전 형성시까지는 소정의 시간이 소요되는데 (방전 형성시까지의 소요시간을 방전 지연(delay)이라 함), 전압인가부터 방전형성까지의 과정을 설명하면 다음과 같다.
용량성 부하(capacitive load)로 표현되는 두 전극(Y 전극, X 전극 및 어드레스 전극 중 두 개의 전극) 중 어느 하나 이상을 전원에 연결하면 두 전극에 전하가 충전되어 방전공간(두 전극 사이)에 전압이 인가된다. 방전 공간에 전압이 인가되면, 알파 및 감마 프로세스를 거쳐 방전이 시작되고 두 전극에 형성되어 있는 유전체에 벽전하가 축적되기 시작한다. 축적된 벽전하는 방전공간 내부에 걸리는 전압을 감소시키는데, 이때 상당량의 벽전하가 축적되면 방전공간에 걸리는 전압은 더 이상 방전을 유지하지 못할 정도로 작아져 점차 방전은 소멸된다.
이러한 과정에서 다음과 같은 사항을 가정해 보자.
(1) 종래의 리셋 방법과 같이 방전 형성기간 내내 플라즈마 디스플레이 패널의 전극이 전원과 연결되어 있는 경우
방전이 개시되어 전극에 형성되어 있는 유전체에 벽전하가 축적되더라도, 전원으로부터 계속해서 전하가 공급되므로 전극의 전압은 인가전압으로 일정하게 유지된다. 따라서, 전원으로부터 전극에 공급되는 전하의 양은 방전에 의해 축적되는 벽전하의 양과 거의 대등하기 때문에 벽전하 형성에 의한 방전공간 내부 전압의 감소는 매우 작아서, 상당량의 벽전하가 축적되어야만 방전이 소멸하게 된다.
(2) 본 발명의 실시예와 같이 전압인가 후 전극을 플로팅 상태로 하여 전원과 전극을 전기적으로 차단한 경우
방전이 형성되어 벽전하 축적이 시작되면 전원으로부터 전극에 유입되는 전하가 없으므로 전극의 전압이 벽전하의 양에 따라 변하게 된다. 따라서 벽전하의 축적량이 곧바로 방전 공간 내부 전압을 감소시키게 되어 적은 양의 벽전하 축적만으로도 방전은 소멸하게 된다. 즉, 일정 전압을 패널에 인가한 후 전기적으로 전원과 패널을 오픈(하이 임피던스)시켜 패널의 전극을 플로팅 상태로 하면, 벽전하의 축적에 의해 방전 공간 내부 전압의 크기가 감소할 때 전극 사이의 전압크기도 같이 감소하여, 적은 양의 벽전하 축적만으로도 방전이 소멸한다. 따라서, 전극을 플로팅 상태로 하면 전원을 통해 전극에 전압을 인가한 상태보다 벽전하를 미세하게 제어할 수 있음을 알 수 있다.
이하에서는 도 3a 내지 도 6을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 구동방법의 원리를 보다 자세히 설명한다.
도 3a는 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법을 설명하기 위해 PDP 셀을 1 차원적으로 모델링한 것이고, 도 3b는 도3a의 등가 회로를 나타낸 도면이다.
도 3a에서, 제1 전극(예컨대, Y 전극)(15)은 스위치(S1)를 통해 전압(Vin)에 전기적으로 연결되어 있으며, 제2 전극(예컨대, X 전극)(16)은 접지 전압에 전기적으로 연결되어 있다. 제1 전극(15) 및 제2 전극(16)의 안쪽에는 각각 유전체층(20, 30)이 형성되어 있다. 유전체층(20, 30) 사이에 방전 가스(도시하지 않음)가 주입되어 있으며 이 유전체층(20, 30) 사이의 영역이 방전 공간(40)을 형성한다.
이때, 제1 및 제2 전극(15, 16), 유전체층(20, 30) 및 방전 공간(40)은 도3b에 도시한 바와 같이 패널 캐패시턴스(Cp)로 등가적으로 나타낼 수 있다.
도 3a에서, 두 유전체층(20, 30)의 두께는 d1로 같으며, 두 유전체층 사이의 거리(방전 공간의 거리)는 d2라 가정한다. 두 유전체층(20, 30)의 유전 상수(dielectric constant)는 이라 가정하고, 방전 공간(40)에 인가되는 전압은 Vg라 가정한다.
다음은 도 4를 참조하여, 벽전하 없이 전극에 전압(Vin)이 인가된 상태에서의 방전 공간에 인가된 전압 Vg를 계산한다.
수학식 1에 표시한 맥스웰 방정식으로부터, 영역 A 및 영역 B를 각각 가우스 표면(Gaussian surface)으로 선택한 후, 각각에 대하여 가우스 법칙(Gaussian theorem)을 적용하면 수학식 2 및 수학식 3과 같은 유전체 내부의 전계(electric field)(E1) 및 방전공간 내부의 전계(E2)를 구할 수 있다.
여기서, 는 전극에 인가되는 전하량을 나타낸다.
도4에서, 외부에 전압 Vin이 인가되므로, 다음의 수학식 4 및 수학식 5를 구할 수 있다.
또한, 수학식 1 내지 수학식 5로부터 다음의 수학식 6 및 수학식 7을 구할 수 있다.
, 여기서, d2는 d1에 비해 매우 큰 값이므로, 는 거의 1에 가깝다.
수학식 7로부터, 외부 인가 전압(Vin)이 방전 공간에 그대로 인가됨을 알 수 있다.
다음은 도 5를 참조하여, 전압(Vin)이 인가상태에서 벽전하( )가 형성될때, 방전 공간 내부의 전압(Vg')를 계산한다. 도 5에서는 벽전하 형성시 전극의 전위를 유지하기 위해 전원(Vin)으로부터 전하가 공급되기 때문에, 전극에 인가되는 전하량은 로 증가한다.
도5에서, 영역 A 및 영역 B를 각각 가우스 표면(Gaussian surface)으로 선택한 후, 각각에 대하여 가우스 법칙(Gaussian theorem)을 적용하면 수학식 8 및 9와 같은 유전체 내부의 전계(E1) 및 방전공간 내부의 전계(E2)를 구할 수 있다.
,
이고, 이므로 수학식 8 및 수학식 9로부터, 수학식 10과 수학식 11을 구할 수 있다.
수학식 11로부터 알 수 있듯이, 전압(Vin)이 계속해서 인가된 상태에서는 가 거의 1이기 때문에, 아주 작은 전압 강하만 있음을 알 수 있다.
다음은 도 6을 참조하여, 벽전하( )가 형성된 후 플로팅을 시킨 상태에서의 방전 공간 내부의 전압(Vg')를 계산한다. 도 6에서는 벽전하 형성시 전원(Vin)으로부터 유입되는 전하가 없기 때문에, 전극에 인가되는 전하량은 이 된다.
도6에서, 영역 A 및 영역 B를 각각 가우스 표면(Gaussian surface)으로 선택한 후, 각각에 대하여 가우스 법칙(Gaussian theorem)을 적용하면 수학식 2 및 12와 같은 유전체 내부의 전계(E1) 및 방전공간 내부의 전계(E2)를 구할 수 있다.
이므로 수학식 12로부터 다음의 수학식 13을 구할 수 있다.
수학식 13으로부터 알 수 있듯이, 전압(Vin)이 인가되지 않은 상태(즉, 플로팅 상태)에서는 벽전하에 의해 큰 전압 강하가 있음을 알 수 있다. 즉, 수학식 11 및 수학식 13으로부터 알 수 있듯이 전극이 플로팅된 상태가 전압(Vin) 인가 상태보다 벽전하에 의한 전압강하 크기가 1/(1-)배만큼 커짐을 알 수 있다. 결국, 플로팅 상태에서는 적은 벽전하의 추가적 형성에 의해서 방전공간 내 전압이 급격히 감소하므로, 방전의 급격한 소멸 메카니즘(quenching mechanism)으로 작용할 수 있음을 알 수 있다.
본 발명의 실시예는 이와 같은 소멸 메카니즘(quenching mechanism)을 이용하여 정밀한 벽전하 제어를 수행한다.
이하에서는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법을 설명한다.
도7은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타내는 도면이다.
도7에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 플라즈마 패널(100), 제어부(200), 어드레스 구동부(300), X 전극 구동부(400) 및 Y 전극 구동부(500)를 포함한다.
플라즈마 패널(100)은 열 방향으로 배열되어 있는 다수의 어드레스 전극(A1~Am), 행 방향으로 지그재그로 배열되어 있는 다수의 유지전극(X1~Xn) 및 주사전극(Y1~Yn)을 포함한다.
제어부(200)는 외부로부터 영상신호를 수신하여 어드레스구동 제어신호, X 전극구동 제어신호 및 Y 전극구동 제어신호를 출력한다.
어드레스 구동부(300)는 제어부(200)로부터 어드레스구동 제어신호를 수신하여 표시하고자 하는 방전 셀을 선택하기 위한 표시 데이터 신호를 각 어드레스 전극에 인가한다.
X 전극 구동부(400)는 제어부(200)로부터 X 전극구동 제어신호를 수신하여 X 전극에 구동 전압을 인가하고, Y 전극 구동부(500)는 제어부(200)로부터 Y 전극구동 제어신호를 수신하여 Y 전극에 구동 전압을 인가한다. 이때, X 전극 구동부(400) 또는 Y 전극 구동부(500)는 도3b를 통해 설명한 바와 같이, 리셋 구간에서 X 전극 또는 Y 전극에 소정 전압을 인가하여 방전 개시를 시작한 후, 전극을 플로팅 상태로 한다. 또한, X 전극 구동부(400) 및 Y 전극 구동부(500)는 유지 기간에 각각 X 전극 및 Y 전극에 유지 방전 전압을 인가한다.
도 8a 및 도 8b는 본 발명의 제1 실시예에 따른 리셋 파형을 나타내는 도면이다.
도8a에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 리셋 파형에 따르면, X 전극을 접지 전압으로 유지한 상태에서 Y 전극을 방전이 가능한 전압(Vset)을 인가한 상태와 플로팅 상태로 둔다. 이때, Y 전극을 전압인가 상태와 플로팅 상태로 반복하여 구동할 수 있으며, 이 경우 전압인가 구간(ta)을 플로팅 상태 구간(tf) 보다 작게 설정하는 것이 바람직하다.
도8a 및 도8b에 도시한 바와 같이, Y 전극을 전압 인가상태와 플로팅 상태로 반복해서 구동하였을 때, Y 전극과 X 전극의 차 전압(Va), 두 전극 내부의 유전체층에 형성되는 벽전하에 의한 벽전압(Vw)과 방전 전류(Id)를 도 9에 도시였다. 본 발명의 제1 실시예에서는 X 전극의 전압이 접지 전압이기 때문에, 이하에서는 설명의 편의를 위해 전압 Va를 Y 전극의 전압과 동일하게 간주한다.
도 9에 도시한 바와 같이, Y 전극에 방전개시전압(Vf) 이상의 전압(Vset)을 인가하여 방전을 개시한 후 Y 전극을 플로팅 상태로 하면, 이전에 설명한 바와 같이 소정의 벽전하가 쌓임과 동시에 방전 공간 내부에 강한 방전 소멸(quenching)이 발생한다. 방전 공간 내부가 방전 소멸됨에 따라 Y 전극의 전압(Va)도 같이 감소하게 된다. 그리고 나서, 다시 Y 전극에 전압(Vset)을 인가하여 방전을 형성시킨 후 플로팅 상태로 하면, 앞서와 마찬가지로 소정의 벽전하가 쌓임과 동시에 방전 공간 내부에 강한 방전 소멸이 발생한다. 그리고, 이와 같은 전압인가 및 플로팅 상태의 반복은 소정 횟수만큼 반복된다.
이때, 도9에 도시한 바와 같이, 방전 공간에 흐르는 방전의 양(즉, 방전 전류의 크기)은 점차로 감소함을 알 수 있다. 이는 방전 공간 내부에 흐르는 방전 전류(Id)는 Y 전극의 전압(Va)과 벽전압(Vw)의 차에 비례하기 때문이다. 즉, 도9에 도시한 바와 같이, 전압인가와 플로팅 상태를 반복할수록 두 전극에 형성되어 있는 유전체층에 축적되는 벽전하에 의한 벽전압(Vw)이 증가하고, 이에 따라 Y 전극의 전압(Va)과 벽전압(Vw)의 차가 감소하기 때문에, 방전 전류가 감소하는 것이다. 이때, 벽전하는 방전 공간에 걸리는 전압(즉, Va 전압과 Vw 전압과의 차)이 방전개시 전압(Vf)에 도달할 때까지 쌓이게 된다.
이처럼 본 발명의 제1 실시예에 따르면, Y 전극에 일정 전압(Vset)을 인가한 후 플로팅 상태로 구동하여 적은 벽전하의 축적만으로도 방전을 급격히 소멸시킬 수 있으므로, 벽전하를 미세하게 제어할 수 있다. 이때, 본 발명의 제1 실시예에 따라 벽전하를 제어할 때 주의할 점은 전압을 인가하고 있는 시간의 크기(ta)가 방전이 지나치게 크게 형성될 정도로 충분히 길어서는 안 된다는 것이다.
또한, 본 발명의 제1 실시예에 따르면 첫 번째 방전이 가장 크기 때문에, 첫 번째 방전 이후의 방전을 통해 안정적으로 벽전하를 제어할 수 있다. 즉, 적어도 두번 이상의 방전이 일어나도록 인가 시간(turn-on time)과 플로팅 시간(turn-off time)을 설정하여 Y 전극을 구동하는 것이 바람직하다.
다음은 본 발명의 제2 실시예에 따른 구동 방법을 설명한다.
도10은 본 발명의 제2 실시예에 따른 리셋 방법을 구현하기 위한 개념도이다.
도10에서, 일정한 전류를 흐르게 하는 전류원(I)이 스위치(S1)을 통해 패널 캐패시터(Cp)에 연결된다. 도10에서, 패널 캐패시터(Cp)는 Y 전극, X 전극 및 어드레스 전극 중 두 개의 전극을 등가적으로 모델링한 것이다.
도10에서, 스위치가 턴온될 때 패널 캐패시터(Cp)의 한쪽 전극에 인가되는 전압은 다음의 수학식 14와 같다.
V = ±(I/Cx) * t
여기서, Cx는 패널 캐패시터(Cp)의 캐패시턴스를 나타내며, (+) 및 (-) 부호는 전류원으로부터 공급되는 전류의 방향에 따라 결정된다.
수학식 14로부터 알 수 있듯이, 본 발명의 제2 실시예에 따르면 패널 캐패시터(Cp)에 I/Cx의 기울기로 증가하는 램프 파형이 인가된다.
본 발명의 제2 실시예에 따른 리셋 방법은 패널 캐패시터의 한쪽 전극에 소정 시간 동안 급격히 상승 또는 하강하는 램프 파형을 인가하여 패널 캐패시터의 내부(즉, 두 전극 사이의 방전 공간)를 방전시킨 후, 패널 캐패시터의 하나의 전극을 플로팅시킴으로써 방전 공간의 방전을 소멸시킨다.
이때, 도10에 등가적으로 도시한 전류원(I)과 스위치(S1)에 해당하는 회로 구성은 도7에 도시한 플라즈마 디스플레이 패널의 X 전극 구동부(400), Y 전극 구동부(500) 및 어드레스 구동부(300) 중 어느 하나 이상에 있을 수 있다. 이때, 도10에 등가적으로 구현한 전류원(I)과 스위치(S1)의 구체적인 회로는 본 발명의 속하는 기술분야의 통상적인 전문가라면 쉽게 알 수 있기 때문에, 이하에서는 구체적인 설명을 생략한다.
도11은 본 발명의 제2 실시예에 따른 구동 파형을 나타내는 도면이다.
도11에서, 리셋구간은 소거 구간, Y 램프 상승/플로팅 구간, Y 램프 하강/ 플로팅 구간으로 이루어진다.
(1) 소거 구간
마지막 유지방전이 끝나고 나면, X 전극에 형성되는 유전체에는 (+) 전하, Y 전극에 형성되는 유전체에는 (-) 전하가 쌓이게 된다. 유지방전이 끝난 후에, Y 전극을 소정 전압(접지 전압)을 유지한 상태에서 X 전극에 0(V)부터 +Ve(V)까지 상승 램프 전압을 인가한다. 그러면, X 전극과 Y 전극에 유전체에 쌓였던 벽전하는 점점 소거된다.
(2) Y 상승 램프/플로팅 구간
이 구간 동안에는 어드레스 전극 및 X 전극을 0V로 유지한 상태에서, Y 전극을 전압 Vs로부터 전압 Vset까지 상승 램프 및 플로팅을 반복하는 램프 상승/플로팅 전압을 인가한다. Y 전극에 급격히 상승하는 램프 전압을 인가하는 동안 모든 방전 셀에서는 리셋 방전이 일어나 벽전하가 축적되고, Y 전극을 플로팅시키는 동안에는 방전 공간의 방전이 급격히 소멸된다.
(3) Y 하강 램프/플로팅 구간
이어서, 리셋기간의 후반에는 X 전극을 정전압 Ve로 유지한 상태에서, Y 전극에 전압 Vs로부터 0(V)까지 하강 램프 및 플로팅을 반복하는 하강 램프/플로팅 전압을 인가한다.
도12a는 도11에 도시한 리셋 구간 중 II 영역 즉, Y 상승 램프/플로팅 구간과 Y 하강 램프/플로팅 구간을 확대한 도면이며, 도12b 및 도12c는 도12a의 b 영역과 c 영역을 확대한 도면이다.
도12b 및 도12c에서, Y 전극에 상승 램프전압을 인가하는 시간(tr_a) 및 하강 램프전압을 인가하는 인가시간(tf_a)은 각각 Y 전극을 플로팅시키는 시간 (tr_f, tf_f) 보다 작게 설정하는 것이 바람직하다.
도13a는 본 발명의 제2 실시예에 따른 Y 상승 램프/플로팅 구간에서의, Y 전극 및 X 전극의 차 전압(Va), 두 전극에 형성된 유전체에 축적된 벽전하에 의한 벽전압(Vw)과 방전 전류(Id)를 나타낸 도면이다. 본 발명의 제2 실시예의 Y 상승 램프/플로팅 구간에서 X 전극의 전압이 접지전압이므로, 이하에서는 설명의 편의를 위해 전압(Va)을 Y 전극의 전압으로 간주한다.
도 13a에 도시한 바와 같이, Y 전극에 방전개시전압(Vf) 이상의 램프 전압을 인가하여 방전을 개시한 후 Y 전극을 플로팅 상태로 하면, 이전에 설명한 바와 같이 소정의 벽전하가 쌓임과 동시에 방전 공간 내부에 강한 방전 소멸(quenching)이 발생한다. 방전 공간 내부가 방전 소멸됨에 따라 Y 전극의 전압(Va)도 같이 감소하게 된다. 그리고 나서, 다시 Y 전극에 램프 전압을 인가하여 방전을 형성시킨 후 플로팅 상태로 하면, 앞서와 마찬가지로 소정의 벽전하가 쌓임과 동시에 방전 공간 내부에 강한 방전 소멸이 발생한다. 그리고, 이와 같은 램프 전압인가 및 플로팅 상태의 반복은 소정 횟수만큼 반복된다.
이때, 도13a에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따르면 방전 공간에 흐르는 방전의 량(즉, 방전 전류의 크기)은 본 발명의 제1 실시예와 비교해 볼 때, 훨씬 일정함을 알 수 있다. 이는 도13a에 도시한 바와 같이, 전압인가와 플로팅 상태를 반복할수록 두 전극에 형성되어 있는 유전체에 축적되는 벽전하에 의한 벽전압(Vw)이 증가하지만, 마찬가지로 Y 전극에 인가되는 전압(Va)도 증가하기 때문에, Y 전극의 전압(Va)과 벽전압(Vw)의 차가 본 발명의 제1 실시예에 비해 훨씬 일정하기 때문이다.
따라서, 본 발명의 제2 실시예에 따른 리셋 방법이 제1 실시예에 따른 구동 방법 보다 훨씬 정밀한 벽전하 제어가 가능하다는 것을 알 수 있다.
도13b는 본 발명의 제2 실시예에 따른 Y 하강 램프/플로팅 구간에서의, X 전극의 전압(Vx), Y 전극의 전압(Vy), 두 전극에 형성되어 있는 유전체에 축적되는 벽전하에 의한 벽전압(Vw)과 방전 전류(Id)를 나타낸 도면이다. 본 발명의 제2 실시예에 따른 Y 하강 램프/플로팅 구간에서 X 전극에는 Y 전극의 전압보다 큰 바이어스 전압(Vx)이 인가된다.
도 13b에 도시한 바와 같이, X 전극의 전압(Vx)과 Y 전극의 전압(Vy) 사이의 전압차가 방전개시전압(Vf) 이상이 되도록 Y 전극에 급격히 하강하는 램프 전압을 인가하여 방전을 개시한 후 Y 전극을 플로팅 상태로 하면, 이전에 쌓인 벽전하는 조금씩 감소함과 동시에 방전 공간 내부에 강한 방전 소멸(quenching)이 발생한다. 이때, 방전 공간 내부가 방전 소멸됨에 따라 Y 전극의 전압(Vy)은 상승하게 된다. 그리고 나서, 다시 Y 전극에 하강 램프 전압을 인가하여 방전을 형성시킨 후 플로팅 상태로 하면, 앞서와 마찬가지로 더 많은 벽전하가 감소함과 동시에 방전 공간 내부에 강한 방전 소멸이 발생한다. 그리고, 이와 같은 하강 램프 전압인가 및 플로팅 상태를 소정 횟수만큼 반복하면, 도13b에 도시한 바와 같이, X 전극 및 Y 전극에 형성되어 있는 유전체에 소정의 벽전하가 쌓이게 된다.
따라서, 본 발명의 제2 실시예와 같이 하강 램프 인가 및 플로팅 상태를 반복해서 구동하면, 두 전극에 형성되어 있는 유전체에 축적되는 벽전하를 원하는 상태가 되도록 제어할 수 있다는 것을 알 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 리셋 방법은 전압인가 후 전극을 플로팅시켜 전극에 형성되는 벽전하를 제어하기 때문에, 다음과 같은 장점이 있다.
첫째, 종래의 리셋 방법은 기본적으로 전압인가에 따라 방전이 형성되고, 방전 형성에 따라 벽전하가 축적되고, 벽전하가 충분히 축적됨에 따라 내부 전압이 감소하여 방전이 소멸하는 일종의 피드백 방법이다. 본 발명의 실시예에 따른 플로팅 상태를 이용한 리셋 방법은, 플로팅 상태를 통해 적은 벽전하 축적만으로도 내부 전압이 급격히 감소하여 방전이 소멸되는 훨씬 강화된 피드백 방법이다. 즉, 본 발명의 실시예에 따르면, 종래 보다 훨씬 적은 벽전하의 축적양을 통해 방전을 소멸시키기 때문에, 벽전하의 미세한 제어가 가능하다.
둘째, 종래의 램프전압인가에 의한 리셋은 일정한 전압변화량을 통해 방전공간에 인가되는 전압을 완만하게 상승시켜, 강한 방전을 방지함으로써 벽전하를 제어하였다. 이러한 종래의 램프 전압의 경우 방전의 세기를 램프의 기울기로 제어 하기 때문에, 벽전하 제어를 위한 램프 전압 기울기 제약조건이 매우 강해 리셋에 소요되는 시간이 길게되는 단점이 있다. 이에 반해, 본 발명의 실시예에 따른 플로팅을 이용한 리셋의 경우에는 방전의 세기를 벽전하에 따른 전압강하원리를 사용하므로 소요시간을 단축할 수 있다.
이상에서는 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 그 외의 다양한 변경이나 변형이 물론 가능하다.
예컨대, 본 발명의 실시예에서는 Y 전극을 플로팅 상태로 하여, 방전을 소멸시키는 것을 예로서 설명하였으나, 그 외의 전극을 플로팅 상태로 할 수도 있다. 또한, 본 발명의 실시예에서는 상승 램프 또는 하강 램프 파형을 예로서 설명하였으나, 이외에도 다른 상승 또는 하강 파형을 사용할 수도 있다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면 미세한 벽전하 제어가 가능하며, 리셋 구간의 소요시간을 단축할 수 있다.
도1은 교류형 플라즈마 디스플레이 패널의 일부 사시도이다.
도2는 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 배열도이다.
도 3a는 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법을 설명하기 위해 플라즈마 디스플레이 셀을 모델링한 것이고, 도 3b는 도3a의 등가 회로를 나타낸 도면이다.
도 4 내지 도 6은 도3a에 도시한 도면의 전극에 인가되는 전하, 벽전하 및 방전 공간 내부의 전압을 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타내는 도면이다.
도8a 및 도8b는 본 발명의 제1 실시예의 구동방법에 따른 리셋 파형을 나타내는 도면이다.
도 9는 본 발명의 제1 실시예의 구동 방법에 따른, 전극의 전압, 벽전압, 방전 전류를 나타내는 도면이다.
도 10은 본 발명의 제2 실시예에 따른 구동 방법을 구현하는 회로의 개념도이다.
도 11은 본 발명의 제2 실시예의 구동방법에 따른 파형을 나타내는 도면이다.
도 12a 내지 도 12c는 도 11의 리셋 파형을 보다 자세히 나타낸 도면이다.
도 13a 및 도 13b는 본 발명의 제2 실시예의 구동 방법에 따른, 전극의 전압, 벽전압, 방전 전류를 나타내는 도면이다.

Claims (39)

  1. 제1 전극 및 제2 전극에 의해 정의되는 제1 공간을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법에 있어서,
    상기 제1 전극에 제1 전압을 인가하여 상기 제1 공간을 방전시키는 방전전압 인가 단계: 및
    상기 제1 공간을 방전시킨 후, 상기 제1 전극을 플로팅시키는 플로팅 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 구동방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 구동 방법은 리셋 구간에 수행되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    제1 전극은 주사 전극이고, 상기 제2 전극은 유지 전극인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 방전전압 인가단계 및 플로팅 단계 동안 상기 유지 전극은 일정 전압으로 바이어스 되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제1 전극을 플로팅시키는 구간이 상기 제1 전극에 상기 제1 전압을 인가하는 구간보다 긴 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 방전전압 인가 단계 및 상기 플로팅 단계는 소정 횟수만큼 반복되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제1 전압은 일정한 전압인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 제1 전압은 시간에 따라 가변인 전압인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 제1 전압은 상승 램프 전압인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 제1 전압은 하강 램프 전압인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  11. 제6항에 있어서,
    n번째 방전전압 인가 단계에 의해 상기 제1 공간 내에 흐르는 방전 전류의 크기가 n+1 번째 방전전압 인가 단계에 의해 상기 제1 공간 내에 흐르는 방전 전류의 크기보다 큰 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법.
  12. 제1 전극 및 제2 전극에 의해 정의되는 제1 공간을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법에 있어서,
    리셋 구간에서,
    (a) 상기 제1 전극에 상승 전압을 인가하여 상기 제1 공간을 방전시키는 단계:
    (b) 상기 제1 공간을 방전시킨 후, 상기 제1 전극을 플로팅시키는 단계;
    (c) 상기 제1 전극에 하강 전압을 인가하여 상기 제1 공간을 방전시키는 단계; 및
    (d) 상기 제1 공간을 방전시킨 후, 상기 제1 전극을 플로팅시키는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 제1 전극은 주사 전극이고, 상기 제2 전극은 유지 전극인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 (a) 단계 및 상기 (b) 단계는 소정 회수만큼 반복되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법.
  15. 제12항에 있어서,
    상기 (c) 단계 및 상기 (d) 단계는 소정 회수만큼 반복되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법.
  16. 제1 전극 및 제2 전극에 의해 정의되는 제1 공간을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법에 있어서,
    리셋 구간에서,
    (a) 상기 제1 공간에 제1 방전을 수행하여, 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극에 형성된 유전체에 벽전하를 축적시키는 단계;
    (b) 상기 제1 방전을 소멸시키는 단계;
    (c) 상기 제1 공간에 제2 방전을 수행하여 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극에 형성된 유전체에 벽전하를 축적시키는 단계; 및
    (d) 상기 제2 방전을 소멸시키는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 제1 방전에 의한 방전양이 상기 제2 방전에 의한 방전양보다 많은 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  18. 제16항에 있어서,
    상기 단계 (c) 및 상기 단계 (d)는 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극에 형성된 유전체에 축적된 벽전하에 기초한 벽전압이 제1 벽전압에 이를 때까지 반복되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 제1 벽전압은 상기 제1 전극 전압 및 상기 제2 전극 전압의 차 전압에 방전 개시 전압을 뺀 값보다 작거나 같은 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법.
  20. 제16항에 있어서,
    상기 단계 (b) 및 상기 단계 (d)에서 벽전하가 축적되지 않는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  21. 제16항에 있어서,
    상기 단계 (b) 및 상기 단계(d)에서 상기 제1 전극을 플로팅시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  22. 제1 전극 및 제2 전극에 의해 정의되는 제1 공간을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법에 있어서,
    리셋 구간에서,
    (a) 상기 제1 공간에 제1 방전을 수행하여, 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극에 형성된 유전체에 축적되어 있는 벽전하를 감소시키는 단계;
    (b) 상기 제1 방전을 소멸시키는 단계;
    (c) 상기 제1 공간에 제2 방전을 수행하여, 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극에 형성된 유전체에 축적되어 있는 벽전하를 감소시키는 단계; 및
    (d) 상기 제2 방전을 소멸시키는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법.
  23. 제22항에 있어서,
    상기 단계 (c) 및 상기 단계 (d)는 소정횟수만큼 반복되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  24. 제22항에 있어서,
    상기 단계 (b) 및 상기 단계(d)에서 상기 제1 전극을 플로팅시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  25. 제1 전극 및 제2 전극;
    상기 제1 전극 및 제2 전극에 의해 정의되는 제1 공간; 및
    리셋 구간 동안에 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에 구동신호를 보내는 구동회로를 포함하고,
    상기 구동회로는
    상기 제1 전극에 제1 전압을 인가하여 상기 제1 공간을 방전시킨 후, 상기 제1 전극을 플로팅시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  26. 제25항에 있어서,
    제1 전극은 주사 전극이고, 상기 제2 전극은 유지 전극인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  27. 제25항에 있어서,
    상기 구동회로는
    상기 제1 전극에 상기 제1 전압을 인가하는 구간보다 상기 제1 전극을 플로팅시키는 구간이 크도록 상기 제1 전극을 구동하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  28. 제25항에 있어서,
    상기 구동회로는
    상기 제1 전압의 인가와 플로팅이 소정 횟수만큼 반복되도록 상기 제1 전극을 구동하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  29. 제28항에 있어서,
    n번째 제1 전압의 인가에 의해 상기 제1 공간 내에 흐르는 방전 전류의 크기가 n+1 번째 제1 전압의 인가에 의해 상기 제1 공간 내에 흐르는 방전 전류의 크기보다 큰 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  30. 제25항에 있어서,
    상기 구동회로는
    전원 전압과
    상기 전원 전압과 상기 제1 전극 사이에 커플링되는 스위치를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  31. 제25항에 있어서,
    상기 구동회로는
    전류원과,
    상기 전류원과 상기 제1 전극 사이에 커플링되는 스위치를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  32. 제1 및 제2 기판;
    상기 제1 기판에 나란히 형성되는 제1 전극 및 제2 전극;
    상기 제2 기판에 형성되는 어드레스 전극;
    상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에 의해 정의되는 제1 공간;
    리셋 구간, 어드레스 구간, 유지 방전 구간 동안에 상기 제1 전극, 상기 제2 전극 및 상기 어드레스 전극에 구동신호를 보내는 구동회로를 포함하고,
    리셋 구간 동안, 상기 구동회로는
    상기 제1 전극에 상승 전압을 인가하여 상기 제1 공간을 방전시킨 후, 상기 제1 전극을 플로팅시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  33. 제32항에 있어서,
    상기 구동회로는
    상기 상승 전압의 인가와 플로팅이 소정 횟수만큼 반복되도록 상기 제1 전극을 구동하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  34. 제32항에 있어서,
    상기 구동회로는 추가로 상기 제1 전극에 하강 전압을 인가하여 상기 제1 공간을 방전시킨 후, 상기 제1 전극을 플로팅시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  35. 제34항에 있어서,
    상기 구동회로는
    상기 하강 전압의 인가와 플로팅이 소정 횟수만큼 반복되도록 상기 제1 전극을 구동하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  36. 제32항에 있어서,
    상기 구동회로는
    전류원과,
    상기 전류원과 상기 제1 전극 사이에 커플링되는 스위치를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  37. 제1 및 제2 기판;
    상기 제1 기판에 나란히 형성되는 제1 전극 및 제2 전극;
    상기 제2 기판에 형성되는 어드레스 전극;
    상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에 의해 정의되는 제1 공간;
    리셋 구간, 어드레스 구간, 유지 방전 구간 동안에 상기 제1 전극, 상기 제2 전극 및 상기 어드레스 전극에 구동신호를 보내는 구동회로를 포함하고,
    리셋 구간 동안, 상기 구동회로는
    상기 제1 전극에 하강 전압을 인가하여 상기 제1 공간을 방전시킨 후, 상기 제1 전극을 플로팅시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  38. 제37항에 있어서,
    상기 구동회로는
    상기 하강 전압의 인가와 플로팅이 소정 횟수만큼 반복되도록 상기 제1 전극을 구동하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  39. 제37항에 있어서,
    상기 구동회로는
    전류원과,
    상기 전류원과 상기 제1 전극 사이에 커플링되는 스위치를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.
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